JP2923681B2 - ３―フェニルベンゾフラン―２―オン類 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、新規な３−フェニルベンゾフラン−２−オ
ン類、これを用いることにより熱的、酸化的および化学
線崩壊に対して安定化された合成ポリマー、そして合成
ポリマーを安定化するためのこれら化合物の使用法に関
する。

（従来の技術） いくつかのベンゾフラン−２−オンの有機ポリマー用
安定剤としての使用は、GB−A2,042,562またはBE−A88
1,496そしてまたDerwent Abstracts 86−207 397/32お
よび86−214 695/33並びにResearch Disclosure228,288
88（1988）より知られている。いくつかのベンゾフラン
−２−オンのカラー写真における使用はUST904,003に記
載されている。

（課題を解決するための手段、発明の効果） 本発明は、 ［式中、R₁は炭素原子数13ないし30のアルキル基を表わ
し、R₂は水素原子、炭素原子数１ないし10のアルキル
基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原
子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子
数５ないし７のシクロアルキル基を表わすか、またはフ
ェニル基もしくは炭素原子数７ないし12のフェニルアル
キル基を表わし、R₃は水素原子または炭素原子数１ない
し４のアルキル基を表わしそしてＺはフェニル基、炭素
原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１ないし４
のアルコキシ基もしくは塩素原子により置換されたフェ
ニル基、基 （式中、ｎは１または２を表わす。）または基 （式中、基Ａは互いに独立して炭素原子数１ないし８の
アルキル基、メトキシ基またはエトキシ基を表わす。）
を表わす。］で表わされる化合物に関する。

炭素原子数13ないし30のアルキル基、好ましくは炭素
原子数13ないし20のアルキル基としてR₁の例は、トリデ
シル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシ
ル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基
およびアイコシル基を表わす。好ましくは、１−位にお
いて枝分れしているこの種のアルキル基、とりわけ、１
−（炭素原子数12ないし16アルキル）エチル基、例えば
１−ドデシルエチル基、１−トリデシルエチル基、１−
テトラデシルエチル基、１−ペンタデシルエチル基およ
び１−ヘキサデシルエチル基である。１−ドデシルエチ
ル基および１−ヘキサデシルエチル基が特に好ましい。

炭素原子数１ないし10のアルキル基としてのR₂の例
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基およびデシル基である。R₂は好ましくは炭素原子数１
ないし４のアルキル基、特にメチル基および第三ブチル
基である。

炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基としてのR₂
の例は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シク
ロデシル基、シクロウンデシル基またはシクロドデシル
基である。またR₂は好ましくは炭素原子数５ないし７の
シクロアルキル基、とりわけシクロヘキシル基を表わ
す。

炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された
炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基としてのR₂の
例は、メチルシクロヘキシル基および第三ブチルシクロ
ヘキシル基を表わす。

炭素原子数７ないし12のフェニルアルキル基としての
R₂の例は、ベンジル基および２−フェニルエチル基であ
る。

炭素原子数１ないし４のアルキル基としてのR₃の例
は、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基を
表わす。R₃は好ましくはメチル基を表わす。

置換フェニル基としてのＺの例は、ｏ−,m−またはｐ
−メチルフェニル基、ｏ−,m−またはｐ−エチルフェニ
ル基、ｏ−,m−またはｐ−ブチルフェニル基、ｏ−,m−
またはｐ−メトキシフェニル基、ｏ−,m−またはｐ−エ
トキシフェニル基、ｏ−,m−またはｐ−クロロフェニル
基および2,4,6−トリメチル−５−ヒドロキシフェニル
基である。

Ｚは好ましくはフェニル基を表わす。

R₁が炭素原子数13ないし20のアルキル基を表わしかつＺ
はフェニル基を表わすところの式Ｉの化合物が好まし
い。

また、R₁が炭素原子数14ないし18のアルキル基を表わ
すところの式Ｉの化合物が好ましい。

また、R₂が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、シクロヘキシル基、フェニル基またはベンジル基
を表わすところの式Ｉの化合物が好ましい。

また、R₂が水素原子または炭素原子数１ないし４のア
ルキル基を表わすところの式Ｉの化合物が好ましい。

R₃は水素原子またはメチル基を表わすのが特に好まし
い。

R₁は炭素原子数14ないし18のアルキル基を表わしそし
てR₂およびR₃は互いに独立して水素原子または炭素原子
数１ないし４のアルキル基を表わすところの式Ｉの化合
物は、特に興味のあるものである。

以下のものは、式Ｉの化合物のうちの好ましい例であ
る。

３−フェニル−５−メチル−７−（１′−ドデシルエ
チル）−ベンゾフラン−２−オンは特に好ましい式Ｉの
化合物である。

式Ｉの化合物は、熱、酸化または化学線崩壊に対して
合成ポリマーを安定化するのに適する。

以下のものは、この種の材料の例である。

1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例え
ばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペ
ンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架
橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレ
ン（HDPE）、低密度ポリエチレン（LDPE）および線状低
密度ポリエチレン（LLDPE）。

2.1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレ
ンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポ
リエチレンとの混合物（例えばPP/HDPE,PP/LDPE）およ
びポリエチレンの異なるタイプの混合物（例えばLDPE/H
DPE）。

3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニル
モノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレン
コポリマー、線状低密度ポリエチレン（LLDPE）および
その低密度ポリエチレン（LDPE）との混合物、プロピレ
ン／ブテン−１、エチレン／ヘキセン、エチレン／メチ
ルペンテン、エチレン／ヘプテン、エチレン／オクテ
ン、プロピレン／イソブチレン、エチレン／ブテン−
１、プロピレン／ブタジエン、イソブチレン／イソプレ
ン、エチレン／アルキルアクリレート、エチレン／アル
キルメタクリレート、エチレン／ビニルアセテートまた
はエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類
（アイオノマー）、およびエチレンとプロピレンとジエ
ン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエ
チリデン−ノルボルネンとのターポリマー；並びに前記
コポリマーおよびそれらの混合物と1.に記載したポリマ
ーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロ
ピレン−コポリマー、LDPE/エチレン−酢酸ビニル−コ
ポリマー、LDPE/エチレン−アクリル酸−コポリマー、L
LDPE/エチレン−酢酸ビニル−コポリマーおよびLLDPE/
エチレン−アクリル酸−コポリマー。

3a.α−オレフィンと一酸化炭素のランダム共重合体ま
たは交互共重合体。

3b.炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）およ
びそれらの水素化変性物（例えば粘着付与剤。

4.ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ
−（α−メチルスチレン）。

5.スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはア
クリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジ
エン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキ
ルメタクリレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレ
ン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ア
クリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリ
マーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエン
ポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリ
マーからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロッ
クコポリマー例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、
スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン−エチレン
／ブチレン−スチレンまたはスチレン−エチレン／プロ
ピレン−スチレン。

6.スチレンまたはαメチルスチレンのグラフトコポリマ
ー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン
−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリルに
スチレン；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニ
トリル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジエ
ンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレインイミ
ド；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよ
び無水マレイン酸またはマイレンイミド；ポリブタジエ
ンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタアク
リレート、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルア
クリレートまたはメタアクリレート、エチレン／プロピ
レン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートに
スチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタ
ジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、
並びにこれらと5.に列挙したコポリマーとの混合物、例
えばABS−,MBS−,ASA−またはAES−ポリマーとして知ら
れているコポリマー混合物。

7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、煙
素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレン、
エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロゲン
含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ
化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビ
ニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは
塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。

8.α，β−不飽和酸およびその誘導体から誘導されたポ
リマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアクリ
レート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリ
ル。

9.前項8.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モノ
マーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジ
エン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、アク
リロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたは
アクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたは
アクリロニトリル／アルキルメタアクリレート／ブタジ
エンターポリマー。

10.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリ
ルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びにそれら
と上記1.に記載したオレフィンとのコポリマー。

11.環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。

12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよび
エチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメ
チレン；熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリアセタ
ール、アクリレートまたはMBS。

13.ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びにポ
リフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリアミド
との混合物。

14.一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘
導されたポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソシ
アネート、ポリオールまたはブレポリマー）。

15.ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノ
カルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリ
アミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリ
アミド６、ポリアミド6/6,6/10,6/9,6/12および4/6、ポ
リアミド11、ポリアミド12、ｍ−キシレンジアミンおよ
びアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリアミ
ド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸または
／およびテレフタル酸および所望により変性剤としての
エラストマーから製造されるポリアミド、例えばポリ2,
4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまた
はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド。さらに、前
記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマ
ー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトし
たエラストマーとの別のコポリマー；またはこれらとポ
リエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコール
とのコポリマー。EPDMまたはABSで変性させたポリアミ
ドまたはコポリアミド。加工の間に縮合させたポリアミ
ド（RIM−ポリアミド系）。

16.ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。

17.ジカルボン酸およびジオールおよび／またはヒドロ
キシカルボン酸または相当するラクトンから誘導された
ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポ
リブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロール
−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキシ
ベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポリエ
ーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステ
ル；およびポリカーボネートまたはMBSで変性させたポ
リエステル。

18.ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネー
ト。

19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン。

20.一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分とし
てフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架橋
ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、
尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムア
ルデヒド樹脂。

21.乾性および不乾性アルキド樹脂。

22.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールお
よび架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルか
ら誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低
いそれらのハロゲン含有変性物。

23.置換アクリル酸エステル、架橋性の例えばエポキシ
アクリレート、ウレタン−アクリレートまたはポリエス
テル−アクリレートから誘導された熱硬化性アクリル樹
脂。

24.メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまた
はエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステ
ル樹脂またはアクリレート樹脂。

25.ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

26.天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼラ
チンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘導
体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースお
よび酪酸セルロースまたはセルロースエーテル、例えば
メチルセルロース；ロジンおよびそれらの誘導体。

27.前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例え
ばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMまたはABS,PVC/EVA,PVC/AB
S,PVC/MBS,PC/ABS,PBTP/ABS,PC/ASA,PC/PBT,PVC/CPE,PV
C/アクリレート、POM/熱可塑性PUR,PC/熱可塑性PUR,POM
/アクリレート、POM/MBS,PPO/HIPS,PPO/PA6.6およびコ
ポリマー、PA/HDPE,PA/PP,PA/PPO。

従って本発明はまた、酸化的、熱的または化学線崩壊
を受け易い合成ポリマーおよび少なくとも一種の式Ｉの
化合物を含有する組成物、ならびに酸化的、熱的または
化学線崩壊に対して合成ポリマーを安定化するために式
Ｉの化合物を使用する方法に関する。

好ましい合成ポリマーは、例えば、熱可塑性ポリマー
のような合成ポリマー、とりわけポリオレフィン、例え
ばポリプロピレンまたはポリエチレンである。

一般に、式Ｉの化合物は、安定化すべき材料に、安定
化すべき材料の全重量に関して0.01ないし10％、好まし
くは0.01ないし５％そして特に0.01ないし２％の量添加
される。

式Ｉの化合物のほかに、本発明による組成物は、さら
に、慣用の添加剤、例えば以下に示したものを含有する
ことができる。

1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、 ２−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 2,6−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−4,6−ジメチルフ
ェノール、 2,6−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノー
ル、および 2,6−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、 1.2 アルキル化ヒドロキノン、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 2,5−ジ−第三ブチルヒドロキノン、 2,5−ジ−第三アミルヒドロキノンおよび 2,6−ジ−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノー
ル。

1.3 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、 2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノ
ール）、 2,2′−チオビス（４−オクチルフェノール）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノ
ール、および 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノ
ール）。

1.4 アルキリデンビスフェノール、例えば 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフ
ェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフ
ェノール）、 2,2′−メチレンビス〔４−メチル−６−（α−メチル
シクロヘキシル）フェノール〕、 2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシ
ルフェノール）、 2,2′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノ
ール）、 2,2′−メチレンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデンビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブ
チルフェノール）、 2,2′−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジル）−
４−ノニルフェノール〕、 2,2′−メチレンビス〔６−（α，α−ジメチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール〕、 4,4′−メチレンビス（2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 4,4′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフ
ェノール）、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）ブタン、 2,6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロ
キシベンジル）−４−メチルフェノール、 1,1,3−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２
−メチルフェニル）ブタン、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、 エチレングリコールビス〔3,3−ビス（３′−第三ブチ
ル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、 ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ジシクロペンタジエン、および ビス〔２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−
５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチル
フェニル〕テレフタレート。

1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、 ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）スルフィド、 イソオクチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、 ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル）ジチオテレフタレート、 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルイソシアヌレート、 1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6
−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、 ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、 モノエチル3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネートのカルシウム塩、 1,3,5−トリス（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート。

1.6 アシルアミノフェノール、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、 2,4−ビス（オクチルメルカプト）−６−（3,5−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジ
ン、および オクチルＮ−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）−カルバメート。

1.7 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールと
のエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、およびN,N′−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.8 β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、およびN,N′−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.9 β−（3,5−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸の以下の一価または多価アルコー
ルとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、およびN,N′−ビス
（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

1.10 β−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオン酸のアミド、例えば N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、および N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン。

2.紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール、例えば、 ５′メチル、３′,5′−ジ−第三ブチル−、５′−第三
ブチル−、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブチル）
−、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三ブチル−、５−ク
ロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル−、３′−第二
ブチル−５′−第三ブチル:4′−オクトキシ−、３′,
5′−ジ−第三アミルおよび３′,5′−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）誘導体。

2.2 ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ
−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−
ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−およ
び２′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。

2.3 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例
えば ４−第三ブチルフェニルサリチレート、 フェニルサリチレート、 オクチルフェニルサリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 2,4−ジ−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエート、および 3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

2.4 アクリレート、例えば α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸エチルエ
ステル、 α−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリル酸イソオク
チルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチル
エステル、 α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸ブチル
エステル、 α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステ
ル、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−
メチルインドリン。

2.5 ニッケル化合物、例えば 2,2′−チオビス−〔４−（1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル）−フェノール〕のニッケル錯体、例えば1:1または
1:2錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリ
エタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エ
タノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケ
ルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−3,5
−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエス
テル、例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル
塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシル
ケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、１−フ
ェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−ピラゾール
のニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴う
もの。

2.6 立体障害性アミン、例えば ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチ
ル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、 １−（２−ヒドロキシエチル）−2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成
物、 N,N′−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、 トリス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペラジル）ニ
トリロトリアセテート、 テトラキス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、 1,1′−（1,2−エタンジイル）−ビス（3,3,5,5−テト
ラメチルピペラジノン）。

2.7 シュウ酸ジアミド、例えば 4,4′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 ２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、 N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル−オキサル
アミド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−5,
4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物、および ｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。

2.8 ２−（２−ヒドロキシフェニル）−1,3,5−トリア
ジン、例えば 2,4,6−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ
フェニル）−1,3,5−トリアジン、２−（２−ヒドロキ
シ−４−オクチルオキシフェニル）−4,6−ビス（2,4−
ジメチルフェニル）−1,3,5−トリアジン、 ２−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−4,6−ビス（2,4
−ジメチルフェニル）−1,3,5−トリアジン、 2,4−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェ
ニル）−６−（2,4−ジメチルフェニル）−1,3,5−トリ
アジン、 ２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）
−4,6−ビス（４−メチルフェニル）−1,3,5−トリアジ
ン、および ２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）
−4,6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−1,3,5−トリ
アジン。

3.金属不活性化剤、例えば N,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、 Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、N,
N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルア
ミノ−1,2,4−トリアゾール、および ビス（ベンジリデン）オキサロジヒドラジン。

4.ホスフィットおよびホスホナイト、例えば トリフェニルホスフィット、 ジフェニルアルキルホスフィット、 フェニルジアルキルホスフィット、 トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、 トリラウリルホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリ
トールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）4,4′−ビ
フェニレンジホスホナイト、および 3,9−ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェノキシ）−2,4,8,
10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウン
デカン。

5.過酸化物捕捉剤、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、 メルカプトベンズイミダゾール、または ２−メニカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、 ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、 ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、および ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカ
プト）プロピオネート。

6.ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。

7.塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミン、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属
塩、例えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステア
レート、NaリシノレートおよびＫパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。

8.核剤、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、またはジフェニ
ル酢酸。

9.充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラック、およびグラファイ
ト。

10.その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、螢光漂白剤、難燃剤、
静電防止剤、および発泡剤。

慣用の添加剤は、例えば、安定化される材料の全重量
に関して、0.01ないし10％の濃度で添加される。

式Ｉの化合物および、望むならば、他の添加剤のポリ
マー性有機材料への混入は、例えば成形前もしくは成形
中に公知の方法により、またはポリマー性有機材料に該
化合物を溶解もしくは分散の形態で用い、適当ならば続
いて溶媒を蒸発させることにより行われる。また式Ｉの
化合物は安定化すべき材料に添加して、例えば、2.5な
いし25重量％の濃度で存在するマスターバッチの形態と
することができる。

また式Ｉの化合物は重合前もしくは重合中にまたは架
橋前に添加することができる。

式Ｉの化合物は安定化すべき材料に非希釈形態で混入
するかまたはロウ、油脂もしくはポリマー中に封入する
ことができる。

また式Ｉの化合物は、安定化すべきポリマー上に噴霧
することができる。それらは、安定化すべきポリマー上
に他の添加剤（例えば上記に示した慣用の添加剤）と一
緒に噴霧するようにして該添加剤またはその溶融物を希
釈することができる。重合触媒の不活性化の間に噴霧に
より添加することは特に有利であり、例えば、不活性化
のために使用する蒸気を噴霧するために使用することが
できる。

球形態に重合されたポリマーの場合には、例えば、適
当ならば他の添加剤と一緒に、噴霧することにより式Ｉ
の化合物を適用するのが有利でありうる。

したがって、本発明の好ましい態様は、酸化的、熱的
または化学線崩壊に対してポリマーを安定化するために
式Ｉの化合物を使用する方法において、式Ｉの化合物を
ポリマー上に噴霧する方法である。

而して安定化された材料は、大変いろいろな形にて、
例えばフィルム、繊維、テープ、成型材料もしくは異形
材として、または塗料、接着剤もしくはパテのバインダ
として使用することができる。

式Ｉの化合物は公知の方法と同様に、例えば、GB−A
2,042,562に記載されるように、式II （式中、R₁，R₂およびR₃は上記に定義したのを表わ
す。）で表わされるフェノールと、１ないし1.3モルの
マンデル酸もしくはマンデル酸誘導体との縮合により製
造することができる。マンデル酸もしくはマンデル酸誘
導体の代わりに、また式IIIまたは式IV （式中、Ｚは上記に定義したのを表わしそしてＸは、例
えば、アセトキシ基、トリルスルホニルオキシ基または
メシチルスルホニルオキシ基を表わす。）で表わされる
化合物を使用することができる。式IVの化合物を使用す
る場合には、BE−A881,496の実施例３に記載された方法
を用いるのが適当である。

反応は好ましくは180ないし220℃の温度範囲内でかつ
10ないし1013mbarの圧力下で行なう。

それらが市販にて入手できない限りにおいて、式IIの
化合物は公知の方法と同様に、例えば線状α−オレフィ
ン（炭素原子数13ないし30）を用いた式 で表わされるフェノールの触媒アルキル化により製造す
ることができる。アルキル化は主に液相中で溶媒を用い
ずに行なう。

以下のものは、適当な触媒として挙げることができ
る。

ａ）フリーデル クラフツ触媒、例えばプロトン酸（硫
酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸）、固形無機触媒
（酸活性化漂白土壌、例えばモンモソロナイト種のも
の、アルミニウムおよび珪素の酸化物等）および他のフ
リーデルクラフツ触媒（三フッ化ホウ素、塩化アルミニ
ウム、塩化第二鉄（III）、塩化亜鉛等）。

ｂ）ｏ−選択性触媒、例えばUS−A3,367,981およびDE−
B1,142,873に記載されるようなアルミニウムフェノラー
トおよびγ−アルミナ、そしてまた他の変態の酸化アル
ミニウム。

ｏ−選択性触媒が好ましく、そして上記US−Ａおよび
DE−Ｂに記載された活性γ−アルミナが特に好ましい。

フリーデル クラフツ触媒を用いて、反応は“常圧”
の下、例えば、30ないし150℃の温度範囲内で適当に行
なわれる。ｏ−選択性触媒を用いてのアルキル化の場合
には、反応を高められた温度（およそ200ないし350℃）
にて加圧下（およそ20ないし200bar）行なうのが有利で
ある。

アルキル化の後触媒を粗生成物より、例えば洗浄によ
る抽出または濾過により除去し、そしてその後後者を蒸
留により精製することができる。

式IIの化合物は、例えばクロマトグラフィー法、特に
ガスクロマトグラフィーおよび高圧液体クロマトグラフ
ィー（HPLC）を用いて分離することができるところの異
性体混合物の形態で得ることができる。しかし、式Ｉの
化合物の製造のために異性体混合物を用いることもまた
可能であり、このため式Ｉの化合物はまた異性体の混合
物として得られる。式Ｉの化合物のこの異性体混合物
は、必要ならば、分離することができまた酸化的、熱的
または化学線崩壊に対して有機材料を安定化するための
処理に用いずに使用することができる。

また式IIの化合物の製造のために市販にて入手できる
オレフィン（H₂C＝CH−CH₂−Ａ、（式中、A₁は、例え
ば、炭素原子数13ないし17のアルキル基、炭素原子数17
ないし21のアルキル基または炭素原子数21ないし27のア
ルキル基を表わす。））の混合物を用いることができ
る。

（実施例） 以下の実施例は本発明をさらに説明する。別段言及し
ない限り、部および百分率は重量部および重量百分率を
表わす。

実施例1:化合物３−フェニル−７−（１′−ヘキサデシ
ルエチル）−ベンゾフラン−２−オンの製造 マンデル酸4.8g（31.5ミリモル）および１−ヘキサデ
シルエチルフェノール10.4g（30ミリモル）を一緒に190
ないし200℃にて減圧下約８時間加熱した。この経過に
おいて反応中生成した水を蒸留により除去した。反応が
完了したとき、反応生成物をシリカゲル上で濾過し（ヘ
キサン）そしてその後冷ヘキサンで処理した。生成物は
60−62℃の融点を有しそして白色粉末の形態であった。
収量は7g（＝理論値の50％）であった。

元素分析： 計算値： C83.06％； H10.02％ 実測値： C83.04％； H10.02％ 実施例２ないし5: 表１に示された化合物を実施例と同様に製造した。

実施例6:ポリプロピレンの安定化 ポリプロピレン粉末（メルトインデックス:3.2g/分、
230℃/2.16kgにて測定）1.3kgをステアリン酸カルシウ
ム0.05％、テトラキス−［3,5−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシメチル］−メタ
ン0.05％および表２に示された安定剤0.05％と混合し
た。この混合物を、20mmのシリンダ直径と400mmの長さ
を有し、かつ三つの加熱ゾーンが260℃,270℃および280
℃に調節された押出機より毎分回転数100にて押出し
た。押出物を水浴に引き通して冷却しそしてその後粒状
化した。得られた粒剤を第二回目および第三回目に押出
した。これら３回の押出しの後、メルトインデックスを
230℃/2.16kgにて測定した。結果を表２に示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07D 307/83 C07D 407/04 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式Ｉ ［式中、R₁は炭素原子数13ないし30のアルキル基を表わ
   し、R₂は水素原子、炭素原子数１ないし10のアルキル
   基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、炭素原
   子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子
   数５ないし７のシクロアルキル基を表わすか、またはフ
   ェニル基もしくは炭素原子数７ないし12のフェニルアル
   キル基を表わし、R₃は水素原子または炭素原子数１ない
   し４のアルキル基を表わし、そしてＺはフェニル基、炭
   素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１ないし
   ４のアルコキシ基もしくは塩素原子により置換されたフ
   ェニル基、基 （式中、ｎは１または２を表わす。）または基 （式中、基Ａは互いに独立して炭素原子数１ないし８の
   アルキル基、メトキシ基またはエトキシ基を表わす。）
   を表わす。］で表わされる化合物。
2. 【請求項２】式中、R₁は炭素原子数14ないし18のアルキ
   ル基を表わし、そしてR₂およびR₃は互いに独立して水素
   原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす
   請求項１記載の化合物。
3. 【請求項３】酸化的、熱的および化学線崩壊を受け易い
   合成ポリマー、および、少なくとも一種の式Ｉで表わさ
   れる請求項１記載の化合物よりなる組成物。