JP3094304B2 - 有機材料用安定剤として使用するためのピペリジン―トリアジン 化合物 - Google Patents

有機材料用安定剤として使用するためのピペリジン―トリアジン 化合物

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JP3094304B2
JP3094304B2 JP02305899A JP30589990A JP3094304B2 JP 3094304 B2 JP3094304 B2 JP 3094304B2 JP 02305899 A JP02305899 A JP 02305899A JP 30589990 A JP30589990 A JP 30589990A JP 3094304 B2 JP3094304 B2 JP 3094304B2
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、新規なピペリジン−トリアジン化合物、有
機材料用、特に合成ポリマー用、光安定剤、熱安定剤お
よび酸化安定剤としてのその使用、およびかくして安定
化された有機材料に関する。
<従来の技術、発明が解決しようとする課題> 合成ポリマーは、酸素の存在下日光または紫外光線の
別の光線に暴露した場合、光酸化的崩壊を受け易いこと
は、知られている。
したがって、実際の使用については、それらに適する
光安定剤、例えばベンゾフェノンもしくはベンゾトリア
ゾールの一定の誘導体、ニッケル錯体、置換安息香酸エ
ステル、アルキリデンマロネート、シアノアクリレー
ト、芳香族オキサミドまたは立体障害性アミンを添加す
ることが必要とされる。
2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル基を含むト
リアジンオリゴマーおよび合成ポリマー用安定剤として
のその使用は、米国特許第4086204号、同第4315859号、
同第4331586号、同第4335242号および同第4477615号、
欧州特許第117229号および日本国特許63−196554号に報
告されてきた。
<課題を解決するための手段、発明の効果> 本発明は、式(I) [式中、 R1は炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数
3ないし6のアルケニル基、炭素原子数7ないし9のフ
ェニルアルキル基、フェニル環上で炭素原子数1ないし
4のアルキル基により一、二もしくは三置換された炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1
ないし8のアシル基または(炭素原子数1ないし8アル
コキシ)−カルボニル基を表わし、 Aは式(II a)または式(II b) (式中、 R3は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
未置換もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基によ
り一、二もしくは三置換された炭素原子数5ないし8の
シクロアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルア
ルキル基、フェニル環上で炭素原子数1ないし4のアル
キル基により一、二もしくは三置換された炭素原子数7
ないし9のフェニルアルキル基、または式(III) で表わされる基を表わし、 R5は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
O,OH,NO,CH2CN,炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、
炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ基、炭素原子
数3ないし6のアルケニル基、炭素原子数7ないし9の
フェニルアルキル基、フェニル環上で炭素原子数1ない
し4のアルキル基により一、二もしくは三置換された炭
素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、または炭素
原子数1ないし8のアシル基を表わし、そして R4は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、シクロヘ
キシレン基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレン
ジシクロヘキシレン基、キシリレン基または1,2もしく
は3個の酸素原子によりもしくは基N−CH3により中
断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基を表わ
し、 pおよびrは、同一または異なっていてよいが、2な
いし6の整数を表わし、そして qは0または1を表わす。)で表わされる基を表わ
し、そして R2はOH,ONa,OK,炭素原子数1ないし8のアルコキシ
基、炭素原子数3ないし6のアルケニルオキシ基、炭素
原子数7ないし9のフェニルアルコキシ基、炭素原子数
1ないし8のアシルオキシ基または基R1−A,−(式中、
R1およびAは上記で定義したものを表わす。)を表わす
か、またはR2はまた式(IV) (式中、R1およびAは上記で定義したものを表わす。)
で表わされる基を表わすことができ、そしてR2が式(I
V)で表わされる基を表わす場合、式(I)において括
弧の外にある末端基R1はさらに基 (式中、R1およびAは上記で定義したものを表わす。)
を表わしそしてnは1ないし20の数を表わす。]で表わ
される新規なピペリジン−トリアジン化合物に関する。
炭素原子数1ないし8のアルキル基の例は、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−ブチル基、
イソブチル基、ペンチル基、2−ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基および2−エチルヘキシル
基である。炭素原子数1ないし4のアルキル基、特にメ
チル基は好ましい。
12個より多くない炭素原子を有するアルコキシ基の例
は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ
基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシ
ルオキシ基およびドデシルオキシ基である。ヘプトキシ
基およびオクトキシ基は好ましい。
(炭素原子数1ないし8アルコキシ)カルボニル基の
例は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペン
トキシカルボニル基、ヘキソキシカルボニル基およびオ
クトキシカルボニル基である。
未置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基によ
り一、二もしくは三置換された炭素原子数5ないし8の
シクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、メチルシ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキ
シル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロ
ヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基およびシクロオクチル基である。シクロヘキシル
基が好ましい。
炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ基たるR5
代表例は、シクロペントキシ基、シクロヘキソキシ基、
シクロヘプトキシ基、シクロオクトキシ基、シクロデシ
ルオキシ基およびシクロドデシルオキシ基である。シク
ロペントキシ基およびシクロヘキソキシ基が好ましい。
炭素原子数3ないし6のアルケニル基の例は、アリル
基、2−メチルアリル基、ブテニル基、ペンテニル基お
よびヘキセニル基である。アリル基が好ましい。
炭素原子数3ないし6のアルケニルオキシ基の例は、
アリルオキシ基、2−メチルアリルオキシ基、ブテニル
オキシ基、ペンテニルオキシ基およびヘキセニルオキシ
基である。
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基たるR1,R
3およびR5は、未置換であってもまたはフェニル環上で
炭素原子数1ないし4のアルキル基により一、二もしく
は三置換されてもよく、そして好ましくはベンジル基、
メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、第三ブチルベ
ンジル基または2−フェニルエチル基を表わす。ベンジ
ル基が特に好ましい。
炭素原子数7ないし9のフェニルアルコキシ基の例
は、ベンジルオキシ基である。
炭素原子数1ないし8のアシル基の例は、ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノ
イル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイル
基およびクロトノイル基である。炭素原子数1ないし8
のアルカノイル基、炭素原子数3ないし8のアルケノイ
ル基またはベンゾイル基が好ましい。アセチル基が特に
好ましい。
炭素原子数1ないし8のアシルオキシ基の例は、ホル
ミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ
基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ペンタ
ノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、オクタノイル
オキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイルオキシ基
およびクロトノイル基である。炭素原子数1ないし8の
アルカノイルオキシ基、炭素原子数3ないし8のアルケ
ノイルオキシ基およびベンゾイルオキシ基が好ましい。
炭素原子数2ないし12のアルキレン基たるR4の代表例
は、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テト
ラメチレン基、ペンタメチレン基、2,2−ジメチルトリ
メチレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチ
レン基、デカメチレン基およびドデカメチレン基であ
る。炭素原子数2ないし6のアルキレン基が好ましい。
1個、2個または3個の酸素原子により中断された炭
素原子数4ないし12のアルキレン基R4の代表例は、4−
オキサヘプタン−1,7−ジイル基、4,7−ジオキサデカン
−1,10−ジイル基、4,9−ジオキサドデカン−1,12−ジ
イル基および3,6,9−トリオキサウンデカン−1,11−ジ
イル基である。4,7−ジオキサデカン−1,10−ジイル基
および4,9−ジオキサドデカン−1,12−ジイル基が好ま
しい。
基N−CH3により中断された炭素原子数4ないし12
のアルキレン基R4の代表例は、基 および基 である。
R5は好ましくは水素原子、炭素原子数1ないし4のア
ルキル基、OH、炭素原子数6ないし8のアルコキシ基、
炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基、アリル
基、ベンジル基またはアセチル基、特に水素原子、メチ
ル基またはアセチル基を表わす。
式中、R1は炭素原子数1ないし6のアルキル基、アリ
ル基、ベンジル基、炭素原子数1ないし6のアシル基ま
たは(炭素原子数1ないし6アルコキシ)−カルボニル
基を表わし、Aは式(II a)または式(II b)(式中、
R3は水素原子、炭素原子数1ないし6のアルキル基、未
置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基により
一、二もしくは三置換されたシクロヘキシル基、ベンジ
ル基または式(III)で表わされる基を表わし、R4は炭
素原子数2ないし10のアルキレン基、シクロヘキシレン
基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロ
ヘキシレン基、キシリレン基、または1もしくは2個の
酸素原子によりまたは基N−CH3により中断された炭
素原子数4ないし12のアルキレン基を表わし、pおよび
rは、同一または異なっていてよく、2ないし4の整数
を表わしそしてqは0または1を表わす。)で表わされ
る基を表わし、R2はOH,ONa,OK,炭素原子数1ないし6の
アルコキシ基、アリルオキシ基、ベンジルオキシ基、炭
素原子数1ないし6のアシルオキシ基、基R1−Aまたは
式(IV)で表わされる基を表わし、そしてnは1ないし
15の数を表わすところの式(I)で表わされる化合物が
好ましい。
式中、R1は炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素
原子数1ないし4のアシル基または(炭素原子数1ない
し4のアルコキシ)−カルボニル基を表わし、Aは式
(II a)または式(II b)(式中、R3は水素原子、炭素
原子数1ないし4のアルキル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基または式(III)で表わされる基を表わし、R4
は炭素原子数2ないし8のアルキレン基、シクロヘキシ
レンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、ま
たは1個もしくは2個の酸素原子によりまたは基N−
CH3により中断された炭素原子数4ないし10のアルキレ
ン基を表わし、pおよびrは、同一または異なっていて
よく、2または3を表わし、そしてqは0または1を表
わす。)で表わされる基を表わし、そしてR2はOH,ONa,O
K,炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数1
ないし4のアシルオキシ基、基R1−A−または式(IV)
で表わされる基を表わしそしてnは1ないし10の数を表
わすところの式(I)で表わされる化合物が特に好まし
い。
式中、R1はメチル基、アセチル基または(炭素原子数
1ないし2アルコキシ)−カルボニル基を表わし、Aは
式(II a)または式(II b)(式中、R3は水素原子、メ
チル基、シクロヘキシル基または式(III)で表わされ
る基を表わし、R4は炭素原子数2ないし6のアルキレン
基または1個もしくは2個の酸素原子により中断された
炭素原子数4ないし10のアルキレン基を表わし、pおよ
びrは同一または異なっていてよく、2または3を表わ
し、そしてqは0または1を表わす。)で表わされる基
を表わし、そしてR2はOH,ONa,OK,メトキシ基、アセトキ
シ基、基R1−A−または式(IV)で表わされる基を表わ
しそしてnは1ないし8の数を表わすところの式(I)
で表わされる化合物は、格別興味のあるものである。
式中、R1はメチル基、アセチル基または(炭素原子数
1ないし2のアルコキシ)−カルボニル基を表わし、A
は式(II a)または式(II b)(式中、R3は水素原子、
メチル基または式(III)で表わされる基を表わし、R5
は水素原子、メチル基またはアセチル基を表わし、R4
炭素原子数3ないし6のアルキレン基または2個の酸素
原子により中断された炭素原子数8ないし10のアルキレ
ン基を表わし、pおよびrは同一または異なっていてよ
く、2または3を表わし、そしてqは0または1を表わ
す。)で表わされる基を表わし、そしてR2は基R1−A−
または式(IV)で表わされる基を表わしそしてnは1な
いし5の数を表わすところの式(I)で表わされる化合
物は、特に興味深いものである。
式(I)で表わされる化合物のうち好ましい例は、式
(V) (式中、R4′はトリメチレン基、ヘキサメチレン基また
は4,7−ジオキサデカン−1,10−ジイル基を表わす。)
で表わされる反復単位を含むところの化合物である。
式(I)で表わされる化合物は、それ自体公知の方法
により、例えばR1=Hであるところの式(I)の化合物
を式(VI) R1−X (VI) (式中、R1は上記で定義したものを表わしそしてXはC
l,BrまたはIを表わす。)で表わされる化合物と反応さ
せることにより、製造することができる。
R1およびR5がメチル基を表わす場合、式(I)で表わ
される化合物は、好ましくは、式中R1およびR5が水素原
子を表わすところの対応する式(I)の化合物をホルム
アルデヒドおよび蟻酸と、または水素化触媒例えばパラ
ジウムもしくは白金の存在下でホルムアルデヒドおよび
水素と反応させることにより製造される。
R1およびR5がアシル基を表わす場合、対応する酸無水
物を試薬として使用することも可能である。
R1=Hである式(I)の化合物は、例えば米国特許第
4086204号に記載されるように、塩化シアヌル酸を式(V
II a)または式(VII b) (式中、R3,R4,R5,p,qおよびrは上記の意味を有す
る。)で表わされる化合物と、塩化シアヌル酸/化合物
(VII a)または(VII b)のモル化1:2.5ないし1:2で、
好ましくは1:2.4ないし1:2.1で、好ましくは芳香族炭化
水素溶媒例えばトルエン、キシレンまたはトリメチルベ
ンゼンを使用して、反応させることにより、製造するこ
とができる。
置換反応は好ましくは単独反応器方式(one−reactor
procedure)により、R1=Hである式(I)の化合物の
製造において得られた反応混合物を直接例えば0℃ない
し150℃、好ましくは10℃ないし120℃の温度にて用いる
ことにより行なう。
種々の反応において生じたハロゲン化水素酸は、好ま
しくは無機塩基、例えばナトリウムもしくはカリウムの
水酸化物もしくは炭酸塩により少なくとも生じた酸に等
価な量で中和する。
本化合物の製造のために使用する試薬の種類およびモ
ル量にもよるが、得られた生成物は、種々の末端基R2
有する式(I)の化合物の混合物でありうる。この混合
物は、所望ならば、例えばクロマトグラフィー法の助け
により、特に高圧液体クロマトグラフィー(HPLC)によ
り分離することができる。
また、本発明の好ましい態様は、最初塩化シアヌル酸
を式(VII a)または式(VII b)の化合物と反応させそ
して続いて得られた生成物を式(VI)の化合物と反応さ
せることにより得られる式(I)の化合物に関する。
上記で述べたように、式(I)で表わされる化合物
は、有機材料、特に合成ポリマーおよびコポリマー、の
光安定性、熱安定性および酸化安定性を改良するのに大
変効果的である。
安定化することができる有機材料の例は次の通りであ
る。
1. モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
1、ポリメチルペンテン−1、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペ
ンテンまたはノルボルネンのポリマー、(所望により架
橋結合できる)ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレ
ン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)および線状低
密度ポリエチレン(LLDPE)。
2. 1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンと
ポリエチレンとの混合物(例えばPP/HDPE,PP/LDPE)お
よびポリエチレンの異なるタイプの混合物(例えば(LD
PE/HDPE)。
3. モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プロピレ
ンコポリマー、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)およ
びその低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物、プロピ
レン/ブテン−1、エチレン/ヘキセン、エチレン/メ
チルペンテン、エチレン/フプテン、エチレン/オクテ
ン、プロピレン/イソブチレン、エチレン/ブテン−
1、プロピレン/ブタジエン、イソブチレン/イソプレ
ン、エチレン/アルキルアクリレート、エチレン/アル
キルメタクリレート、エチレン/ビニルアセテートまた
はエチレン/アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類
(アイオノマー)、およびエチレンとプロピレンとジエ
ン例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエ
チリデン−ノルボルネンとのターポリマー;並びに前記
コポリマーおよびそれらの混合物と1.に記載したポリマ
ーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン−プロ
ピレン−コポリマー、LDPE/EVA、LDPE/EAA、LLDPE/EVA
およびLLDPE/EAA。
3a. α−オレフィンと一酸化炭素とのランダムコポリ
マーまたは交互コポリマー 3b. 炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)お
よびそれらの水素化変性物(例えば粘着付与剤)。
4. ポリスチレン、ポリ−(p−メチルスチレン)、ポ
リ−(α−メチルスチレン)。
5. スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタ
ジエン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/アル
キルメタクリレート、スチレン/無水マレイン酸、スチ
レン/ブタジエン/アルキルアクリレート、スチレン/
アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチレンコポ
リマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエンターポ
リマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチレンのブロ
ックコポリマー例えばスチレン/ブタジエン/スチレ
ン、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレン/エチ
レン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチレン/
プロピレン/スチレン。
6. スチレンまたはαメチルスチレンのグラフトコポリ
マー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエ
ン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリロニトリル
にスチレン;ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロ
ニトリル(またはメタアクリロニトリル);ポリブタジ
エンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレインイ
ミド;ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルお
よび無水マレイン酸またはマレインイミド;ポリブタジ
エンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタア
クリレート、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキル
アクリレートまたはメタアクリレート、エチレン/プロ
ピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロ
ニトリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレート
にスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート/ブ
タジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、並びにこれらと5.に列挙したコポリマーとの混合
物、例えばABS−、MBS−、ASA−またはAES−ポリマーと
して知られているコポリマー混合物。
7. ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレ
ン、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、ハロ
ゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩
化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルま
たは塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。
8. α,β−不飽和酸およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。
9. 前項8.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブタ
ジエン、アクリロニトリル/アルキルアクリレート、ア
クリロニトリル/アルコキシアルキルアクリレートまた
はアクリロニトリル/ハロゲン化ビニルコポリマーまた
はアクリロニトリル/アルキルメタアクリレート/ブタ
ジエンターポリマー。
10. 不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエー
ト、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポ
リアリルフタレートまたはポリアリルメラミン;並びに
それらと上記1.に記載したオレフィンとのコポリマー。
11. 環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、
例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリ
シジルエーテルとのコポリマー。
12. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよ
びエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシ
メチレン;熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリアセ
タール、アクリレートまたはMBS。
13. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並びに
ポリフェニレンオキシドトポリスチレンまたはポリアミ
ドとの混合物。
14. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成
分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから
誘導されたポリウレタン並びにその前駆物質(ポリイソ
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー)。
15. ジアミンおよびジカルボン酸および/またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポ
リアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド4、ポ
リアミド6、ポリアミド6/6、6/10、6/9、6/12および4/
6、ポリアミド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミ
ンおよびアジピン酸の縮合によって得られる芳香族ポリ
アミド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸ま
たは/およびテレフタル酸および所望により変性剤とし
てのエラストマーから製造されるポリアミド、例えばポ
リ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミ
ドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミド。さら
に、前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポ
リマー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフ
トしたエラストマーとの別のコポリマー;またはこれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコ
ールとのコポリマー。EPDMまたはABSで変性させたポリ
アミドまたはコポリアミド。加工の間に縮合させたポリ
アミド(RIM−ポリアミド系)。
16. ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。
17. ジカルボン酸およびジオールおよび/またはヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロー
ル−シクロヘキサンテレフタレートおよびポリヒドロキ
シベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポリ
エーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステ
ル。
18. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネ
ート。
19. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。
20. 一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分と
してフェノール、尿素およびメラミンから誘導された架
橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹
脂、尿素/ホルムアルデシド樹脂およびメラミン/ホル
ムアルデヒド樹脂。
21. 乾性および不乾性アルキド樹脂。
22. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の
低いそれらのハロゲン含有変性物。
23. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタン−アクリレートまたはポリエステル−
アクリレートから誘導された熱硬化性アクリル樹脂。
24. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂またはアクリレート樹脂。
25. ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。
26. 天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼ
ラチンおよびこれらの化学的に変性させた重合同族体誘
導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース
および酪酸セルロースまたはセルロースエーテル、例え
ばメチルセルロース;ロジンおよびそれらの誘導体。
27. 前記したポリマーの混合物、例えばPP/EPDM、ポリ
アミド/EPDMまたはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、P
C/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アク
リレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PUR、POM/ア
クリレート、POM/MBS、PPO/HIPS、PPO/PA6/6およびコポ
リマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO。
28. 純モノマー化合物またはその化合物からなる天然
および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物脂
肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル(例えば
フタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリ
テート)をベースとした上記オイル、脂肪およびワック
ス、並びに合成エステルの適当な重量比で混合された鉱
油との混合物で、その材料はポリマーのための繊維紡績
油として並びにこのような材料の水性エマルジョンとし
て使用され得る。
29. 天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば
カルボキシル化スチレン/ブタジエンコポリマーの天然
ラテックス。
式(I)で表わされる化合物は、ポリオレフィン、と
りわけポリエチレンおよびポリプロピレンの光安定性、
熱安定性および酸化安定性を改良するのに特に適する。
式(I)で表わされる化合物は有機材料との混合物に
おいて、安定化すべき材料の性質、最終用途および他の
添加剤の存在にもよるが、種々の割合で使用することが
できる。
一般に、安定化すべき材料の重量に基いて、式(I)
で表わされる化合物を0.01ないし5重量%、好ましくは
0.05ないし1重量%、使用するのが適当である。
式(I)で表わされる化合物は、種々の方法により、
例えば粉末の形態で乾式混合することにより、または溶
液もしくは懸濁液の形態でまたはマスターバッチの形態
で湿式混合することにより、有機材料に混入することが
できる。これらの操作において、ポリマーは粉末、顆
粒、溶液、懸濁液の形態においてまたは格子の形態にお
いて使用することができる。
一般に、式(I)で表わされる化合物は、有機材料の
重合または架橋の前、中または後に該材料に加えること
ができる。
式(I)で表わされる化合物は、安定化すべき材料に
純粋形態で、またはワックス、油脂もしくはポリマー中
に封入されて、混入することができる。
式(I)で表わされる生成物により安定化された材料
は、成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、表
面被覆材および同種のものの生産のために使用すること
ができる。
所望ならば、合成ポリマーのための他の慣用の添加
剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、ニッケル安定
剤、顔料、充填剤、可塑剤、帯電防止剤、防炎加工剤、
潤滑剤、腐食抑制剤および金属奪活剤は、式(I)の化
合物と有機材料の混合物に加えることができる。
式(I)の化合物との混合物において使用することが
できる添加剤の特別の例は、次の通りである。
1. 酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、 2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−4−エチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−4−n−ブチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−4−イソブチルフェノール、 2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノール、 2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチル
フェノール、 2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、 2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシメチルフェノー
ル、 2,6−ジ−ノニル−4−メチルフェノール、 1.2 アルキル化ハイドロキノン、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシフェノール、 2,5−ジ−第三ブチルハイドロキノン、 2,5−ジ−第三アミルハイドロキノン、 2,6−ジ−フェニル−4−オクタデシルオキシフェノ
ール。
1.3 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル例えば、 2,2′−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、 2,2′−チオビス(4−オクチルフェノール)、 4,4′−チオビス(6−第三ブチル−3−メチルフェ
ノール)、 4,4′−チオビス(6−第三ブチル−2−メチルフェ
ノール)。
1.4 アルキリデンビスフェノール、例えば 2,2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、 2,2′−メチレンビス(6−第三ブチル−4−エチル
フェノール)、 2,2′−メチレンビス〔4−メチル−6−(α−メチ
ルシクロヘキシル)フェノール〕、 2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキ
シルフェノール)、 2,2′−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェ
ノール)、 2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル)、 2,2′−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノ
ール)、 2,2′−エチリデンビス(6−第三ブチル−4−イソ
ブチルフェノール)、 2,2′−メチレンビス〔6−(α−メチルベンジル)
−4−ノニルフェノール〕、 2,2′−メチレンビス〔6−(α,α−ジメチルベン
ジル)−4−ノニルフェノール〕、 4,4′−メチレンビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル)、 4,4′−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチル
フェノール)、 1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)ブタン、 2,6−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒド
ロキシベンジル)−4−メチルフェノール、 1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)ブタン、 1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタ
ン、 エチレングリコールビス〔3,3−ビス(3′−第三ブ
チル−4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート〕、 ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)ジシクロペンタジエン、 ビス〔2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−
5′−メチルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチル
フェニル〕テレフタレート。
1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、 ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)スルフィド、 イソオクチル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジルメルカプトアセテート、 ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメ
チルベンジル)ジチオテレフタレート、 1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルイソシアヌレート、 1,3,5−トリス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、 ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、 モノエチル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジルホスホネートのカルシウム塩、 1,3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロ
キシベンジル)イソシアヌレート。
1.6 アシルアミノフェノール、例えば ラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸4−ヒドロキシアニリド、 2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−s−トリアジ
ン、 オクチルN−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−カルバメート。
1.7 β−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールと
のエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス
(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。
1.8 β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メ
チルフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス
(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。
1.9 β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価アルコー
ルとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコー
ル、オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6
−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペン
チルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシア
ヌレート、チオジエチレングリコール、N,N′−ビス
(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。
1.10 β−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオン酸のアミド、例えばN,N′−ビス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヘキサメチレンジアミン、 N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、 N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヒドラジン。
2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 2−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール、例えば、 5′メチル、3′,5′−ジ−第三ブチル−、5′−第
三ブチル−、5′−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)
−、5−クロロ−3′,5′−ジ−第三ブチル−、5−ク
ロロ−3′−第三ブチル−5′−メチル−、3′−第二
ブチル−5′−第三ブチル:4′−オクトキシ−3′,5′
−ジ−第三アミルおよび3′,5′−ビス(α,α−ジメ
チルベンジル)誘導体。
2.2 2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば 4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ
−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−
ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−およ
び2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
2.3 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例
えば 4−第三ブチルフェニルサリチレート、 フェニルサリチレート、 オクチルフェニルサリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 2,4−ジ−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンゾエート、および 3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト。
2.4 アクリレート、例えば α−シアノ−β,β−ジフェニル−アクリル酸エチル
エステル、 α−シアノ−β,β−ジフェニル−アクリル酸イソオ
クチルエステル、 α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、 α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−桂皮酸メチ
ルエステル、 α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−桂皮酸ブチ
ルエステル、 α−カルボメトキシ−p−メトキシ桂皮酸メチルエス
テル、および N−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2
−メチルインドリン。
2.5 ニッケル化合物、例えば 2,2−チオビス−〔−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)−フェノール〕のニッケル錯体、例えば1:1または
1:2錯体であって、所望によりn−ブチルアミン、トリ
エタノールアミンもしくはN−シクロヘキシル−ジ−エ
タノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケ
ルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロキシ−3,5
−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエス
テル、例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル
塩、2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシル
ケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、1−フ
ェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−ピラゾール
のニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴う
もの。
2.6 立体障害性アミン、例えば ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケー
ト、 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)セバケ
ート、 ビス(1,2,2,6,6−ベンタメチルピペリジル)n−ブ
チル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
マロネート、 1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生
成物、 N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、 トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
ニトリロトリアセテート、 テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、 1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テ
トラメチルピペラジノン)。
2.7 シュウ酸ジアミド、例えば 4,4′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル
オキサニリド、 2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル
オキサニリド、 2−エトキシ−2′−エチルオキサニド、 N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロピル−オキサ
ルアミド、 2−エトキシ−5−第三ブチル−2′−エチルオキサ
ニリドおよび該化合物と2−エトキシ−2′−エチル−
5,4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラーメトキシ−二置換オキサニリド
の混合物、および o−およびp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合
物。
2.8 2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリア
ジン、例えば 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキ
シフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロ
キシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4
−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、 2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,
4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、 2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフ
ェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、 2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニ
ル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン、 2−(2ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)
−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリ
アジン。
3. 金属奪活剤、例えば N,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、 N−サリチラル−N−サリチロイルヒドラジン、 N,N′−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、 N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヒドラジン、 3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、 ビス(ベンジリデン)オキサロジヒドラジン。
4. ホスフィットおよびホスホナイト、例えば トリフェニルホスフィット、 ジフェニルアルキルホスフィット、 フェニルジアルキルホスフィット、 トリス(ノニルフェニル)ホスフィット、 トリラウリルホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィッ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4′−
ビフェニレンジホスホナイト、 3,9−ビス(2,4−ジ−第三ブチルフェノキシ)−2,4,
8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウ
ンデカン。
4.2 ヒドロキシルアミン例えば、 ジベンジルヒドロキシルアミン、ジオクチルヒドロキ
シルアミン、ジドデシルヒドロキシアミン、ジテトラデ
シルヒドロキシアミン、ジヘキサデシルヒドロキシルア
ミン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、1−ヒドロ
キシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−ベン
ゾエート、ビス(1−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)セバケート。
5. 過酸化物捕促剤、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリ
ル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステ
ル、 メルカプトベンズイミダゾール、または 2−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、 ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、 ジオクタデシルジスルフィド、 ペンタエリトリトールテトラトラキス(β−ドデシル
メルカプト)プロピオネート。
6. ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および/またはリン化合物と組合せた銅塩、
および二価マンガンの塩。
7. 塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミ
ン、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン
誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属
塩、例えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステア
レート、NaリシノレートおよびKパルミテート、 ピロカテコール酸アンチモン、または ピロカテコール酸亜鉛。
8. 核剤、例えば 4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、 ジフェニル酢酸。
9. 充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
10. その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、防炎加工
剤、静電防止剤、および発泡剤。
式(I)で表わされる化合物は、また、例えばResear
ch Disclosure 1990,31429(474頁ないし480頁)に記載
されるように写真複写および他の再現技術の分野におい
て知られた殆ど全ての材料のための安定剤、とりわけ光
安定剤、として使用することができる。
<実施例> 本発明を説明するために以下の実施例を報告するが、
それは本発明を制限するものでない。
実施例1: A) キシレン170ml中の塩化シアヌル酸18.4g(0.1モ
ル)の溶液を、周囲温度にて、キシレン100ml中のN,N′
−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−
1,6−ヘキサンジアミン82.8g(0.21モル)の溶液に添加
した。
添加はゆっくりと、温度を約45℃未満までにしか上昇
させないようにして行った。混合物を周囲温度にて1/2
時間の間攪拌し、水30ml中の水酸化ナトリウム16g(0.4
モル)の溶液を添加しそしてその後混合物を15時間の間
還流加熱し、その間添加水および反応水の共沸除去を行
った。90℃にまで冷却しそしてキシレン200mlを添加し
た後、温度を90℃に維持しつつ、混合物を水150mlで二
回洗浄した。
B) 37%ホルムアルデヒド55.15g(0.68モル)および
蟻酸31.3g(0.68モル)を含む溶液を、110℃に加熱され
た上記キシレン溶液に1時間かけて添加した。
添加の終了後、混合物を110℃にて2時間の間保ち、
そして周囲温度にまで冷却した後、水100ml中の水酸化
ナトリウム28g(0.7モル)の溶液を添加し、そして混合
物を1/2時間の間攪拌した。有機相を水で洗浄し、無水N
a2SO4上で乾燥させそして真空中(26ミリバール)で蒸
発させると、融点146−150℃かつn=2400で、次式で
表わされる反復単位を含む化合物を与えた。
実施例2ないし6: 実施例1に記載された手順に従いそして以下に掲げた
試薬を使用して、次式で表わされる反復単位を含む以下
の化合物を製造した。
に相当する。
実施例7: トルエン30ml中に溶解した塩化アセチル8.8g(0.112
モル)を、トルエン400ml中に溶解した実施例1Aに従っ
て製造された化合物41.4gに、ゆっくりと周囲温度にて
添加した。
添加の終了後、攪拌を周囲温度にて4時間の間続行
し、水30ml中に溶解した水酸化ナトリウム4.8g(0.12モ
ル)を添加し、混合物を1時間の間攪拌しそして相分離
をした。有機相を水で洗浄し、無水Na2SO4上で乾燥させ
そして真空中(26ミリバール)で蒸発させると、融点14
3−147℃かつn=2350で、次式で表わされる反復単位
を含む化合物を与えた。
実施例8: 実施例7に従い製造され、トルエン200ml中に溶解し
かつ95−100℃に加熱した化合物20gに、37%ホルムアル
デヒド10.54g(0.13モル)および蟻酸5.52g(0.12モ
ル)を含む溶液を1/2時間かけて添加した。
添加の終了後、混合物を100−105℃にて2時間の間加
熱しそして周囲温度に冷却し、水25ml中の水酸化ナトリ
ウム6g(0.15モル)の溶液を添加しそして混合物を1/2
時間の間攪拌した。有機相を水で洗浄し、無水Na2SO4
で乾燥しそして真空中(26ミルバール)で蒸発させる
と、融点169−179℃かつn=2500で、次式で表わされ
る反復単位を含む化合物を与えた。
実施例9: 実施例1Aに従い製造された化合物20gを無水酢酸100g
中に懸濁した。:96%H2SO40.2gを添加しそして混合物を
110℃にて6時間の間加熱した。
過剰の無水酢酸を真空蒸発(13ミリバール)により除
去し、そして残渣をジクロロメタン150ml中に溶解し
た。
溶液を、水150ml中の水酸化ナトリウム40gの水溶液で
二回洗浄し、その後水で洗浄し、無水Na2SO4上で乾燥し
そして真空中(26ミリバール)で蒸発させると、融点24
8−257℃かつn=2800で、次式で表わされる反復単位
を含む化合物を与えた。
上記の実施例において示した数平均分子量は、EP−A
−255,990,18頁、54行ないし19頁、15行に記載された方
法に従って測定した。
実施例10:(ポリプロピレン繊維における光安定化作
用) 表1に示した各々の生成物2.5g、トリス−(2,4−ジ
第三ブチルフェニル)ホスファイト1g、カルシウムモノ
エチル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホ
スホネート0.5g、ステアリン酸カルシウム1gおよび二酸
化チタン2.5gを、メルトインデックス=12g/10分(230
℃かつ2.16kgで測定。)のポリプロピレン粉末1000gと
ともにスローミキサ中で混合した。
混合物を200−230℃にて押し出すと、ポリマー粒剤を
与え、その後これを、案内型(pilottype)装置(Leona
rd,Sumirago(VA)Italy)を使用しかつ次の条件下で運
転して、繊維に変換した。
押出し温度:200−230℃ ヘッド温度:255−260℃ 延 伸 比:1:3.5 番 手:フィラメント当り11dtex こうして製造された繊維を、型式65WRウェザロメータ
ー(ASTM G26−77)中に、白板上に取り付け、曝露した
(黒板温度63℃)。
残留靱性を試料について、光に種々の時間暴露した
後、定速張力計を用いて測定し、そしてその後初期靱性
を半分にするのに必要な暴露時間(T50時間)を算出し
た。上記に示したのと同一の条件下で製造されたが本発
明の化合物を添加しない繊維を比較のため暴露した。
得られた結果を表1に示す。
表 1 安定剤 T50(時間) 無し 150 実施例1の化合物 1810 実施例4の化合物 1640 実施例5の化合物 1500 実施例6の化合物 1820 実施例7の化合物 1630 実施例8の化合物 1520
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−88571(JP,A) 特開 平2−104574(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 401/12 C07D 401/14 C08K 5/3492 D06M 13/358 D06M 15/61 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式(I) [式中、 R1は炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数3
    ないし6のアルケニル基、炭素原子数7ないし9のフェ
    ニルアルキル基、フェニル環上で炭素原子数1ないし4
    のアルキル基により一、二もしくは三置換された炭素原
    子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1な
    いし8のアシル基または(炭素原子数1ないし8のアル
    コキシ)−カルボニル基を表わし、 Aは式(II a)または式(II b) (式中、 R3は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、未
    置換もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基により
    一、二もしくは三置換された炭素原子数5ないし8のシ
    クロアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアル
    キル基、フェニル環上で炭素原子数1ないし4のアルキ
    ル基により一、二もしくは三置換された炭素原子数7な
    いし9のフェニルアルキル基、または式(III) で表わされる基を表わし、 R5は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
    O、OH、NO、CH2CN、炭素原子数1ないし12のアルコキ
    シ基、炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ基、炭
    素原子数3ないし6のアルケニル基、炭素原子数7ない
    し9のフェニルアルキル基、フェニル環上で炭素原子数
    1ないし4のアルキル基により一、二もしくは三置換さ
    れた炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、また
    は炭素原子数1ないし8のアシル基を表わし、そして R4は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、シクロヘキ
    シレン基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチレンジ
    シクロヘキシレン基、キシリレン基または1、2もしく
    は3個の酸素原子によりもしくは基>N−CH3により中
    断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基を表わ
    し、 pおよびrは、同一または異なっていてよいが、2ない
    し6の整数を表わし、そして qは0または1を表わす。)で表わされる基を表わし、
    そして R2はOH、ONa、OK、炭素原子数1ないし8のアルコキシ
    基、炭素原子数3ないし6のアルケニルオキシ基、炭素
    原子数7ないし9のフェニルアルコキシ基、炭素原子数
    1ないし8のアシルオキシ基または基R1−A−(式中、
    R1およびAは上記で定義したものを表わす。)を表わす
    か、またはR2はまた式(IV) (式中、R1およびAは上記で定義したものを表わす。)
    で表わされる基を表わすことができ、そしてR2が式(I
    V)で表わされる基を表わす場合、式(I)において括
    弧の外にある末端基R1はさらに基 (式中、R1およびAは上記で定義したものを表わす。)
    を表わしそしてnは1ないし20の数を表わす。]で表わ
    される化合物(但し、次式 および で表される化合物を除く。)。
  2. 【請求項2】式中、R5は水素原子、炭素原子数1ないし
    4のアルキル基、OH、炭素原子数6ないし8のアルコキ
    シ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基、ア
    リル基、ベンジル基またはアセチル基を表わす、請求項
    1記載の式(I)で表わされる化合物。
  3. 【請求項3】式中、R1は炭素原子数1ないし6のアルキ
    ル基、アリル基、ベンジル基、炭素原子数1ないし6の
    アシル基または(炭素原子数1ないし6のアルコキシ)
    −カルボニル基を表わし、Aは式(II a)または式(II
    b)(式中、R3は水素原子、炭素原子数1ないし6のア
    ルキル基、未置換もしくは炭素原子数1ないし4のアル
    キル基により一、二もしくは三置換されたシクロヘキシ
    ル基、ベンジル基または式(III)で表わされる基を表
    わし、R4は炭素原子数2ないし10のアルキレン基、シク
    ロヘキシレン基、シクロヘキシレンジメチレン基、メチ
    レンジシクロヘキシレン基、キシリレン基または1もし
    くは2個の酸素原子によりまたは基>N−CH3により中
    断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基を表わ
    し、pおよびrは、同一または異なっていてよく、2な
    いし4の整数を表わし、そしてqは0または1を表わ
    す。)で表わされる基を表わし、R2はOH、ONa、OK、炭
    素原子数1ないし6のアルコキシ基、アリルオキシ基、
    ベンジルオキシ基、炭素原子数1ないし6のアシルオキ
    シ基、基R1−A−または式(IV)で表わされる基を表わ
    し、そしてnは1ないし15の数を表わす、請求項1記載
    の式(I)で表わされる化合物。
  4. 【請求項4】式中、R1は炭素原子数1ないし4のアルキ
    ル基、炭素原子数1ないし4のアシル基または(炭素原
    子数1ないし4のアルコキシ)−カルボニル基を表わ
    し、Aは式(II a)または式(II b)(式中、R3は水素
    原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、シクロヘキ
    シル基、ベンジル基または式(III)で表わされる基を
    表わし、R4は炭素原子数2ないし8のアルキレン基、シ
    クロヘキシレンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシ
    レン基、または1もしくは2個の酸素原子によりまたは
    基>N−CH3により中断された炭素原子数4ないし10の
    アルキレン基を表わし、pおよびrは、同一または異な
    っていてよく、2または3を表わし、そしてqは0また
    は1を表わす。)で表わされる基を表わし、R2はOH、ON
    a、OK、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原
    子数1ないし4のアシルオキシ基、基R1−A−または式
    (IV)で表わされる基を表わし、そしてnは1ないし10
    の数を表わす、請求項1記載の式(I)で表わされる化
    合物。
  5. 【請求項5】式中、R1はメチル基、アセチル基または
    (炭素原子数1ないし2のアルコキシ)−カルボニル基
    を表わし、Aは式(II a)または式(II b)(式中、R3
    は水素原子、メチル基、シクロヘキシル基または式(II
    I)で表わされる基を表わし、R4は炭素原子数2ないし
    6のアルキレン基または1もしくは2個の酸素原子によ
    り中断された炭素原子数4ないし10のアルキレン基を表
    わし、pおよびrは、同一または異なっていてよく、2
    または3を表わし、そしてqは0または1を表わす。)
    で表わされる基を表わし、R2はOH、ONa、OK、メトキシ
    基、アセトキシ基、基R1−A−または式(IV)で表わさ
    れる基を表わし、そしてnは1ないし8の数を表わす、
    請求項1記載の式(I)で表わされる化合物。
  6. 【請求項6】式中、R1はメチル基、アセチル基または
    (炭素原子数1ないし2のアルコキシ)−カルボニル基
    を表わし、Aは式(II a)または式(II b)(式中、R3
    は水素原子、メチル基または式(III)で表わされる基
    を表わし、R5は水素原子、メチル基またはアセチル基を
    表わし、R4は炭素原子数3ないし6のアルキレン基また
    は2個の酸素原子により中断された炭素原子数8ないし
    10のアルキレン基を表わし、pおよびrは、同一または
    異なっていてよく、2または3を表わし、そしてqは0
    または1を表わす。)で表わされる基を表わし、R2は基
    R1−A−または式(IV)で表わされる基を表わし、そし
    てnは1ないし5の数を表わす、請求項1記載の式
    (I)で表わされる化合物。
  7. 【請求項7】式(V) (式中、R4′はトリメチレン基、ヘキサメチレン基また
    は4,7−ジオキサデカン−1,10−ジイル基を表わす。)
    で表わされる反復単位を含む、請求項1記載の式(I)
    で表わされる化合物。
  8. 【請求項8】合成ポリマー、および少なくとも一種の請
    求項1記載の式(I)で表わされる化合物を含む組成
    物。
  9. 【請求項9】請求項1記載の式(I)で表わされる化合
    物に加えて、合成ポリマー用の他の慣用添加剤を含む、
    請求項8記載の組成物。
  10. 【請求項10】有機材料はポリオレフィンである、請求
    項8記載の組成物。
  11. 【請求項11】有機材料はポリエチレンまたはポリプロ
    ピレンである、請求項8記載の組成物。
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