TWI419923B - 光學薄膜 - Google Patents

Description

光學薄膜

本發明係關於一種含有特定紫外線吸收劑而成的樹脂製的光學薄膜，本發明之光學薄膜特別適用於液晶顯示裝置等所用之偏光板保護膜、相位差膜、視野角擴大膜、光學補償膜、電漿顯示器抗反射膜等之各種機能薄膜、有機EL顯示器之光學補償薄膜、發光體保護膜等。

相較於玻璃，由於樹脂為輕量的，除了光學透鏡之外，也使用於稜鏡、光纖或各種光學薄膜等非常多的光學領域。但是，對於樹脂製薄膜，其具有受照射紫外線後，因強度降低或變色而導致透明度降低之問題，此問題顯著影響光學薄膜用途。

因此，於光學薄膜中，使用如苯并三唑系化合物或三系化合物之紫外線吸收劑。例如，於日本公開專利第2002－249600號公報（參照申請專利範圍第2項、[0018]、[0029]、[0031]）或日本公開專利第2001－324616號公報（參照申請專利範圍第2項、[0025]、[0053]、[0059]）中，揭示一種含有由紫外線吸收劑而成的冰片烯系樹脂薄膜。

但是，習知紫外線吸收劑之吸收向低波長側偏移，因為於380nm之吸收不足，一旦摻合賦與必要吸收能力之量，將產生滲出或色調之改變。

於日本公開專利第平11－71356號公報（參照申請專利範圍第1項、[0009]~[0027]、[0042]~[0047]）中，揭示本發明所用之三化合物系的紫外線吸收劑。然而，並無針對光學薄膜之記載。

如上所述，尚未得到如下之光學薄膜，其使用適用於光學薄膜之380nm波長的紫外線吸收能力為充分之紫外線吸收劑，並且，該紫外線吸收劑之滲出為少的。

本發明之目的係在於提供一種光學薄膜，其對於波長380nm紫外線之吸收能力為優異的，該紫外線吸收劑之滲出為少的。

本發明人等不斷鑽研的結果，得知藉由使用由特定之三化合物而成的紫外線吸收劑，可以解決該課題，於是完成了本發明。

亦即，本發明第1點係提供一種含有下列通式(I)所示之三化合物之樹脂而成的光學薄膜。

（式中，R¹ ~R⁶ 各獨立地表示氫原子；羥基；由碳數18以下之烷基、烷氧基、二烷胺基、烷羰氧基、芳基、芳烷基、芳氧基、芳烷氧基、芳羰氧基所選出的有機基。但是，此等有機基中之烷基部分可以利用羥基、鹵素原子、氰基、硝基予以取代，也可以利用氧原子、硫原子、羰基、酯基、醯胺基、亞胺基予以間斷，也可以具有雙鍵，該取代、間斷、雙鍵也可以予以組合。)

本發明第2點係提供一種三化合物為下列通式(II)所示之本發明第1點的光學薄膜。

(式中，R⁷ ~R⁹ 表示各自獨立之羥基；由碳數18以下之烷氧基、二烷胺基、烷羰氧基所選出的有機基。但是，此等烷氧基、烷羰氧基中之烷基部分可以利用羥基、鹵素原子、氰基、硝基予以取代，也可以利用氧原子、硫原子、羰基、酯基、醯胺基、亞胺基予以間斷，也可以具有雙鍵，該取代、間斷、雙鍵也可以予以組合。R¹⁰ ~R¹² 表示各自獨立之相同於R¹ ~R⁶ 之原子或官能基。)

本發明第3點係提供一種380nm的光透過率為20%以下之本發明第1或2點的光學薄膜。

本發明第4點係提供一種光學薄膜為影像顯示裝置用光學薄膜之本發明第1至3點中任一點的光學薄膜。

【發明之實施態樣】

以下，說明本發明之實施態樣。

使用於本發明光學薄膜之紫外線吸收劑係該通式(I)所示之三化合物。於通式(I)，R¹ ~R⁶ 所示之碳數18以下之烷基（包括直鏈狀、分歧狀與環狀，以下相同。）可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、異丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、庚基、2－甲基己基、異庚基、第三庚基、n－辛基、異辛基、第三辛基、2－乙基己基、壬基、異壬基、癸基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基；具有取代或間斷之烷基可列舉：一氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、2－羥乙基、2－羥丙基、3－羥丙基、2－甲氧乙基、2－乙氧乙基、2－丁氧乙基、2－甲氧丙基、3－甲氧丙基、2,3－二羥丙基、2－羥基－3－甲氧丙基、2,3－二甲氧丙基、2－（2－甲氧乙氧基）乙基等。

R¹ ~R⁶ 所示之碳數18以下之烷氧基可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、異丁氧基、戊氧基、異戊氧基、第三戊氧基、己氧基、庚氧基、2－甲基己氧基、異庚氧基、第三庚氧基、n－辛氧基、異辛氧基、第三辛氧基、2－乙基己氧基、壬氧基、異壬氧基、癸氧基、十二烷氧基、十三烷氧基、十四烷氧基、十五烷氧基、十六烷氧基、十七烷氧基、十八烷氧基、環戊氧基、環己氧基、環庚氧基、環辛氧基；具有取代或間斷之烷氧基可列舉：一氯甲氧基、二氯甲氧基、三氯甲氧基、2－羥基乙氧基、2－羥基丙氧基、3－羥基丙氧基、2,3－二羥基丙氧基、2－（2－羥基乙氧基）乙氧基、2－甲氧基乙氧基、2－乙氧基乙氧基、2－丁氧基乙氧基、2－辛氧基乙氧基、2－甲氧基丙氧基、3－甲氧基丙氧基、2－甲氧基－3－羥基丙氧基、2－羥基－3－甲氧基－3－甲氧基丙氧基、2,3－二甲氧基丙氧基、2－羥基－3－辛氧基丙氧基、2－（2－甲氧基乙氧基）乙氧基、2－羥基－3－（2－甲氧基乙氧基）丙氧基、2－乙醯乙氧基、2－乙醯丙氧基、3－乙醯丙氧基、2－（2－乙醯乙氧基）乙氧基、2－丙醯乙氧基、2－辛醯乙氧基、2－二丁胺基甲醯乙氧基等。

R¹ ~R⁶ 所示之碳數18以下之二烷胺基可列舉：二甲胺基、乙基甲胺基、二乙胺基、二丁胺基、二辛胺基、1－哌啶等。

R¹ ~R⁶ 為羥基之情形，R¹ ~R⁶ 所示之碳數18以下之烷羰氧基係由有機羧酸所衍生之官能基，進行此等官能基之衍生的有機羧酸可列舉：醋酸、丙酸、丁酸、異丁酸、戊酸、己酸、辛酸、2－乙基己酸、壬酸、癸酸、新癸酸、十一烷酸、十二烷酸、十三烷酸、十四烷酸、十五烷酸、十六烷酸、十七烷酸、十八烷酸、環己烷羧酸、3－甲基環己烷羧酸、4－甲基環己烷羧酸、2,4－二甲基環己烷羧酸等，導入具有取代或間斷之官能基的有機羧酸可列舉：一氯醋酸、二氯醋酸、三氯醋酸、三氟醋酸、12－羥基十八烷酸等。

R¹ ~R⁶ 所示之碳數18以下之芳基可列舉：苯基、萘基、2－甲基苯基、3－甲基苯基、4－甲基苯基、4－乙烯苯基、3－異丙基苯基、4－異丙基苯基、4－丁基苯基、4－異丁基苯基、4－第三丁基苯基、4－己基苯基、4－環己基苯基、4－辛基苯基、4－（2－乙基己基）苯基、2,3－二甲基苯基、2,4－二甲基苯基、2,5－二甲基苯基、2,6－二甲基苯基、3,4－二甲基苯基、3,5－二甲基苯基、2,4－二第三丁基苯基、2,5－二第三丁基苯基、2,6－二第三丁基苯基、2,4－二第三戊基苯基、2,5－二第三戊基苯基、2,5－二第三辛基苯基、聯苯基、2,4,5－三甲基苯基等；芳烷基可列舉：苯甲基、苯乙基、2－苯基丙烷－2－醯、二苯基甲基等。

R¹ ~R⁶ 所示之碳數18以下之芳氧基可列舉：苯氧基、萘氧基、2－甲基苯氧基、3－甲基苯氧基、4－甲基苯氧基、4－乙烯苯氧基、4－異丙基苯氧基、4－丁基苯氧基、4－異丁基苯氧基、4－第三丁基苯氧基、4－己基苯氧基、4－環己基苯氧基、4－辛基苯氧基、4－（2－乙基己基）苯氧基、2,3－二甲基苯氧基、2,4－二甲基苯氧基、2,5－二甲基苯氧基、2,6－二甲基苯氧基、3,4－二甲基苯氧基、3,5－二甲基苯氧基、2,4－二第三丁基苯氧基、2,5－二第三丁基苯氧基、2,6－二第三丁基苯氧基、2,4－二第三己基苯氧基、2,5－二第三戊基苯氧基、2,5－二第三辛基苯氧基、聯苯氧基、2,4,5－三甲基苯氧基等；芳烷氧基可列舉：苯甲氧基、苯乙氧基、2－苯基丙烷－2－醯氧基、二苯甲氧基等。

R¹ ~R⁶ 為羥基之情形，R¹ ~R⁶ 所示之碳數18以下之芳羰氧基係由有機羧酸所衍生之官能基，進行此等官能基之衍生的有機羧酸可列舉：苯甲酸、4－羥基苯甲酸、水楊酸、萘甲酸、4－甲基苯甲酸、4－第三丁基苯甲酸、4－辛基苯甲酸等。

此等通式(I)所示之三化合物之中，該通式(II)所示者較宜為製造容易的，且為低成本的。

通式(II)所示之三化合物係於該通式(I)之R¹ 、R³ 、R⁵ （或R² 、R⁴ 、R⁶ ）為位於4位之羥基、烷氧基、二烷胺基或烷羰氧基，R² 、R⁴ 、R⁶ （或R¹ 、R³ 、R⁵ ）為位於3位之化合物。3位取代基之R^{1 0} ~R^{1 2} 可列舉：以各自獨立之該R¹ ~R⁶ 列舉之官能基。位於4位之R⁷ ~R⁹ 係各自獨立之由羥基、烷氧基、二烷胺基與烷羰氧基所選出的有機基，具體而言，可列舉：相當於R¹ ~R⁶ 所列出之此等官能基中的官能基。

有關本發明之通式(II)所示之較佳的三化合物具體例可列舉：下列所示之化合物No.1~No.36。還有，於下列化學式中，Me表示甲基、Et表示乙基、Bu表示丁基、Am表示戊基、iAm表示異戊基、Hx表示己基、cyHx表示環己基。

該通式(I)或(II)所示之三化合物的合成方法並不受到特別之限制，可以為常用之合成方法中之任一種。例如，可列舉：使用三氯化鋁而使酚衍生物或間苯二酚衍生物與氯化氰尿進行加成反應的方法。R¹ ~R⁶ 與R⁷ ~R^{1 2} 所示之取代基可以於形成三構造後予以導入，也可以於形成三構造之前導入酚化合物或間苯二酚衍生物。

於本發明之光學薄膜中，相對於100質量份之樹脂，最好使用不僅充分抑制光學薄膜之紫外線透過率，同時也不妨礙可見光透過之範圍，作為紫外線吸收劑使用之該三化合物的用量較宜為10~0.001質量份，更佳為5~0.01質量份。

本發明光學薄膜之380nm的光透過率較宜為20%以下。

可見光(400~800nm)之光透過率為70%以上，較宜為80%以上。

本發明光學薄膜之三化合物難以滲出，紫外線吸收效果之持續性優異。

構成本發明之光學薄膜的樹脂並無特別之限定，能夠適當選擇符合光學薄膜用途所適用之物性的樹脂。

該樹脂可列舉：高密度聚乙烯、等規聚丙烯、間規聚丙烯、半等規聚丙烯、聚－1－丁烯、聚－3－甲基－1－丁烯、聚－3－甲基－1－戊烯、聚－4－甲基－1－戊烯、乙烯/丙烯塊狀或無規共聚物、乙烯－醋酸乙烯酯共聚物、烯烴－馬來酸酐縮亞胺共聚物等之聚烯烴系樹脂以及賦與此等聚合物之單體的共聚物；聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、氯化聚乙烯、聚偏二氟乙烯、氯化橡膠、氯乙烯－醋酸乙烯酯共聚物、氯乙烯－乙烯共聚物、氯乙烯－偏二氯乙烯－醋酸乙烯酯三元共聚物、氯乙烯－丙烯酸酯共聚物、氯乙烯－馬來酸酯共聚物、氯乙烯－環己基馬來酸酐縮亞胺共聚物等之含鹵素樹脂；聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、對萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚－1,4－環己烷對苯二甲酸二甲醇酯、聚乙烯－1,2－二苯氧基乙烷－4,4’－二羧酸酯、對苯二甲酸六甲醇酯等之聚酯系樹脂；聚苯乙烯、耐衝擊性聚苯乙烯(HIPS)、丙烯腈－丁二烯－苯乙烯(ABS)、氯化聚乙烯－丙烯腈－苯乙烯(ACS)、苯乙烯－丙烯腈(SAN)、丙烯腈－丁基丙烯酸酯－苯乙烯(AAS)、丁二烯－苯乙烯、苯乙烯－馬來酸、苯乙烯－馬來酸酐縮亞胺、乙烯－丙烯－丙烯腈－苯乙烯(AES)、丁二烯－甲基丙烯酸－甲基苯乙烯(MBS)等之苯乙烯系樹脂；聚碳酸酯、分歧聚碳酸酯等之聚碳酸酯系樹脂；使用聚己二醯己二胺（耐綸66）、聚己內醯胺（耐綸6）、耐綸6T等之芳香族二羧酸或脂環式二羧酸之聚醯胺等之聚醯胺系樹脂；聚苯醚(PPO)樹脂；改質聚苯醚樹脂；聚苯硫醚樹脂(PPS)樹脂；聚乙醯(POM)；改質聚乙醯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚醚醯亞胺；聚環氧乙烷；石油樹脂；香豆酮樹脂；冰片烯樹脂等之環烯烴樹脂、環烯烴－烯烴共聚樹脂；聚醋酸乙烯樹脂；聚乙烯醇樹脂；聚甲基丙烯酸甲酯等之丙烯基樹脂；聚碳酸酯與苯乙烯系樹脂之聚合物合金；聚乙烯醇樹脂；二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素(TAC)、丙醯基纖維素、丁醯基纖維素、乙醯基丙醯基纖維素、硝基纖維素等之纖維素系樹脂；液晶聚合物(LCP)；胺基甲酸酯樹脂；矽樹脂；由脂肪族二羧酸、脂肪族二醇、脂肪族羥基羧酸或其環狀化合物而成的脂肪族聚酯，進一步藉由二異氰酸酯等而增加此等脂肪族聚酯等之生物分解性樹脂；以及此等之再生樹脂等。再者，可列舉：酚樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯等之熱硬化性樹脂。再者，也可以為天然橡膠(NR)、聚異戊二烯(IR)、苯乙烯－丁二烯橡膠(SBR)、聚丁二烯橡膠(BR)、乙烯－丙烯－二烯烴橡膠(EPDM)、丁基橡膠(IIR)、氯丁烯橡膠、丙烯腈丁二烯橡膠(NBR)、矽烷氧橡膠等之橡膠系高分子化合物。

影像顯示裝置用光學薄膜係使用可見光透過性大的樹脂。例如，較宜為聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碸、聚醚碸、聚醚酮、聚醚醯亞胺、聚環氧乙烷、冰片烯樹脂、丙烯基樹脂、纖維素系樹脂。

本發明之光學薄膜重要的是三化合物難以滲出。

該樹脂可以單獨使用，也可以因應於用途而使用二種以上之混合物與/或共聚物，或是相疊層而使用。

對於本發明之光學薄膜，其形成方法並無特別之限制，最好使用適合於該樹脂成分之方法。例如，該薄膜之形成方法可列舉：溶液流延法、熔融成形法。

所謂溶液流延法係一種使用桿式塗布機、旋轉塗布機、浸漬塗布機、T模頭塗布機、附桿之T模頭塗布機、刮刀塗布機、氣刀塗布機、滾筒塗布機、模頭塗布機、照相凹版塗布機、漏斗之擠壓塗布機等，將樹脂溶於溶劑之樹脂溶液流延於各種耐熱材料、不銹鋼帶、金屬箔等之平板或滾筒上，進行溶劑成分之乾燥而得到薄膜的方法。形成本發明之光學薄膜的情形，最好使用將必要量之該三化合物添加於樹脂溶液中的混合溶液。另外，溶液流延法也可以適用於使用樹脂原料原料單體之藉由光所進行自由基聚合、陰離子聚合、陽離子聚合的薄膜形成。

所謂熔融成形法係指使用已熔融之樹脂組成物，藉由使用T模頭之方法或吹塑法等之熔融擠壓法；壓延法；熱壓縮法；射出成型法而得到薄膜的方法。

本發明之光學薄膜適用於液晶顯示裝置(LCD)、電漿顯示面板(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、陰極管顯示裝置(CRT)、螢光顯示管、電場放射型顯示器等之影像顯示裝置用，尤以使用對顯示元件之抗紫外線差的液晶顯示裝置或是有機EL顯示器之光學補償薄膜、發光體保護膜等之光學薄膜特別有用的。例如，作為液晶顯示裝置用途可列舉：偏光板保護膜、相位差膜、視野角擴大膜、光學補償膜、抗反射膜、色調調整膜。

本發明之光學薄膜的厚度最好根據樹脂成分與用途而予以適當設定。例如，使用於偏光板保護膜之情形，通常為5~500μm，較宜為10~150μm，更佳為20~100μm。若薄膜之厚度太薄的話，則擔憂強度降低；若片材之厚度太厚的話，則擔憂透明性變差、雙折射率變高、外觀性降低。

另外，於本發明之光學薄膜中，必要的話，可以使用各種添加劑，也可以進行各種表面處理。

該添加劑可列舉：吸光性色素、顏料、染料、抗氧化劑、光安定劑、有關本發明之三化合物以外的紫外線吸收劑、近紅外線吸收劑、紅外線吸收劑、抗靜電劑、潤滑劑、加工助劑、可塑劑、無機微粒、鹵素系化合物、磷酸酯系化合物、三聚氰胺系化合物、氟樹脂或金屬氧化物、（聚）磷酸三聚氰胺、（聚）磷酸哌等之難燃劑等。

另外，該各種表面處理，例如，可列舉：藥品處理、機械性處理、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、高頻處理、輝光放電處理、活性電漿處理、雷射處理、混合酸處理、臭氧化處理等。

也可以藉由表面處理而於表面設置許多的凹凸或線等。

實施例

以下，根據評估例、實施例與比較例，更詳細說明本發明。然而，本發明並非局限於以下之此等例子。

[紫外線吸收劑本身之評估例]

針對作為光學薄膜用之紫外線吸收劑的適切性，利用揮發性（根據微分掃瞄式熱分析，減少5質量%之溫度）與380nm之莫耳吸光係數（濃度3.0×10^{－ 5} 莫耳/升之氯仿溶液）進行評估。

減少5質量%之溫度為大的紫外線吸收劑難以滲出，紫外線吸收效果持續性為優異的，由於380nm之莫耳吸光係數越大，利用少的用量即能夠得到充分的效果，有利於光學薄膜用途。將結果顯示於表1~2。

由該紫外線吸收劑本身的評估結果，相對於比較化合物，因為有關本發明三化合物之380nm波長的光吸收為大的，減少5質量%之溫度也相等或更為高，光學薄膜用途上為優異的。

以下，顯示本發明之光學薄膜的實施例。

[實施例1]

由65質量份之環己烷/甲苯（1/9質量比）混合溶劑、35質量份之冰片烯樹脂（商品名ZEONOR1060R、日本ZEON公司製品）、2.0質量份之揭示於表3的紫外線吸收劑而成的樹脂溶液，利用桿式塗布機，於已進行表面研磨的玻璃板上，進行該樹脂溶液之流延，經歷50℃下20分鐘之預備乾燥、90℃下30分鐘之乾燥而作成25μm之薄膜。針對所得到的薄膜，藉由（股）日立製造所製之分光光度計U－3010，測定380nm波長光之透過率。將結果顯示於表3。

[實施例2] （摻合2）

摻合100g之Eupilon S－3000（日本三菱瓦斯化學（股）製之聚碳酸酯樹脂）與3g之化合物No.28。

利用塑膠磨機，於280℃，進行該摻合2之5分鐘的熔融混攪。混攪後，從直徑6mm之噴嘴予以擠出，利用水冷卻式造粒機而得到顆粒。再利用電熱加壓，於280℃，將此顆粒成型成厚0.25mm之薄膜。針對所得到的薄膜，相同於實施例1，測定380nm波長光的透過率之結果為1.4%。

[實施例3] （摻合3）

摻合100g之Adeka Arkruz R－130（日本旭電化工業（股）製之丙烯基樹脂、樹脂成分50重量%）與1.5g之化合物No.31。

利用該摻合3而作成樹脂組成物，利用桿式塗布機#9，將該樹脂組成物塗布於188μm厚之聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜上，於80℃，乾燥30秒鐘而得到二層薄膜。之後，於100℃，利用0.9mm厚之鹼玻璃板而進行此二層薄膜的熱壓黏，於玻璃板與PET膜之間，形成具有含紫外線吸收劑之光學薄膜的PET薄膜保護玻璃板。針對所得到的PET薄膜保護玻璃板，相同於實施例1，測定380nm波長光的透過率之結果為1.0%。

由該實施例1~3，確認了本實施態樣之光學薄膜吸收380nm波長光，具有極佳的紫外線遮斷機能，滲出為少的。

【產業上利用之可能性】

根據本發明的話，能夠提供一種於380nm之紫外線吸收能力為高的，滲出為少的光學薄膜。

該光學薄膜特別適用於液晶顯示裝置等所用之偏光板保護膜、相位差膜、視野角擴大膜、光學補償膜、電漿顯示器抗反射膜等之各種機能薄膜、有機EL顯示器之光學補償薄膜、發光體保護膜等。

Claims (3)

1. 一種由含有下列通式(1)所示之三化合物之樹脂而成之光學薄膜，其中380nm的光之透過率為20%以下， (式中，R¹ ~R³ 各自獨立地表示氫原子；羥基；由碳數18以下之烷基、烷氧基、二烷胺基、烷羰氧基、芳基、芳烷基、芳氧基、芳烷氧基、芳羰氧基所選出的有機基；R⁴ ~R⁶ 各自獨立地表示羥基；由碳數18以下之烷基、烷氧基、二烷胺基、烷羰氧基、芳基、芳烷基、芳氧基、芳烷氧基、芳羰氧基所選出的有機基，但是，此等有機基中之烷基部分可以利用羥基、鹵素原子、氰基、硝基予以取代，也可以利用氧原子、硫原子、羰基、酯基、醯胺基、亞胺基予以間斷，也可以具有雙鍵，該取代、間斷、雙鍵也可以予以組合)。
2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中400~800nm的光之透過率為70%以上。
3. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中光學薄膜為影像顯示裝置用光學薄膜。