JPS59126439A - 安定化高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、耐光性の改善された高分子材料組成物、詳し
くは、２，２，６．６−チトラメチルビベリジル基を有
するンアヌレート肪尋体を含有せしめてなる耐光性の改
良された高分子材料組成物に関する。

ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の合
成樹脂は一般に光の効果に対して敏感であり、その作用
により劣化し、変色あるいは機械的強度の低下等を引き
起こし、長期の使用に耐えないことが知られている。

そこでこの光による合成樹脂の劣化を防止するために、
従来種々の安定剤が用いられてきたが、従来用いられて
きた光安定剤はその安定化効果がまだ不十分であり、ま
た安定剤自体が熱あるいは酸化に対して不安定であった
り、水等の溶剤によって樹脂から抽出されやすいものが
多く、さらに樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点を
持っており、長期にわたって合成樹脂を安定化すること
ができなかった。

これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピペリジン
系の化合物はそれ自体が非着色性であり、また紫外線吸
収剤としてではなく、消光剤として作用するなどの特徴
を有しておシ近年特に注目されている。

しかしながら、従来知られているピペリジン系の化合物
は光安定化能が不十分であり、また、水によって樹脂か
ら容易に抽出され°Ｃしまうという欠点もあった。

ま７ζ、これらのピペリジン系の化合物は化合物自体の
耐熱性が不十分であり、合成位Ｉ脂を高温で加工する隙
などに、分７ｊｊ＋あるい（・ま俺散し、その効果を失
なう場合も多かった。

これらのピペリジン系化合物のうち、トリアジン環ｋ　
含Ｔｒする化合物は比軟的化合物自体の１ｉｆｔ熱性が
良好であり、また、原料として簀抽な塩化ンアヌルｒ用
いることができ、反応も容易である等の利点を有してい
る。

トリアジン板を含有するピペリジン化合物としては特開
昭４９−２１３８９号、特開昭５２−７１，４８６号、
Ｌ＋″ｆし！Ｊ昭５２−７３，８８６号、％開昭５３−
９．７８２号、特開昭５３−’６７．７４９号、特開昭
５４−１０６，４８５号、ｔＰｔ開昭５Ａ−１２６，２
４９号、特開昭５５−９８，１８０号、特開昭５５−１
０２，６３７号、特開ｉ１Ｂ　５５−１０４，２７９号
、覗し目射５６−４．６３９号及び特し１」昭５６−３
０，９７４号の各分相に抽々の化合物が従系されている
。

これら公報記載の化合物において、！除開昭５２−７１
４８６号公報に記載された化合物に代表される、ジアミ
ンまたはグリコールで２個以上のトリアジン環を綿合さ
せた化合物が耐熱性、耐抽出性等が比較的優れている。

しかしながら、これらの化合物でも、その耐熱性、耐抽
出性及び光安定化能は末だ満足し得るものではなく、さ
らにすぐれた光安定剤の開発が戟望されていた。

不発明者等は、かかる現状に鑑み、鋭意検討を重ねた舶
来、スピロジアセタール信遺を有するジアミンまたはグ
リコールを結合基として用いた次の一般式（１）で表わ
される化合物が１熱性、耐抽出性及び光安定化能に優れ
、市分子材料用の安定剤として極めて有用であることを
児Ｉ／）出した。

（式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アンル基またはオキシルを示す。Ｚはを示し、Ｒ３はア
ルキル基を示り、　Ｒ１１は水素原子またはアルキル基
を示す。Ｘは一〇−または−Ｎ−５ を示す。Ｒ９は水素原子、アルキル基または−Ｒ７及び
Ｒ８は水素原子、アルキル基またはアリール基を示し、
またＲ７とＲ８は互いに結合して窒素原子とともに５〜
６負壌を形成しても良１７％０ｎは１〜５０を示す。） 本発明は、上記知見に基づきなされたもので、高分子材
料１００重短都に、上記一般式（１）で表わされる化合
物０．００１〜５重ｆｉＮを添加してなる、安定化尚分
子材料組成物を提供するものである。

以下、本発明の組成物について詳述する。

本発明で用いられる、前記一般式（１）で表わされる化
合物において、Ｒ工で表わされるアルキル基としては、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチ
ルヘキシル、ノニル、デンル、ドデシル、オクタデシル
、ベンジル、フェニルエチル、２−ヒドロキンエチル、
２−ヒドロキンプロピル、２−ヒドロキンブチル、２，
３−エボキンプロピルなどがあけられ、アルケニル基と
してはアリルなどがあり゛られ、アンル基としては、例
えばアセチル、プロピオニル、ブチロイル、アクリロイ
ル、メタクリロイル、オクタノイル、ベンゾイルなどが
あけられる。

Ｒ６で表わされるアルキル基としてはメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチルなどがあげられる。

Ｒ，、Ｒ，、Ｒ６，Ｒ７及びＲ８で表わされるアルキル
基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、インブチル、第２ブチル、ヘキシル、
ンクロヘキンル、オクチル、インオクチル、２−エチル
ヘキシル、第６オクチル、テンル、ドデシル、テトラテ
ンル、オクタデシル、２−ヒドロキンエチル、メトキン
エチル、ブトキンエチル、ジメチルアミノプロピルなど
があげられる。

Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８で表わされるアリール基としては、例
工ばフェニル、ナフチル、トリル、キンリル、縞３ブチ
ルフェニル、オクチルフェニル、２，４’２　　＄３フ
テルフェニル、ノニルフェニル、ジノニルフェニルなど
があげられる。

またＲ７とＲ８が互いに結合して窒累原子とともに環を
形成する場合は、例えは、ピロリジノ、ピペリジノ、モ
ルホリノ、メチルピペラジノなどがあげられる。

また、Ｒ２で表わされるアルキレン基としてはメチレン
、エチレン、１．２−７’ロビレン、１，３−プロピレ
ン、２，２−ジメチルプロビレ／、１゜１−ジメチルエ
チレン、１．４−メチレン、１，６−へキサメチレンな
どがあけられる。

本発明で用いられる前記一般式（１）で表わされる化合
物の代表例を次の表−１に示す。尚、表表　　　　　　
　１ 、亮１０ ノ１６１２ 雁１４　　　　　　　０ 煮１７ ／慝１８ 厘２６ ＆２４ 本発明で用いられる前記一般式（１）で表わされる化合
物は、例えば、塩化シアヌルとテトラメチルピペリジン
類を反応させた後、これと式アミンまたはスピログリコ
ールとを反応させることによって容易に製造し得る。あ
るいは塩化シアヌルと、スピロジアミンまたはスピログ
リコールを反応させた後、これとテトラメチルピペリジ
ン類を反応させることによっても容易に製造し得る。

以下に、本発明で用いられる前記一般式（１）で表わさ
れる化合物の合成例を示し、本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明は以下の合成例によって制限を受けるも
のではない。

合成例１　（表−１、ＩＩｓ　１化合物の合成）２．４
−ビスＣＮ　−（２’、２’、６’、６−テトラメチル
−４′−ピペリジニル）−ｎ−ブチルアミノコ−６−ク
ロロトリアジン２．６８？及び５，９−ビス（１，１−
ジメチル−２−ヒドロキンエチル）−２，４，８，１０
−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカ７０．７６ｆ
をミネラルスピリッツ、２０ゴに溶解し、これに粉末水
酸化ナトリウム０．２Ｆを加え、１６０℃で２０時間加
熱攪拌した。冷却後トルエンを加え、水洗、乾燥後減圧
下に脱溶媒した。得られた淡黄色固体を分取型液体クロ
マトグラフィー（日本分析工業社製モテルＬＣ−０８）
にて精製分取し、融点９１〜９４℃の白色固体の生成物
（目的物）を得た。

合成例２　（表−１、＆９化合物の合成）２．４−ビス
（Ｎ　−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニル）−ｎ−ブチルアミノコ−６−クロロトリアジン
３．０？、６，９−ビス（６−アミツプロビル）　−２
，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデ
カン０．７ｖ及び粉末水酸化ナトリウム０．２２をキシ
レン２０艷に分散し、１４０℃で８時間加熱攪拌した。

その後合成例１と同様に処理して融点１１０１〜１０４
℃の白色固体の生成物（目的物）を得た。

本発明は前記一般式（１）で表わされる化合物を高分子
材料に添加してその耐光性を改善するものであシ、その
添加量は、通常、高分子材料１００重量部に対し０．０
０１〜５重量部、好ましくは０．０１〜５重量部である
。

本発明における耐光性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
チ／、ポリ−３−メチルブテン、などのα−オレフイ／
重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン
−プロピレン共重合体などのポリオレフィンおよびこれ
らの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリ
フッ化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニリデン、
臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニ
ル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合
体、塩化ビニル−インブチレン共重合体、塩化ビニル−
塩化ビニリチン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水
マレイン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アク
リロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合
体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩♀ヒビニル−
塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン−酢畝ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸
エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共
重合体、塩化ビニル−メタクリ／Ｉ／酸エステル共重合
体、塩化ビニルーアクリロニ）＋１ル共重合体、内部可
塑化ポリ塩化ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹
脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ア
クリル樹脂、スチレンと他の単量体（例えば無水マレイ
ン酸、ブタジェン、アクリロニトリルなど）との共重合
体、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体
、アクリル級エステルーブタジエンースチレ／共重合体
、メタクリル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合
体、ポリメチルメタクリレートなどのメタクリレート樹
脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフエニレ
ンオキンド、ポリアミド、ポリカーボネート、ボリアー
ヒタール、ポリウレタン、繊維素系樹ｎａ、あるいはフ
ェノール樹脂、エリア樹脂、メラミン樹脂、エボキン樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂などを挙
げることができる。更に、インブレンゴム、ブタジェン
ゴム、アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、スチ
レン−ブタジェン共重合ゴムなどのコム類やこれらの樹
脂のブレンド品であってもよい。

また、過酸化物あるいは放射線等によって架橋させた架
橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡削によって発泡
させた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も鎮含される。

本発明の組成物にさらにフェノール系の抗醸化削を添加
することによって電化安定性を改善することができる。

これらのフェノール糸抗酸化剤としてはたとえは、２，
６−ジー第５ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェ
ニル−４−オクトキンフェノール、ステアリル−（６，
５−ジ−メチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコ
レート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，５−
ジー第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジステアリ
ル−３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキンベンジル
ホスホネート、２，４．６−トリス（３，５−ジー第５
ブーチル−４−ヒドロキンペンジルチオ）−１，５，５
−トリアジン、ジステアリル（４−ヒドロキン−３−メ
チル−５−第３グチル）ベンジルマロ＊　−ト、２．２
−’チレンビス（４−メチル−６−第５ブチルフエノー
ル）　、４，４’−メチレンビス（２，６−ジー第６プ
チルフエノール）、２！、２’−メチレンビス〔６−（
１−メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス〔
３，５−ビス（４−ヒドロキン−６−第３ブチルフエニ
ル）ブデリンクアンド〕グリコールエステル、４．４’
−７”テリデフビス（６−第６ブチルーｍ−クレゾール
）、２．２−エチリデンビス（４，６−ジー第３ブチル
フエノール）、２．２′−エチリデンビス（４−第２ブ
チル−６−第３ブチルフエノール）　、１，１．３−ト
リス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフ
エニル）ブタン、ビス（２−ｉ５７−テルー４−メチル
−６−（２−ヒドロキシ−・６−第３ブチル−５−メチ
ルベンジル）フェニル〕テレフタレート、Ｌ５，５−　
）リス（２，６−ジメテルー６−ヒドロキンー４−第６
ブチル）べ／ジルイソンアヌレート、１，３．５−トリ
ス（５，５−ジー第５ブチル−４−ヒドロキンベンジル
）　−２，４，６−ドリメチルベンゼン、テトラキス〔
メチレン−５−（ｓ、ｓ−ジー第６ブテルー４−ヒドロ
キシフェニル）グロピオネート〕メタ７．１．５，５−
トリス（６，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）インンアヌレート、１，５．５−トリス［（５，
５−ジー第６ブチルー４−ヒドロキンフェニル）プロビ
オニルオキンエチル］イソシアヌレート、２−オクチル
チオ−４，６−ジ（４−ヒドロキシ−ｓ、５−　シー第
６プテル）フェノキン−１，３，５−）リアジン、４，
４′−チオビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）な
どのフェノール類及び４，４′−ブチリゾ／ビス（２−
第３ブチル−５−メチルフェノール）の炭酸オリゴエス
テル（例えば重合度２，３，４，５，６，７，８，９，
１０など）などの多価フェノール炭酸オリコ゛エステル
類があげられる。

本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加えてその
酸化安定性の改善をはかることもできる。これらの硫黄
系抗酸化剤としては、例えばジラウリル−、シミリスチ
ル−、ジステアリル−などのジアルキルチオジプロピオ
ネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−、ステア
リル−などのアルキルチオプロピオン酸の多価アルコー
ル（例えはグリセリン、トリメチロールｘ　タン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒ
ドロキンエチルイソンアヌレート）のエステル（例えば
ペンタエリスリトールテトララウリルチオプロビオネー
ト）があげられる。

本発明の組成物に、さらにホスファイト等の含リン化合
物を添加することによって、耐光性及び耐熱性を改善す
ることができる。この含リン化合物としては、例えはト
リオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、
トリデンルホスファイト、オクチル−ジフェニルホスフ
ァイト、トリス（２，４−ジー第３ブチルフエニル）ホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（ブト
キシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）
ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホ
スファイト、テトラ（トリデシル）　−１，１，３−）
リス（２−メチル−５−１４３ブチル−４−ヒドロキン
フェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（Ｃ工、〜１
゜混合アルキル）−４，４’−イソプロビリデ／ジフェ
ニルジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’
−ブチリテンビス（３−メチル−６−第６プチルフエノ
ール）ジホスファイト、トリス（５，５−ジー第３ブチ
ル−４−ヒドロキンフェニル）ホスファイト、トリス（
モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、ｔｃ索化
−４，４−インプロピリチンジフェノールポリホスファ
イト、ビス（オクチルフェニル）・ビスＣ４，４−ブチ
リデンビス（３−メチル−６−第６プチルフエノール）
〕・１，６−ヘキサンジオールジホスファイト、フェニ
ル・４．４−インプロピリデンジフェノール嗜ペンタエ
リスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジー第６
プチルフエニル）ペンタエリスリトールジホスファイト
、ビス（２，６−’）−第５ブチル−４−メチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（：
４．４’−イソプロピリチンビス（２−ｉ３ブチルフェ
ノール）〕ホスファイト、フェニル・ジフェニルホスフ
ァイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、トリス（１，！ｌ−ジーステアロイルオ
キンイソプロビル）ホスファイト、４，４′−イソプロ
ピリチンビス（２−第、３ブチルフエノール）・ジ（ノ
ニルフェニル）ホスファイｌ”、９．１０−シーツ＼イ
ドロー９−オキサ−１０−フオスファフエナ／スレンー
１０−オキサイド、テトラキス（２，４−ジー　第５ブ
チルフエニル）　−４，４−ビフエニレンジホスホナイ
トなどがあげられる。

本発明の組成物に他の光安定剤を添加することによって
その耐光性をさらに改善することができる。これらの光
安定剤としては、例えば、。

２−ヒドロキン−４−メトキンベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキン−４−ｎ−オクトキンベンゾフェノン、２，２
′−ジ−ヒドロキン−４−メトキンベンゾフェノン、２
，４−ジヒドロキシベンゾフェノン等のヒドロキシベン
ゾフェノン類、２−（２−ヒドロキン−６′−Ｌ−ブチ
ル−５−メチルフエニＡ／）−５−クロロベンゾトリア
ゾール１．２−　（２−ヒドロキシ−３，５−ジーｔ−
）゛チルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２−ヒドロキン−５−メチルフェニル）ベンゾト
リアゾール、２−　　（２−ヒドロキン−ｓ’、５′−
シーｔ、−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベ
ンゾトリアゾール類、フェニルターリンレート、ｐ−ｔ
−プチルフェニルサリンレート、２，４−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル−６，５−ジーｊ−ブチル−４−ヒドロキン
ベンゾエート、ヘキサデンルーｓ、５−ジーｔ−ブチル
−４−ヒドロキンベンゾエート等のベンゾエート類、２
゜２′−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノール）Ｎｉ
塩、〔２，２−チオビス（４−ｔ−オクテルフエノ９−
））：１−ｎ−ブチルアミンＮｉｘ　　（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホン酸モノ
エチルエステルＮｉ塩等のニッケル化合物類、α−シア
ノ−β−メチル−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリ
ル類メチル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−２−エ
チルフェニル−Ｎ−２−エトキン−５−ｉ３ブテルフェ
ニルンユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エテルフェニル−Ｎ−
２−エトキシフェニルシュウ姫ジアミド等のンユウ酸ジ
アニリド類があけられる。

その他必妙に応じて、不発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有様錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、廖科、光植剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、滑剤、加工筋剤等を包含させることができる。

本発明によって安定化された高分子材料は極めて多様な
形で、例えばフィルム、繊維、テープ、シート、各種成
型品として使用でき、また、塗料、ラッカー用結合剤、
接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用σＡ
ることかでき次に本発明を実施例によって具体的に説明
する。しかしながら、本発明はこれらの実施例によって
限定されるものではンヨい。

実施例１ ポリプロビレ／　　　　　　　　　　　１００　重証部
ステアリルーβ−５，５−ジー第３ブチル−４−０，２
ヒトロキヅフエニルプロピオネート 安定剤（表−２）　　　　　　　　　　０．５上記配合
にて厚さ０．５ｗａのプレス？／−トを作成し、高圧水
銀ランプを用いて耐光性試験を行なった。また８０℃の
熱水に１５時間浸漬後のノートについても耐光性試験を
行なった。その結果を表−２に示す。

表　　　　　　　　　　２ 実施例２ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その幼果が着るしく失なわれることが知られている。

本実施例では押し出し加工を繰り返し行なうことにより
高温加工による影響を確かめた。

次の配合によシ樹脂と添加剤をミキサーで５分間混合し
ｆｃ後、押し出し機でコンパウンドを作成した。Ｃｖ９
ンダ一温度２３０℃、２４０℃、ヘッドダイス温度２５
０’Ｃ，回転数２　Ｏｒｐｍ　）　　押し出しを５回線
シ返し行なった後このコンパウンドを用いて試験片を射
出成形機で作成した。

（シリンダ一温度２４０℃、ノズル温度２５０℃、射出
圧４７　ｓ　Ｋ９／Ｃ１１！　） 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行なった。また、押し出し１回のものについても同様に
試歌した。その結果を表−６に示す。

く配　合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂　　　　　１００　重
量部ステアリン酸カルシウム　　　　　　　　　　０．
２ステアリル−β−３，５−ジー第５ブチル−４−ｏａ
１ヒドロキレフェニルプロピオネート ジラウリルチオジプロピオネート　　　　　　　　０．
２安定剤（表−！ｌ）　　　　　　　　　　０．２パ　
　　　　　−　　　　　　３ 実施例３ ポリエチレン　　　　　　　　　　　　　１００　重量
部Ｃａ−ステアレート　　　　　　　　　　　　１．０
テト２キス〔メチレン−３−（３，５−ジー第３ブチル
−４−ヒドロキシフェール）プ　　　　０．１０ビオネ
ート〕メタン ジステアリルチオジブロビオネー）　　　　　　　　０
．３安定剤（表−４）　　　　　　　　　　０．２上記
配合物を混線後プレスして厚さ０．５胴のシートを作成
した。このシートを用いてウエザオフ−ター中で耐光性
を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その結果を
表−４に示す。

表　　　　　−４ 実施例４ エチレン−酢酸ビニルコポリマー　　　　　１００　　
ｆｆ１ｉｅ２．６−ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール　
　　　０．１Ｃａ−ステアレート　　　　　　　　　　
　　　　　０．１Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　
　　　　　　０．１ジイソデンルフエニルホスフアイト
　　　　　　　０．２安定剤（表−５）０・２ 上記配合物をロール上１３０℃で混線後、１４０℃でプ
レスシート（厚さ０．４ｍｍ）を作成した。このシート
をウエザオメーター甲で５００時１曵照射後の抗張力残
率を測定した。その結釆を表−５に示す。

表　　　　　　　　　　５ 実施例５ ポリ塩化ビニル　　　　　　　　　　　１００　車蛍部
ジオクチルフタレート　　　　　　　　　４８エボキン
化太豆油　　　　　　　　　　　　２トリスノニルフエ
ニルホスフアイト　　　　　　０．２Ｃａ−ステアレー
ト　　　　　　　　　　　　１．０Ｚｎ−ステアレート
　　　　　　　　　　　　０．１安定剤（表−６）　　
　　　　　　　０．５上記配合物をロール上で混線し厚
さ１朧のシートを作＝した。このシートを用いウエザオ
フ−ター中での耐光性試験を行なった。その結果を表−
６に示す。

表　　　　　　　　　　６ 実施例６ ＡＢＳ樹脂　　　　　　　　　　　　　１００ｉ怠ｅ４
．４−ブチリテンビス（２−第５０．１ブチル−ｍ−ク
レゾール） 安定剤（表−７）　　　　　　　　　ｏ、ｓ上記配合物
をロール練９体プレスして厚さ６訓のシートを作成した
。このシートを用いウェザオメーターで８００時間照射
後の抗張力残率を測定した。その結果を表−７に示す。

表　　　　　　　　　　　７ 実施例７ ポリウレタン樹脂（地竜化製Ｕ−１００）　　　１００
　　重量部Ｂａ−ステアレート　　　　　　　　　　　
　０．７Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　　　　　
０．５２．６−ジｉ第５ブチル−ｐ−クレゾール　　　
０．１安定剤（表−８）　　　　　　　　０．３上記配
合物を７００で５分間ロール上で混疎し、１２０℃で５
分間プレスして犀さ０．５咽のシートを作成した。この
シート全フェードメーターにて５０時間照射後の伸び残
率を測定した。

その結果を表−８に示す。

表　　　　　　　　　　８ 天癩例８ 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用である
。本実施例においては金属顔料を含有するベースコート
及び透明なトップコートからなる二層金属光沢塗料につ
いてその幼果をみた。

ａ）ベースコート塗料 メタクリル酸メチル１００２、アクリルｋｎ−ブチル６
６２、メタクリル敵−２−ヒドロキンエテル３０ｆ１メ
タクリル叡４７、キシレン８０７及びｎ−ブタノール２
０７をとり、１１０℃に加熱撹拌しなからアゾビスイン
ブチロニトリル２２、ドテンルメル力ブタン０．５２、
キシレン８０２及びｎ−ブタノール２０２からなる溶液
を５時間で滴下した。その波間温度で２時間位拝し、Ｉ
ＩＩＩ脂固型分５０％のアク、リル樹８旨溶ｆ夜を調製
した。

上記アクリル樹脂溶液１２重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン（三井東圧社製；ニーパン２０Ｓ１（６０；
樹脂固型分６０％）２．５重量部、セルロースアセテー
トブチレート樹脂（２０％酢酸ブチル溶１）ｓｏ重蛍部
、アルミニウム顔料（東洋アルミニウム社製；アルペー
スト１１２５Ｎ）５．５軍警部、キシレン１０軍重部、
酢酸ブチル２０重量部及び銅フタロシアニンブルー０．
２車Ｍ＆Ｉｎとりベースコート塗料とした。

ｂ）トップコート塗料 上ｉ己アクリル伶■■旨浴液４８車量部、ブトキン化メ
チロールメラミン１０重量部、キンレフ　１０　Ｍ　Ｗ
　部、ブチルグリコールアセテート４ｉ！量部及び安定
剤（衣−９）０．１５兎量部（固型分に対し０．５％）
ｔとり、トップコート塗料とした。

プジイマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が２０μになるようにスプレーし、１０分間放放置後ッ
プコート塗料を乾燥膜厚が３０μになるようにスプレー
した。１５分間放置後１４０℃で６０分間焼付し試片と
した。

上記試片をウェザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を表−９に示す。

表　　　　　　　　　　９

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 高分子材料１００重量部に、次の一般式（Ｉ）で表わさ
   れる化合物０．００１〜５重甘部せ添加してなる、安定
   化高分子材料組成物。 （式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
   アンル基またはオキシルを示す。Ｚはまたは−Ｎ−を示
   す。Ｒ９は水素原子、アルキルす。Ｒ６はアルキル基ま
   たはアリール基を示す。 Ｒ７及びＲ８は水素原子、アルキル基またはアリール基
   を示し、またＲ７とＲ８は互いに結合して窒素原子とと
   もに５〜６員項を形成しても良い。 ｎは１〜５０を示す。）