JP2002363536A - 紫外線吸収剤組成物及び該組成物により安定化された樹脂組成物 - Google Patents

紫外線吸収剤組成物及び該組成物により安定化された樹脂組成物

Info

Publication number
JP2002363536A
JP2002363536A JP2001172080A JP2001172080A JP2002363536A JP 2002363536 A JP2002363536 A JP 2002363536A JP 2001172080 A JP2001172080 A JP 2001172080A JP 2001172080 A JP2001172080 A JP 2001172080A JP 2002363536 A JP2002363536 A JP 2002363536A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tert
resin
butyl
ultraviolet absorbent
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001172080A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4993421B2 (ja
Inventor
Toru Haruna
徹 春名
Shinichi Ishikawa
慎一 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adeka Corp
Original Assignee
Asahi Denka Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Denka Kogyo KK filed Critical Asahi Denka Kogyo KK
Priority to JP2001172080A priority Critical patent/JP4993421B2/ja
Priority to US10/479,641 priority patent/US7018570B2/en
Priority to EP02733344A priority patent/EP1405887A4/en
Priority to PCT/JP2002/005597 priority patent/WO2002100970A1/ja
Publication of JP2002363536A publication Critical patent/JP2002363536A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4993421B2 publication Critical patent/JP4993421B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3472Five-membered rings
    • C08K5/3475Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/005Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/13Phenols; Phenolates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/132Anti-ultraviolet fading

Abstract

(57)【要約】 【課題】 合成樹脂との相溶性に優れた紫外線吸収剤組
成物および該紫外線吸収剤組成物により安定化された合
成樹脂組成物を提供すること。 【解決手段】 下記一般式(I)で表わされる化合物
(A)並びに、フェノール系酸化防止剤(b−1)、リ
ン系酸化防止剤(b−2)、ヒンダードアミン系安定剤
(b−3)及び化合物(A)以外の紫外線吸収剤(b−
4)の群から選ばれる樹脂安定剤(B)を質量比(A)
/(B)=95/5〜50/50で溶融混合してなる紫
外線吸収剤組成物。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特定の構造を有す
るベンゾトリアゾール化合物と他の樹脂安定剤を溶融混
合して得られる紫外線吸収剤組成物に関し、より詳細に
は、特定の構造を有するベンゾトリアゾール化合物と他
の樹脂安定剤を溶融混合することにより得られる低融点
で樹脂に対する相溶性に優れた紫外線吸収剤組成物およ
び該紫外線吸収剤組成物により安定化された合成樹脂組
成物に関する。
【0002】
【従来の技術及び問題点】従来から、種々の合成樹脂が
化学的、物理的特徴に応じて、建築資材、農業用資材、
雑貨、自動車部品、電化製品のハウジング、塗料、包装
資材などに用いられてきた。
【0003】しかし、多くの合成樹脂は単独では熱や光
により劣化するため、フェノール系酸化防止剤、リン系
酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤などの酸化防止剤、紫
外線吸収剤、ヒンダードアミン系安定剤が用いられてき
た。
【0004】実際に樹脂を安定化する方法としては、目
的に応じて、複数の添加剤を用いることも従来から行わ
れてきた。例えばフェノール系酸化防止剤とリン系酸化
防止剤の併用などの耐熱性を付与する添加剤の組み合わ
せや、紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤の併
用などの耐候性を付与する添加剤の組み合わせにおい
て、相乗効果が得られることが広く知られている。
【0005】これら添加剤の中で、2,2’−メチレン
ビス(4−第三オクチル−6−ベンゾトリアゾリル)フ
ェノールは特開昭61−118373号公報に提案され
た優れた紫外線吸収剤であり、特開昭61−11364
9号公報、特開昭61−113667号公報、特開昭6
1−163954号公報、特開昭62−225554号
公報、特開昭62−146951号公報、特開昭62−
172058号公報、特開昭63−10653号公報な
どに種々の樹脂に対する利用が提案されている。
【0006】しかし、2,2’−メチレンビス(4−第
三オクチル−6−ベンゾトリアゾリル)フェノールはポ
リオレフィン樹脂などに対しては相溶性が低く、適用し
た場合には樹脂表面に噴き出してブルーム現象を起こし
樹脂の商品性を損なうため、適用される樹脂が制限され
ていた。
【0007】このような優れた紫外線吸収剤である2,
2’−メチレンビス(4−第三オクチル−6−ベンゾト
リアゾリル)フェノールの樹脂に対する相溶性を改善し
て、高度の安定化効果が求められる用途に適用できるよ
うにすることが望まれていた。
【0008】
【問題点を解決するための手段】本発明者らは、上記の
現状に鑑み鋭意検討を重ねた結果、2,2’−メチレン
ビス(4−第三オクチル−6−ベンゾトリアゾリル)フ
ェノールと他の樹脂添加剤を溶融混合することにより得
られる紫外線吸収剤組成物が樹脂への相溶性に優れ、ブ
ルームが抑えられ、かつ安定化された樹脂組成物を提供
できることを見出した。
【0009】即ち、本発明の第1は、下記一般式(I)
で表わされる化合物(A)並びに、フェノール系酸化防
止剤(b−1)、リン系酸化防止剤(b−2)、ヒンダ
ードアミン系安定剤(b−3)及び化合物(A)以外の
紫外線吸収剤(b−4)の群から選ばれる樹脂安定剤
(B)を質量比(A)/(B)=95/5〜50/50
で溶融混合してなる紫外線吸収剤組成物を提供するもの
である。
【化3】 本発明の第2は、樹脂安定剤(B)が化合物(A)以外
の紫外線吸収剤(b−4)である本発明の第1の紫外線
吸収剤組成物を提供するものである。本発明の第3は、
化合物(A)以外の紫外線吸収剤(b−4)がベンゾト
リアゾール系紫外線吸収剤である本発明の第2の紫外線
吸収剤組成物を提供するものである。本発明の第4は、
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が下記式(II)で表
される化合物である本発明の第3の紫外線吸収剤組成物
を提供するものである。
【化4】 本発明の第5は、合成樹脂に本発明の第1〜4のいずれ
かの紫外線吸収剤組成物が配合されてなる合成樹脂組成
物を提供するものである。本発明の第6は、合成樹脂が
ポリオレフィン樹脂である本発明の第5の合成樹脂組成
物を提供するものである。
【0010】以下に本発明を詳細に説明する。
【0011】本発明に用いられるフェノール系酸化防止
剤(b−1)としては、2,6−ジ第三ブチル−p−ク
レゾール、2,6−ジフェニル−4−オクタデシロキシ
フェノール、ジステアリル(3,5−ジ第三ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)ホスホネート、1,6−ヘキサ
メチレンビス〔(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオン酸アミド〕、4,4’−チオビ
ス(6−第三ブチル−m−クレゾール)、2,2’−メ
チレンビス(4−メチル−6−第三ブチルフェノー
ル)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−第三
ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(6−
第三ブチル−m−クレゾール)、2,2’−エチリデン
ビス(4,6−ジ第三ブチルフェノール)、2,2’−
エチリデンビス(4−第二ブチル−6−第三ブチルフェ
ノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒド
ロキシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン、1,3,5
−トリス(2,6−ジメチル−3−ヒドロキシ−4−第
三ブチルベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−ト
リス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(3,5−
ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6
−トリメチルベンゼン、2−第三ブチル−4−メチル−
6−(2−アクリロイルオキシ−3−第三ブチル−5−
メチルベンジル)フェノール、ステアリル(3,5−ジ
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト、チオジエチレングリコールビス〔(3,5−ジ第三
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、
1,6−ヘキサメチレンビス〔(3,5−ジ第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ビス
〔3,3−ビス(4−ヒドロキシ−3−第三ブチルフェ
ニル)ブチリックアシッド〕グリコールエステル、ビス
〔2−第三ブチル−4−メチル−6−(2−ヒドロキシ
−3−第三ブチル−5−メチルベンジル)フェニル〕テ
レフタレート、1,3,5−トリス〔(3,5−ジ第三
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ
エチル〕イソシアヌレート、テトラキス〔メチレン−3
−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネート〕メタン、3,9−ビス〔1,1−ジメ
チル−2−{(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕−2,
4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウンデカ
ン、トリエチレングリコールビス〔(3−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネー
ト〕などが挙げられる。
【0012】本発明に用いられるリン系酸化防止剤(b
−2)としては、トリスノニルフェニルホスファイト、
トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスファイ
ト、トリス〔2−第三ブチル−4−(3−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−5−メチルフェニルチオ)−5−メチ
ルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、
オクチルジフェニルホスファイト、ジ(デシル)モノフ
ェニルホスファイト、ジ(トリデシル)ペンタエリスリ
トールジホスファイト、ジ(ノニルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ第三ブ
チルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス(2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェニル)ペ
ンタエリスリトールジホスフィト、ビス(2,4,6−
トリ第三ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホス
ファイト、ビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスファイト、テトラ(トリデシル)イ
ソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ
(トリデシル)−4,4’−n−ブチリデンビス(2−
第三ブチル−5−メチルフェノール)ジホスファイト、
ヘキサ(トリデシル)−1,1,3−トリス(2−メチ
ル−4−ヒドロキシ−5−第三ブチルフェニル)ブタン
トリホスファイト、テトラキス(2,4−ジ第三ブチル
フェニル)ビフェニレンジホスホナイト、9,10−ジ
ハイドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン
−10−オキサイド、2,2’−メチレンビス(4,6
−第三ブチルフェニル)−2−エチルヘキシルホスファ
イト、2,2’−メチレンビス(4,6−第三ブチルフ
ェニル)−オクタデシルホスファイト、2,2’−エチ
リデンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)フルオロ
ホスファイト、トリス(2−〔(2,4,8,10−テ
トラキス第三ブチルジベンゾ〔d,f〕〔1,3,2〕
ジオキサホスフェピン−6−イル)オキシ〕エチル)ア
ミン、2−エチル−2−ブチルプロピレングリコールと
2,4,6−トリ第三ブチルフェノールのホスファイト
などが挙げられる。
【0013】本発明に用いられるヒンダードアミン系安
定剤(b−3)としては、2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジルステアレート、1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジルステアレート、2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルベンゾエー
ト、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジル)セバケート、テトラキス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブ
タンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ブタンテ
トラカルボキシレート、ビス(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)・ジ(トリデシル)−1,
2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、ビス
(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジ
ル)・ジ(トリデシル)−1,2,3,4−ブタンテト
ラカルボキシレート、ビス(1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジル)−2−ブチル−2−(3,
5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネー
ト、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジノール/コハク酸ジエチル
重縮合物、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン/ジブロモエタン
重縮合物、1,6−ビス(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジルアミノ)ヘキサン/2,4−ジクロ
ロ−6−モルホリノ−s−トリアジン重縮合物、1,6
−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ルアミノ)ヘキサン/2,4−ジクロロ−6−第三オク
チルアミノ−s−トリアジン重縮合物、1,5,8,1
2−テトラキス〔2,4−ビス(N−ブチル−N−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ア
ミノ)−s−トリアジン−6−イル〕−1,5,8,1
2−テトラアザドデカン、1,5,8,12−テトラキ
ス〔2,4−ビス(N−ブチル−N−(1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s
−トリアジン−6−イル〕−1,5,8,12−テトラ
アザドデカン、1,6,11−トリス〔2,4−ビス
(N−ブチル−N−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン−6−イ
ル〕アミノウンデカン、1,6,11−トリス〔2,4
−ビス(N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジル)アミノ)−s−トリアジン
−6−イル〕アミノウンデカン等のヒンダードアミン化
合物が挙げられる。
【0014】本発明に用いられる化合物(A)以外の紫
外線吸収剤(b−4)としては、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾ
フェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェ
ノン、5,5’−メチレンビス(2−ヒドロキシ−4−
メトキシベンゾフェノン)等の2−ヒドロキシベンゾフ
ェノン類;2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−
3’,5’−ジ第三ブチルフェニル)−5−クロロベン
ゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−第三
ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾト
リアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−第三オク
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒド
ロキシ−3’,5’−ジクミルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−第三ブチル−
5’−カルボキシフェニル)ベンゾトリアゾール等の2
−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール
類;フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾ
エート、2,4−ジ第三ブチルフェニル−3,5−ジ第
三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2,4−ジ第
三アミルフェニル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンゾエート、ヘキサデシル−3,5−ジ第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート類;
2−エチル−2’−エトキシオキザニリド、2−エトキ
シ−4’−ドデシルオキザニリド等の置換オキザニリド
類;エチル−α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレ
ート、メチル−2−シアノ−3−メチル−3−(p−メ
トキシフェニル)アクリレート等のシアノアクリレート
類;2−(2−ヒドロキシ−4−オクトキシフェニル)
−4,6−ビス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)−s
−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフ
ェニル)−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシ−4−プロポキシ−5−メチルフェニ
ル)−4,6−ビス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)
−s−トリアジン等のトリアリールトリアジン類が挙げ
られる。
【0015】樹脂安定剤(B)としては、樹脂の種類や
用途により樹脂への好ましい配合量が酸化防止剤、ヒン
ダードアミン系安定剤、紫外線吸収剤毎に選択されるの
で、樹脂への配合時の選択性が高い化合物(A)以外の
紫外線吸収剤(b−4)を用いることが好ましく、中で
も化合物(A)との溶融混合時の両者間の相溶性が高い
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤がより好ましく、下
記式(II)で表される化合物がブルーム改善効果が顕著
であり特に好ましい。
【0016】
【化5】
【0017】化合物(A)の紫外線吸収剤としての優れ
た性能と混合物することにより得られる低融点化、ブル
ーム改善効果を両立させるため、化合物(A)と樹脂安
定剤(B)の質量比は、(A)/(B)が95/5〜5
0/50の範囲であり、好ましくは90/10〜70/
30の範囲である。
【0018】本発明の紫外線吸収剤組成物が配合される
合成樹脂としては、ポリプロピレン、低密度ポリエチレ
ン、直鎖低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポ
リブテン−1、ポリ−3−メチルペンテン、ポリ−4−
メチルペンテン、エチレン−プロピレン共重合体等のα
−オレフィンの単重合体または共重合体、これらのα−
オレフィンと共役ジエンまたは非共役ジエン等の多不飽
和化合物、アクリル酸、メタクリル酸、酢酸ビニル等と
の共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンテレフタレート・イソフタレート、ポリエチレンテレ
フタレート・パラオキシベンゾエート、ポリブチレンテ
レフタレートなどの直鎖ポリエステルや酸変性ポリエス
テル、ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレンアジ
パミド等のポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ス
チレン及び/又はα−メチルスチレンと他の単量体(例
えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタクリ
ル酸メチル、ブタジエン、アクリロニトリル等)との共
重合体(例えば、AS樹脂、ABS樹脂、MBS樹脂、
耐熱ABS樹脂等)、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポ
リフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル
酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル
共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重
合体等の含ハロゲン樹脂、(メタ)アクリル酸メチル、
(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸オクチ
ル等の(メタ)アクリル酸エステルの重合物、ポリエー
テルケトン、ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマ
ール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、
直鎖又は分岐のポリカーボネート、石油樹脂、クマロン
樹脂、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性樹
脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラ
ミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂、
更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、ブタジエン−
スチレン共重合ゴム、ブタジエン−アクリロニトリル共
重合ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共
重合ゴム、エチレンとプロピレン、ブテン−1等のα−
オレフィンとの共重合ゴム、更にエチレン−α−オレフ
ィン及びエチリデンノルボルネン、シクロペンタジエン
等の非共役ジエン類との三元共重合体ゴム等のエラスト
マー、シリコン樹脂等であってもよく、これら樹脂及び
/又はエラストマーをアロイ化又はブレンドしたもので
あってもよい。特に従来2,2’−メチレンビス(4−
第三オクチル−6−ベンゾトリアゾリル)フェノールが
相溶性に乏しいポリオレフィン系樹脂において好適に用
いられる。
【0019】本発明の合成樹脂組成物には、別途、必要
に応じて、通常樹脂に用いられるチオエーテル系酸化防
止剤;リン酸エステル金属塩、ベンジリデンソルビトー
ル、安息香酸誘導体の金属塩などの造核剤;重金属不活
性化剤;脂肪酸金属塩;ハイドロタルサイト;充填剤;
顔料;染料;難燃剤;加工性改良剤などを用いてもよ
い。
【0020】本発明の紫外線吸収剤組成物の製造方法は
特に制限されるものではなく、例えば化合物(A)と樹
脂安定剤(B)を容器中で不活性雰囲気下に加熱溶融し
て撹拌混合しながら、溶融状態のままアルミ製のトレー
に移して冷却し、フレーカーにより冷却粉砕する方法、
化合物(A)と樹脂安定剤(B)を溶媒に溶解して均一
溶液とした後、脱溶媒を脱溶媒して得られる混合物の溶
融温度以上で行い、溶融混合物として、取り出し、冷却
し、粉砕する方法などがある。後者の一旦溶液化する方
法は、脱溶媒が必要で工程が増えるため経済的には不利
であるが、処理温度が比較的低温で済むため、化合物
(A)や樹脂安定剤(B)が熱により着色や分解するこ
とを抑制できる。
【0021】このようにして得られる紫外線吸収剤組成
物を合成樹脂に配合する方法は特に限定されず、公知の
樹脂に安定剤を配合する方法、例えばリボンブレンダ
ー、ヘンシェルミキサーによる混合等が採用でき、必要
に応じて押出機やバンバリーミキサーなどを用いてもよ
い。配合量は、紫外線吸収剤組成物中の(A)/(B)
の質量比にもよるが、それぞれが合成樹脂100質量部
に対して、0.001〜10質量部、より好ましくは、
0.05〜5質量部になるように用いられる。
【0022】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
る。
【0023】実施例1−1〜1−7 2,2’−メチレンビス(4−第三オクチル−6−ベン
ゾトリアゾリル)フェノール20gと試料化合物(表1
記載)5gをミキサーで30秒混合後、芳香族炭化水素
系溶媒(商品名「ソルベッソ150」:エクソン化学
(株)製)25gに180℃で溶解し、180℃を保持
しながら脱溶媒して溶融混合物を得た。得られた溶融混
合物をアルミ製トレーに移して冷却後、粒径1mm以下
に粉砕して目視により融点測定を行った。融点測定結果
を表1に示す。
【0024】比較例1−1〜1−4 2,2’−メチレンビス(4−第三オクチル−6−ベン
ゾトリアゾリル)フェノール20gと試料化合物(表1
記載)5gをミキサーで30秒間混合し、得られた「ミ
キサー混合物」を目視により融点測定を行った。融点測
定結果を表1に示す。なお比較例において、「溶融混合
物の融点」の欄に記載の温度は、該ミキサー混合物の二
つの融点である。
【0025】
【表1】
【0026】表1より明らかなように、2,2’−メチ
レンビス(4−第三オクチル−6−ベンゾトリアゾリ
ル)フェノールは単純に他の添加剤と混合しても融点は
各々の添加剤由来の融点が保持されるが、一度溶融混合
することにより低融点の組成物となる。
【0027】実施例2−1 ランダムポリプロピレン(メルトフローインデックス=
2.3)100質量部に、テトラキス〔メチレン−3−
(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロピオネート〕メタン0.02質量部、2,6−ジ第三
ブチル−4−メチルフェノール0.1質量部、実施例1
−8で得られた紫外線吸収剤組成物0.8質量部を配合
して250℃で押出し成形してペレットとして、250
℃で射出成形により1mm厚の試験片を得た。
【0028】比較例2−1 紫外線吸収剤組成物を表2記載の化合物または組成物に
変更した以外は、実施例2−1と同様にして試験片を得
た。
【0029】得られた試験片を室温で3ヶ月間放置して
オリジナル、1ヵ月後、2ヵ月後、3ヵ月後での表面状
態をスガ試験機(株)社製ヘイズ値測定装置:HGM−
2DPでヘイズ値を測定してブルーム性試験として評価
した。結果を表2に示す。
【0030】
【表2】
【0031】表2の比較例2−1〜2−3より明らかな
ように、2,2’−メチレンビス(4−第三オクチル−
6−ベンゾトリアゾリル)フェノールや2−(2’−ヒ
ドロキシ−3’,5’−ジクミルフェニル)ベンゾトリ
アゾールの単独または単なる混合物ではブルームが顕著
であり、特に2,2’−メチレンビス(4−第三オクチ
ル−6−ベンゾトリアゾリル)フェノールの単独使用で
は顕著である。しかし、実施例2−1で明らかなように
溶融混合することによりブルームが抑制されている。
【0032】ブルームが抑制される機構については不明
であるが、実施例1−1〜1−9より溶融混合すること
で分子間の相互作用により単品とは異なる挙動を示して
いることから、加工後もその相互作用が保持されること
によりブルームが抑制されていることが考察される。
【0033】
【発明の効果】本発明により、耐光性に優れ、ブルーム
を発生させることの少ない紫外線吸収剤組成物および該
紫外線吸収剤組成物により高度に耐光性が改善された合
成樹脂組成物を提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J002 AB011 AC011 AC031 AC071 AC081 AC121 BB031 BB061 BB081 BB121 BB151 BB171 BB241 BC031 BC051 BC061 BC071 BD041 BD061 BD081 BD101 BD141 BE021 BE061 BF021 BG041 BG051 BH011 BN151 BN161 CC031 CC161 CC181 CD001 CF041 CF061 CF071 CF211 CG001 CH091 CK021 CL011 CL031 CM041 CN011 CP031 EJ017 EJ027 EJ037 EJ047 EU079 EU176 EU197 EW068 EW127 FD039 FD056 FD077 FD078

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I)で表わされる化合物
    (A)並びに、フェノール系酸化防止剤(b−1)、リ
    ン系酸化防止剤(b−2)、ヒンダードアミン系安定剤
    (b−3)及び化合物(A)以外の紫外線吸収剤(b−
    4)の群から選ばれる樹脂安定剤(B)を質量比(A)
    /(B)=95/5〜50/50で溶融混合してなる紫
    外線吸収剤組成物。 【化1】
  2. 【請求項2】 樹脂安定剤(B)が化合物(A)以外の
    紫外線吸収剤(b−4)である請求項1記載の紫外線吸
    収剤組成物。
  3. 【請求項3】 化合物(A)以外の紫外線吸収剤(b−
    4)がベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である請求項
    2記載の紫外線吸収剤組成物。
  4. 【請求項4】 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が下
    記式(II)で表される化合物である請求項3記載の紫外
    線吸収剤組成物。 【化2】
  5. 【請求項5】 合成樹脂に請求項1〜4のいずれかに記
    載の紫外線吸収剤組成物が配合されてなる合成樹脂組成
    物。
  6. 【請求項6】 合成樹脂がポリオレフィン樹脂である請
    求項5記載の合成樹脂組成物。
JP2001172080A 2001-06-07 2001-06-07 合成樹脂組成物 Expired - Fee Related JP4993421B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001172080A JP4993421B2 (ja) 2001-06-07 2001-06-07 合成樹脂組成物
US10/479,641 US7018570B2 (en) 2001-06-07 2002-06-06 Ultraviolet absorber composition and resin composition stabilized therewith
EP02733344A EP1405887A4 (en) 2001-06-07 2002-06-06 UV ABSORBER COMPOSITION AND RESIN COMPOSITION STABILIZED USING THE COMPOSITION
PCT/JP2002/005597 WO2002100970A1 (fr) 2001-06-07 2002-06-06 Composition d'absorbeur uv et composition de resine stabilisee au moyen de la composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001172080A JP4993421B2 (ja) 2001-06-07 2001-06-07 合成樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002363536A true JP2002363536A (ja) 2002-12-18
JP4993421B2 JP4993421B2 (ja) 2012-08-08

Family

ID=19013760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001172080A Expired - Fee Related JP4993421B2 (ja) 2001-06-07 2001-06-07 合成樹脂組成物

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7018570B2 (ja)
EP (1) EP1405887A4 (ja)
JP (1) JP4993421B2 (ja)
WO (1) WO2002100970A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007091984A (ja) * 2005-09-30 2007-04-12 Daicel Polymer Ltd 耐溶剤性樹脂組成物
WO2008078833A1 (en) * 2006-12-27 2008-07-03 Achilles Corporation Heat shielding sheet
JP2009191137A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Nicca Chemical Co Ltd 紫外線吸収能を有するポリマー材料
JP2010059326A (ja) * 2008-09-04 2010-03-18 Toyo Tire & Rubber Co Ltd ゴム組成物及びその製造方法、並びに空気入りタイヤ
KR20160095647A (ko) * 2016-07-11 2016-08-11 현대모비스 주식회사 자외선 경화형 하드코팅 도료 조성물
JP2017082073A (ja) * 2015-10-27 2017-05-18 日本化薬株式会社 エポキシ樹脂硬化剤組成物、それを含有するエポキシ樹脂組成物、その硬化物

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1926107B (zh) 2004-03-02 2012-01-04 株式会社艾迪科 具有碳酸酯骨架的弱碱性受阻胺类化合物、合成树脂组合物和涂料组合物
KR101483807B1 (ko) * 2007-04-03 2015-01-16 코니카 미놀타 어드밴스드 레이어즈 인코포레이티드 셀룰로오스 에스테르 광학 필름, 상기 셀룰로오스 에스테르 광학 필름을 사용한 편광판 및 액정 표시 장치, 및 셀룰로오스 에스테르 광학 필름의 제조 방법
JPWO2008126700A1 (ja) * 2007-04-10 2010-07-22 コニカミノルタオプト株式会社 光学フィルム、偏光板、液晶表示装置、及び紫外線吸収性ポリマー
WO2008126699A1 (ja) * 2007-04-10 2008-10-23 Konica Minolta Opto, Inc. 紫外線吸収性ポリマー、セルロースエステル光学フィルム、セルロースエステル光学フィルムの製造方法、偏光板、及び液晶表示装置
JP5478012B2 (ja) * 2007-11-15 2014-04-23 株式会社Adeka 樹脂組成物および樹脂成形品
KR101602750B1 (ko) * 2008-03-10 2016-03-11 가부시키가이샤 아데카 합성 수지 조성물 및 그것을 사용한 자동차 내외장재
EP3430083B1 (en) 2016-03-17 2020-01-08 SABIC Global Technologies B.V. Flexible, uv resistant poly(phenylene ether) composition and insulated conductor and jacketed cable comprising it
US10683416B1 (en) 2017-09-12 2020-06-16 Sabic Global Technologies B.V. Flexible, UV-resistant poly(phenylene ether) composition and insulated conductor and jacketed cable comprising the composition
US11417857B2 (en) * 2018-01-24 2022-08-16 Samsung Display Co., Ltd. Heterocyclic compound and electronic apparatus
US11753566B2 (en) 2019-01-31 2023-09-12 Synthomer Adhesive Technologies Llc Low volatile tackifier compositions

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61113649A (ja) * 1984-11-07 1986-05-31 Adeka Argus Chem Co Ltd 耐光性の改善された高分子材料組成物
JPH01170631A (ja) * 1987-12-25 1989-07-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd 熱可塑性樹脂組成物
JPH08291151A (ja) * 1995-04-19 1996-11-05 Ciba Geigy Ag 新規2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−アルキルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール類
JP2000191918A (ja) * 1998-12-25 2000-07-11 Dainippon Ink & Chem Inc 樹脂組成物およびその成形体
WO2000078277A1 (de) * 1999-06-18 2000-12-28 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Mischungen aus mikropigmenten
JP2001072839A (ja) * 1999-06-30 2001-03-21 Jsr Corp 耐候性樹脂組成物
JP2001115002A (ja) * 1999-10-14 2001-04-24 Teijin Chem Ltd 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物
JP2001526711A (ja) * 1997-04-15 2001-12-18 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 低粉塵性安定剤の製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4127586A (en) * 1970-06-19 1978-11-28 Ciba-Geigy Corporation Light protection agents
JPS61113667A (ja) 1984-11-07 1986-05-31 Adeka Argus Chem Co Ltd 耐光性の改善された熱硬化性合成樹脂塗料組成物
JPS61118373A (ja) 1984-11-15 1986-06-05 Adeka Argus Chem Co Ltd ビス(ベンゾトリアゾリルフェノ−ル)化合物
JPH0670163B2 (ja) 1985-01-14 1994-09-07 旭電化工業株式会社 ポリアセタ−ル樹脂組成物
JPH0651840B2 (ja) 1985-12-20 1994-07-06 旭電化工業株式会社 ポリカ−ボネ−ト樹脂組成物
JPH062878B2 (ja) 1986-01-23 1994-01-12 旭電化工業株式会社 ポリフエニレンサルフアイド樹脂組成物
JPH0689225B2 (ja) 1986-03-27 1994-11-09 旭電化工業株式会社 ポリエステル組成物
DE3617978A1 (de) 1986-05-28 1987-12-03 Bayer Ag Verzweigte thermoplastische polycarbonate mit verbessertem schutz gegen uv-licht
JP2731601B2 (ja) * 1989-09-06 1998-03-25 旭電化工業株式会社 ポリカーボネート樹脂組成物
JP2831779B2 (ja) * 1990-02-01 1998-12-02 旭電化工業株式会社 ポリオレフィン樹脂組成物
US5229521A (en) * 1990-12-11 1993-07-20 Ciba-Geigy Corporation Process for the preparation of symmetrical 2,2-methylenebisbenzotriazolyl phenols
US6166218A (en) * 1996-11-07 2000-12-26 Ciba Specialty Chemicals Corporation Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61113649A (ja) * 1984-11-07 1986-05-31 Adeka Argus Chem Co Ltd 耐光性の改善された高分子材料組成物
JPH01170631A (ja) * 1987-12-25 1989-07-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd 熱可塑性樹脂組成物
JPH08291151A (ja) * 1995-04-19 1996-11-05 Ciba Geigy Ag 新規2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−アルキルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール類
JP2001526711A (ja) * 1997-04-15 2001-12-18 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 低粉塵性安定剤の製造方法
JP2000191918A (ja) * 1998-12-25 2000-07-11 Dainippon Ink & Chem Inc 樹脂組成物およびその成形体
WO2000078277A1 (de) * 1999-06-18 2000-12-28 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Mischungen aus mikropigmenten
JP2001072839A (ja) * 1999-06-30 2001-03-21 Jsr Corp 耐候性樹脂組成物
JP2001115002A (ja) * 1999-10-14 2001-04-24 Teijin Chem Ltd 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007091984A (ja) * 2005-09-30 2007-04-12 Daicel Polymer Ltd 耐溶剤性樹脂組成物
WO2008078833A1 (en) * 2006-12-27 2008-07-03 Achilles Corporation Heat shielding sheet
JP2010514844A (ja) * 2006-12-27 2010-05-06 アキレス株式会社 熱線遮蔽シート
JP2009191137A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Nicca Chemical Co Ltd 紫外線吸収能を有するポリマー材料
JP2010059326A (ja) * 2008-09-04 2010-03-18 Toyo Tire & Rubber Co Ltd ゴム組成物及びその製造方法、並びに空気入りタイヤ
JP2017082073A (ja) * 2015-10-27 2017-05-18 日本化薬株式会社 エポキシ樹脂硬化剤組成物、それを含有するエポキシ樹脂組成物、その硬化物
KR20160095647A (ko) * 2016-07-11 2016-08-11 현대모비스 주식회사 자외선 경화형 하드코팅 도료 조성물
KR102036100B1 (ko) * 2016-07-11 2019-10-25 현대모비스 주식회사 자외선 경화형 하드코팅 도료 조성물

Also Published As

Publication number Publication date
JP4993421B2 (ja) 2012-08-08
US7018570B2 (en) 2006-03-28
EP1405887A1 (en) 2004-04-07
WO2002100970A1 (fr) 2002-12-19
US20040122137A1 (en) 2004-06-24
EP1405887A4 (en) 2004-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002363536A (ja) 紫外線吸収剤組成物及び該組成物により安定化された樹脂組成物
JP5478013B2 (ja) オレフィン系弾性樹脂組成物
EP2716734A1 (en) Flame-retardant agent and flame-retardant resin composition
JP2653681B2 (ja) 安定化された合成樹脂組成物
JPH10101944A (ja) 合成樹脂組成物
JP4144771B2 (ja) 高分子量化されたヒンダードアミン化合物の製造方法
JP4190093B2 (ja) ピペリジン誘導体重合物及びこれを含有する高分子組成物
JP5224497B2 (ja) 樹脂組成物
JP3133375B2 (ja) ポリオレフィン系樹脂組成物
JP3058487B2 (ja) 結晶性ポリオレフィン樹脂組成物
JP4076105B2 (ja) 自動車内装材
JP5307980B2 (ja) ポリオレフィン樹脂組成物
JPH1180563A (ja) 合成樹脂組成物
JPH01204965A (ja) 安定化された合成樹脂組成物
JP5019765B2 (ja) 樹脂添加剤マスターバッチ
JP4121183B2 (ja) 亜リン酸エステル化合物および合成樹脂組成物
JPH07331244A (ja) 粉末状難燃剤
JP3369743B2 (ja) 合成樹脂組成物
JP4014180B2 (ja) 亜リン酸エステル化合物および合成樹脂組成物
JP3113741B2 (ja) 安定化された合成樹脂組成物
JP2003286413A (ja) 合成樹脂組成物
JP4925557B2 (ja) ポリエステル樹脂組成物
JP4488397B2 (ja) 合成樹脂組成物
JPS6366248A (ja) ポリオレフイン樹脂組成物
JPH05331313A (ja) 高分子材料組成物

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050825

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110603

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110715

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110715

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110816

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110909

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110909

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120217

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120412

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120427

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120501

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150518

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4993421

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees