JPH0578517A - 耐候性の改善された高分子材料組成物 - Google Patents
耐候性の改善された高分子材料組成物Info
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- JPH0578517A JPH0578517A JP24204491A JP24204491A JPH0578517A JP H0578517 A JPH0578517 A JP H0578517A JP 24204491 A JP24204491 A JP 24204491A JP 24204491 A JP24204491 A JP 24204491A JP H0578517 A JPH0578517 A JP H0578517A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 長期の耐候性を有する高分子材料組成物の提
供。 【構成】 本発明の高分子材料組成物は、高分子材料１
００重量部に、下記化１の一般式（Ｉ）で表されるベン
ゾトリアゾール化合物０．００１〜５重量部を添加して
なる。 【化１】 （式中、R1、R2はそれぞれ水素原子または炭素原子数１
〜１２のアルキル基を示し、Ｒは２〜６価の多価アルコ
ールの残基を示し、ｎは２〜６を示す。）
供。 【構成】 本発明の高分子材料組成物は、高分子材料１
００重量部に、下記化１の一般式（Ｉ）で表されるベン
ゾトリアゾール化合物０．００１〜５重量部を添加して
なる。 【化１】 （式中、R1、R2はそれぞれ水素原子または炭素原子数１
〜１２のアルキル基を示し、Ｒは２〜６価の多価アルコ
ールの残基を示し、ｎは２〜６を示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐候性の改善された高
分子材料組成物に関し、詳しくは、特定のベンゾトリア
ゾール化合物を添加することによって、長期間に亘って
耐候性の改善された高分子材料組成物に関する。
分子材料組成物に関し、詳しくは、特定のベンゾトリア
ゾール化合物を添加することによって、長期間に亘って
耐候性の改善された高分子材料組成物に関する。
【０００２】ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレ
タン、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニ
ル等の高分子材料は光の作用により劣化し、変色あるい
は機械的強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐え
ないことが知られている。
タン、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニ
ル等の高分子材料は光の作用により劣化し、変色あるい
は機械的強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐え
ないことが知られている。
【０００３】そこで、高分子材料の劣化を防止するため
に、従来から種々の光安定剤が用いられている。これら
の光安定剤としては、ヒンダードアミン系の光安定剤、
ベンゾフェノン系またはベンゾトリアゾール系の紫外線
吸収剤が主として用いられており、特に、２−ヒドロキ
シフェニルベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤は、そ
の安定化効果が大きく、広く用いられている。
に、従来から種々の光安定剤が用いられている。これら
の光安定剤としては、ヒンダードアミン系の光安定剤、
ベンゾフェノン系またはベンゾトリアゾール系の紫外線
吸収剤が主として用いられており、特に、２−ヒドロキ
シフェニルベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤は、そ
の安定化効果が大きく、広く用いられている。
【０００４】しかしながら、従来用いられていたベンゾ
トリアゾール系の化合物は、それ自身の耐熱性に劣り、
高分子材料の加工中あるいは高温下での使用時に揮散し
たり、あるいは水、有機溶媒に抽出され易い欠点を有し
ており、実用上不満足なものであった。
トリアゾール系の化合物は、それ自身の耐熱性に劣り、
高分子材料の加工中あるいは高温下での使用時に揮散し
たり、あるいは水、有機溶媒に抽出され易い欠点を有し
ており、実用上不満足なものであった。
【０００５】このため、ベンゾトリアゾール系の化合物
を樹脂中に組み込んだり（米国特許第３２８２８８６号
明細書）、特殊な官能基を導入したり（米国特許第３６
２９１９２号明細書）することが提案されたが、実用上
満足できるものではなかった。また、エステル結合によ
って分子量を増大させることも提案された（特開昭５７
−１４２９７５号公報）が、これらの化合物による効果
もまだ満足できるものではなかった。
を樹脂中に組み込んだり（米国特許第３２８２８８６号
明細書）、特殊な官能基を導入したり（米国特許第３６
２９１９２号明細書）することが提案されたが、実用上
満足できるものではなかった。また、エステル結合によ
って分子量を増大させることも提案された（特開昭５７
−１４２９７５号公報）が、これらの化合物による効果
もまだ満足できるものではなかった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の現
状に鑑み、新規なタイプの光安定剤を得るために鋭意検
討を重ねた結果、下記化２（化１と同じ）の一般式
（Ｉ）で表される化合物が耐熱性に優れ、苛酷な加工条
件下においても合成樹脂等の高分子材料に長期の耐候性
を付与しえることを見出し本発明に到達した。
状に鑑み、新規なタイプの光安定剤を得るために鋭意検
討を重ねた結果、下記化２（化１と同じ）の一般式
（Ｉ）で表される化合物が耐熱性に優れ、苛酷な加工条
件下においても合成樹脂等の高分子材料に長期の耐候性
を付与しえることを見出し本発明に到達した。
【０００７】即ち、本発明は、高分子材料１００重量部
に、下記化２（化１と同じ）の一般式（Ｉ）で表される
ベンゾトリアゾール化合物０．００１〜５重量部を添加
してなる、耐候性の改善された高分子材料組成物を提供
するものである。
に、下記化２（化１と同じ）の一般式（Ｉ）で表される
ベンゾトリアゾール化合物０．００１〜５重量部を添加
してなる、耐候性の改善された高分子材料組成物を提供
するものである。
【０００８】
【化２】 （式中、R1、R2はそれぞれ水素原子または炭素原子数１
〜１２のアルキル基を示し、Ｒは２〜６価の多価アルコ
ールの残基を示し、ｎは２〜６を示す）
〜１２のアルキル基を示し、Ｒは２〜６価の多価アルコ
ールの残基を示し、ｎは２〜６を示す）
【０００９】以下、上記要旨をもってなる本発明につい
て詳述する。
て詳述する。
【００１０】本発明の組成物に用いられるベンゾトリア
ゾール化合物を表す上記一般式（Ｉ）において、R1、R2
で表されるアルキル基としては、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、イ
ソブチル、第三ブチル、アミル、イソアミル、第三アミ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、第三オクチル、ノ
ニル、デシル、ドデシル、ウンデシル、ベンジル、α−
メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジルなどが挙げ
られる。また、上記一般式（Ｉ）において、Ｒで表され
る多価アルコール残基を与える多価アルコールとして
は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，２
−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、１，３−ブタンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、ポリテトラメチレングリ
コール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジ
オール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ル、ソルビトール、マンニトール、グリセリンなどが挙
げられる。また本発明の化合物はこれら多価アルコール
の部分エステル（多価アルコール中の水酸基の一部がエ
ステル化されずに残存している化合物）であってもよ
い。
ゾール化合物を表す上記一般式（Ｉ）において、R1、R2
で表されるアルキル基としては、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、イ
ソブチル、第三ブチル、アミル、イソアミル、第三アミ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、第三オクチル、ノ
ニル、デシル、ドデシル、ウンデシル、ベンジル、α−
メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジルなどが挙げ
られる。また、上記一般式（Ｉ）において、Ｒで表され
る多価アルコール残基を与える多価アルコールとして
は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，２
−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、１，３−ブタンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、ポリテトラメチレングリ
コール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジ
オール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ル、ソルビトール、マンニトール、グリセリンなどが挙
げられる。また本発明の化合物はこれら多価アルコール
の部分エステル（多価アルコール中の水酸基の一部がエ
ステル化されずに残存している化合物）であってもよ
い。
【００１１】したがって、上記一般式（Ｉ）で表される
ベンゾトリアゾール化合物としては、例えば以下の化３
〜化２６の化合物（化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．２４）が挙
げられる。
ベンゾトリアゾール化合物としては、例えば以下の化３
〜化２６の化合物（化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．２４）が挙
げられる。
【００１２】
【化３】
【００１３】
【化４】
【００１４】
【化５】
【００１５】
【化６】
【００１６】
【化７】
【００１７】
【化８】
【００１８】
【化９】
【００１９】
【化１０】
【００２０】
【化１１】
【００２１】
【化１２】
【００２２】
【化１３】
【００２３】
【化１４】
【００２４】
【化１５】
【００２５】
【化１６】
【００２６】
【化１７】
【００２７】
【化１８】
【００２８】
【化１９】
【００２９】
【化２０】
【００３０】
【化２１】
【００３１】
【化２２】
【００３２】
【化２３】
【００３３】
【化２４】
【００３４】
【化２５】
【００３５】
【化２６】
【００３６】上記一般式（Ｉ）で表されるベンゾトリア
ゾール化合物は、例えば、２−フェニル−５−カルボキ
シベンゾトリアゾール化合物のメチルエステルと多価ア
ルコールとのエステル交換反応で容易に合成することが
できる。
ゾール化合物は、例えば、２−フェニル−５−カルボキ
シベンゾトリアゾール化合物のメチルエステルと多価ア
ルコールとのエステル交換反応で容易に合成することが
できる。
【００３７】以下に、上記一般式（Ｉ）で表されるベン
ゾトリアゾール化合物の合成法の１例を、下記〔合成
例〕をもって示すが、該化合物の合成法は、この方法に
限られるものではない。
ゾトリアゾール化合物の合成法の１例を、下記〔合成
例〕をもって示すが、該化合物の合成法は、この方法に
限られるものではない。
【００３８】〔合成例〕２−（２’−ヒドロキシ−３’
−第三ブチル−５’−メチルフェニル）−５−カルボキ
シベンゾトリアゾールとポリエチレングリコールの縮合
物（前記化合物Ｎｏ．１６）の合成 （５−メチル−３−第三ブチル−２−フェニル）−５−
カルボキシベンゾトリアゾールのメチルエステル２．７
８ｇ、ポリエチレングリコール（平均分子量３００）
１．２３ｇ、テトライソプロピルチタネート０．１４ｇ
をキシレン６０mlに溶解し、１７０℃で９時間反応させ
て生成物を得た。反応の終点は液体クロマトグラフィー
で、原料のピークが消えて、高分子量側に１つのピーク
となった時点とした。
−第三ブチル−５’−メチルフェニル）−５−カルボキ
シベンゾトリアゾールとポリエチレングリコールの縮合
物（前記化合物Ｎｏ．１６）の合成 （５−メチル−３−第三ブチル−２−フェニル）−５−
カルボキシベンゾトリアゾールのメチルエステル２．７
８ｇ、ポリエチレングリコール（平均分子量３００）
１．２３ｇ、テトライソプロピルチタネート０．１４ｇ
をキシレン６０mlに溶解し、１７０℃で９時間反応させ
て生成物を得た。反応の終点は液体クロマトグラフィー
で、原料のピークが消えて、高分子量側に１つのピーク
となった時点とした。
【００３９】得られた生成物のＩＲ測定の結果、１７２
０ｃｍ-1にエステル、１１００ｃｍ -1にエーテルの特性
吸収が観察された。ＵＶ測定の結果、（λmax ＝３１５
ｎｍ，ε＝２４４１５）、（λmax ＝３６０ｎｍ，ε＝
２５２９１）の２つの吸収が観察された。また、得られ
た生成物の屈折率は１．５９１２であった。これらの測
定結果から、得られた生成物が目的物であることを確認
した。
０ｃｍ-1にエステル、１１００ｃｍ -1にエーテルの特性
吸収が観察された。ＵＶ測定の結果、（λmax ＝３１５
ｎｍ，ε＝２４４１５）、（λmax ＝３６０ｎｍ，ε＝
２５２９１）の２つの吸収が観察された。また、得られ
た生成物の屈折率は１．５９１２であった。これらの測
定結果から、得られた生成物が目的物であることを確認
した。
【００４０】本発明の組成物は、上記の特定のベンゾト
リアゾール化合物を高分子材料用の光安定剤として用い
るものであり、その添加量は、高分子材料１００重量部
に対して、０．００１〜５重量部、好ましくは０．０１
〜３重量部である。
リアゾール化合物を高分子材料用の光安定剤として用い
るものであり、その添加量は、高分子材料１００重量部
に対して、０．００１〜５重量部、好ましくは０．０１
〜３重量部である。
【００４１】本発明における安定性改善の対象となる高
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ−３−メチルペンテン等のα−オレフィン重合
体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プ
ロピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重
合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリ
デン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニ
ル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重
合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化
ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体、塩化ビニ
ル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン
樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び／又はα−メチ
ルスチレンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フ
ェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、
アクリロニトリル等）との共重合体（例えば、ＡＳ樹
脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）、ポ
リメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレ
ンテレフタレート及びポリテトラメチレンテレフタレー
ト等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、
ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレンアジパミド
等のポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、
ポリフェニレンサルファイド、ポリウレタン、繊維素系
樹脂等の熱可塑性合成樹脂及びこれらのブレンド物ある
いはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂を
挙げることができる。更に、イソプレンゴム、ブタジエ
ンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、ス
チレン−ブタジエン共重合ゴム等のエラストマーであっ
ても良い。
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ−３−メチルペンテン等のα−オレフィン重合
体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プ
ロピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重
合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリ
デン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニ
ル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重
合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化
ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体、塩化ビニ
ル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン
樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び／又はα−メチ
ルスチレンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フ
ェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、
アクリロニトリル等）との共重合体（例えば、ＡＳ樹
脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）、ポ
リメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレ
ンテレフタレート及びポリテトラメチレンテレフタレー
ト等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、
ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレンアジパミド
等のポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、
ポリフェニレンサルファイド、ポリウレタン、繊維素系
樹脂等の熱可塑性合成樹脂及びこれらのブレンド物ある
いはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂を
挙げることができる。更に、イソプレンゴム、ブタジエ
ンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、ス
チレン−ブタジエン共重合ゴム等のエラストマーであっ
ても良い。
【００４２】本発明の組成物には、前記一般式（Ｉ）で
表されるベンゾトリアゾール化合物と共に、他の汎用の
抗酸化剤、安定剤等の添加剤を併用することができる。
表されるベンゾトリアゾール化合物と共に、他の汎用の
抗酸化剤、安定剤等の添加剤を併用することができる。
【００４３】これらの添加剤として特に好ましいものと
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗
酸化剤、ヒンダードアミン系の光安定剤が挙げられる。
しては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗
酸化剤、ヒンダードアミン系の光安定剤が挙げられる。
【００４４】上記フェノール系抗酸化剤としては、例え
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオ
ジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−
ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサ
メチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビ
ス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三
ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕
グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−
第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−
エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェ
ノール) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−
第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタ
レート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−
ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−
トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２
−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオ
キシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオ
ジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−
ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサ
メチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビ
ス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三
ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕
グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−
第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−
エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェ
ノール) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−
第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタ
レート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−
ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−
トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２
−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオ
キシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。
【００４５】また、上記硫黄系抗酸化剤としては例え
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類が挙げられる。
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類が挙げられる。
【００４６】また、上記ホスファイト系抗酸化剤として
は、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリ
ス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェ
ニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチ
ルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニル
ホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジ (ノニルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）
イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ
（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−
第三ブチル−５−メチルフェノール) ジホスファイト、
ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン
トリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチル
フェニル）ビフェニレンジホスホナイト、９，１０−ジ
ハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン
−１０−オキサイド等が挙げられる。
は、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリ
ス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェ
ニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチ
ルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニル
ホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジ (ノニルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）
イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ
（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−
第三ブチル−５−メチルフェノール) ジホスファイト、
ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン
トリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチル
フェニル）ビフェニレンジホスホナイト、９，１０−ジ
ハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン
−１０−オキサイド等が挙げられる。
【００４７】また、上記ヒンダードアミン系光安定剤と
しては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、
１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テ
トラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタ
ンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジ
メチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカル
ボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオ
キサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，
１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）
ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０
−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，
８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミ
ノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，
８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシ
エチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチル
アミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物等が挙げ
られる。
しては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、
１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テ
トラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタ
ンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジ
メチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカル
ボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオ
キサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，
１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）
ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０
−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，
８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミ
ノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，
８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシ
エチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチル
アミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物等が挙げ
られる。
【００４８】その他必要に応じて、本発明の組成物に
は、重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化
合物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、
難燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
は、重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化
合物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、
難燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。
【００４９】本発明の組成物とすることによって安定化
された高分子材料は、例えば、農業用資材、自動車用塗
料等の高度の耐候性が要求される分野に特に有用であ
り、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種成
型材料、塗料、ラッカー用結合剤、接着剤、パテ及び写
真材料における基材等に用いることができる。
された高分子材料は、例えば、農業用資材、自動車用塗
料等の高度の耐候性が要求される分野に特に有用であ
り、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種成
型材料、塗料、ラッカー用結合剤、接着剤、パテ及び写
真材料における基材等に用いることができる。
【００５０】
【実施例】以下、実施例をもって本発明を更に詳細に説
明する。しかしながら、本発明は以下の実施例によって
制限を受けるものではない。
明する。しかしながら、本発明は以下の実施例によって
制限を受けるものではない。
【００５１】実施例１ 下記の配合により、２５０℃で押し出し加工してペレッ
トを作成した。次いで、２５０℃で射出成形して、厚さ
２mmの試験片を作成した。この試験片を用いて、８３℃
のサンシャインウェザオメーター（雨あり）による耐候
性試験を行った。オリジナルの試験片と１５００時間老
化後の光沢度を測定して残率を求め、オリジナルの試験
片と４８０時間老化後の試験片の黄色度を測定して色差
を求めた。
トを作成した。次いで、２５０℃で射出成形して、厚さ
２mmの試験片を作成した。この試験片を用いて、８３℃
のサンシャインウェザオメーター（雨あり）による耐候
性試験を行った。オリジナルの試験片と１５００時間老
化後の光沢度を測定して残率を求め、オリジナルの試験
片と４８０時間老化後の試験片の黄色度を測定して色差
を求めた。
【００５２】その結果を表−１に示した。尚、比較例に
用いた比較化合物１，２は、下記化２７、化２８にそれ
ぞれ示したものである。
用いた比較化合物１，２は、下記化２７、化２８にそれ
ぞれ示したものである。
【００５３】 〔配合〕 ポリプロピレンブロックコポリマー １００重量部 ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４− ０．１ ヒドロキシフェニル）−プロピオネート トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル） ０．０５ ホスファイト カルシウムステアレート ０．０５ ビス（２，２，６，６−テトラメチル ０．１ −４−ピペリジル）セバケート 試料化合物（表−１） ０．１
【００５４】
【００５５】
【化２７】
【００５６】
【化２８】
【００５７】実施例２ 次の配合物を用い、混練ロールで厚さ０．１mmのフィル
ムを作成し、屋外暴露によるフィルムの耐候性試験、伸
び残率の試験を行った。
ムを作成し、屋外暴露によるフィルムの耐候性試験、伸
び残率の試験を行った。
【００５８】耐候性試験は、屋外暴露１０ケ月および２
０ケ月後のフィルムの表面状態を観察し、その評価基準
を１０段階に表した。１はほとんど変色なしの状態であ
ることを示し、１０は黒褐色の状態であることを示す。
０ケ月後のフィルムの表面状態を観察し、その評価基準
を１０段階に表した。１はほとんど変色なしの状態であ
ることを示し、１０は黒褐色の状態であることを示す。
【００５９】また、伸び残率は、屋外暴露１年後のフィ
ルムを暴露前の伸びと比較して残率（％）で示す。
ルムを暴露前の伸びと比較して残率（％）で示す。
【００６０】その結果を表−２に示す。
【００６１】 〔配 合〕 重量部 塩化ビニル樹脂（重合度1450) １００ ジ−２−エチルヘキシルフタレート ５０ トリクレジルホスフェート ５ エポキシ化アマニ油脂肪酸オクチル ２ Ｚｎステアレート ０．５ Ｃａジノニルフェニルホスファイト １．０ テトラ（Ｃ12-15 混合アルキル） ０．８ ビスフェノールＡジホスファイト メチレンビスステアリン酸アミド ０．５ オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル ０．１ −４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート 試料化合物（表−２） ０．４
【００６２】
【００６３】実施例３ 下記配合物をビーカーに仕込み、軽く攪拌した後で、ビ
ーカーに入れたままで超音波洗浄器中にて１０分間混合
し、本発明品である塗料組成物を調製した。この塗料組
成物をアルミ板上に２０μｍの厚さで塗布し、１４０℃
のオーブンで３０分加熱し硬化させた。そのアルミ板を
用いて、デューパネルウエザオメーター（スガ試験機械
株式会社製）中で耐候性試験を行った。尚、ウエザオメ
ーターは光照射７０℃×５．２５時間、１００％湿度５
０℃×２．７５時間のサイクルで稼働させた。耐候性の
評価は、目視による上記塗料組成物の表面光沢の観察及
び上記塗料組成物の剥離時間の測定を行うことにより行
った。表面光沢は１０段階で評価し、１が初期と変化な
い状態を表し、数値が大きいほど光沢がない状態を表
す。
ーカーに入れたままで超音波洗浄器中にて１０分間混合
し、本発明品である塗料組成物を調製した。この塗料組
成物をアルミ板上に２０μｍの厚さで塗布し、１４０℃
のオーブンで３０分加熱し硬化させた。そのアルミ板を
用いて、デューパネルウエザオメーター（スガ試験機械
株式会社製）中で耐候性試験を行った。尚、ウエザオメ
ーターは光照射７０℃×５．２５時間、１００％湿度５
０℃×２．７５時間のサイクルで稼働させた。耐候性の
評価は、目視による上記塗料組成物の表面光沢の観察及
び上記塗料組成物の剥離時間の測定を行うことにより行
った。表面光沢は１０段階で評価し、１が初期と変化な
い状態を表し、数値が大きいほど光沢がない状態を表
す。
【００６４】その結果を表−３に示した。
【００６５】 〔配合〕 Ａｌｍａｔｅｘ １１０ *1 ７０重量部 Ｕｂａｎ ２０ＳＥ *2 ２５ 試料化合物（表−３） ０．５ ＊１ 三井東圧化学株式会社製アクリル樹脂系塗料 ＊２ 三井東圧化学株式会社製メチロールメラミン架橋剤
【００６６】
【００６７】実施例４ 下記配合物を２６０℃で押し出し加工してペレットを作
成し、次いで、２６０℃で射出成型して、厚さ１mmの試
験片を作成した。この試験片を用いて、８３℃のサンシ
ャインウエザオメーター（雨なし）による耐候性試験を
行い、初期試験片と４００時間照射後の試験片との色差
を測定した。
成し、次いで、２６０℃で射出成型して、厚さ１mmの試
験片を作成した。この試験片を用いて、８３℃のサンシ
ャインウエザオメーター（雨なし）による耐候性試験を
行い、初期試験片と４００時間照射後の試験片との色差
を測定した。
【００６８】その結果を表−４に示した。
【００６９】 〔配合〕 耐熱ＡＢＳ樹脂（α−メチルスレン共重合体） １００重量部 マグネシウムステアレート ０．４ トリエチレングリコールビス（３−第三ブチル ０．２ −４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル） プロピオネート ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタ ０．２ エリスリトールジホスファイト 二酸化チタン ０．５ 試料化合物（表−４） ０．５
【００７０】
【００７１】上記実施例の結果から、本発明の特定のベ
ンゾトリアゾール化合物を用いた場合には、従来のベン
ゾトリアゾール化合物を用いた場合と比較して著しい効
果を示すことが明らかである。
ンゾトリアゾール化合物を用いた場合には、従来のベン
ゾトリアゾール化合物を用いた場合と比較して著しい効
果を示すことが明らかである。
【００７２】
【発明の効果】本発明の高分子材料組成物は、長期の耐
候性を有するものである。
候性を有するものである。
Claims (1)
- 【請求項１】 高分子材料１００重量部に、下記化１の
一般式（Ｉ）で表されるベンゾトリアゾール化合物０．
００１〜５重量部を添加してなる、耐候性の改善された
高分子材料組成物。 【化１】 （式中、R1、R2はそれぞれ水素原子または炭素原子数１
〜１２のアルキル基を示し、Ｒは２〜６価の多価アルコ
ールの残基を示し、ｎは２〜６を示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3242044A JP3015163B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 耐候性の改善された高分子材料組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3242044A JP3015163B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 耐候性の改善された高分子材料組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0578517A true JPH0578517A (ja) | 1993-03-30 |
| JP3015163B2 JP3015163B2 (ja) | 2000-03-06 |
Family
ID=17083436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3242044A Expired - Fee Related JP3015163B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 耐候性の改善された高分子材料組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3015163B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007072651A1 (ja) * | 2005-12-21 | 2007-06-28 | Konica Minolta Opto, Inc. | 光学用セルロースエステルフィルム、該光学用セルロースエステルフィルムを用いる偏光板及び液晶表示装置 |
| US7361449B2 (en) * | 2003-06-17 | 2008-04-22 | Fujifilm Corporation | Specific dye compound, optical information recording medium comprising specific dye, and information recording method using this optical information recording medium |
| JP2008268337A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Konica Minolta Opto Inc | 新規な化合物、それを含有する光学フィルム、光学フィルムの製造方法、それを用いた偏光板、及び液晶表示装置 |
| EP2315502A1 (en) * | 2002-06-06 | 2011-04-27 | Basf Se | Electroluminescent device |
-
1991
- 1991-09-20 JP JP3242044A patent/JP3015163B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2315502A1 (en) * | 2002-06-06 | 2011-04-27 | Basf Se | Electroluminescent device |
| US7361449B2 (en) * | 2003-06-17 | 2008-04-22 | Fujifilm Corporation | Specific dye compound, optical information recording medium comprising specific dye, and information recording method using this optical information recording medium |
| WO2007072651A1 (ja) * | 2005-12-21 | 2007-06-28 | Konica Minolta Opto, Inc. | 光学用セルロースエステルフィルム、該光学用セルロースエステルフィルムを用いる偏光板及び液晶表示装置 |
| JPWO2007072651A1 (ja) * | 2005-12-21 | 2009-05-28 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学用セルロースエステルフィルム、該光学用セルロースエステルフィルムを用いる偏光板及び液晶表示装置 |
| JP2008268337A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Konica Minolta Opto Inc | 新規な化合物、それを含有する光学フィルム、光学フィルムの製造方法、それを用いた偏光板、及び液晶表示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3015163B2 (ja) | 2000-03-06 |
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