JPS5984945A - 安定化耐衝撃性ポリスチレン - Google Patents

安定化耐衝撃性ポリスチレン

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JPS5984945A
JPS5984945A JP18297583A JP18297583A JPS5984945A JP S5984945 A JPS5984945 A JP S5984945A JP 18297583 A JP18297583 A JP 18297583A JP 18297583 A JP18297583 A JP 18297583A JP S5984945 A JPS5984945 A JP S5984945A
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JP
Japan
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tert
butyl
bis
hydroxy
methyl
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Pending
Application number
JP18297583A
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English (en)
Inventor
ウイリアム・ジエ−・ライド
ジエイ・ア−ル・ガイブ
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/36Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/37Thiols
    • C08K5/378Thiols containing heterocyclic rings

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 種々の耐衝撃性ポリスチレンのタイプが当業者に公知で
ある。耐衝撃性、靭性及び脆化傾向を改善する為に、ポ
リスチレンに、しばしばゴム、特にポリブタジェンを配
合する。この目的ノ為には、ゴムをポリスチレン母材中
に個々の粒子の形で分散させる。従来のほとんどの耐衝
撃性ポリスチレンはグラフトコポリマーまたは成分(ポ
リブレンド)の物理的混合物である。
そのような変性ポリスチレンの製法は公知である。耐衝
撃性ポリスチレンは、例えば硬いこと、容易に製造しう
ろこと、化学薬品に耐する安定した耐性、並びに種々の
免訴及び色に染め易いことなどのポリスチレンにとって
よく知られている多くの利点をもっている。耐衝撃性ポ
リスチレンは従来池々の用途に使用されている。例えば
装置の構築、ケース、包装材料、玩其、家庭用品、工業
部品、装飾用壁クロスなどである。
耐衝撃性ポリスチレンについて訪[イ々の刊行物が知ら
れており1例えばBoundy及びBoyer lli
”F、!スチレンーそのポリマー、コポリマー及び誘導
体p Re1chold出版社、ニューヨーク中に見ら
れる。
it衝撃性スチレンは、酸化及び熱により分解し、着色
する傾向があるので、この安定化の為に多数の抗酸化剤
及び光安定剤が捉案されている。
公知の化合物、例えばチアジンまだはプロピオン酸誘導
体が、耐衝撃性ポリスチレンの安定化に適している。
然し乍ら、ムロにより引き起される分解の防止に関して
は、完全に満足しつるものはまだ見出されて卦らず %
に熱変形については欠点がある。
本発明の目的は、従って、耐種1撃性ポリスチレンの為
の安定剤系を発見することである。
耐衝撃性ポリスチレンの為に、2,4−ビス−(n−オ
クチルチオ) −6−(4’−ヒドロキシ−51,5/
−ジー第三ブチルアニリノ)−1゜5.5−)リアジン
及びトリーエチレングリコール−ビス−(3−メチル−
5−第三ブチルフェニル)−プロピオネートからなる安
定剤系が非常に良好に適することが見出された。
驚くべきことに、この安定剤系は、保睦すべき暴利に対
し、各成分単独では、特に熱によりひき起される分解に
対して満足でなかったところの高い剛酸化または耐熱分
解性を与える。本発明により得られる相剰作用の外に、
この安定剤系は、とりわけ耐TERM性ポリスチレンの
加工の為には決定的に重要である高い色彩品質を示す。
2.4−ビス=(n−オクチルチオ)−6−(71′−
ヒドロキシ−sl、 sl−ジー第三ブチルアニリ/ 
) −1,3,5−トリアジンは公知化合物であり、例
えば米国特許第3,255,191号及び第3.334
,046号明細書中に記載さね、ている。
トリエチレングリコール−ビス−(3−メチル−5−第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート
も公知であり、例えば米国特許第3,944,594号
明細岩中に開示されている。
前記のような特性を達成する為には、)・リアジンを好
ましくは001乃至0.04重量係の濃度で、そしてフ
ロビオネートを0.02乃至008重a%の濃度で添加
する。特に好捷しい範囲はトリアジン0.0125乃至
0.0.575重量受と、プロピオネ−)0.0375
乃至0.075重如飴である。
本発明の安定剤系は、あらゆる種類の耐衝撃性ポリスチ
レン、及び変性ポリスチレン、例えばSDRとして知ら
れているものにも適している。
この安定剤系は公知の方法で而1 qfj IJq(性
ポリスチレンに添加することができる。まだ重合前に混
合することもできる。重合後にこれを添加する場合は、
公知の方法で溶媒、例えば塩化メチレン、ヘキサン、シ
クロヘキサンなどと混合し、その後、溶媒を蒸発させる
ことができる。
更に補助添加剤をも加えることができる。補助添加剤と
1〜ては下記のものを」二げることができる。
1、 酸化防止剤 1.1  アルキル化された1価フェノール2.6−ジ
ー第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三プチル
−4,6−シメチルフエノール、2.6−ジー第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2,6−ジー第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2,6−ジー第三ブチル−
4−イソブチルフェノール、2゜6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノール、2  (α−メチルシクロ
ヘキシル)−4,6−シメチルフエノール、2.6−ジ
−オクタデシル−4−メチルフェノール、2゜4.6−
ドリーシクロヘキジルフエノール、2.6−ジー第三ブ
チル−4−メトキシメチルフェノール、2.6−ジフェ
ニル−4−オクタデシルオキシフェノール。
1.2.  アルキル化されたヒドロキノン2.6−ジ
ー第三ブチル−4−メトキシフェノール、2.5−ジー
第三ブチル−ヒドロキノン、2,5−ジー第三アミル−
ヒドロキノンまたは2.6−ジー第三ブチル−4−メト
キシメチルフェノール。
1.5  ヒドロキシル化されたチオジフェニールエー
テル 2.2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、2.2′−チオ−ビス−(4−オクチル
フェノール)、4,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチ
ル−3−メチルフェノール)または4,4′−チオ−ビ
ス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)。
1.4.  アルキリデン−ビスフェノール2.2′−
メチレン−ビス−(6−第三ブチルー4−メチルフェノ
ール)、2,2′−メチv y −ヒス−(6−第三フ
チルー4−エチルフェノール)、2,2′−メチレン−
ビス−〔4−メチ1b−6(α−メチルシクロヘギシル
)−フェノール〕、2.27−メチレン−ビス−(4−
メチル−6−シクロヘキジルフエノール)、2,2′−
メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチルフェノール
)、2.2’−メチレン−ビス−(4,6−ジー第三ブ
チルフェノール)、2.2’−エチリテンービス−4,
6−ジー第三ブチルフェノール、2.2’−エチリデン
−ビス−(6−第三ブチル−4−インブチルフェノール
)、2,2′−メチレン−ビス−〔6−(α−メチルベ
ンジル)−4−ノニルフェノール〕、2.2′−メチレ
ン−ビス−[−(α、α−ジメチルベンジル)−4−ノ
ニルフェノール〕、2.2′−メチレン−ビス−(2,
6−ジー第三ブチルフェノール)、4.4′−メチレン
−ビス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、
1.1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェニル)−ブタン、2.6−ジー(6−第三
ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−1−
メチルフェノール、1、1.5−)リス−(5−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ブタン
、1.1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)−ろ−〇−ドデシルメルカプトブ
タン、エチレングリコールビス−〔3,3−ビス−(3
′−第三ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)−ブチレ
ート〕、ジー(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)−シシクロベンタジエンオたはジーC
2−(3’−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5’−)
エチル−ベンジル)6mmジブチル−4−メチルーフエ
ニル〕テレフタレート 1.5.  ベンジル化合物 1、3.5− トリー(5,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼ
ン、ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)スルフィド、インオクチル5,5−ジー第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート
、ビス−(4−第三プチル−5−ヒドロキシ−2,6−
シメチルベンジル)−ジチオールテレフタレート、1,
3.5−トリス−(6,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)インシアヌレート、1,3.5−hリ
ス−(4−J!三ズブチル6−ヒドロキシ−2,6−シ
メチルベンジル)イソシアヌレート、ジオクタデシル3
,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル−ホス
ホネート捷だはモノエチル6.5−ジー第3ブチル−4
−ヒドロキシベンジル−ホスホネートのカルシウム塩。
1.6.  アシルアミノフェノール 4−ヒドロキシ−ラウリル酸アニリド、4−ヒドロキシ
−ステアリン酸アニリド2.4−ビス−オクチルメルカ
プト−/、−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シアニリノ)−8−トリアジン捷たはN−(3,5−ジ
ー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−力ルバミン
酸オクチルニスフル。
17 β−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオン酸の1価またハ多価アルコール、
例えばツクノール、オクタデカノール、1.6−へオサ
ン・ジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ペンタエリスリトール、トリスーヒドロキシ
エチルイソシアヌレートまたはジヒドロキシエチルオキ
ザルアミドとのエステル。
1、 a  β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
3−メチルフェニル)プロピオン酸の1価才たは多価ア
ルコール、例えばメタノール、オクタデカノール、1.
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルインシアヌレート捷だはジヒドロキシエ
チルオキサルアミドとのエステル。
1.9  β−(3,5−ジー第3ブチ/l/−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオン酸の、例えばN 、 N
’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロビオニル)へキサメチレンジアミン、N、N
’−ジー(3,5−ジー第6ブチルー4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン壕だはN。
N′−ジー(6,5−ジー第6プチルー4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヒドラジンアミド。
2、 紫外線吸収剤および光安定剤 2、1. 2− + 2’−ヒドロキシフェニル)−ベ
ンズトリアゾールの例えば5′−メチル、 5/、 5
/−ジー第三ブチル〜、5′−第三ブチル−15′−(
1,+、3.s−テトラメチルブチル)−15−クロロ
−5/ 、 5/−ジー第5ブチル−15−クロロ−6
′−第6ブチル−5′−メチル−16′−第2ブチル−
5′−第5ブチル−14′〜オクトキシ−16′、5−
ジー第3アミル−1j′。
グージー(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−お
よびs/、 s/−ジービス(α、(ど−ジメチルベン
ジル)−の誘導体。
2.2.2−ヒドロキシベンゾフェノンの、例えば4−
ヒドロキシ−14−メトキシ−14−オクトキシ−14
−デシルオキシ−14−ドデシルオキシ−14−ベンジ
ルオキシ−14゜2’、 4’ −)リヒドロキシーお
よヒ2′−ヒドロキシー4.4′−ジメトキ/−誘導体
2.3  置換および非置換安息香酸エステル、例えば
4−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリ
チレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイ
ルレゾルシノール、ビヌー(4−第三ブチルベンゾイル
)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2゜
4−ジー第三ブチル−フェニル3.5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシベンゾエート、およびヘキサデシル−
6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート
24 アクリレート、例えばエチルα−シアノ−β、β
−ジンエニルーアクリレート、イソオクチルα−シアノ
−β、β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボ
メトキシ−シンナメート、メチルα−シアノルβ−メチ
ル−p−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シアノ−
β−メチル−p−メトキシ−シンナメート、メチルα−
カルボメトキシ−p−メトキシ−シンナメートおよびN
−(β−カルボメトキシ−・β−シアノビニル)−2−
メチル−インドリン。
25、  ニッケル化合物、例えば2,2′−チオ−ビ
ス−1’4  (1,1,3,、!l−テトラメチルブ
チル)フェノール〕の、n−ブチルアミン、トリエタノ
ールアミンまたはN−シクロヘキシル−ジェタノールア
ミンのような他の配位子を含むまたは含まない1:1錯
体または1:2錯体などのニッケル錯体、ニッケルジプ
チルジチオ−カルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−
ジー第三ブチル−ベンジル−ホスホン酸のモノアルキル
エステル例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル
塩、ケトキシムのニッケル錯体例えば2−ヒドロキシ−
4−メチル−フェニルウンデシルケトンオキシムのニッ
ケル錯体および他の配位子を含むマタtri、 含まな
い、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−
ピラゾールのニッケル錯体。
2.6.  立体障害アミン、例えばビス−(2,2゜
6.6−チトラメチルビベリジル)セバケート、ビス−
(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)セバ
ケート、ビス−(1,2,2゜6.6−ペンタメチルピ
ペリジル)n−ブチル−5,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル−マロネート、1−ヒドロキシエチ
ル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピ
ペリジンとコノ・り酸との縮合生成物およびN、ト’−
(2,2,6,6−テトラノチルピペリジル)−へキサ
メチレンジアミンおよび4−第三オクチルアミノ−2,
6−ジクロロ−1,3,5−s−h IJアジンとの縮
合生成物、トリス−(2,2,6,6−チトラメチルピ
ベリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス−(2
,2,6,6−チトラメチルビペリジル)−4,2,3
,4−ブタンテトラカルボン酸、1゜1’−(1,2−
エタンジイル)−ビス−(3゜3、5.5−テトラメチ
ル−ピペラジノン)。
2、Z シュウ酸ジアミド、例えば4,4′−ジ−オク
チルオキシ−オキサニリド、2.2’−ジ−オクチルオ
キシ−5,5′−ジー第三ブチルーオキザニリド、2.
2’−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジー第三ブチル
−オキサニリド、2−エトキシ−27−ニチルーオキサ
ニリド、N、N’−ヒス−(3−ジメチルアミンプロピ
ル)−オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三プチル
−2′−エチル−オキサニリドおよびこれと2−エトキ
シ−2′−エチル−5,4′−ジー第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシm=
置換オキサニリドの混合物および0−およびp−工l・
キシー二置換オキサニリドの混合物。
3、 金属不活性化剤、例えばN、N’−ジノエニルシ
ュウ酸ジアミド、N−サリチラルーN/−サリチロイル
ヒドラジン、N、N’−ビス−サリチロイルヒドラジン
、N、N’−ビス−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)−ヒト!ラジン、6−
ザリチロイルアミノー1.2.4−)リアゾールおよび
ビス−ベンジリデン−シュウ酸ジヒドラジド。
4、 ホスフィツトおよびホスホナイト、例えばトリフ
ェニルホスフィツト、ジフェニルアルキルホスフィツト
、フェニルジアルキルホスンイット、トリ(ノニルフェ
ニル)ボスフィツト、トリラウリルホスフィツト、トリ
オフタテシルホスフィツト、ジステアリルーペンタエリ
トリトールジポスフィット、トリス−(2,49fl’
、三ブチルフェニル)ボスフィツト、ジイソデシルーペ
ンタエ+1 )リトールジホスフィット、ジー(2,4
−ジー第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、トリステアリルーンルビトールトリホス
フィットおよびテトラキス−(2゜4−シに3.三ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフエニレンジホスホナイト
5、過酸化物分解化合物、例えばβ−チオ−ジプロピオ
ン酸のエステル、例としてはラウリル、ステアリル、ミ
リスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾールの亜
鉛塩、ジブチルジチオカルバミド酸亜鉛、ジオクタデシ
ルジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキス
−(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
6 ポリアミド安定剤、例えば沃化物および/または燐
化合物と共に用いる銅塩および2価マンガンの塩。
Z 塩基性補助安定剤、例えばメラミン、ポリビニルピ
ロリドン、ジシアンジアミド、トリ  1アリルシアヌ
レート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリ
アミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩お
よびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウ
ド、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、リ
シノール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、ピ
ロカテコールアンチモンまたはピロカテコール錫。
a 造核剤、例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン
酸およびジフェニル酢酸。
9 充填剤および補強剤、例えば炭酸カルシウム、珪酸
塩、ガラス繊維、石綿、タルク、カオリン、雲母、硫酸
バリウム、金属酸化物および金属水酸化物、カーボンブ
ラックおよび魚船。
10、他の添化削、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔
料、螢光増白剤、消炎剤、静電防止剤および発泡剤。
下記の実施例は本発明を説明する。
実施例 スチレンモノマー中ポリブタジェン(Fires−to
ve  DIENE■55)8重量%溶液をロールミル
中にて製糸する。下記例中に示す安定剤を同時に加える
。重合後、ステアリン酸亜鉛500 ppmをこれに加
える。反応容器を121℃に半時間加温し、掘、拌し乍
ら更にモノマーの約30乃至35%が反応するまで(〜
2t/2h)この温度に保持する。この場合、攪拌速度
を、粒子の大きさが2乃至4μmになるように調節する
。その後、サンドバス中100℃の温度で重合を完了さ
せる。
約1時間後、温度を1時間以内に140℃まで上げ、そ
の後8時間の間に220℃捷で上昇させる。
このようにして得たポリマー塊を公知の方法ですべての
液状成分から分離し、粉砕、造粒、押し出しく2051
成型した後205℃でプレートにプレスする。空気流通
オーブン中で、試料を150℃で老化させる。別の試料
を80℃で老化させる。その後、分解の測定として、A
STM D1925−63Tによる黄色指数(Yell
owness I −ndex)を測定する。更に、A
STM D638により5 mm/m i nの張力に
よる伸びを測定する。結果を第1表乃至第4表に記載す
る。この場合、1記の安定剤を防用した。
安定All A、 : h Uエチレンクリコール−ビ
ス−(ろ−メチルー5−第三ブチルー4 −ヒドロキシフコニニル)−プロピオネート 安定剤B:2.6−ピスー(オクチルチオ)−6 − 
( 4’−ヒドロキシ−51. 5/−ジ−第三ブチル
アニリノ)−1,ろ、5− トリアジン 第1表 第  2  表 第  4  表 これらの価から、本発明により得られる酸化訪止削組成
物は耐衝撃性ポリスチレンに対[〜て非常に高い効果を
示すことが明らかである。
堝゛許出願人 チバーガイギー (eよ1JSj名〕

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (112,4・−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(
    4′−ヒドロキシ−sJ、 5′−ジー第三ブチルアニ
    リノ)−1,3,5−)リアジン及びトリエチレングリ
    コール−ビス−(3−メチル−5−第三ブチルフェニル
    )−プロピオネートからなる安定剤系を含有する、耐衝
    撃性ポリスチレン。
JP18297583A 1982-09-30 1983-09-30 安定化耐衝撃性ポリスチレン Pending JPS5984945A (ja)

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US43064582A 1982-09-30 1982-09-30
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