JPH0246065B2

JPH0246065B2 - Anteikasaretakobunshizairyososeibutsu

Info

Publication number: JPH0246065B2
Application number: JP2606983A
Authority: JP
Inventors: Motonobu Minagawa; Yutaka Nakahara; Toshihiro Shibata; Ryozo Arata
Original assignee: Adeka Argus Chemical Co Ltd
Current assignee: Adeka Corp
Priority date: 1983-02-18
Filing date: 1983-02-18
Publication date: 1990-10-12
Anticipated expiration: 2003-02-18
Also published as: JPS59152934A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、耐光性の改善された高分子材料組成
物、詳しくは、２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジル基を有するイソシアヌレート誘導体を含
有せしめてなる耐光性の改良された高分子材料組
成物に関する。ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル等の合成樹脂は一般に光の効果に対して敏感で
あり、その作用により劣化し、変色あるいは機械
的強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐え
ないことが知られている。そこで、この光による合成樹脂の劣化を防止す
るために、従来種々の安定剤が用いられてきた
が、従来用いられてきた光安定剤はその安定化効
果がまだ不十分であり、また安定剤自体が熱ある
いは酸化に対して不安定であつたり、水等の溶剤
によつて樹脂から抽出されやすいものが多く、さ
ら樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点を持つ
てお、長期にわたつて合成樹脂を安定化すること
ができなかつた。これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピ
ペリジン系の化合物はそれ自体が非着色性であ
り、また紫外線吸収剤としてではなく、消光剤と
して作用するなどの特徴を有しており近年特に注
目されている。しかしながら、従来知られているピペリジン系
の化合物は光安定化剤が不十分であり、また、そ
の多くがカルボン酸エステル誘導体であり、耐水
性に劣るという欠点もあつた。エステル結合を有さないピペリジン系の化合物
として、例えば特開昭53−101380号公報には種々
のエポキシ化合物とピペリジン化合物を反応せし
め、ピペリジン環上の窒素原子により結合した化
合物を用いることが開示され、また特開昭53−
144579号公報にはエポキシ化合物と４−アミノピ
ペリジン化合物との反応物を用いることが開示さ
れている。しかしながら、特開昭53−101380号公報記載の
化合物はそのＣ−Ｎ結合が光の照射により開裂す
ることが示唆されているようにその安定化効果を
長期間保持せず、また特開昭53−144579号公報記
載の化合物はその４位の遊離アミノ基の存在によ
り、加工時に高分子材料を着色する場合があり、
またその安定化効果も不充分であつた。本発明者等は、かかる現状に鑑み、鋭意検討を
重ねた結果、次の一般式（）で表わされる化合
物が光安定化能、耐水性等に優れ、高分子材料用
の安定剤として極めて有用であることを見い出し
た。（式中、R₁は水素原子、オキシル、アルキル基
またはアシル基を示し、R₂は水素原子またはア
シル基を示し、Ｘは＞CH−または

【式】を示し、R₃はアルキル基を示す。）本発明は、上記知見に基づきなされたもので、
高分子材料100重量部に、上記一般式（）で表
わされる化合物0.001〜５重量部を添加してなる、
安定化された高分子材料組成物を提供するもので
ある。以下、本発明の組成物について詳述する。本発明で用いられる、前記一般式（）で表わ
される化合物において、R₁で表わされるアルキ
ル基としては、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニ
ル、デシル、ドデシル、オクタデシル、ベンジ
ル、フエニルエチル、２−ヒドロキシエチル、２
−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシブチル、
２，３−エポキシプロピルなどがあげられ、アシ
ル基としては、例えばアセチル、プロピオニル、
ブチロイル、アクリロイル、メタクリロイル、オ
クタノイル、ベンゾイルなどがあげられる。 R₃で表わされるアルキル基としてはメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルなどが
あげられる。 R₂で表わされるアシル基としては炭素数１〜
18のカルボン酸から誘導されるアシル基があげら
れる。該カルボン酸としては例えば、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、オクチル
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸、イソステアリン酸、アクリル酸、
メタアクリル酸、クロトン酸、オレイン酸、安息
香酸、サリチル酸、トルイル酸、ｐ−第３ブチル
安息香酸、３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロ
キシ安息香酸、フエニル酢酸、３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロピオン酸、
３−第３ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
エニルプロピオン酸、ケイ皮酸等があげられる。本発明に用いられる前記一般式（）で表わさ
れる化合物の代表例を次の表−１に示す。尚、表−１において、前記一般式（）で表わ
される化合物は前記一般式（）における、R₁、
RB及びＸを示すことによつて表示した。

【表】

【表】本発明で用いられる前記一般式）で表わされ
る化合物は、例えば、式または

【式】で表わされるグリシジルエーテル化合物とイソシアヌル酸とを反
応させ、その後必要に応じてアシル化することに
より容易に製造することができる。以下に、本発明で用いられる前記一般式（）
で表わされる化合物の合成例を示し、本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明は下記合成例によ
つて制限を受けるものではない。合成例（表−１、No.１化合物の合成）イソシアヌル酸0.55ｇ、９−アザ−３−エチル
−８，８，９，10，10−ペンタメチル−１，５−
ジオキサスピロ〔5.5〕−３−ウンデシルメチルグ
リシジルエーテル4.37ｇ及びジメチルホルムアミ
ド３mlをとり、窒素気流下130〜140℃で６時間撹
拌した。減圧下に溶媒を溜去し、融点54〜58℃の
白色粉末の生成物を得た。この生成物は、赤外分光分析の結果1100cm^-1
（Ｃ−Ｏ−Ｃに基づく）、1695cm^-1（Ｃ＝Ｏに基づ
く）及び3450cm^-1（OHに基づく）に強い吸収が
あり、また高速液体クロマトグラフイーによる分
析の結果１ピークであり、た分子量約1100〜1200
（計算値1152）であり、目的物であることを確認
した。本発明は前記一般式（）で表わされる化合物
を高分子材料に添加してその耐光性改善するもの
であり、その添加量は、通常、高分子材料100重
量部に対し0.001〜５重量部、好ましくは0.01〜
３重量部である。本発明における耐光性改善の対象となる高分子
材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリブテン、ポリ−３−メチルブテン、
などのα−オレフイン重合体またはエチレン−酢
酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合
体などのポリオレフインおよびこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチ
レン、塩素化ポリプロピレン、ポリフツソ化ビニ
リデン、臭素化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレ
ン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重合体、
塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニル−イ
ソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイ
ン酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アク
リロニトリル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン
共重合体、塩化ビニル−イソプレン共重合体、塩
化ビニル−塩素化プロピレン共重合体、塩化ビニ
ル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、
塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化
ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニ
ル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩
化ビニルなどの含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、
クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、
アクリル樹脂、スチレンと他の単量体（例えば無
水マレイン酸、ブタジエン、アクリロニトリルな
ど）との共重合体、アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレン共重合体、アクリル酸エステル−ブ
タジエン−スチレン共重合体、メタクリル酸エス
テル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリメチ
ルメタクリレートなどのメタクリレート樹脂、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリフ
エニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネー
ト、ポリアセタール、ポリウレタン、繊維素系樹
脂、あるいはフエノール樹脂、ユリア樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。
更に、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリ
ロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−
ブタジエン共重合ゴムなどのゴム類やこれらの樹
脂のブレンド品であつてもよい。また、過酸化物あるいは放射線等によつて架橋
させた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡
剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡
重合体も包含される。本発明の組成物にさらにフエノール系の抗酸化
剤を添加することによつて酸化安定性を改善する
ことができる。これらのフエノール系抗酸化剤と
してはたとえば、２，６−ジ−第３ブチル−ｐ−
クレゾール、２，６−ジフエニル−４−オクトキ
シフエノール、ステアリル−（３，５−ジ−メチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコレー
ト、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジ−第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジ
ステアリル−３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルホスホネート、２，４，６−トリ
ス（3′，5′−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルチオ）−１，３，５−トリアジン、ジステ
アリル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３
ブチル）ベンジルマロネート、２，2′−メチレン
ビス（４−メチル−６−第３ブチルフエノール）、
４，4′−メチレンビス（２，６−ジ−第３ブチル
フエノール）、２，2′−メチレンビス〔６−（１−
メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス
〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチ
ルフエニル）ブチリツクアシド〕グリコールエス
テル、４，4′−ブチリデンビス（６−第３ブチル
−ｍ−クレゾール）、２，2′−エチリデンビス
（４，６−ジ−第３ブチルフエノール）、２，2′−
エチリデンビス（４−第２ブチル−６−第３ブチ
ルフエノール）、１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニル）
ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６
−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メチ
ルベンジル）フエニル〕テレフタレート、１，
３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロ
キシ−４−第３ブチル）ベンジルイソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−ト
リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−
（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）プロピオネート〕メタン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
フエニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ−第３ブチル）フエノキ
シ−１，３，５−トリアジン、４，4′−チオビス
（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）などのフエ
ノール類及び４，4′−ブチリデンビス（２−第３
ブチル−５−メチルフエノール）の炭酸オリゴエ
ステル（例えば重合度２，３，４，５，６，７，
８，９，10など）などの多価フエノール炭酸オリ
ゴエステル類があげられる。本発明の組成物にさらに硫黄系の抗酸化剤を加
えてその酸化安定性の改善をはかることもでき
る。これらの硫黄系抗酸化剤としては、例えばジ
ラウリル−、ジミリスチル−、ジステアリル−な
どのジアルキルチオジプロピオネート及びブチル
−、オクチル−、ラウリル−、ステアリル−など
のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコール
（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、
トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエ
ステル（例えばペンタエリスリトールテトララウ
リルチオプロピオネート）があげられる。本発明の組成物にさらにホスフアイト等の含リ
ン化合物を添加することによつて耐光性及び耐熱
性を改善することができる。この含リン化合物と
しては、例えばトリオクチルホスフアイト、トリ
ラウリルホスフアイト、トリデシルホスフアイ
ト、オクチル−ジフエニルホスフアイト、トリス
（２，４−ジ−第３ブチルフエニル）ホスフアイ
ト、トリフエニルホスフアイト、トリス（ブトキ
シエチル）ホスフアイト、トリス（ノニルフエニ
ル）ホスフアイト、ジステアリルペンタエリスリ
トールジホスフアイト、テトラ（トリデシル）−
１，１，３−トリス（２−メチル−５−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシフエニル）ブタンジホスフア
イト、テトラ（C_12〜15混合アルキル）−４，4′−イ
ソプロピリデンジフエニルジホスフアイト、テト
ラ（トリデシル）−４，4′−ブチリデンビス（３
−メチル−６−第３ブチルフエノール）ジホスフ
アイト、トリス（３，５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニル）ホスフアイト、トリス（モ
ノ・ジ混合ノニルフエニル）ホスフアイト、水素
化−４，4′−イソプロピリデンジフエノールポリ
ホスフアイト、ビス（オクチルフエニル）・ビス
〔４，4′−ブチリデンビス（３−メチル−６−第
３ブチルフエノール）〕・１，６−ヘキサンジオー
ルジホスフアイト、フエニル・４，4′−イソプロ
ピリデンジフエノール・ペンタエリストールジホ
スフアイト、ビス（２，４−ジ−第３ブチルフエ
ニル）ペンタエリスリトールジホスフアイト、ビ
ス（２，６−ジ−第３ブチル−４−メチルフエニ
ル）ペンタエリスリールジホスフアイト、トリス
〔４，4′−イソプロピリデンビス（２−第３ブチ
ルフエノール）〕ホスフアイト、フエニル・ジイ
ソデシルホスフアイト、ジ（ノニルフエニル）ペ
ンタエリスリトールジホスフアイト、トリス
（１，３−ジ−ステアロイルオキシイソプロピル）
ホスフアイト、４，4′−イソプロピリデンビス
（２−第３ブチルフエノール）・ジ（ノニルフエニ
ル）ホスフアイト、９，10−ジ−ハイドロ−９−
オキサ−10−フオスフアフエナンスレン−10−オ
キサイド、テトラキス（２，４−ジ−第３ブチル
フエニル）−４，4′−ビフエニレンジホスホナイ
トなどがあげられる。本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性をさらに改善することができ
る。これらの光安定剤としては、例えば、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒ
ドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフエノン、
２，2′−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
エノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフエノン等
のヒドロキシベンゾフエノン類、２−（2′−ヒド
ロキシ−3′−ｔ−ブチル−5′−メチルフエニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒ
ドロキシ−3′，5′−ジ−ｔ−ブチルフエニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒド
ロキシ−5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジ−ｔ−アミ
ルフエニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリ
アゾール類、フエニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブ
チルフエニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブ
チルフエニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等
のベンゾエート類、２，2′−チオビス（４−ｔ−
オクチルフエノール）Ni塩、〔２，2′−チオビス
（４−ｔ−オクチルフエノラート）〕−ｎ−ブチル
アミンNi、（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）ホスホン酸モノエチルエステル
Ni塩等のニツケル化合物類、α−シアノ−β−
メチル−β−（ｐ−メトキシフエニル）アクリル
類メチル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−２
−エチルフエニル−N′−２−エトキシ−５−第
３ブチルフエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エ
チルフエニル−N′−２−エトキシフエニルシユ
ウ酸ジアミド等のシユウ酸ジアニリド類があげら
れる。その他必要に応じて、本発明の組成物には重金
属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発
泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を
包含させることができる。本発明によつて安定化された高分子材料は極め
て多様な形で、例えばフイルム、繊維、テープ、
シート、各種成型品として使用でき、また、塗
料、ラツカー用結合剤、接着剤、パテ及び写真材
料における基材としても用いることができる。次に、本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によつ
て限定されるものではない。実施例１ポリプロピレン 100重量部ステアリル−β−３，５−第３ブチル−４−ヒド
ロキシフエニルプロピオネート 0.2 安定剤（表−２） 0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行なつ
た。また100時間光照射後80℃の熱水に15時間浸
漬後のシートについても耐光性試験を行なつた。
その結果を表−２に示す。

【表】実施例２通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解
等によりその効果が著るしく失なわれることが知
られている。本実施例では押し出し加工を繰り返し行なうこ
とにより高温加工による影響を確かめた。次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分
間混合した後、押し出し機でコンパウンドを作成
した。（シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダ
イス温度250℃、回転数20rpm）押し出しを５回
繰り返し行なつた後このコンパウンドを用いて試
験片を射出成形機で作成した。（シリンダー温度
240℃、ノズル温度250℃、射出圧475Kg／cm³）得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行なつた。また、押し出し１回のものに
ついても同様に試験した。その結果を表−３に示
す。＜配合＞エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−β−３，５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシフエニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤（表−３） 0.2

【表】実施例３ポリエチレン 100重量部 Ca−ステアレート 1.0 テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネー
ト〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤（表−４） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表−４に示す。

【表】実施例４エチレン−酢酸ビニルコポリマー 100重量部２，６−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール
0.1 Ca−ステアレート 0.1 Zn−ステアレート 0.1 ジイソデシルフエニルホスフアイト 0.2 安定剤（表−５） 0.2 上記配合物をロール上130℃で混練後、140℃で
プレスシート（厚さ0.4mm）を作成した。このシ
ートをウエザオメーター中で500時間照射後の抗
張力残率を測定した。その結果を表−５に示す。

【表】

【表】実施例５ポリ塩化ビニル 100重量部ジオクチルフタレート 48 エポキシ化大豆油２トリスノニルフエニルホスフアイト 0.2 Ca−ステアレート 1.0 Zn−ステアレート 0.1 安定剤（表−６） 0.3 上記配合物をロール上で混練し厚さ１mmのシー
トを作成した。このシートを用いウエザオメータ
ーの中で耐光性試験を行なつた。その結果を表−
６に示す。

【表】実施例６ ABS樹脂 100重量部４，4′−ブチリデンビス（２−第３ブチル−ｍ−
クレゾール） 0.1 安定剤（表−７） 0.3 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３mm
のシートを作成した。このシートを用いウエザオ
メーターで800時間照射後の抗張力残率を測定し
た。その結果を表−７に示す。

【表】実施例７ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ−100）100重量部 Ba−ステアレート 0.7 Zn−ステアレート 0.3 ２，６−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール
0.1 安定剤（表−８） 0.3 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、
120℃で５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作
成した。このシートをフエードメータにて50時間
照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−８
に示す。

【表】実施例８本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有
用である。本実施例においては金属顔料を含有す
るベースコート及び透明なトツプコートからなる
二層金属光沢塗料についてその効果をみた。 (a) ベースコート塗料メタクリル酸メチル100ｇ、アクリル酸ｎ−
ブチル66ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキシエ
チル30ｇ、メタクリル酸４ｇ、キシレン80ｇ及
びｎ−ブタノール20ｇをとり、110℃に加熱撹
拌しながらアゾビスイソブチワニトリル２ｇ、
ドデシルメルカプタン0.5ｇ、キシレン80ｇ及
びｎ−ブタノール20ｇからなる溶液を３時間で
滴下した。その後同温度で２時間撹拌し、樹脂
固型分50％のアクリル樹脂溶液を調製した。上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化
メチロールメラミン（三井東圧社製；ユーバン
20SE60；樹脂固型分60％）2.5重量部、セルロ
ースアセテートブチレート樹脂（20％酢酸ブチ
ル溶液）50重量部、アルミニウム顔料（東洋ア
ルミニウム社製；アルペースト1123N）5.5重
量部、キシレン10重量部、酢酸ブチル200重量
部及び銅フタロシアニンブルー0.2重量部をと
りベースコート塗料とした。 (b) トツプコート塗料上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化
メチロールメラミン10重量部、キシレン10重量
部、ブチルグリコールアセテート４重量部及び
安定剤（表−９）0.15重量部（固型分に対し
0.5％）をとり、トツプコート塗料とした。プライマー処理した鋼板にベースコート塗料
を乾燥膜厚が20μになるようにスプレーし、10
分間放置後トツプコート塗料を乾燥膜厚が30μ
になるようにスプレーした。15分間放置後140
℃で30分間焼付し試片とした。上記試片をウエザオメータに入れ塗膜のワレを
発生するまでの時間を測定した。その結果を表−
９に示す。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１高分子材料100重量部に、次の一般式（）
で表わされる化合物0.001〜５重量部を添加して
なる、安定化された高分子材料組成物。（式中、R₁は水素原子、オキシル、アルキル基
またはアシル基を示し、R₂は水素原子またはア
シル基を示し、Ｘは＞CH−または【式】を示し、R₃はアルキル基を示す。）