JPH05331313A - 高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 熱および光の作用による劣化に対して著しく
安定化された高分子材料組成物の提供。 【構成】 本発明の高分子材料組成物は、高分子材料１
００重量部に、次の〔化１〕の一般式（Ｉ）で表される
ホスホナイト化合物０．００１〜５重量部および分子量
３００以上の２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾト
リアゾール化合物０．００１〜５重量部を添加してな
る。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高分子材料組成物に関
し、詳しくは、特定のホスホナイト化合物および分子量
３００以上のベンゾトリアゾール化合物を併用添加して
なる安定化された高分子材料組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリウレタン、スチレン系樹
脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等の高分子
材料は熱や光の作用により劣化し、変色あるいは機械的
強度の低下等を引起し、長期の使用に耐えないことが知
られている。

【０００３】かかる高分子材料の劣化を防ぐ目的でフェ
ノール系、リン系、硫黄系等の種々の酸化防止剤、紫外
線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤などが添加され
ている。ところがこれらの安定剤にはそれ自身熱安定性
に難があるものが多く、高温での加工時に分解して製品
を着色させるという欠点をもっている。

【０００４】特公昭４８−４１００９号公報、特公昭４
９−４５３９７号公報等に熱安定性の優れた有機リン化
合物として環状ホスホナイト化合物が提案されている。
また、特開昭５４−１６４８０号公報にはヒンダード構
造を有する環状ホスホナイト化合物が提案され、特開昭
５５−１１５９７号公報、特開昭５７−１０５４５６号
公報には多官能性の環状ホスホナイト化合物が提案され
ているが、未だ性能の改善は不充分である。

【０００５】従って、本発明の目的は、熱および光の作
用による劣化に対して著しく安定化された高分子材料組
成物を提供することにある。

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、高分子材料に、ヒ
ンダード構造を有する環状ホスホナイト化合物および分
子量３００以上のベンゾトリアゾール化合物を併用添加
することによって、高分子材料の着色性を著しく改善す
ることを見出し本発明を完成した。

【０００６】すなわち、本発明は、高分子材料１００重
量部に対し、次の〔化２〕（〔化１〕と同じ）の一般式
（Ｉ）で表されるホスホナイト化合物０．００１〜５重
量部および分子量３００以上の２−（２−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾール化合物０．００１〜５重量
部を添加してなる、安定化された高分子材料組成物を提
供するものである。

【０００７】

【化２】

【０００８】以下、本発明の高分子材料組成物について
詳述する。上記〔化２〕の一般式（Ｉ）において、R₁お
よびR₂で表される置換または未置換の炭化水素基として
は、メチル、イソプロピル、第三ブチル、第三オクチル
などがあげられ、R₃で表される炭素原子数１〜４の炭化
水素基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチルな
どがあげられ、R₄で表される置換または未置換の脂肪族
または芳香脂肪族の炭化水素基としては、メチル、１−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルフェニル）エ
チル、ブタン−１，１，３−トリイル、ブタン−１，１
−ジイル、２−ステアリルオキシカルボニルエチル、
１，３，５−トリメチルベンゼン−２，４，５−トリメ
チレン−トリイルなどがあげられる。

【０００９】従って、本発明で用いられる上記〔化２〕
の一般式（Ｉ）で表されるホスホナイト化合物として
は、例えば、次の〔化３〕〜〔化８〕に示すような化合
物があげられる。

【００１０】

【化３】

【００１１】

【化４】

【００１２】

【化５】

【００１３】

【化６】

【００１４】

【化７】

【００１５】

【化８】

【００１６】これらの環状ホスホナイト化合物の添加量
は、高分子材料１００重量部に対して、０．００１〜５
重量部、好ましくは０．０１〜３重量部である。

【００１７】また、本発明で用いられる２−（２−ヒド
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾール化合物は、次の
〔化９〕の一般式（II) で表される化合物であり、か
つ、分子量が３００以上でなければならない。

【００１８】

【化９】

【００１９】分子量３００未満のベンゾトリアゾール化
合物を用いた場合には、安定化効果が不充分であり、特
に過酷な試験条件下においてはその効果が急速に失われ
てしまう。

【００２０】本発明で使用される分子量３００以上のベ
ンゾトリアゾール化合物としては、例えば下記〔化１
０〕〜〔化１７〕に示すような公知化合物があげられ
る。

【００２１】

【化１０】

【００２２】

【化１１】

【００２３】

【化１２】

【００２４】

【化１３】

【００２５】

【化１４】

【００２６】

【化１５】

【００２７】

【化１６】

【００２８】

【化１７】

【００２９】これらのベンゾトリアゾール化合物の添加
量は、高分子材料１００重量部に対して、０．００１〜
５重量部、好ましくは０．０１〜３重量部である。

【００３０】本発明における安定性改善の対象となる高
分子材料としては、例えば、高密度、低密度または直鎖
状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−
１、ポリ−３−メチルペンテン等のα−オレフィン重合
体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プ
ロピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重
合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリ
デン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩
化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニ
ル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重
合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化
ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体、塩化ビニ
ル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン
樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢
酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び／又はα−メチ
ルスチレンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フ
ェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、
アクリロニトリル等）との共重合体（例えば、ＡＳ樹
脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）、ポ
リメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレ
ンテレフタレート及びポリテトラメチレンテレフタレー
ト等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、
ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレンアジパミド
等のポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、
ポリフェニレンサルファイド、ポリウレタン、繊維素系
樹脂等の熱可塑性合成樹脂及びこれらのブレンド物ある
いはフェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂を
あげることができる。更に、イソプレンゴム、ブタジエ
ンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、ス
チレン−ブタジエン共重合ゴム等のエラストマーであっ
ても良い。

【００３１】本発明の組成物には、前記化合物と共に、
他の汎用の抗酸化剤、紫外線吸収剤、安定剤等の添加剤
を併用することができる。

【００３２】これらの添加剤として特に好ましいものと
しては、フェノール系、硫黄系およびホスファイト系等
の抗酸化剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定
剤などがあげられる。

【００３３】上記フェノール系抗酸化剤としては、例え
ば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−
ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステア
リル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオ
ジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−
ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサ
メチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビ
ス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール) 、２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三
ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロ
キシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕
グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−
第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−
エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェ
ノール) 、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−
第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−
第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタ
レート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−
ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−
トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２
−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオ
キシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル) フェノー
ル、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第
三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロ
ピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ〔５. ５〕ウンデカン、トリエチレングリ
コールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオネート〕等があげられる。

【００３４】また、上記硫黄系抗酸化剤としては、例え
ば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジ
ステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及び
ペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプト
プロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカ
プトプロピオン酸エステル類があげられる。

【００３５】また、上記ホスファイト系抗酸化剤として
は、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリ
ス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、ト
リス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェ
ニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチ
ルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニル
ホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ジ (ノニルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス
（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）
イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ
（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−
第三ブチル−５−メチルフェノール) ジホスファイト、
ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン
トリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチル
フェニル）ビフェニレンジホスホナイト、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチル
ホスファイト等があげられる。

【００３６】また、上記紫外線吸収剤としては、例え
ば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−オクトキシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビ
ス（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等
の２−ヒドロキシベンゾフェノン類；フェニルサリシレ
ート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，４−ジ第
三ブチルフェニル−３’，５’−ジ第三ブチル−４’−
ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエー
ト類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリド、２−
エトキシ−４’−ドデシルオキザニリド等の置換オキザ
ニリド類；エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルア
クリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル−３−
（ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシアノアク
リレート類があげられる。

【００３７】また、上記ヒンダードアミン系光安定剤と
しては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ド
デシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチ
ル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリ
ジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン、テトラ（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレ
ート、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・
ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレー
ト、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキ
シカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチ
ル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．
５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニル
オキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサス
ピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラ
キス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−
トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラア
ザドデカン、１，６，１１−トリス〔４，６−ビス（Ｎ
−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）−Ｎ−ブチルアミノ）−１，３，５−トリアジン−
２−イルアミノ〕ウンデカン、１−（２−ヒドロキシエ
チル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチルア
ミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’−
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物等があげ
られる。

【００３８】その他必要に応じて、本発明の組成物に
は、重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化
合物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、
難燃剤、滑剤、加工助剤等を包含させることができる。

【００３９】また、本発明の安定剤の添加された高分子
材料組成物は、農業用資材、自動車用塗料及び内外装材
等の長期間に渡って高度の耐候性が要求される用途にも
好適に用いることができ、例えば、フィルム、繊維、テ
ープ、シート、各種成型材料、塗料、ラッカー用結合
剤、接着剤、パテ及び写真材料における基材等に用いる
ことができる。

【００４０】

【実施例】次に本発明を実施例によって具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によって制
限を受けるものではない。

【００４１】実施例１ 下記配合により、２８０℃、２５ｒｐｍで押し出し回数
１回目および５回目のメルトフロー速度（ＭＦＲ）（ｇ
／１０分）の変化を測定した。さらに押し出し回数１回
目および５回目のペレットを２５０℃で射出成型して、
厚さ１ｍｍの試験片を作成し、その黄色度をハンター比
色計で測定し、その変化を見た。また、１５０℃のギヤ
ーオーブンに入れ、７２時間後の熱着色についても同様
に黄色度を測定した。

【００４２】また、この試験片（押し出し１回目）につ
いて、８３℃サンシャインウェザオメーターを用いて耐
候性試験を行なった。オリジナルの試験片と１５００時
間老化後の光沢度を測定して残率を求めた。

【００４３】その結果を下記〔表１〕に示す。

【００４４】 〔配合〕 重量部 エチレン−プロピレンブロックポリマー １００ ステアリン酸カルシウム ０．０５ テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル ０．１ −４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン ＢＴ−３ ０．１ 試験化合物（〔表１〕参照） ０．１

【００４５】

【表１】

【００４６】比較化合物１は、下記〔化１８〕に示す化
合物であり、比較化合物２は下記〔化１９〕に示す化合
物である。

【化１８】

【００４７】

【化１９】

【００４８】実施例２ 下記配合物をビーカーに仕込み、軽く攪拌した後、ビー
カーに入れたままで超音波洗浄器中に１０分間混合し、
塗料組成物を得た。この塗料組成物をアルミ板上に２０
μｍの厚さで塗布し、１４０℃のオーブンで３０分加熱
し硬化させた。そのアルミ板を用いて、デューパネルウ
エザオメーター（スガ試験機械株式会社製）中で耐候性
試験を行った。尚、ウエザオメーターは光照射７０℃×
５．２５時間、１００％湿度５０℃×２．７５時間のサ
イクルで稼働させた。耐候性の評価方法は、目視による
表面光沢と塗料の剥離時間を比較した。表面光沢は１０
段階で評価し、１が初期と変化ない状態を表し、数値が
大きいほど光沢がなくなる。

【００４９】その結果を下記〔表２〕に示す。

【００５０】 〔配合〕 Ａｌｍａｔｅｘ １１０ ^*1 ７０重量部 Ｕｂａｎ ２０ＳＥ ^*2 ２５ ＨＣＡ−３ ０．１ 試験化合物（〔表２〕参照） ０．５ ＊１ 三井東圧化学株式会社製アクリル樹脂系塗料 ＊２ 三井東圧化学株式会社製メチロールメラミン架橋剤

【００５１】

【表２】

【００５２】比較化合物３は下記〔化２０〕に示す化合
物である。

【化２０】

【００５３】実施例３ 下記配合物を２６０℃で押し出し加工してペレットを作
成し、次いで、２６０℃で射出成型して、厚さ１mmの試
験片を作成した。この試験片を用いて、８３℃のサンシ
ャインウエザオメーター（雨なし）による耐候性試験を
行い、４００時間照射後の色差を測定した。

【００５４】その結果を下記〔表３〕に示す。

【００５５】 〔配合〕 耐熱ＡＢＳ樹脂（α−メチルスレン共重合体） １００重量部 マグネシウムステアレート ０．４ トリエチレングリコールビス（３−第三ブチル ０．２ −４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル） プロピオネート ＨＣＡ−４ ０．２ 二酸化チタン ０．５ 試験化合物（〔表３〕参照） ０．５

【００５６】

【表３】

【００５７】実施例４ 平均分子量２９０００のポリカーボネート樹脂１００重
量部に対して、試験化合物（〔表４〕参照）０．３０重
量部およびＨＣＡ−４：０．１５重量部をブレンドした
後、２９０℃の二軸押出機でペレット化した。そのペレ
ットを熱風乾燥した後、射出成型機を用いて２８０℃で
試験片を作成した。

【００５８】この試験片について、１２０℃のギヤーオ
ーブンで１５０時間加熱後の黄色度を測定し、加熱前と
の変化（ΔＹＩ）を求め、着色性とした。

【００５９】また、この試験片を用い、高圧水銀灯によ
り紫外線を照射し、ＡＳＴＭ Ｄ１９２５に従い、未照
射の試験片と、２週間照射後の試験片の黄色度を測定
し、その変化（ΔＹＩ）を求め、耐候性とした。

【００６０】その結果を下記〔表４〕に示す。

【００６１】

【表４】

【００６２】実施例５ 極限粘度１．２のポリエチレンテレフタート１００重量
部、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン
０．１重量部、ＨＣＡ−４：０．１重量部および試験化
合物（〔表５〕参照）０．５重量部を混合し、押出し機
を用いて２６０℃で溶融混練して押し出しペレット化し
た。

【００６３】このペレットを、射出成型機とＡＳＴＭで
規定する試験片成型用金型を用い、樹脂温度２６５℃、
金型温度９０℃、射出時間１０秒、冷却時間３０秒で射
出成型を行ない、試験片を作成した。

【００６４】この試験片を用い、ウェザオメーター中で
３０００時間照射し、照射後の引張強さを測定した。照
射前の引張強さとの比から引張強さの残率（％）を求
め、耐候性とした。

【００６５】その結果を下記〔表５〕に示す。

【００６６】

【表５】

【００６７】上記各実施例から明らかなごとく、本発明
の特定のホスホナイト化合物と分子量３００以上のベン
ゾリアゾール化合物を高分子材料に併用添加することに
よって、それぞれ単独で使用したときには予想もできな
いほど熱および光による劣化の抑制効果が見られる。

【００６８】これに対し、本発明以外のホスホナイト化
合物を用いた場合あるいは分子量３００未満のベンゾト
リアゾール化合物を用いた場合には、劣化の抑制効果が
不充分であり、特に過酷な試験条件下においては全く不
満足な効果しか得られない。

【００６９】

【発明の効果】本発明の高分子材料組成物は、熱および
光の作用による劣化に対して著しく安定化されたもので
ある。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】高分子材料１００重量部に、次の〔化１〕
   の一般式（Ｉ）で表されるホスホナイト化合物０．００
   １〜５重量部および分子量３００以上の２−（２−ヒド
   ロキシフェニル）ベンゾトリアゾール化合物０．００１
   〜５重量部を添加してなる、高分子材料組成物。 【化１】