JPH02289565A - ヒンダードアミン置換s―トリアジンのN―ヒドロカルビルオキシ誘導体 - Google Patents
ヒンダードアミン置換s―トリアジンのN―ヒドロカルビルオキシ誘導体Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の,}U用分野)
本発明は新規なトリアジン誘導体および広範囲の物質を
元誘起の崩壊に対して安定化するためのその111!用
法に関する。
元誘起の崩壊に対して安定化するためのその111!用
法に関する。
(従来の技術、発明が解決しようとする課題)合成ボリ
マーは、日光′f.たは他の紫外線放射源に曝露したと
き、その物理的性質において顛進的な変化、例えば色変
化およびわ(械的脣性の損失を受けることは刈られてい
る。ペンゾフヱノン、ペンゾトリアゾール、アクリル酸
誘導体、オキサニリド、アリールーS一トリアジン、ニ
ッケル錯体および立体障害アミンt含め、8種類の添加
剤が崩壊全遅延するために提案されそして利用されてき
た。
マーは、日光′f.たは他の紫外線放射源に曝露したと
き、その物理的性質において顛進的な変化、例えば色変
化およびわ(械的脣性の損失を受けることは刈られてい
る。ペンゾフヱノン、ペンゾトリアゾール、アクリル酸
誘導体、オキサニリド、アリールーS一トリアジン、ニ
ッケル錯体および立体障害アミンt含め、8種類の添加
剤が崩壊全遅延するために提案されそして利用されてき
た。
後者の代表的な例1は、例えばU. S. a,saa
。876,U. 8. 4.42へ471およびLJ.
S. 4,426%472において、捻科安定化の文
脈において挙げられて論る。
。876,U. 8. 4.42へ471およびLJ.
S. 4,426%472において、捻科安定化の文
脈において挙げられて論る。
立体障害アミンの中には種々の(テトラアルキル−4−
ピペリジル)アミノートリアジン誘導体が片まれる。参
照は、この領域において代表的な開示であるところのU
. S. 49 2 5,3 7 6.υ. S. 4
,086,204. U. 8, 4,1 08,82
9. U. S.4,4 7 7,6 1 5. U.
S. 4,55瓜688およびU. S.4,547
,548についてなしうる。これらヒンダードアミン光
安定剤は、ヒンダードアミンの窒素原子に直接置換きれ
7’C 0一置換部を有する構造を「寺つものでない。
ピペリジル)アミノートリアジン誘導体が片まれる。参
照は、この領域において代表的な開示であるところのU
. S. 49 2 5,3 7 6.υ. S. 4
,086,204. U. 8, 4,1 08,82
9. U. S.4,4 7 7,6 1 5. U.
S. 4,55瓜688およびU. S.4,547
,548についてなしうる。これらヒンダードアミン光
安定剤は、ヒンダードアミンの窒素原子に直接置換きれ
7’C 0一置換部を有する構造を「寺つものでない。
別のヒンダードアミン置換トリアジン誘導体の開ボのた
めには、N一未置換およびN−アルキル!r髪換2.2
.46一テトラメチルピペリジンー4−1ルオキシ−1
.45−トリアジン誘導体は、U. d. 4,5 1
4,9 3 3ち・よびU. S. 4.4 2へ4
71において注目される。
めには、N一未置換およびN−アルキル!r髪換2.2
.46一テトラメチルピペリジンー4−1ルオキシ−1
.45−トリアジン誘導体は、U. d. 4,5 1
4,9 3 3ち・よびU. S. 4.4 2へ4
71において注目される。
(a’.flをhイ決するための手段、発明の効果)本
発明の化合物は、次式I.■王fc¥′iIIIT により置換された炭素原子数7ないし12のアルアルキ
ル基を表わし、 ルオは水素原子、炭素原子舷1ないし12のアルキル基
東たは 1もは水素原子′E.たけメチル基を表わし、ルi{ま
炭素原子枚1ないし1Bのアルキル基、炭素原子数2な
いし18のアルケ;ル基、炭素原子数2ないし18のア
rレキニル基、炭素原子故5ないし12のシクロアルキ
ル基、炭素原子fi5ないレ12の7クロアルケニル基
、炭素原子数6ないし10のビシクロアルキlレ基、炭
素原子数6ないし10のアリール基、炭素原子故7ない
し12のアルアルキル基または炭素原子数1ないし12
のアルキル基もし《は炭素原子数6ないし10のアリー
ル基わし、 m,pおよびqは独立して2ないし6を表わし、 Aは酸素原子、硫黄原子または−N(jL”)一を表わ
し、 nは2ないし4t−表わし、そして 几コはn価アルカンま1ζはアリール基を表わす。)で
表わされる。
発明の化合物は、次式I.■王fc¥′iIIIT により置換された炭素原子数7ないし12のアルアルキ
ル基を表わし、 ルオは水素原子、炭素原子舷1ないし12のアルキル基
東たは 1もは水素原子′E.たけメチル基を表わし、ルi{ま
炭素原子枚1ないし1Bのアルキル基、炭素原子数2な
いし18のアルケ;ル基、炭素原子数2ないし18のア
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ル基、炭素原子fi5ないレ12の7クロアルケニル基
、炭素原子数6ないし10のビシクロアルキlレ基、炭
素原子数6ないし10のアリール基、炭素原子故7ない
し12のアルアルキル基または炭素原子数1ないし12
のアルキル基もし《は炭素原子数6ないし10のアリー
ル基わし、 m,pおよびqは独立して2ないし6を表わし、 Aは酸素原子、硫黄原子または−N(jL”)一を表わ
し、 nは2ないし4t−表わし、そして 几コはn価アルカンま1ζはアリール基を表わす。)で
表わされる。
アルキル基は好ましくは炭素原子数1ないし12のもの
を表わしそしてメチル基、エチル基、プロビル基、プチ
ル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基
、ドデシル基並びにオクタデシル基を含む。シクロアル
キル基は好ましくはシクロペンチル基およびシクロヘキ
シル基を表わす0アルケニル基は好まし《はビニル基お
よびアリル基を表わし、一方アルキニル基は好ましくは
グロパルギル基を表わす。アリール基は好よしくはフェ
ニル基、ナ7チル基およびトリルjkiiわし、一方ア
ルアルキル基は好ましくはベンジル基、α−メチルペン
ジル基およびα,αージメチルベンジルMe表わす0 1{,lは最も好ましくはメチル基、ヘプチル基、オク
チル基およびシクロヘキシル基1r:表わす。
を表わしそしてメチル基、エチル基、プロビル基、プチ
ル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基
、ドデシル基並びにオクタデシル基を含む。シクロアル
キル基は好ましくはシクロペンチル基およびシクロヘキ
シル基を表わす0アルケニル基は好まし《はビニル基お
よびアリル基を表わし、一方アルキニル基は好ましくは
グロパルギル基を表わす。アリール基は好よしくはフェ
ニル基、ナ7チル基およびトリルjkiiわし、一方ア
ルアルキル基は好ましくはベンジル基、α−メチルペン
ジル基およびα,αージメチルベンジルMe表わす0 1{,lは最も好ましくはメチル基、ヘプチル基、オク
チル基およびシクロヘキシル基1r:表わす。
上りは最も好まし《は水素原子または炭素原子数1ない
し4のアルキル基そして荷に水素原子またはn−プチル
基を表わす。
し4のアルキル基そして荷に水素原子またはn−プチル
基を表わす。
式Uの化合物について冫よ、Yが直接結合または1道換
トリアジン基を表わすとともにm,pおよびqは好まし
くは2.3または6を表わす。
トリアジン基を表わすとともにm,pおよびqは好まし
くは2.3または6を表わす。
弐■の化合吻については、Aは好ましくは酸素原子また
は一N(142){ル2は上記と同じ好まし吟ものを表
わす。)を表わす。nが2を表わす嚇合、ル3は好まし
くは、メチレン基、エチレン基督よびヘキサメチレン基
を含む炭素原子数1ないし12の直鎖または枝分れ鎖ア
ルキレン屑、炭素原子孜2ないし6のアルキリデン基、
炭素原子数5ないし10のシクロアルキレン基、フエニ
レン.基、キシリレン基およびナフチレン基を含む炭素
原子数6ないし10のアリーレン基、王たは炭素原子故
8ないし10のアルキレンアリーレンアルキレン及を表
わす。Aがa素原子かつル6がpフ工二レン基を表わし
、ま7’cAがーNH一かつル3がエチレン基またはヘ
キサメチレン基を表わすのが特に好ましい。
は一N(142){ル2は上記と同じ好まし吟ものを表
わす。)を表わす。nが2を表わす嚇合、ル3は好まし
くは、メチレン基、エチレン基督よびヘキサメチレン基
を含む炭素原子数1ないし12の直鎖または枝分れ鎖ア
ルキレン屑、炭素原子孜2ないし6のアルキリデン基、
炭素原子数5ないし10のシクロアルキレン基、フエニ
レン.基、キシリレン基およびナフチレン基を含む炭素
原子数6ないし10のアリーレン基、王たは炭素原子故
8ないし10のアルキレンアリーレンアルキレン及を表
わす。Aがa素原子かつル6がpフ工二レン基を表わし
、ま7’cAがーNH一かつル3がエチレン基またはヘ
キサメチレン基を表わすのが特に好ましい。
r1が5t−表わす場合、l′Lsは好ましくは炭素原
子数3ないし6のアルカントリイル基例えばグリセリル
基もしくはトリメチリルプロパン基、または炭素原子数
6ないし10のアリールートリイル基′t−表わす◇ nが4を表わす場合、lL3は好まし《は炭素原子数4
ないし6のアルカンテトライル基例えばペンタエリスリ
チル基または炭素原子数6ないし10のアリールーテト
ライル基を表わす。
子数3ないし6のアルカントリイル基例えばグリセリル
基もしくはトリメチリルプロパン基、または炭素原子数
6ないし10のアリールートリイル基′t−表わす◇ nが4を表わす場合、lL3は好まし《は炭素原子数4
ないし6のアルカンテトライル基例えばペンタエリスリ
チル基または炭素原子数6ないし10のアリールーテト
ライル基を表わす。
三価および四価の基は、
本発明の化合物は、シアヌル酸塩化物上たけシアヌル酸
塩化物の誘導体を4−ヒドロキシ−1−ヒドロ力ルビル
オキ7−42.46 −テトラアルキルピペリジンと、
不活性溶媒例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジオ
キサン、テトラヒド口フラン、キシレン、および同様の
ものを用い、そして強塩基例えば水素化ナトリウムの存
在下で反応させることにより製造することができる。
塩化物の誘導体を4−ヒドロキシ−1−ヒドロ力ルビル
オキ7−42.46 −テトラアルキルピペリジンと、
不活性溶媒例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジオ
キサン、テトラヒド口フラン、キシレン、および同様の
ものを用い、そして強塩基例えば水素化ナトリウムの存
在下で反応させることにより製造することができる。
米国特許第4.66へ185号は、適当なベルオキシ化
合物例えば過酸化水素および金)A酸化物触媒を用いた
ヒンダードアミンの酸化、と続いて接触水素添加による
ヘーヒドロキシピペリジンの製造法金教示する。ヘーヒ
ドロキシ化合吻は水素化ナトリワムとハロゲン化炭化水
素の反工6によりアルキル化することができる。
合物例えば過酸化水素および金)A酸化物触媒を用いた
ヒンダードアミンの酸化、と続いて接触水素添加による
ヘーヒドロキシピペリジンの製造法金教示する。ヘーヒ
ドロキシ化合吻は水素化ナトリワムとハロゲン化炭化水
素の反工6によりアルキル化することができる。
N−ヒドロカルビル化合vJヲ作る好ましい方法は、ヒ
ンダードアミンまたはそのへ−オキシル誘導体の炭化水
素溶液(とりわけ、シクロヘキサン、ヘブタン、オクタ
ン、ノナンまたはエチルベンゼンのような炭化水素を用
いると有効である。)と第三プチルヒドロベルオキシド
および金属酸化物触媒との反応を伴う。参照EP−A−
309 402。
ンダードアミンまたはそのへ−オキシル誘導体の炭化水
素溶液(とりわけ、シクロヘキサン、ヘブタン、オクタ
ン、ノナンまたはエチルベンゼンのような炭化水素を用
いると有効である。)と第三プチルヒドロベルオキシド
および金属酸化物触媒との反応を伴う。参照EP−A−
309 402。
これら化合物全製造するのに必要な出発物賃は、商業品
目であるかf.た゛は公矧の方法により製造することが
できる。
目であるかf.た゛は公矧の方法により製造することが
できる。
本出願は、2,2,6.6−テトラアルキルピペリジン
構造を強調する4のであるが、本発明は以下のテトラア
ルキル訛4奥ビペラジンf.タけピペ.ラジノン部分が
上述のテトラアルキルピペリジン部分に置き換わる化合
′吻にも関することに留意すべきである。
構造を強調する4のであるが、本発明は以下のテトラア
ルキル訛4奥ビペラジンf.タけピペ.ラジノン部分が
上述のテトラアルキルピペリジン部分に置き換わる化合
′吻にも関することに留意すべきである。
(式中、MとYは互いに独立してメチレン基またはカル
ポニル基を表し;好まし《はMはメチレン暴を表わし、
Yはカルポニル基を表わす。.)かかる化合物に適用で
きると確認された置換基は、環の窒素原子ヒの置換に適
当なものであると理解ざれるべきである。
ポニル基を表し;好まし《はMはメチレン暴を表わし、
Yはカルポニル基を表わす。.)かかる化合物に適用で
きると確認された置換基は、環の窒素原子ヒの置換に適
当なものであると理解ざれるべきである。
本発明の化合物が特に有用であるところの支持本は、ポ
リエチレンおよびポリプロピレンのようなポリオレフィ
ン:特に耐衝撃ポリスチレンを含むボリスチレン: A
BS樹脂;例えばブタジェンゴム、EPM. gPl)
M. 8Bルおよびニトリルゴムのようなエラストマー
である。
リエチレンおよびポリプロピレンのようなポリオレフィ
ン:特に耐衝撃ポリスチレンを含むボリスチレン: A
BS樹脂;例えばブタジェンゴム、EPM. gPl)
M. 8Bルおよびニトリルゴムのようなエラストマー
である。
安定化され得るボリマーの例は一般に以下のものを包含
する: 1. モノオレフィ/.r?よびジオレフインのボリマ
ー 例えばボリプロビレン、ポリイソブチレン、ポリブ
テンー1、ポリメチルペンテン−1、ポリイソゾレンマ
タはポリプタジエン、並びにシクロすレフィン例えばシ
クロベンテンf.タハノルボルネンのボリマー (所望
により架橋結合できる)ポリエチレン、例えば4ftK
ポリエチレン(i{DPE)、低密度ポリエチレン(L
Di’g)および襟状低密度ポリエチレン(LL,l)
}’ト:)。
する: 1. モノオレフィ/.r?よびジオレフインのボリマ
ー 例えばボリプロビレン、ポリイソブチレン、ポリブ
テンー1、ポリメチルペンテン−1、ポリイソゾレンマ
タはポリプタジエン、並びにシクロすレフィン例えばシ
クロベンテンf.タハノルボルネンのボリマー (所望
により架橋結合できる)ポリエチレン、例えば4ftK
ポリエチレン(i{DPE)、低密度ポリエチレン(L
Di’g)および襟状低密度ポリエチレン(LL,l)
}’ト:)。
2.1.に記載したボリマーの混合吻 yllえはポリ
プロピレンとボリイソフ゜チレンとのl昆含・{勿、ボ
リプロビレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP/
lIDPE. Pk’/LDPE )およびポリエチレ
ンの異なるタイプの混合物(例えばLDPB/HDi’
E)。
プロピレンとボリイソフ゜チレンとのl昆含・{勿、ボ
リプロビレンとポリエチレンとの混合物(例えばPP/
lIDPE. Pk’/LDPE )およびポリエチレ
ンの異なるタイプの混合物(例えばLDPB/HDi’
E)。
五 モノオレフィンとジオレフイン相互または他のビニ
ルeノマーとのμポリマー、例えばエ?レン/プロピレ
ンコボリマー 線状低@度ポリエチレン(i,t,ap
g)およびその低密度ボ.Jエチレン( LD}’E
)との混合物、プロピレン/プテンー1、エチレン/ヘ
キセン、エチレン/メチルベンテン、エチレン/ヘプテ
ン、エチレン/オクテン、プロピレン/イソブチレン、
エチレン/プテンー1、プロピレン/プタジエン、イン
プチレン/イソプレン、エチレン/アルキルアクリレー
ト、エチレン/アルキルメタクリレート、エチレン/ビ
ニルアセテート!*!dエチレン/アクリル醇コボリマ
ー計よびそれらの塩類(アイオノマー)、およびエチレ
ンとプロピレントシエン例エばヘキサジエン、ジシクロ
ペンタジエン−2+はエチリデンーノルポルネンとのタ
ーボリマー;並びに前記コボリマーおよびそれらの混合
物と1.に記載したボリマーとの混合物、例えばポリプ
ロピレン/エチレンーブロピL/ y − コホI)
マ− Ll)PE/EVA. LDPE/EAA.L
LDPg/EVAb よ■LLi)Pg/EAA。
ルeノマーとのμポリマー、例えばエ?レン/プロピレ
ンコボリマー 線状低@度ポリエチレン(i,t,ap
g)およびその低密度ボ.Jエチレン( LD}’E
)との混合物、プロピレン/プテンー1、エチレン/ヘ
キセン、エチレン/メチルベンテン、エチレン/ヘプテ
ン、エチレン/オクテン、プロピレン/イソブチレン、
エチレン/プテンー1、プロピレン/プタジエン、イン
プチレン/イソプレン、エチレン/アルキルアクリレー
ト、エチレン/アルキルメタクリレート、エチレン/ビ
ニルアセテート!*!dエチレン/アクリル醇コボリマ
ー計よびそれらの塩類(アイオノマー)、およびエチレ
ンとプロピレントシエン例エばヘキサジエン、ジシクロ
ペンタジエン−2+はエチリデンーノルポルネンとのタ
ーボリマー;並びに前記コボリマーおよびそれらの混合
物と1.に記載したボリマーとの混合物、例えばポリプ
ロピレン/エチレンーブロピL/ y − コホI)
マ− Ll)PE/EVA. LDPE/EAA.L
LDPg/EVAb よ■LLi)Pg/EAA。
3a.炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)お
よびそれらの水素化変性w(例えば粘着付与剤。
よびそれらの水素化変性w(例えば粘着付与剤。
4. ボリスチレン、ポリ−(p−メチルスチレン)、
ホlJ−(α−メチルスチレン)。
ホlJ−(α−メチルスチレン)。
5. スチレンf:iHα−メチルスチレンとジエン王
たはアクリル誘導体とのコボリマー 飼えばスチレン/
ブタジエン、スチレン/アクリ口ニトリル、スチレン/
アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン醒、
スチレン/ブタジエン/アルキルアクリレート、スチレ
ン/アクリロニトリル/メチルアクリレート:スチレン
コポリマーと別のボリマー 例えばポリアクリレート、
ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエンタ
ーボリマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチレンの
ブロックコボリマ一例,t ハスチレン/フタジエン/
スチレン、スチレン/イソブレン/スチレン、スチレン
/エチレン/ブチレン/スチレンマ之はスチレン/エチ
レン/プロピレン/スチレ/。
たはアクリル誘導体とのコボリマー 飼えばスチレン/
ブタジエン、スチレン/アクリ口ニトリル、スチレン/
アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン醒、
スチレン/ブタジエン/アルキルアクリレート、スチレ
ン/アクリロニトリル/メチルアクリレート:スチレン
コポリマーと別のボリマー 例えばポリアクリレート、
ジエンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエンタ
ーボリマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチレンの
ブロックコボリマ一例,t ハスチレン/フタジエン/
スチレン、スチレン/イソブレン/スチレン、スチレン
/エチレン/ブチレン/スチレンマ之はスチレン/エチ
レン/プロピレン/スチレ/。
& スチレンまたはαメチルスチレンのグラフトコボリ
マー 例えばポリブタジエンにスチレン、ポリプタジエ
ンースチレンまたはポリブタジエンーアクリ口ニトリル
にスチレン;ボリフタジエンにスチレンおよびアクリロ
ニトリル(王タはメタアクリ口ニトリル);ボリプタジ
ェンにスチレンおよび無水マレイン酸壬たはマレインイ
ミド:ボリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルお
よび無水マレイン酸またはマレインイミド;ボリプタジ
エンrCスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタ
アクリレート,、ポリプタジエンにスチレンおよびアル
キルアクリレートマタはメタアクリレート、エチレン/
プロピレン/ジエ/ターボリマーにスチレンおよびアク
リロニトリル、ポリアクリレートまたrよボリメタクリ
レートにスチレンおよび”fクリロニトリル、アクリレ
ート/ブタジエンコボリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、並びにこれらと5に列挙したコボリマーとの
混合物、例えばABS−,MBS−.ASA−またはA
ES−ポリマーとして知らルているコポリマー混合物。
マー 例えばポリブタジエンにスチレン、ポリプタジエ
ンースチレンまたはポリブタジエンーアクリ口ニトリル
にスチレン;ボリフタジエンにスチレンおよびアクリロ
ニトリル(王タはメタアクリ口ニトリル);ボリプタジ
ェンにスチレンおよび無水マレイン酸壬たはマレインイ
ミド:ボリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルお
よび無水マレイン酸またはマレインイミド;ボリプタジ
エンrCスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタ
アクリレート,、ポリプタジエンにスチレンおよびアル
キルアクリレートマタはメタアクリレート、エチレン/
プロピレン/ジエ/ターボリマーにスチレンおよびアク
リロニトリル、ポリアクリレートまたrよボリメタクリ
レートにスチレンおよび”fクリロニトリル、アクリレ
ート/ブタジエンコボリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、並びにこれらと5に列挙したコボリマーとの
混合物、例えばABS−,MBS−.ASA−またはA
ES−ポリマーとして知らルているコポリマー混合物。
l ハロゲン含有ボリマー 例えばポリクロロプレン、
煙素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン
、エビクロロヒドリンホモーおよびコボリマー ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー 例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ボリフッ化ビニル、ボリフ
ッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー 例えば塩化
ピニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルまた
は塩化ピニリデン/酢酸ビニルコボリマー a α.β一不胞粗1・工びその誘導体から誘導された
ポリマー 例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。
煙素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン
、エビクロロヒドリンホモーおよびコボリマー ハロゲ
ン含有ビニル化合物からのポリマー 例えばポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ボリフッ化ビニル、ボリフ
ッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー 例えば塩化
ピニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルまた
は塩化ピニリデン/酢酸ビニルコボリマー a α.β一不胞粗1・工びその誘導体から誘導された
ポリマー 例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。
9 前項aK挙げたモノマー相互のf.たは他の不飽川
七ノマーとのコボリマー 例えばアクリロニトリル/グ
タジエン、アクリロニトリル/アルキルアクリレート、
アクリロニトリル/アルコキシアルキル′Iクリレート
よfcはアクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコホリマ
−f:たはアクリ口ニトリル/アルキルメタアクリレー
ト/ブタジエンターボリマー 1α 不飽田アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導きれたボ
リマー 例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルステアレ−ト、.f!’)ビニルペンゾエ
ート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、
ポリアリルフタレートまたはボリアリルメラミン:並び
にそれらと上記1.に記載したオレ7インとのコボリ
マ ー 11.環状エーテルのホモボリマーおよびコボリマー
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビスーグリ
シジルエーテルとのコボリマー。
七ノマーとのコボリマー 例えばアクリロニトリル/グ
タジエン、アクリロニトリル/アルキルアクリレート、
アクリロニトリル/アルコキシアルキル′Iクリレート
よfcはアクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコホリマ
−f:たはアクリ口ニトリル/アルキルメタアクリレー
ト/ブタジエンターボリマー 1α 不飽田アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導きれたボ
リマー 例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルステアレ−ト、.f!’)ビニルペンゾエ
ート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、
ポリアリルフタレートまたはボリアリルメラミン:並び
にそれらと上記1.に記載したオレ7インとのコボリ
マ ー 11.環状エーテルのホモボリマーおよびコボリマー
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビスーグリ
シジルエーテルとのコボリマー。
12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン:熱可塑性ポリ9レタンで変性させたボリアセ
タール、アクリレートまfcFiMBs. 1五ホリフェニレンオキシドおよびスルフィド並ヒにボ
リフエニレンオキシドとポリスチレンまたはボリアミド
との混合・一。
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン:熱可塑性ポリ9レタンで変性させたボリアセ
タール、アクリレートまfcFiMBs. 1五ホリフェニレンオキシドおよびスルフィド並ヒにボ
リフエニレンオキシドとポリスチレンまたはボリアミド
との混合・一。
14.一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステルtycはポリブタジエンと他方の
成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとか
ら誘導されたボリ9レタン並びにその前駆物*(ボリイ
ノシアネート、ボリオールまfcFi.グレポリマー)
。
ーテル、ポリエステルtycはポリブタジエンと他方の
成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとか
ら誘導されたボリ9レタン並びにその前駆物*(ボリイ
ノシアネート、ボリオールまfcFi.グレポリマー)
。
15.ジアミンおよびジカルボン酸および/f:fcは
アミノカルポン酸または相当するラクタムから誘導され
たボリアミドおよびコポリアミド。
アミノカルポン酸または相当するラクタムから誘導され
たボリアミドおよびコポリアミド。
例えばボリアミド4、ボリアミド6、ポリアミド6/6
. 6/10. 6/9. 6/12および4/6、ボ
リアミド11、ボリアミド12、m−キシレンジアミン
およびアジピン改の縮合によって得られる芳香族ボリア
ミド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸また
は/およびテレフタル酸および所望により変性剤として
のエラストマーから製造されるボリアミド、例えばポリ
−2. 4. 4−トリメチルヘキサメチレンテレフタ
ルアミドまたはポリーm−フエニレンイソフタルアミド
。さらに、前記ポリアミドとポリオレフイン、オレフィ
ンコボリマー アイオノマ−よfcは化学的に請0王た
はグラフトしたエラストマーとの別のコポリマー:′f
.たけこれらとポリエーテル、例えばポリエチレングリ
コール、ボリグロピレングリコ−1レ王たけポリテトラ
メチレングリコールとのコボリマー。EL’DM 衰7
?(はABSで変性させたポリアミドまたはコボリアミ
ド。加工の間に縮合σせたボリアミド(ルIM−ポリア
ミ ド系)。
. 6/10. 6/9. 6/12および4/6、ボ
リアミド11、ボリアミド12、m−キシレンジアミン
およびアジピン改の縮合によって得られる芳香族ボリア
ミド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸また
は/およびテレフタル酸および所望により変性剤として
のエラストマーから製造されるボリアミド、例えばポリ
−2. 4. 4−トリメチルヘキサメチレンテレフタ
ルアミドまたはポリーm−フエニレンイソフタルアミド
。さらに、前記ポリアミドとポリオレフイン、オレフィ
ンコボリマー アイオノマ−よfcは化学的に請0王た
はグラフトしたエラストマーとの別のコポリマー:′f
.たけこれらとポリエーテル、例えばポリエチレングリ
コール、ボリグロピレングリコ−1レ王たけポリテトラ
メチレングリコールとのコボリマー。EL’DM 衰7
?(はABSで変性させたポリアミドまたはコボリアミ
ド。加工の間に縮合σせたボリアミド(ルIM−ポリア
ミ ド系)。
1& ボリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。
17.ジカルボン酸およびジオールおよび/よたはヒド
ロキ7カルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレ7タレート、
ボリプチVンテレフタV 一ト、ホ+)− 1.4−シ
メチロシルーシクロヘキサンテレフタレートおよびポリ
ヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端4k含有
するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテ
ルエステル:およびポリヵーポネー}f.7’1mはM
BSで変性させたポリエステル。
ロキ7カルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレ7タレート、
ボリプチVンテレフタV 一ト、ホ+)− 1.4−シ
メチロシルーシクロヘキサンテレフタレートおよびポリ
ヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端4k含有
するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテ
ルエステル:およびポリヵーポネー}f.7’1mはM
BSで変性させたポリエステル。
1a ボリカーボネートおよびポリエステルーカーボネ
ート。
ート。
19.ボリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。
エーテルケトン。
2α 一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分と
してフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架
橋ボリマー 例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂
、尿素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルム
アルデヒド樹脂0 21.乾性および不乾性アルキド樹脂。
してフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架
橋ボリマー 例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂
、尿素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホルム
アルデヒド樹脂0 21.乾性および不乾性アルキド樹脂。
22.飽和および不飽相ジカルポン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から訪導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から訪導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。
2五 置換アクリル酸エステル、例えばエボキシアクリ
レート、ワレタンーアクリレートマタは・ポリエスデル
ーアクリレートから誘導された果僑性アクリル樹脂。
レート、ワレタンーアクリレートマタは・ポリエスデル
ーアクリレートから誘導された果僑性アクリル樹脂。
24.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイノシアネートま
たはエボキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂土たはアクリレート樹リ旨O 25.ポリエボキシド、例えばビスーグリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エボ
キシ樹脂。
たはエボキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂土たはアクリレート樹リ旨O 25.ポリエボキシド、例えばビスーグリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエボキシドから誘導された架橋エボ
キシ樹脂。
2&天然ボリマー 例えばセルロース、天然ゴム、ゼラ
チンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よヒ酪酸セルロースまたはセルロースエーテル、fll
,t ハメチルセルロース;ロジンおよびそれらの誘
導体。
チンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よヒ酪酸セルロースまたはセルロースエーテル、fll
,t ハメチルセルロース;ロジンおよびそれらの誘
導体。
27.前記したボリマーの混合物(ポリブレンド)、例
えばi’t’/EP1)M、ボリアミド/EPDMま念
はAB8.PVC/EVA.PVC/AB8.PVC/
MB8.PC/ABS.PBTP/ABS.1’C/A
SA.PC/PBT.PVC/CPE.PVC/7 ク
IJ v− ト、poM/熱可塑性pUkL,, PC
/熱可塑性PjJ1も. Pu+4/アクリレート、l
’r)i〜i/Ml38 , i’i’(1/}{It
’S.P}’(.1/PA 6. 6およびコボリマ−
1’A/HDl’l.:.PA/PP.i’A/l’
l’0。
えばi’t’/EP1)M、ボリアミド/EPDMま念
はAB8.PVC/EVA.PVC/AB8.PVC/
MB8.PC/ABS.PBTP/ABS.1’C/A
SA.PC/PBT.PVC/CPE.PVC/7 ク
IJ v− ト、poM/熱可塑性pUkL,, PC
/熱可塑性PjJ1も. Pu+4/アクリレート、l
’r)i〜i/Ml38 , i’i’(1/}{It
’S.P}’(.1/PA 6. 6およびコボリマ−
1’A/HDl’l.:.PA/PP.i’A/l’
l’0。
2& 純単量体化合物{たはその化合物からなる天然p
よび合取4T機材科、例えば鉱油、動物よ?よび槓物月
旨肪、すイlレ3よびワックスよ念は会11Kエステル
(列えぱフタレート、アジペート、ホスフエートまたは
トリメリテート)をペースとした上記オイル、脂肪およ
びワックス、並びに合底エステルの適当な軍歌比で混む
濱れた鉱油との混合・勿で、その材料はボリマーのため
の鐵維紡績油として並びにこのような材料の欠性エマル
ジョンとして1吏用さrL得る。
よび合取4T機材科、例えば鉱油、動物よ?よび槓物月
旨肪、すイlレ3よびワックスよ念は会11Kエステル
(列えぱフタレート、アジペート、ホスフエートまたは
トリメリテート)をペースとした上記オイル、脂肪およ
びワックス、並びに合底エステルの適当な軍歌比で混む
濱れた鉱油との混合・勿で、その材料はボリマーのため
の鐵維紡績油として並びにこのような材料の欠性エマル
ジョンとして1吏用さrL得る。
29. 天然王たは台成ゴムの欠注エマルジョン、例
えばカルポキシル化スチレン/ブタジ1ンコボリマーの
天然ラテックス。
えばカルポキシル化スチレン/ブタジ1ンコボリマーの
天然ラテックス。
5α ボリシロキサン、例えは米国特許第425947
6号に記載された軟質親水性ボリシロキサン、および例
えば米国特許第4355147号に記・或ざれた硬質ポ
リオルガノシロキサン。
6号に記載された軟質親水性ボリシロキサン、および例
えば米国特許第4355147号に記・或ざれた硬質ポ
リオルガノシロキサン。
31.不飽川アクリルポリアセトアセテートてたは不t
a+41アクリル1坩脂と組み合わにたボリケチミン。
a+41アクリル1坩脂と組み合わにたボリケチミン。
不飽川アクリル樹脂はペンタント不飽相基ヲ有するツレ
タンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル
またはアクリルコボリマーおよびアクリル化メラミンを
包含する。ポリケチミンは酸,畦媒の仔在丁でのポリア
ミンとケトンとから製造される。
タンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル
またはアクリルコボリマーおよびアクリル化メラミンを
包含する。ポリケチミンは酸,畦媒の仔在丁でのポリア
ミンとケトンとから製造される。
32.エチレン性不飽}Uモノマーf. 7’C id
オリゴマーおよび多不飽川脂肪恨オリゴマーを含有する
放射線硬イヒ性組成物。
オリゴマーおよび多不飽川脂肪恨オリゴマーを含有する
放射線硬イヒ性組成物。
3ム エボキシメラ?ン樹脂、例えばエボキシ官能性共
エーテル化ハイソリッドメラミン樹脂例えばLSI!:
4103(モンサンド社製)により架橋された光安定性
エポキシ倒脂。
エーテル化ハイソリッドメラミン樹脂例えばLSI!:
4103(モンサンド社製)により架橋された光安定性
エポキシ倒脂。
一般に、本発明の化合物は安定化される組成物の約(1
01ないし約5重量係便用されるが、しかしこれは特定
の基材公よび施用で変化するであろう。M利な範囲は約
05ないし約24、そして特にIl1ないし約1係であ
る。
01ないし約5重量係便用されるが、しかしこれは特定
の基材公よび施用で変化するであろう。M利な範囲は約
05ないし約24、そして特にIl1ないし約1係であ
る。
この混ぜは、本発明の安定剤は、有機ボリマー中に、当
該分野で慣用の方法により成形の前のあらゆる段階で容
易に混入され得る。例えば安定剤は乾燥粉末の形帽でボ
リマーと混合されてもよく、まf′c女定削の懸l蜀液
またはエマルジ讐ンは、ボリマーの溶液、懸l@gまf
cはエマルジ3ンと混合され得る。本発明の生成した゛
な定化ポリマー組成物は、以下に示すような補々の慣用
の添加剤を所望:でより添加することもできるO 2.6−ジー哨三プチル−4−メチルフェノール、2一
第三プチルー4.6−ジメチルフェノール、2.6−ジ
ー第三プチルー4−エチルフェノール、2.6−ジーA
三プチル−4−n−プチルフエノ一ル、 2.6−ジー第三プチル−4−イソプチルフェノール、 2.6−ジシクロペンチルー4−メチルフエノーノレ 2−(α−メチルシクロヘキシル) − 4. 6 −
シメチルフェノール、 2.6−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、2,
4. 6−トリシクロヘキシルフェノール、2.6−
ジー小三ブチルー4−メトキシメチル2エノール、 2.6−シーノニル−4−メチルフェノール、2.6−
ジー第三プチル−4一メトキシフェノール、 2.5−ジー弟三ブナルハイドロキノン、2.6−ジー
フエニル−4−オクタデシルオキシフェノール。
該分野で慣用の方法により成形の前のあらゆる段階で容
易に混入され得る。例えば安定剤は乾燥粉末の形帽でボ
リマーと混合されてもよく、まf′c女定削の懸l蜀液
またはエマルジ讐ンは、ボリマーの溶液、懸l@gまf
cはエマルジ3ンと混合され得る。本発明の生成した゛
な定化ポリマー組成物は、以下に示すような補々の慣用
の添加剤を所望:でより添加することもできるO 2.6−ジー哨三プチル−4−メチルフェノール、2一
第三プチルー4.6−ジメチルフェノール、2.6−ジ
ー第三プチルー4−エチルフェノール、2.6−ジーA
三プチル−4−n−プチルフエノ一ル、 2.6−ジー第三プチル−4−イソプチルフェノール、 2.6−ジシクロペンチルー4−メチルフエノーノレ 2−(α−メチルシクロヘキシル) − 4. 6 −
シメチルフェノール、 2.6−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、2,
4. 6−トリシクロヘキシルフェノール、2.6−
ジー小三ブチルー4−メトキシメチル2エノール、 2.6−シーノニル−4−メチルフェノール、2.6−
ジー第三プチル−4一メトキシフェノール、 2.5−ジー弟三ブナルハイドロキノン、2.6−ジー
フエニル−4−オクタデシルオキシフェノール。
例えば、
2.2′−チオビス(6一第三ブチルー4−メチルフェ
ノール)、 λ2′−チオビス(4−オクチルフェノール)、4.4
′−チオビス(6一第三ブチルー3−メチルフェノール
、 4.4゛−チオビス(6一第三プチル−2一メチlレフ
ェノール)。
ノール)、 λ2′−チオビス(4−オクチルフェノール)、4.4
′−チオビス(6一第三ブチルー3−メチルフェノール
、 4.4゛−チオビス(6一第三プチル−2一メチlレフ
ェノール)。
2.21−メチレンビス(6−g三ブチル−4−メチル
フェノール)、 2.22−メチレンビス(6−@三ブチル−4−エチル
フェノール)、 2.2′−メチレンビス〔4−メチル−6−(α一メチ
ルシクロヘキシル)フェノール〕、2.2’−メチレン
ビス(4−メ・チルー6−シクロヘキシルフェノール)
、 2.2′−メチレンピス(6−ノニルー4−メチルフェ
ノール)、 2.2″−メチレンビス(4.6−ジー第三プチルフェ
ノール)、 2.2′一エチリデンビス(4.6−ジー第三プチルフ
ェノール)、 2.2′一エチリデンビス(6一第三ブチルー4ーイソ
ブチルフェノール)、 2.2′−メチレンビス[6−(α−メチルペンジル)
−4一ノニルフェノール〕、 λ2′−メチレンピス[6−(α.α−ジメチルペンジ
ル)−4一ノニルフェノール〕、4.4゛−メチレンビ
ス(2.6−ジー第三ブチルフェノール)、 4.42−メチレンビス(6−i三ブチルー2−メチル
フェノール)、 1. 1 − ヒス(5−g三ブチル−4−ヒドロキシ
ー2−メチルフエニル)プタン、 2.6−ビス(3一第三プチルー5−メチル−2−ヒド
ロキシベンジル)−4−メチル7エノール、 1, +, 5−トリス(5一第三ブチルー4−ヒドロ
キシ−2−メチルフエニル)ブタン、 +, 1 − ヒス(5−第三ブチルー4−ヒドロキシ
−2−メチルフエニル)−5−n−ドデシIレメルカプ
トブタン、 エチレングリコールビス〔ム3−ビス(3’−第三ブチ
ルー4′−ヒドロキシフエニル)ブチレート ] 、 ヒX ( 3 − 7g 三フチル−4−ヒドロキシー
5−メチルフエニル)ジシクロベンタジェン、ビス[2
−(3’−第三プチル−2′−ヒドロキシ−5’−,l
チルベンジル) − 6−jJE三プチルー4−メチル
フェニル〕テレフタレート。
フェノール)、 2.22−メチレンビス(6−@三ブチル−4−エチル
フェノール)、 2.2′−メチレンビス〔4−メチル−6−(α一メチ
ルシクロヘキシル)フェノール〕、2.2’−メチレン
ビス(4−メ・チルー6−シクロヘキシルフェノール)
、 2.2′−メチレンピス(6−ノニルー4−メチルフェ
ノール)、 2.2″−メチレンビス(4.6−ジー第三プチルフェ
ノール)、 2.2′一エチリデンビス(4.6−ジー第三プチルフ
ェノール)、 2.2′一エチリデンビス(6一第三ブチルー4ーイソ
ブチルフェノール)、 2.2′−メチレンビス[6−(α−メチルペンジル)
−4一ノニルフェノール〕、 λ2′−メチレンピス[6−(α.α−ジメチルペンジ
ル)−4一ノニルフェノール〕、4.4゛−メチレンビ
ス(2.6−ジー第三ブチルフェノール)、 4.42−メチレンビス(6−i三ブチルー2−メチル
フェノール)、 1. 1 − ヒス(5−g三ブチル−4−ヒドロキシ
ー2−メチルフエニル)プタン、 2.6−ビス(3一第三プチルー5−メチル−2−ヒド
ロキシベンジル)−4−メチル7エノール、 1, +, 5−トリス(5一第三ブチルー4−ヒドロ
キシ−2−メチルフエニル)ブタン、 +, 1 − ヒス(5−第三ブチルー4−ヒドロキシ
−2−メチルフエニル)−5−n−ドデシIレメルカプ
トブタン、 エチレングリコールビス〔ム3−ビス(3’−第三ブチ
ルー4′−ヒドロキシフエニル)ブチレート ] 、 ヒX ( 3 − 7g 三フチル−4−ヒドロキシー
5−メチルフエニル)ジシクロベンタジェン、ビス[2
−(3’−第三プチル−2′−ヒドロキシ−5’−,l
チルベンジル) − 6−jJE三プチルー4−メチル
フェニル〕テレフタレート。
1. 4 5 − }リス(45−ジー第三ブチルー4
ーヒドロキシペンジル)一入4.6−トリメチルベンゼ
ン、 ビス(45−ジー第三プチルー4−ヒドロキシペンジル
)スルフィド、 イソオクチルへ5−ジー第三プチルー4−ヒドロキシベ
ンジルメルカブトアセテート、ヒx ( 4−第Eプチ
ルー5−ヒドロキシ−2.6−ジメチルペンジル)ジチ
オテレフタレート、1. 4 5 − }リス(45−
ジー第三プチルー4−ヒドロキシベンジルイソシアヌレ
ート、1. 4 5 − }リス(4一第三ブチルー5
−ヒドロキシ−2.6−ジメチルペンジル)インシアヌ
レート、 ジオクタデシルへ5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、 モノエチルへ5−ジー第三プチルー4−ヒドロキシベン
ジルホスホネートのカルゾワム塩、1, 5. 5 −
}リス(瓜5−ジシクロへキシル−4−ヒドロキシベ
ンジル)インシアヌレート。
ーヒドロキシペンジル)一入4.6−トリメチルベンゼ
ン、 ビス(45−ジー第三プチルー4−ヒドロキシペンジル
)スルフィド、 イソオクチルへ5−ジー第三プチルー4−ヒドロキシベ
ンジルメルカブトアセテート、ヒx ( 4−第Eプチ
ルー5−ヒドロキシ−2.6−ジメチルペンジル)ジチ
オテレフタレート、1. 4 5 − }リス(45−
ジー第三プチルー4−ヒドロキシベンジルイソシアヌレ
ート、1. 4 5 − }リス(4一第三ブチルー5
−ヒドロキシ−2.6−ジメチルペンジル)インシアヌ
レート、 ジオクタデシルへ5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、 モノエチルへ5−ジー第三プチルー4−ヒドロキシベン
ジルホスホネートのカルゾワム塩、1, 5. 5 −
}リス(瓜5−ジシクロへキシル−4−ヒドロキシベ
ンジル)インシアヌレート。
キシフエニル)プロピオン酸の以下の一価f:fcアル
コールの例:メタノール、ジエチレングリコール、丁ク
タデカノール、トリエチレングリ:z−ル、1.6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリ トール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、千オジエチレンクリコール、N . N’−ビ
ス(ヒドロキシエチル)シュワ岐ジアミド。
コールの例:メタノール、ジエチレングリコール、丁ク
タデカノール、トリエチレングリ:z−ル、1.6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリ トール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、千オジエチレンクリコール、N . N’−ビ
ス(ヒドロキシエチル)シュワ岐ジアミド。
ラワリy酸4−ヒドaキ7アニリド、
ステアリン酸4−ヒドロキシアニリド、2.4−ビス(
オクチルメルカブト)−6−(45−ジー第三プチルー
4−ヒドロキ/アニリノ)一S一トリアジン、 オクチルN−(&5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシ
フエニル)一力ルパメート。
オクチルメルカブト)−6−(45−ジー第三プチルー
4−ヒドロキ/アニリノ)一S一トリアジン、 オクチルN−(&5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシ
フエニル)一力ルパメート。
1.7 β一(45−ジ瀉三プチルー4−とドロアル
コールの例:メタノール、ジエチレングリコール、オク
タデカノール、トリエチレングリコール、1.6−ヘキ
サンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグ
リコール、トリス(ヒドロキシエチル)インシアヌレー
ト、チオジエチレンクリコール、N.N’−ビス(ヒド
ロキ/エチル)シェフ酸ジアミド。
コールの例:メタノール、ジエチレングリコール、オク
タデカノール、トリエチレングリコール、1.6−ヘキ
サンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグ
リコール、トリス(ヒドロキシエチル)インシアヌレー
ト、チオジエチレンクリコール、N.N’−ビス(ヒド
ロキ/エチル)シェフ酸ジアミド。
1.9 β−(15−ジシクロへキシル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオン酸の以下の一価tiは多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1.6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオベンチ
ルクリコール、トリス(ヒドロキシエチル)インシアヌ
レート、千オジエチレングリコール、N.N’−ピス(
ヒドロキゾエチル)シェフ+ilジアミド〇 N.N’−ビス(へ5−ジー第三ブチルー4−ヒ}”t
ffキシ7℃ニルプロビオニル)ヘキサメチレンジアミ
ン、 N,N’−ビス(45−ジー第三ブチルー4−ヒドロキ
シフェニルプ口ピオニル)トリメチレンジアミン、 N.N″−ビス(翫5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキ
シフェニルプ口ピオニル)ヒドラジン。
キシフェニル)プロピオン酸の以下の一価tiは多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1.6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオベンチ
ルクリコール、トリス(ヒドロキシエチル)インシアヌ
レート、千オジエチレングリコール、N.N’−ピス(
ヒドロキゾエチル)シェフ+ilジアミド〇 N.N’−ビス(へ5−ジー第三ブチルー4−ヒ}”t
ffキシ7℃ニルプロビオニル)ヘキサメチレンジアミ
ン、 N,N’−ビス(45−ジー第三ブチルー4−ヒドロキ
シフェニルプ口ピオニル)トリメチレンジアミン、 N.N″−ビス(翫5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキ
シフェニルプ口ピオニル)ヒドラジン。
2.1 2−(2’−ヒドロキシフエニル)ペンゾ5
′メチル、s’. s’−ジー第三プチルー 5′一第
三プチルー 5’− ( L LA3−テトラメチルプ
チル)− 5−クロロー5”. 5’−ジー第三ブチル
5−クロロー3′一第三プチルー5′一メチル3′一第
二プチルー5′一第三プチル:4′−オクトキシ− 3
’, 5’−ジー第三アミルおよび3′,5′−ビス
(α,α−ジメチルベンジル)誘導体。
′メチル、s’. s’−ジー第三プチルー 5′一第
三プチルー 5’− ( L LA3−テトラメチルプ
チル)− 5−クロロー5”. 5’−ジー第三ブチル
5−クロロー3′一第三プチルー5′一メチル3′一第
二プチルー5′一第三プチル:4′−オクトキシ− 3
’, 5’−ジー第三アミルおよび3′,5′−ビス
(α,α−ジメチルベンジル)誘導体。
2.2 2−ヒドロキシーペンゾフエノン、例えば
4−ヒドロキシ− 4−メトキシ− 4−オクトキシ−
4−デシルオキシ− 4−ドデシルオキシ− 4−ペ
ンジルオキシ− 4. 2’, 4’トリヒドロキシー
訃よヒ2′−ヒドロキシ−4.4′−ジメトキシ誘導体
。
4−デシルオキシ− 4−ドデシルオキシ− 4−ペ
ンジルオキシ− 4. 2’, 4’トリヒドロキシー
訃よヒ2′−ヒドロキシ−4.4′−ジメトキシ誘導体
。
テル、例えば
4一第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、 ォクチルフエニルナリチレート、 シヘンゾイルレゾルシノール、 ビス<a−′Jc三ブチルペンゾイル)レゾルシノール
、 ペンゾイルレゾルシノール、 2.4−ジー第三ブチルフエニル翫5−ジー第三ブチP
レー4−ヒドロキシベンゾエート、および&5−ジ−4
三ブチルー4−ヒドロキシベンゾエート。
レート、 ォクチルフエニルナリチレート、 シヘンゾイルレゾルシノール、 ビス<a−′Jc三ブチルペンゾイル)レゾルシノール
、 ペンゾイルレゾルシノール、 2.4−ジー第三ブチルフエニル翫5−ジー第三ブチP
レー4−ヒドロキシベンゾエート、および&5−ジ−4
三ブチルー4−ヒドロキシベンゾエート。
2.4 アクリレート、例えば
α−シアノーβ,β−ジフエニルーアクリル酸エチルエ
ステル、 α−シアノーβ.β−ジフェニルーアクリル酸インオク
チルエステル、 α一カルポメトキシー桂皮酸メチルエステル、α−シア
ノーβ−メチルーp−メトキシー桂皮酸メチルエステル
、 α−シアノーβ−メチルーp−メトキシー桂皮酸ブチル
エステル、 α一カルポメトギシーp−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および N−(β一カルポメトキシ−β−シアノビニル)−2−
メチルインドリン。
ステル、 α−シアノーβ.β−ジフェニルーアクリル酸インオク
チルエステル、 α一カルポメトキシー桂皮酸メチルエステル、α−シア
ノーβ−メチルーp−メトキシー桂皮酸メチルエステル
、 α−シアノーβ−メチルーp−メトキシー桂皮酸ブチル
エステル、 α一カルポメトギシーp−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および N−(β一カルポメトキシ−β−シアノビニル)−2−
メチルインドリン。
2.2′−チオビス−( 4 − ( 1, 1,へ5
−テトラメチルブチル)−フェノール〕のニッケル錯体
、例えば1:1または1:2錯体であって、所望により
n−プチルアミン、トリエタノールアミンもし<iiN
−シクロヘキシルージーエタノールアミンのような他の
配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオ力ルパメー
ト、4−ヒドロキシーム5−ジー第三プチルベンジルホ
スホン酸モノアシキルエステル、列えばメチルもしくは
エチルエステルのニッケル塩、2−ヒドロキシ−4−メ
チルーフヱニルウングシルケトキシムのよりなケトキシ
ムのニッゲル錯体、1−フェニルー4−ラワ1イル−5
−ヒドロキy−ビラゾールのニッケル錯1本であって、
所望により他の配位子を伴うもの。
−テトラメチルブチル)−フェノール〕のニッケル錯体
、例えば1:1または1:2錯体であって、所望により
n−プチルアミン、トリエタノールアミンもし<iiN
−シクロヘキシルージーエタノールアミンのような他の
配位子を伴うもの、ニッケルジブチルジチオ力ルパメー
ト、4−ヒドロキシーム5−ジー第三プチルベンジルホ
スホン酸モノアシキルエステル、列えばメチルもしくは
エチルエステルのニッケル塩、2−ヒドロキシ−4−メ
チルーフヱニルウングシルケトキシムのよりなケトキシ
ムのニッゲル錯体、1−フェニルー4−ラワ1イル−5
−ヒドロキy−ビラゾールのニッケル錯1本であって、
所望により他の配位子を伴うもの。
ビス(2.2.46−テトラメチルピペリジル)セバケ
ート、 ビス(1.2.:16−ペンタメチルピペリジル)セパ
ケート、 ビス(1.2.2.6.6−ペンタメチルピペリジル)
n−ブチルーへ5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシペ
ンジルマロネート、 1−(2−ヒドロキシエチル) − 2.2.6.6−
テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコノ・ク酸
との縮合生成物、 N.N’−ビス( 2.2.6.6−テトラメチル−4
=ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三才ク
チルアミノーλ6−ジクロロ−1, A 5 −トリア
ジンとの縮合生成物、 トリス( 2.2.l)6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)ニトリロトリアセテート、 テトラキス(2.2.6.6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)−1.2.44−ブタンテトラカルポキシレー
ト、 t 1’− ( 1. 2−エタンジイル〕−ビス(へ
45.5−テトラメチルピペラジノン)。
ート、 ビス(1.2.:16−ペンタメチルピペリジル)セパ
ケート、 ビス(1.2.2.6.6−ペンタメチルピペリジル)
n−ブチルーへ5−ジー第三ブチルー4−ヒドロキシペ
ンジルマロネート、 1−(2−ヒドロキシエチル) − 2.2.6.6−
テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコノ・ク酸
との縮合生成物、 N.N’−ビス( 2.2.6.6−テトラメチル−4
=ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三才ク
チルアミノーλ6−ジクロロ−1, A 5 −トリア
ジンとの縮合生成物、 トリス( 2.2.l)6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)ニトリロトリアセテート、 テトラキス(2.2.6.6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)−1.2.44−ブタンテトラカルポキシレー
ト、 t 1’− ( 1. 2−エタンジイル〕−ビス(へ
45.5−テトラメチルピペラジノン)。
27 シエワ改ジアミド、例えば
4.4′−ジーオクチルーすキシオキサニリド、2.2
1−ジーオクチルオキシ−5.5′−ジー第三フチルオ
キサニリド、 2.2゛−ジードデシルオキシ−5.5゛−ジー第三フ
チルオキサニリド、 2−エトキシー2゛一エチルオキサニリド、N.N’−
ビス(3−ジメチルアミノプロピルーオキサルアミド、 2−エトキシー5−第三プチルー2′一エチルオキサニ
リドおよび該化合物と2−エトキシ−2′一エチル−5
.4′−ジー第三ブチルーオキサニリドとの混合向、 オルトーおよびバラーメトキシー二置換オキサニリドの
混合吻、および O−およびp一エトキシー二置換オキサニリドのl昆合
・吻。
1−ジーオクチルオキシ−5.5′−ジー第三フチルオ
キサニリド、 2.2゛−ジードデシルオキシ−5.5゛−ジー第三フ
チルオキサニリド、 2−エトキシー2゛一エチルオキサニリド、N.N’−
ビス(3−ジメチルアミノプロピルーオキサルアミド、 2−エトキシー5−第三プチルー2′一エチルオキサニ
リドおよび該化合物と2−エトキシ−2′一エチル−5
.4′−ジー第三ブチルーオキサニリドとの混合向、 オルトーおよびバラーメトキシー二置換オキサニリドの
混合吻、および O−およびp一エトキシー二置換オキサニリドのl昆合
・吻。
2, 4. 6 − }リス(2−ヒドロキシ−4−オ
クチルオキシフエニル)−1.15−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシ7ヱニル) −
4. 6−ビス(2.4−シメチルフエニル)−1.
45−}リアジン、 2 − ( 2. 4−ジヒドロキシフエニル) −
4. 6 −ビス(244−ジメチルフ1ニル) −
1. 4 5−トリアジン、 2.4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロビルオキシフ
ヱニル)−6−(2.4−ジメチルフェニル)−1.3
.5−}リアジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフエニル)
− 4. 6−ビス(4−メチルフエニル)− 1.
4 5−}リアジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフエニル)
− 4. 6−ビス(2.4−ジメチルフエニル)
− 1, & 5 − }リアジン。
クチルオキシフエニル)−1.15−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシ7ヱニル) −
4. 6−ビス(2.4−シメチルフエニル)−1.
45−}リアジン、 2 − ( 2. 4−ジヒドロキシフエニル) −
4. 6 −ビス(244−ジメチルフ1ニル) −
1. 4 5−トリアジン、 2.4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロビルオキシフ
ヱニル)−6−(2.4−ジメチルフェニル)−1.3
.5−}リアジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフエニル)
− 4. 6−ビス(4−メチルフエニル)− 1.
4 5−}リアジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフエニル)
− 4. 6−ビス(2.4−ジメチルフエニル)
− 1, & 5 − }リアジン。
N.N’−ジフェニルシュワ酸ジアミド、N−サリチラ
ル−N′−サリチロイルヒドラジン、N.N’−ビス(
サリチロイル)ヒドラジン、N.N’−ビス(45−ジ
ー第三ブチルー4−ヒドロキシフエニルグロピオニル)
ヒドラジン、5−サリチロイルアミノ−1. 2. a
一トリアゾール、 ビス(ペンジリデン)オキサロジヒドラジン。
ル−N′−サリチロイルヒドラジン、N.N’−ビス(
サリチロイル)ヒドラジン、N.N’−ビス(45−ジ
ー第三ブチルー4−ヒドロキシフエニルグロピオニル)
ヒドラジン、5−サリチロイルアミノ−1. 2. a
一トリアゾール、 ビス(ペンジリデン)オキサロジヒドラジン。
トリフエニルホスフ−( ,ト、
ジフエニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、
トリス(ノニルフヱニル)ホスフィット、トリラワリル
ホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルベンタエリトリトールジホスフィ,ト、 トリス(2.4−ジー第三ブチルフエニル〕ホスフィッ
ト1 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィッ ト
、 ビス(2.4−ジー第三プチルフェニル)ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルフルビトールトリホス7イ,ト、テトラ
キス(244−ジー第三プチルフエニル)4.4゛−ビ
フェニレンジホスホナイト、49−ビス(乙4−ジー第
三プチルフエノキシ)−2.4,a10−テトラオキサ
ーへ9−ジホス7アスピ口[5.5]ウンデカン。
ホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルベンタエリトリトールジホスフィ,ト、 トリス(2.4−ジー第三ブチルフエニル〕ホスフィッ
ト1 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィッ ト
、 ビス(2.4−ジー第三プチルフェニル)ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルフルビトールトリホス7イ,ト、テトラ
キス(244−ジー第三プチルフエニル)4.4゛−ビ
フェニレンジホスホナイト、49−ビス(乙4−ジー第
三プチルフエノキシ)−2.4,a10−テトラオキサ
ーへ9−ジホス7アスピ口[5.5]ウンデカン。
β−チオジプロビオン酸のエステル、例えばラワリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、 メルカブトベンズイミダゾール、または2−メルカプト
ペンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミ
ン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラキス(β−ドデシルメルカ
ブト)グロピオネート。
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、 メルカブトベンズイミダゾール、または2−メルカプト
ペンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミ
ン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラキス(β−ドデシルメルカ
ブト)グロピオネート。
N.N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N.N−ジエ
チルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキ
シルアミン、N.N−ジラ9リルヒドロキシルアミン、
N.N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−
ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、N.N−ジオクタ
デシルヒドロキシルアミン、N−ヘキサデシルーN−オ
クタデシルヒドロキシルアミン、 N−ヘプタデシルーN−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 水素化タロワアミンから誹導されるN.N−ジアルキル
ルヒドロキシルアミン。
チルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキ
シルアミン、N.N−ジラ9リルヒドロキシルアミン、
N.N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−
ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、N.N−ジオクタ
デシルヒドロキシルアミン、N−ヘキサデシルーN−オ
クタデシルヒドロキシルアミン、 N−ヘプタデシルーN−オクタデシルヒドロキシルアミ
ン、 水素化タロワアミンから誹導されるN.N−ジアルキル
ルヒドロキシルアミン。
ヨワ化物および/またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩,, メラミン、ポリビニルビロリドン、シシアンシアミン、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ボリアミド、ボリ9レタン、 高級脂肪酸のアルカリ3編塩およびアルカリ土類金属塩
、例えばCaステアレート、znステアレート、Mgス
テアレート、NaリシノレートおよびKパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。
よび二価マンガンの塩,, メラミン、ポリビニルビロリドン、シシアンシアミン、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ボリアミド、ボリ9レタン、 高級脂肪酸のアルカリ3編塩およびアルカリ土類金属塩
、例えばCaステアレート、znステアレート、Mgス
テアレート、NaリシノレートおよびKパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。
9 核剤、例えば
4一第三プチル安息香酸、アジピン酸、ジフ1ニル酢酸
。
。
炭酸力ルシワム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
メルク、カオリン、雲母、硫酸バリヮム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンプラック、グラファイト。
メルク、カオリン、雲母、硫酸バリヮム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンプラック、グラファイト。
可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、禰燃剤、静電
防止剤、発泡剤.!?【びチオ相乗剤例えばジラワリル
チオジブ口ビずネートまたはジステアリルチオジグロピ
オネート。
防止剤、発泡剤.!?【びチオ相乗剤例えばジラワリル
チオジブ口ビずネートまたはジステアリルチオジグロピ
オネート。
特に興味のあるのは、常温硬化および酸触媒塗布系を含
む塗布系の多鎌における本誘導体の利用である。
む塗布系の多鎌における本誘導体の利用である。
特に塗膜の物理的結合度は、光沢の消失度と黄変度にお
ける顕著な減少を伴って高い程度に維持される。
ける顕著な減少を伴って高い程度に維持される。
王な改良点は、N−アルキルヒンダードアミン系光安定
剤の使用により硬化の減退が実質的に無くなること;凝
集と分散の不安定化が、N−アルキルヒンダードアミン
がある種の着色塗布系に利用された場合に観察されるよ
うに′j!質的に頌くなること;そして塗膜とポリカー
ボネート基材の間の接着の損失が屑くなること金含むO 従って本発明は、光線、1雇気および酸素の分解的な影
響に対して、アルキッド樹脂;熱可塑性アクリル樹脂;
アクリルアルキッド;所望によりシリコーン、インシア
ナート、イソシアヌレート、ケチミンもしくはオキサゾ
リジンで改質され几アクリルもしくはボリエステルアル
キッド:およびカルボン酸、酸無水物、ポリアミンもし
くはメルカブタンで架橋されたエボキシ樹脂;および王
鎖構造において反応性基により改質されそしてエボキシ
ドにより架橋されたアクリルおよびボリエ′ステル樹脂
系を基材にした常温硬化塗膜を安定化するための、所望
により更に他の安定剤と共の、本化合物の使用にも関す
る。
剤の使用により硬化の減退が実質的に無くなること;凝
集と分散の不安定化が、N−アルキルヒンダードアミン
がある種の着色塗布系に利用された場合に観察されるよ
うに′j!質的に頌くなること;そして塗膜とポリカー
ボネート基材の間の接着の損失が屑くなること金含むO 従って本発明は、光線、1雇気および酸素の分解的な影
響に対して、アルキッド樹脂;熱可塑性アクリル樹脂;
アクリルアルキッド;所望によりシリコーン、インシア
ナート、イソシアヌレート、ケチミンもしくはオキサゾ
リジンで改質され几アクリルもしくはボリエステルアル
キッド:およびカルボン酸、酸無水物、ポリアミンもし
くはメルカブタンで架橋されたエボキシ樹脂;および王
鎖構造において反応性基により改質されそしてエボキシ
ドにより架橋されたアクリルおよびボリエ′ステル樹脂
系を基材にした常温硬化塗膜を安定化するための、所望
により更に他の安定剤と共の、本化合物の使用にも関す
る。
(に、その工業的用途において、架橋性のアクリル、ポ
リエステル、ワレタンまたはアルキッド樹脂金基材にし
たハイソリッド内容物のエナメルは、酸触媒を追7JO
して硬化される。塩基性窒素基を含有光安定削は、この
適用にお込て満足できるものではない。
リエステル、ワレタンまたはアルキッド樹脂金基材にし
たハイソリッド内容物のエナメルは、酸触媒を追7JO
して硬化される。塩基性窒素基を含有光安定削は、この
適用にお込て満足できるものではない。
酸触媒と光安定剤との塩の形成は、塩の不相溶性もしく
は不溶性および沈澱を招き、そして硬化の度合いが減少
し、光保護作用が減少し、湿気に対する抵抗性が不良に
なる事態金招く。
は不溶性および沈澱を招き、そして硬化の度合いが減少
し、光保護作用が減少し、湿気に対する抵抗性が不良に
なる事態金招く。
これらの酸触媒焼付ラッカーは、熱架橋性のアクリル、
ポリエステル、ポリワレタン、ボリアミド′f.71l
:はアルキッド樹脂を基材にしている。
ポリエステル、ポリワレタン、ボリアミド′f.71l
:はアルキッド樹脂を基材にしている。
本発明に従って光線、湿気および酸素に対して安定化で
きるアクリル樹脂ラッカーは、常用されるアクリル樹脂
焼付ラッカーまたは熱硬化樹脂である。これらの樹脂は
、例えばハー.キ,テル著「レールプーフ デア ラッ
ケワントベシヒトング」巻1、2部、735と742頁
(ベルリン1972》;[ラックングスハルシヱ」(1
977 )、ハー ワグナーおよびハー エフ.ザルク
ス著、22ν−z6ag;およびエス.パウル゛ ス著
[サー7エイス コーティンク:?イエンス アンドテ
クノロジーJ(1985) に記載のアクリル/メラ
ミン系を含む。
きるアクリル樹脂ラッカーは、常用されるアクリル樹脂
焼付ラッカーまたは熱硬化樹脂である。これらの樹脂は
、例えばハー.キ,テル著「レールプーフ デア ラッ
ケワントベシヒトング」巻1、2部、735と742頁
(ベルリン1972》;[ラックングスハルシヱ」(1
977 )、ハー ワグナーおよびハー エフ.ザルク
ス著、22ν−z6ag;およびエス.パウル゛ ス著
[サー7エイス コーティンク:?イエンス アンドテ
クノロジーJ(1985) に記載のアクリル/メラ
ミン系を含む。
光線と湿気の作用に対して安定化できるポリエステルラ
ッカーは、例えば上述のハー.ワグナーおよびハー エ
フ.ザルクス著の文献86−99頁に記述されている常
用の焼付ラッカーである。
ッカーは、例えば上述のハー.ワグナーおよびハー エ
フ.ザルクス著の文献86−99頁に記述されている常
用の焼付ラッカーである。
本発明に従って、光,腺と湿気の作用に対して安定化で
きるアルキッド樹脂ラッカーは、特に自動也の塗装に使
用される常用の焼付ラブカー(自動車仕上用ラッカー)
である。これらのラッカーは例えば、アルキッド/メラ
ミン樹脂およびアルキッド/アクリル/メラミン樹脂を
基材にしている(上述のハー ワグナーおよびハエフ.
ザルクス著の文献99−123頁を参照)。
きるアルキッド樹脂ラッカーは、特に自動也の塗装に使
用される常用の焼付ラブカー(自動車仕上用ラッカー)
である。これらのラッカーは例えば、アルキッド/メラ
ミン樹脂およびアルキッド/アクリル/メラミン樹脂を
基材にしている(上述のハー ワグナーおよびハエフ.
ザルクス著の文献99−123頁を参照)。
他の架橋剤は、グリコウリル( glycour il
)樹脂、ブロックとインシアナートまたはエボキシ宿
哨を含む。
)樹脂、ブロックとインシアナートまたはエボキシ宿
哨を含む。
本発明に従って安定化される酸触媒焼付ラッカーは、金
属仕上げ塗装および固体色仕とげ.の両方、特に修正仕
上げ、並びにいろいろなコイル塗装適用に適している。
属仕上げ塗装および固体色仕とげ.の両方、特に修正仕
上げ、並びにいろいろなコイル塗装適用に適している。
本発明に従って安定化され穴ラッカーは、2法、即ち一
同塗褒または二回塗装の方法のどちらでも、慣用の方法
で+4用するのが好ましい。
同塗褒または二回塗装の方法のどちらでも、慣用の方法
で+4用するのが好ましい。
後者の方法では、顔料含有の下塗り塗装が先ず行われ、
次いで、下塗り層に被せて透明ラッカーの被[塗装が行
われる。
次いで、下塗り層に被せて透明ラッカーの被[塗装が行
われる。
本発明の置換ヒンダードアミンは、所望によりシリコー
ン、イソシアナートまたはインシアヌレートにより改質
されているエボキシ、エボキシーポリエステル、ビニル
、アルキッド、アクリルおよびポリエステル樹脂のよう
な非一酸触媒熱硬化樹脂における使用のために適用でき
ることにも注目すべきである。エボキシーおよびエボキ
シーポリエステル樹脂は酸、酸無水物アミン、並びに同
様のもののような常用の架橋剤で架橋ざれている。
ン、イソシアナートまたはインシアヌレートにより改質
されているエボキシ、エボキシーポリエステル、ビニル
、アルキッド、アクリルおよびポリエステル樹脂のよう
な非一酸触媒熱硬化樹脂における使用のために適用でき
ることにも注目すべきである。エボキシーおよびエボキ
シーポリエステル樹脂は酸、酸無水物アミン、並びに同
様のもののような常用の架橋剤で架橋ざれている。
従って、エボキシ樹脂は、主鎖構造上の反応性基のイT
在により改質され之いろいろのアクリルまたはポリエス
テル樹脂系のための架橋剤として使用されてよい。
在により改質され之いろいろのアクリルまたはポリエス
テル樹脂系のための架橋剤として使用されてよい。
このような塗料において最高の光安定性を達成するため
に、他の常用の光安定剤の共用は有利であり得る。
に、他の常用の光安定剤の共用は有利であり得る。
この例は、上述したペンゾフェノン、ペンゾトリアゾー
ル、アクリル酸誘導体、またはオキサニリド型、または
アリールーS−トリアジンまたは金属一含有光安定剤、
例えば有機ニッケル化合物の紫外線吸収剤である。
ル、アクリル酸誘導体、またはオキサニリド型、または
アリールーS−トリアジンまたは金属一含有光安定剤、
例えば有機ニッケル化合物の紫外線吸収剤である。
二回塗装系では、これらの追加の光安定剤は透明塗膜お
よび/または着色下塗りに添加できる, もしもこのような組み合わせが取られるならば、全ての
元安定剤の量は、塗層(film)を形成する樹脂に基
づいて、(12ないし20]ifi%、好ましくはα5
ないし5重量鳴である。
よび/または着色下塗りに添加できる, もしもこのような組み合わせが取られるならば、全ての
元安定剤の量は、塗層(film)を形成する樹脂に基
づいて、(12ないし20]ifi%、好ましくはα5
ないし5重量鳴である。
上述のビペリジン化合物と一緒にして、本組成物に使用
されてもよい紫外線吸収剤の異種の類ぐよ、ジエー.ヘ
ラー著の[ヨーロピアン・ボリマー・ジャーナル・サブ
リメント、1969、105−152頁]に参照される
。これイ〕の類は、? IJチル酸フエニル、0−ヒド
ロキシベンゾフエノン、ヒドロキシキサントン、ペンゾ
キサゾール、ペンズイミダゾール、オキサジアゾール、
トリアゾール、ピリミジン、キナゾリン、S−トリアジ
ン、ヒドロキシフ!ニルーペンゾトリアゾール、アルフ
ァーシアノアクリレートおよびペンゾエート等である。
されてもよい紫外線吸収剤の異種の類ぐよ、ジエー.ヘ
ラー著の[ヨーロピアン・ボリマー・ジャーナル・サブ
リメント、1969、105−152頁]に参照される
。これイ〕の類は、? IJチル酸フエニル、0−ヒド
ロキシベンゾフエノン、ヒドロキシキサントン、ペンゾ
キサゾール、ペンズイミダゾール、オキサジアゾール、
トリアゾール、ピリミジン、キナゾリン、S−トリアジ
ン、ヒドロキシフ!ニルーペンゾトリアゾール、アルフ
ァーシアノアクリレートおよびペンゾエート等である。
特に重要な紫外線吸収剤の例は下記の通りである:
lal2 − ( 2’−ヒドロキシグエニル)一ペン
ゾトリアゾール類、例えば5′一メチル、3’. 5’
−ジ第三プチルー 5′一第三ブチル、5’− ( 1
, i, &3−テトラメチルブチル)− 5−クロロ
ー3′、5′−ジ第三ブチル− 5−クロロー3′一第
三フチルー5′−メチル− 3’− see−プチルー
5′一第三ブチルー 4″−オクトキシー および3′
.5′−ジ第三アミル誘導体。
ゾトリアゾール類、例えば5′一メチル、3’. 5’
−ジ第三プチルー 5′一第三ブチル、5’− ( 1
, i, &3−テトラメチルブチル)− 5−クロロ
ー3′、5′−ジ第三ブチル− 5−クロロー3′一第
三フチルー5′−メチル− 3’− see−プチルー
5′一第三ブチルー 4″−オクトキシー および3′
.5′−ジ第三アミル誘導体。
(b)2−ヒドロキシペンゾフェノン類、例えば4−ヒ
ドロキシ− 4−メトキシ− 4−オクトキシ−A−f
シルオキシ− 4−ドデシルオキシ− 4−ペンジルオ
キシ− 4. 2’, 4’一トリヒドロキシーおよび
2′−ヒドロキシ−4.4’−ジメトキシ誘導体。
ドロキシ− 4−メトキシ− 4−オクトキシ−A−f
シルオキシ− 4−ドデシルオキシ− 4−ペンジルオ
キシ− 4. 2’, 4’一トリヒドロキシーおよび
2′−ヒドロキシ−4.4’−ジメトキシ誘導体。
lc)アクリレート、例えば、アルファーシアノーβ,
β−ジ7エニルーアクリル酸エチルエステルもしくはイ
ンオクチルエステル、アルファーカルボメトキシーケイ
皮酸メチルエステル、アルファーシアノーβ−メチルー
p−メトキシケイ皮酸メチルエステルもしくはプチルエ
ステル、アルファーカルポメトキシーp−メトキシーケ
イ皮壱メチルエステル、N−(β一カルポメトキシ−β
−シアノビニル)−2−7チルーインドリン。
β−ジ7エニルーアクリル酸エチルエステルもしくはイ
ンオクチルエステル、アルファーカルボメトキシーケイ
皮酸メチルエステル、アルファーシアノーβ−メチルー
p−メトキシケイ皮酸メチルエステルもしくはプチルエ
ステル、アルファーカルポメトキシーp−メトキシーケ
イ皮壱メチルエステル、N−(β一カルポメトキシ−β
−シアノビニル)−2−7チルーインドリン。
idlニッケル化合物、例えば2.22−チオビスー[
4 − ( 1, 1,五3−テトラメチルブチル)
−フェノール」、1:1も【7くは1:2錯塩であって
、所望によりn−プチルアミン、トリエタノールアミン
またViN−シクロヘキシルージエタノールアミンのよ
うな追加の配位子をもつもの;ジプチルジチオ力ルバミ
ン酸ニッケル塩;4−ヒドロキシーへ5−ジ第三プチル
ベンジルホスホン酸のメチル、工tルもしくはプチルエ
ステルのようなモノアルキルエステルのニッケル塩:2
−ヒドロキシー4−メチル7エニルウンデシルケトノキ
シムのようなケトオキシムのニツケ11[:1−7ェニ
ルー4−ラウロイルー5−ヒドロキシービラゾールのニ
ッケル錯塩で所望により追加の配位子のあるもの。
4 − ( 1, 1,五3−テトラメチルブチル)
−フェノール」、1:1も【7くは1:2錯塩であって
、所望によりn−プチルアミン、トリエタノールアミン
またViN−シクロヘキシルージエタノールアミンのよ
うな追加の配位子をもつもの;ジプチルジチオ力ルバミ
ン酸ニッケル塩;4−ヒドロキシーへ5−ジ第三プチル
ベンジルホスホン酸のメチル、工tルもしくはプチルエ
ステルのようなモノアルキルエステルのニッケル塩:2
−ヒドロキシー4−メチル7エニルウンデシルケトノキ
シムのようなケトオキシムのニツケ11[:1−7ェニ
ルー4−ラウロイルー5−ヒドロキシービラゾールのニ
ッケル錯塩で所望により追加の配位子のあるもの。
le)オキサジアミド、例えば4.4′−ジーオクチル
オキシオキサニリド、2.2′−ジーオクチルオキシ−
5.52−ジ第三ブチルーオキサニリド、42′−ジー
ドデシルオキシ−5.5′−ジ第三ブチルーオキサニリ
ド、2−エトキシ−21一エチルーオキサニリド、N.
N’−ピスー(3−ジメチルアミノプロビル)一オキサ
ミド、2−エトキシ−5一第三ブチルー2′一エチルー
オキナニリドおよびその2−エトキシ−21一エチル−
5.4’−ジ第三プチルーオキサニリドとの混合・物Ω
よび0−およびp−メトキシー並びに〇一およびp一エ
トキシージ14換オキサニリドの混合物。
オキシオキサニリド、2.2′−ジーオクチルオキシ−
5.52−ジ第三ブチルーオキサニリド、42′−ジー
ドデシルオキシ−5.5′−ジ第三ブチルーオキサニリ
ド、2−エトキシ−21一エチルーオキサニリド、N.
N’−ピスー(3−ジメチルアミノプロビル)一オキサ
ミド、2−エトキシ−5一第三ブチルー2′一エチルー
オキナニリドおよびその2−エトキシ−21一エチル−
5.4’−ジ第三プチルーオキサニリドとの混合・物Ω
よび0−およびp−メトキシー並びに〇一およびp一エ
トキシージ14換オキサニリドの混合物。
げ)2.6−ビス(2.4−ジメチルフエニル)一4−
( 2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−
8−}リアジンまたはそれに相応する4−(2.4−ジ
ヒドロキシ7エニル) 誘4体のようなヒドロキシフヱ
ニルーS−}リアジン顧。
( 2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−
8−}リアジンまたはそれに相応する4−(2.4−ジ
ヒドロキシ7エニル) 誘4体のようなヒドロキシフヱ
ニルーS−}リアジン顧。
本組成物中において呑に価噸あるものは、2一[2−ヒ
ドロギシー5.5−ジ(α、、α−ジメチルペンジル)
−フェニル]−2H−ペンソトリアゾール、2−(2−
ヒドロキシーへ5−ジ第三才クチルオキシフエニル)−
2}1−ペンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−
3−α.α−ジメチルベンジル) − 5−第三才クチ
ルフエニル)−21−1−ペンゾトリアゾール、2−(
2−ヒドロキシー第三才クチル−5−α,αージメチル
ペンジル)−2H−ペンゾトリアゾール、2−(2−ヒ
ドロキシーへ5−ジ第三アミルフヱニル) −2 11
−ペンソトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3−第
三プチルー5一(2−(ω−ヒドロキシーオクター(エ
チレンオキシ)カルボニル)一エチルフヱニa5]−2
H−ペンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−
メチルフエニル)−2}{−ペンゾトリアゾールのドデ
シル化物、2−[2−ヒドロキシ−5−wc三ブチル−
5−(2−オクチルオキシ力ル〆ニル)エチルフェニル
]−21−1−ペンゾトリアゾールおよび上述したペン
ゾトリアゾール類の各々に対応する5−クq口化合物の
ような高分子量および低揮発性のペンゾ} IJアゾー
ルである。
ドロギシー5.5−ジ(α、、α−ジメチルペンジル)
−フェニル]−2H−ペンソトリアゾール、2−(2−
ヒドロキシーへ5−ジ第三才クチルオキシフエニル)−
2}1−ペンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−
3−α.α−ジメチルベンジル) − 5−第三才クチ
ルフエニル)−21−1−ペンゾトリアゾール、2−(
2−ヒドロキシー第三才クチル−5−α,αージメチル
ペンジル)−2H−ペンゾトリアゾール、2−(2−ヒ
ドロキシーへ5−ジ第三アミルフヱニル) −2 11
−ペンソトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3−第
三プチルー5一(2−(ω−ヒドロキシーオクター(エ
チレンオキシ)カルボニル)一エチルフヱニa5]−2
H−ペンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−
メチルフエニル)−2}{−ペンゾトリアゾールのドデ
シル化物、2−[2−ヒドロキシ−5−wc三ブチル−
5−(2−オクチルオキシ力ル〆ニル)エチルフェニル
]−21−1−ペンゾトリアゾールおよび上述したペン
ゾトリアゾール類の各々に対応する5−クq口化合物の
ような高分子量および低揮発性のペンゾ} IJアゾー
ルである。
本組成物に役立つペンゾトリアゾールで最も好ましい本
のは、2−[2−ヒドロキシ−3.5−シ(α,α−ジ
メチルペンジル)一フエニル」−28−ペンゾトリアゾ
ール、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)
− 2 H−ペンゾトリアゾールのドテシル化物、2−
口2−ヒドロキシ−3一第三ブチルー5−(2−(ω−
ヒドロキシーオクター(エチレンオキシ)カルボニル)
一エチルフエニル]−21−1−ペンソトリアゾール、
2−[2−ヒドロキシ−3一第三ブチルー5−(2−す
クチルオキシ力ルポニル)エチルフェニル]−2H一ベ
ンソ} IJアソールおよび5−クロロー2−[2−ヒ
ドロキシ−3−第三ブチルー5−(2−オクチルオキシ
力ルボニル)エチルフ1ニル]−2}1−ペンソトリア
ゾールである。
のは、2−[2−ヒドロキシ−3.5−シ(α,α−ジ
メチルペンジル)一フエニル」−28−ペンゾトリアゾ
ール、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフエニル)
− 2 H−ペンゾトリアゾールのドテシル化物、2−
口2−ヒドロキシ−3一第三ブチルー5−(2−(ω−
ヒドロキシーオクター(エチレンオキシ)カルボニル)
一エチルフエニル]−21−1−ペンソトリアゾール、
2−[2−ヒドロキシ−3一第三ブチルー5−(2−す
クチルオキシ力ルポニル)エチルフェニル]−2H一ベ
ンソ} IJアソールおよび5−クロロー2−[2−ヒ
ドロキシ−3−第三ブチルー5−(2−オクチルオキシ
力ルボニル)エチルフ1ニル]−2}1−ペンソトリア
ゾールである。
本化合物が、フェノール性抗酸化剤、ヒンダードアミン
光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤およびこれら
の混合物から成る群から選ばれた他の安定剤と関連して
使用される時は、ポリオレフイン繊維、荷にボリプロビ
レン繊維のための安定剤として特に有効で有るだろうこ
とも考えられる。
光安定剤、有機リン化合物、紫外線吸収剤およびこれら
の混合物から成る群から選ばれた他の安定剤と関連して
使用される時は、ポリオレフイン繊維、荷にボリプロビ
レン繊維のための安定剤として特に有効で有るだろうこ
とも考えられる。
本発明の好ましい実施轢様は、
Ial熱架橋性のアクリル、ポリエステルまたはアルキ
ッド樹脂を基材にした酸触媒熱硬化塗料またはエナメル
、 lblNo−}1,’一置換の2.2.46−テトラア
ルキルピペリジン化合物、および lclベンゾフエノン、ペンゾトリアゾール、アクリル
酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリールーS一トリア
ジンおよびオキサニリドから成る群から選ばれ穴紫外線
吸収剤を含有する安定叱された組成物に係わる。
ッド樹脂を基材にした酸触媒熱硬化塗料またはエナメル
、 lblNo−}1,’一置換の2.2.46−テトラア
ルキルピペリジン化合物、および lclベンゾフエノン、ペンゾトリアゾール、アクリル
酸誘導体、有機ニッケル化合物、アリールーS一トリア
ジンおよびオキサニリドから成る群から選ばれ穴紫外線
吸収剤を含有する安定叱された組成物に係わる。
エナメルまたは塗料が含有できる更に他の成分は抗酸化
剤であり、例えば立体障害フェノール誘導体、ホスフィ
ット、ホス7インもしくはホスホナイトのようなリン化
合物、可塑剤、均展助削、硬化触媒、増粘剤、分散剤ま
たは接着促進剤である。
剤であり、例えば立体障害フェノール誘導体、ホスフィ
ット、ホス7インもしくはホスホナイトのようなリン化
合物、可塑剤、均展助削、硬化触媒、増粘剤、分散剤ま
たは接着促進剤である。
他の好ましい本発明の実施態様は、追加成分(71)と
してホスフィットまたはホスホナイトを含有する上述の
或分1al.lblおよびIcl f含有する安定化さ
れた組成物である。
してホスフィットまたはホスホナイトを含有する上述の
或分1al.lblおよびIcl f含有する安定化さ
れた組成物である。
本組成物で使用されるホスフィットまたはホスホナイト
のtは、層(塗膜)を杉成するr対脂の″i敬に基づい
てα05ないし2重it蛎、好ましくはr1.1ないし
1重f4である。
のtは、層(塗膜)を杉成するr対脂の″i敬に基づい
てα05ないし2重it蛎、好ましくはr1.1ないし
1重f4である。
二回塗装系では、これらの安定剤は透明塗膜および/ま
たは下塗り層に晧加できる。
たは下塗り層に晧加できる。
典型的なホスフィットおよびホスホナイトハ、亜リン酸
トリフエニルエステル、亜リン酸ジフ工二ルアルキルエ
ステル、亜リン酸フエニルジアルキルエステル、亜リン
酸トリー(ノニルフ1ニル)エステル、亜リン酸トリラ
ウリルエステル、亜リン酸トリオクタデシルエステル、
亜リン酸ジーステアリルーベンタエリスリットールエス
テル、亜リン酸トリスー(2.4−ジ第三プチルフェニ
ル)エステル、シーイソデシルベンタエリスリトール
ジホスフィット、ジー(2.4−ジ第三プチルフエニル
)ペンタエリスリトール ジホスフィット、トリステア
リルーソルビトール トリホスフィット、テトラキス−
(2.4−ジ第三プチルフェニル) − 4. 4’−
ジフエニレンホスホナイ} ’4 t 含tr。
トリフエニルエステル、亜リン酸ジフ工二ルアルキルエ
ステル、亜リン酸フエニルジアルキルエステル、亜リン
酸トリー(ノニルフ1ニル)エステル、亜リン酸トリラ
ウリルエステル、亜リン酸トリオクタデシルエステル、
亜リン酸ジーステアリルーベンタエリスリットールエス
テル、亜リン酸トリスー(2.4−ジ第三プチルフェニ
ル)エステル、シーイソデシルベンタエリスリトール
ジホスフィット、ジー(2.4−ジ第三プチルフエニル
)ペンタエリスリトール ジホスフィット、トリステア
リルーソルビトール トリホスフィット、テトラキス−
(2.4−ジ第三プチルフェニル) − 4. 4’−
ジフエニレンホスホナイ} ’4 t 含tr。
酸触媒熱硬化エナメルは、末端使用の適用に受容して機
能できるように安だ化されていなければならない。使用
される安定剤は、ヒンダードアミン、好ましくは、硬化
における遅延が併存することになる、酸触媒C(より安
定化された塩基性アミンの沈#全阻止するためvcN一
原子上が不活性のブロック基により置換されでいるもの
であり、所望によりペンゾトリアゾール、ペンゾ7エノ
ン、ペンゾフェノン、置換S一トリアジニ/、フェニル
ペンゾエートまたはオキサニリドのような紫外線吸収剤
と組み合わされる〇この安定剤は、硬化したエナメルに
耐久性のより大きい保持全付与することを要求される(
20光沢、像の鮮明度、亀裂またはチョーキングにより
6川定されるように); この安定剤は硬化全遅延さしてはいけない(自動車仕七
げのための121℃における普通の焼付と82℃におけ
る低温焼付修理(硬度、接着暖、耐溶媒と耐湿性により
測定されるように):このエナメルは硬化において黄化
してはならず、更に光線への曝露における色の変化は最
小にされなければならない。
能できるように安だ化されていなければならない。使用
される安定剤は、ヒンダードアミン、好ましくは、硬化
における遅延が併存することになる、酸触媒C(より安
定化された塩基性アミンの沈#全阻止するためvcN一
原子上が不活性のブロック基により置換されでいるもの
であり、所望によりペンゾトリアゾール、ペンゾ7エノ
ン、ペンゾフェノン、置換S一トリアジニ/、フェニル
ペンゾエートまたはオキサニリドのような紫外線吸収剤
と組み合わされる〇この安定剤は、硬化したエナメルに
耐久性のより大きい保持全付与することを要求される(
20光沢、像の鮮明度、亀裂またはチョーキングにより
6川定されるように); この安定剤は硬化全遅延さしてはいけない(自動車仕七
げのための121℃における普通の焼付と82℃におけ
る低温焼付修理(硬度、接着暖、耐溶媒と耐湿性により
測定されるように):このエナメルは硬化において黄化
してはならず、更に光線への曝露における色の変化は最
小にされなければならない。
この安定剤は、メチルアミルケトン、キシレン、酢fR
n−ヘキシル、アルコール並ヒに同様のもののような塗
装に通常使用される有機溶媒に溶解しなければならない
: 置換された一〇一部分によりN−原子上が置換されてい
る本ヒンダードアミン元安定剤は、これらの要求を満−
fC+ノ、それ単独でまたは紫外線吸収剤と組み合わせ
て、硬化酸触媒熱硬化エナメルに対して顕著な光安定化
保護を提供する。
n−ヘキシル、アルコール並ヒに同様のもののような塗
装に通常使用される有機溶媒に溶解しなければならない
: 置換された一〇一部分によりN−原子上が置換されてい
る本ヒンダードアミン元安定剤は、これらの要求を満−
fC+ノ、それ単独でまたは紫外線吸収剤と組み合わせ
て、硬化酸触媒熱硬化エナメルに対して顕著な光安定化
保護を提供する。
(にもう一つの本安定剤の好ましい組み合わせは、ポリ
プロピレン繊維をガス褪色から保護するためのヒドロキ
シルアミンとの組み合わせである。
プロピレン繊維をガス褪色から保護するためのヒドロキ
シルアミンとの組み合わせである。
以下の実施例は、例示の目的だけに提供され7t4ので
あり、いかなる方法によるとしても本発明の性質と範囲
を限定するものと解釈されるべきではない。
あり、いかなる方法によるとしても本発明の性質と範囲
を限定するものと解釈されるべきではない。
実施例1
λ4, 6 − }リス(1−シクロヘキシルオキシー
2.2.6.6−テトラメチルピペリジン−4−イル1
−シクロヘキシルオキシ−4−ヒドロキシ− 2.2.
6.6−テトラメチルビペリジン3αo9((L117
mOl)、水素化ナトリウA2.8g(α117mol
) 、ジメチルスルホキシド数滴、および1.4−ジ
オキサン150−の混合物を2時間の間還流加熱し、そ
の後冷却せしめた。この混合物にジオキサン5〇一中の
7アヌル酸塩化物7. 2 9([LO59mol)の
溶液を15分かけて加えた。
2.2.6.6−テトラメチルピペリジン−4−イル1
−シクロヘキシルオキシ−4−ヒドロキシ− 2.2.
6.6−テトラメチルビペリジン3αo9((L117
mOl)、水素化ナトリウA2.8g(α117mol
) 、ジメチルスルホキシド数滴、および1.4−ジ
オキサン150−の混合物を2時間の間還流加熱し、そ
の後冷却せしめた。この混合物にジオキサン5〇一中の
7アヌル酸塩化物7. 2 9([LO59mol)の
溶液を15分かけて加えた。
塩形成が観察され、そして反応温度が添加のうちに20
℃ないし50℃上昇する。その後反応混合物を30分間
還流加熱しそして室温にて一晩中攪拌した。塩を濾過に
より除去し、そして塩ケーキを水中でスラリーとしそし
て、生成物より塩を除去するため、ソリッドを濾過した
。
℃ないし50℃上昇する。その後反応混合物を30分間
還流加熱しそして室温にて一晩中攪拌した。塩を濾過に
より除去し、そして塩ケーキを水中でスラリーとしそし
て、生成物より塩を除去するため、ソリッドを濾過した
。
粗生成物を沸騰メタノール中に溶解し、そして残りの塩
を濾過により取り除いた。別の生成物をジオキサン濾過
から回収した。粗製ソリッドを集めて、還流する2−プ
ロパノール中で加熱した。結果生じた懸濁液を冷却せし
め、そしてソリ′ツドを濾過により単離すると、標記化
合物19.4g(5911収率)を与えた。白色ソリッ
ドで、融点242 − 245℃(分解)である。
を濾過により取り除いた。別の生成物をジオキサン濾過
から回収した。粗製ソリッドを集めて、還流する2−プ
ロパノール中で加熱した。結果生じた懸濁液を冷却せし
め、そしてソリ′ツドを濾過により単離すると、標記化
合物19.4g(5911収率)を与えた。白色ソリッ
ドで、融点242 − 245℃(分解)である。
分析 C @H@4 N 6 (1 @について計算値
:C, 6115: }1. 1(L1: N.
iQ.0.実測1ii: C. 6a6: }i.
9.9: N. ICLO.実施例2 2,4.6−}リス(1−メトキシー2.乙へ6−テト
ラメチルピペリジン−4−イルオキシ) −1,4−ヒ
ドロキシ−1−メトキシ−2.2.6.6 −テトラメ
チルピペリジン、水素化ナトリウム、および1.4−ジ
オキサン溶媒中のシアヌル酸塩化物の反応により、標記
化合物を製造した。
:C, 6115: }1. 1(L1: N.
iQ.0.実測1ii: C. 6a6: }i.
9.9: N. ICLO.実施例2 2,4.6−}リス(1−メトキシー2.乙へ6−テト
ラメチルピペリジン−4−イルオキシ) −1,4−ヒ
ドロキシ−1−メトキシ−2.2.6.6 −テトラメ
チルピペリジン、水素化ナトリウム、および1.4−ジ
オキサン溶媒中のシアヌル酸塩化物の反応により、標記
化合物を製造した。
実施例3
2,4.6−}リス(1−オクチルオキシ−2.2.6
.6−テトラメチルピペリジン−4−イルオキ4−ヒド
ロキシ−1−オクチルオキシ−2.乙へ6−テトラメチ
ルピペリジン、水素化ナトリウム、および1.4−ジオ
キサン溶媒中のシアヌル酸塩化物の反応により、標記化
合#IJを製造した。
.6−テトラメチルピペリジン−4−イルオキ4−ヒド
ロキシ−1−オクチルオキシ−2.乙へ6−テトラメチ
ルピペリジン、水素化ナトリウム、および1.4−ジオ
キサン溶媒中のシアヌル酸塩化物の反応により、標記化
合#IJを製造した。
実施例4
N,N’−ジメチル−N,N’−ビス[244−ビス(
1−シクロヘキシルオキシー2.2.46−テトラメチ
ルピペリジン−4−イルオキシ) − 1,へ5−トリ
アジン−6−イル] − 1. 6−へキサ1−シクロ
ヘキシルオキシ−4−ヒドロキシ−2.2.6.6−テ
トラメチルビペリジン22.6g( 8a6 mmol
)、水素化ナトリウA2j3ク(8a6mmol)、
および1,4−ジオキサン150−の混合物′!!−2
.5時間の間還流加熱した。反応混合物全60℃に冷/
ffl Lそしてジオキサン5〇一中のN.N’−X)
)−f−ルーN,N’−ビス(λ4−ジクロロ1, 3
. 5 − }リアジン−6−イル) − 1. 6−
ヘキサンジアミン7. 8 g( 17.7m mol
)の溶液で処理した。反応混合物を氷で急冷した。上
澄み液をデカントし、ナして残渣を酢酸エチル(250
m/)中に溶解した。溶液を無水硫酸マグネシウム上で
乾燥しそしてガラス状になるまで濃縮した。溶離剤とし
て4:1ヘキサン:酢酸エチルを用いてシリカゲルの短
カラムの中に通して精製すると、標記化合物19−89
(85憾収率)、白色ガラスを与えた。
1−シクロヘキシルオキシー2.2.46−テトラメチ
ルピペリジン−4−イルオキシ) − 1,へ5−トリ
アジン−6−イル] − 1. 6−へキサ1−シクロ
ヘキシルオキシ−4−ヒドロキシ−2.2.6.6−テ
トラメチルビペリジン22.6g( 8a6 mmol
)、水素化ナトリウA2j3ク(8a6mmol)、
および1,4−ジオキサン150−の混合物′!!−2
.5時間の間還流加熱した。反応混合物全60℃に冷/
ffl Lそしてジオキサン5〇一中のN.N’−X)
)−f−ルーN,N’−ビス(λ4−ジクロロ1, 3
. 5 − }リアジン−6−イル) − 1. 6−
ヘキサンジアミン7. 8 g( 17.7m mol
)の溶液で処理した。反応混合物を氷で急冷した。上
澄み液をデカントし、ナして残渣を酢酸エチル(250
m/)中に溶解した。溶液を無水硫酸マグネシウム上で
乾燥しそしてガラス状になるまで濃縮した。溶離剤とし
て4:1ヘキサン:酢酸エチルを用いてシリカゲルの短
カラムの中に通して精製すると、標記化合物19−89
(85憾収率)、白色ガラスを与えた。
分析 Cフ4H13。N120Sについて計算碩:0.
67.5: }1. 1(10: N, 12.
8.実測[: C, 67.6: i{. 1(l3:
N. 12.4.実施例5 1.2−ビス((2.4−ビス(1−シクロヘキシルオ
キシ−2.2.6.6−テトラメチルビペリジン−4−
イルオキシ)−1,八5−トリアジン−6実施例4にお
けるN,N’−ジメチル−N.N’一ビス(2.4−ジ
クロロー1.45−トリアジンー6−イル) − 1.
6−ヘキサンジアミンにつき、1.2−ビス[(2.
4−ジクロロー1, & 5 − }リアジン−6−イ
ル)チオ」エタンに置き換えることにより、標記化合$
!lを製造した。
67.5: }1. 1(10: N, 12.
8.実測[: C, 67.6: i{. 1(l3:
N. 12.4.実施例5 1.2−ビス((2.4−ビス(1−シクロヘキシルオ
キシ−2.2.6.6−テトラメチルビペリジン−4−
イルオキシ)−1,八5−トリアジン−6実施例4にお
けるN,N’−ジメチル−N.N’一ビス(2.4−ジ
クロロー1.45−トリアジンー6−イル) − 1.
6−ヘキサンジアミンにつき、1.2−ビス[(2.
4−ジクロロー1, & 5 − }リアジン−6−イ
ル)チオ」エタンに置き換えることにより、標記化合$
!lを製造した。
要するに、本発明は、一連の新規ヒンダードーアミン置
換トリアジン誘導体全提供するものであると理解される
。特許請求の範囲により画定され食本発明の範囲から逸
脱することなく、割合、手法および材料について変形を
行なってよい。
換トリアジン誘導体全提供するものであると理解される
。特許請求の範囲により画定され食本発明の範囲から逸
脱することなく、割合、手法および材料について変形を
行なってよい。
実施例6
ハイソリッド熱硬化性アクリル樹脂エナメυのp−}ル
エンスルホン+”fl、シノニルナフタレンシスルホン
酸マたはドデシルベンゼンスルホ/酸の酸触媒を用い、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、プチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、スチレン訃よびアクリル酸
70重量手とメラミン樹月Fr30fi量曝からなるバ
インダーをペースとする熱硬化性アクリル酸エナメルを
、樹脂ソリッドに基いて2重f4のペンゾ} IJアゾ
ール紫外線吸収剤および安定化有効量の試峡ヒンダード
アミン光安定剤が含まれるように配合した。
エンスルホン+”fl、シノニルナフタレンシスルホン
酸マたはドデシルベンゼンスルホ/酸の酸触媒を用い、
2−ヒドロキシエチルアクリレート、プチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、スチレン訃よびアクリル酸
70重量手とメラミン樹月Fr30fi量曝からなるバ
インダーをペースとする熱硬化性アクリル酸エナメルを
、樹脂ソリッドに基いて2重f4のペンゾ} IJアゾ
ール紫外線吸収剤および安定化有効量の試峡ヒンダード
アミン光安定剤が含まれるように配合した。
市販で入手できるエボキシ下塗りの4#X12#( I
n.16mx 3o.af3m )パネrv ( Ad
vancedCoat ings Technolog
yよりの一層下塗り)に、銀メタリック下塗りを約(L
8mil([LO23*)の厚さに噴霧被覆しそして3
分間空気乾燥させた。
n.16mx 3o.af3m )パネrv ( Ad
vancedCoat ings Technolog
yよりの一層下塗り)に、銀メタリック下塗りを約(L
8mil([LO23*)の厚さに噴霧被覆しそして3
分間空気乾燥させた。
その後安定化された熱硬化性アクリル樹脂エナメルを下
塗りされた該パネル上に約1.7mil(α0494j
) の厚さに噴霧し念。15分間の空気乾燥の後、被
覆されたシートを250°F’(121℃)で30分間
焼付けた。
塗りされた該パネル上に約1.7mil(α0494j
) の厚さに噴霧し念。15分間の空気乾燥の後、被
覆されたシートを250°F’(121℃)で30分間
焼付けた。
′g!満室中での1週間の貯蔵の後、被覆パネルkQU
Vuli装置中テ試験方iASTM G−53177に
従って[lliiXLた。この試験において、湿濶雰囲
気中50℃で4時間そしてその後紫外光線下70℃で8
時間というサイクルの繰返して試料を曝露した。パネル
金QUV中で1500時間曝露した。試料の20°光沢
度t−曝露の前後で測定し念O 安定化パネルの光沢損失は未安定化の対照パネルのそれ
より相当に小さいものであった。
Vuli装置中テ試験方iASTM G−53177に
従って[lliiXLた。この試験において、湿濶雰囲
気中50℃で4時間そしてその後紫外光線下70℃で8
時間というサイクルの繰返して試料を曝露した。パネル
金QUV中で1500時間曝露した。試料の20°光沢
度t−曝露の前後で測定し念O 安定化パネルの光沢損失は未安定化の対照パネルのそれ
より相当に小さいものであった。
実施例7
ポリプロピレンの光安定化
この実施例は本安定剤の光安定化有効性を示すものであ
る。
る。
n−才クタデシル45−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシ
ヒドロシンナメートα2重量幅で安定化されたポリプロ
ピレン粉末(}iimont Profax6501)
f:所定量の添加剤と十分に混和した。
ヒドロシンナメートα2重量幅で安定化されたポリプロ
ピレン粉末(}iimont Profax6501)
f:所定量の添加剤と十分に混和した。
その後ブレンド材料を二本ロールミル上で182℃にて
5分間混練し、その後安定化ポリプロピレンをミルより
シート成形しそして冷却せしめた。その後混練ポリプロ
ピレンを一片ずつに切断しそして油圧プレス上で250
℃,175psi( 1.2X1 0’ Pa )にて
圧縮成形して5mil(α127a)フィルムとした。
5分間混練し、その後安定化ポリプロピレンをミルより
シート成形しそして冷却せしめた。その後混練ポリプロ
ピレンを一片ずつに切断しそして油圧プレス上で250
℃,175psi( 1.2X1 0’ Pa )にて
圧縮成形して5mil(α127a)フィルムとした。
試料を螢光/暗光チャンバ中で破壊するまでII!露し
た。破壊は、曝露フィルムについて赤外線分光分析によ
るα5カルボニル吸光度に達するのに要する時間で以て
取り扱った。
た。破壊は、曝露フィルムについて赤外線分光分析によ
るα5カルボニル吸光度に達するのに要する時間で以て
取り扱った。
本発明化合物を安定剤として含有するポリプロピレン組
成物についての破壊までの時間は、かかる安定剤が存在
しないポリプロピレンについての破壊までの時間よりも
格段に長いものであった。
成物についての破壊までの時間は、かかる安定剤が存在
しないポリプロピレンについての破壊までの時間よりも
格段に長いものであった。
Claims (16)
- (1)次式 I 、IIまたはIII ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Tは▲数式、化学式、表等があります▼を表わ
し、 Rは水素原子またはメチル基を表わし、 R^1は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原
子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数2ないし
18のアルキニル基、炭素原子数5ないし12のシクロ
アルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルケニ
ル基、炭素原子数6ないし10のビシクロアルキル基、
炭素原子数6ないし10のアリール基、炭素原子数7な
いし12のアルアルキル基または炭素原子数1ないし1
2のアルキル基もしくは炭素原子数6ないし10のアリ
ール基により置換された炭素原子数7ないし12のアル
アルキル基を表わし、 R^2は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基または ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 Yは直接結合また▲数式、化学式、表等があります▼を
表 わし、 m、pおよびqは独立して2ないし6を表 わし、 Aは酸素原子、硫黄原子または−N(R^2)−を表わ
し、 nは2ないし4を表わし、そして R^3はn価アルカンまたはアリール基を表わす。)で
表わされる化合物。 - (2)式中、R^1は炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基、炭素原子数5ないし6のシクロアルキル基、フェ
ニル基、ナフチル基、トリル基、ベンジル基、α−メチ
ルベンジル基またはα,α−ジメチルベンジル基を表わ
す請求項1記載の化合物。 - (3)式中、R^1はメチル基、ヘプチル基、オクチル
基またはシクロヘキシル基を表わす請求項2記載の化合
物。 - (4)式中、R^1はメチル基、ヘプチル基、オクチル
基またはシクロヘキシル基を表わす請求項1記載の式
I で表わされる化合物。 - (5)式中、Yは直接結合を表わしそしてmおよびpは
2、3または6を表わす請求項1記載の式IIで表わされ
る化合物。 - (6)式中、Yは置換トリアジン基を表わしそしてm、
pおよびqは2、3または6を表わす請求項1記載の式
IIで表わされる化合物。 - (7)式中、nは2を表わしそしてR^3は炭素原子数
1ないし12のアルキレン基、炭素原子数2ないし6の
アルキリデン基、炭素原子数5ないし10のシクロアル
キレン基、炭素原子数6ないし10のアリーレン基また
は炭素原子数8ないし10のアルキレンアリーレンアル
キレン基を表わす請求項1記載の式IIIで表わされる化
合物。 - (8)式中、Aは酸素原子を表わしそしてR^3はp−
フェニレン基を表わす請求項7記載の化合物。 - (9)式中、Aは−NH−を表わしそしてR^3はエチ
レン基またはヘキサメチレン基を表わす請求項7記載の
化合物。 - (10)式中、nは3を表わしそしてR^3は炭素原子
数3ないし6のアルカントリイル基または炭素原子数6
ないし10のアリール−トリイル基を表わす請求項1記
載の式IIIで表わされる化合物。 - (11)式中、nは4を表わしそしてR^3は炭素原子
数4ないし6のアルカンテトライル基または炭素原子数
6ないし10のアリール−テトライル基を表わす請求項
1記載の式IIIで表わされる化合物。 - (12)安定化有効量の請求項1記載の化合物で安定化
された、酸化的、熱的または化学線崩壊を受ける有機材
料より成る組成物。 - (13)有機材料は合成ポリマーである請求項12記載
の組成物。 - (14)合成ポリマーはポリオレフィンホモポリマーま
たはコポリマーである請求項13記載の組成物。 - (15)前記有機材料はアルキド樹脂、アクリル樹脂、
アクリルアルキド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹
脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル樹脂または
エポキシ−ポリエステル樹脂をベースとする塗料系であ
る請求項12記載の組成物。 - (16)紫外線吸収剤または別の光安定剤を含む請求項
15記載の組成物。
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