KR960012369B1 - 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘으로부터 유도되는 트리아진 화합물 - Google Patents

2,2,6,6-테트라메틸피페리딘으로부터 유도되는 트리아진 화합물 Download PDF

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Abstract

내용없음.

Description

2,2,6,6-테트라메틸피페리딘으로부터 유도되는 트리아진 화합물
본 발명은 신규한 트리아진 화합물, 이것의 용도 및 이 화합물을 사용하여 열적, 산화성 또는 광-유발된 분해로부터 안정화시킨 유기물질에 관한 것이다.
합성 중합체가 태양광선 또는 기타 자외선 광원에 노출되었을 때, 예를들어 기계적 강도의 감소 및 색상변화와 같이 이들의 물리적 특성이 점진적으로 변화한다는 사실이 공지되어 있다.
합성 중합체에 대한 자외선 복사의 악 영향을 저지하기 위해, 예를들어 벤조페논 및 벤조트리아졸의 특정 유도체, 니켈 착화합물, 치환된 벤조산 에스테르, 알킬리덴 말로네이트, 시아노아크릴레이트, 방향족 옥사미드 및 입체 장애아민과 같이 광 안정화 특성을 갖는 여러가지 첨가제의 사용이 제안되어 왔다.
EP-A-107 615호에는 2,4-비스[2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노]-1,3,5-트리아진 및 폴리올레핀에 대한 이들의 광-안정화 활성이 기술되어 있다.
EP-A-209 127호 및 EP-B1-82 244호에는 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-1,3,5-트리아진 및 합성 중합체에 대한 안정화제로서 이들의 용도가 기재되어 있다.
본 발명은 하기 일반식(Ⅰ), (Ⅰa) 및 (Ⅰb)의 화합물로 구성된 군으로부터 선정된 화합물에 관한 것이다.
Figure kpo00001
Figure kpo00002
Figure kpo00003
상기식에서, R1은 수소, O, -NO, -CH2CN, C1-C8알킬, 알릴, 벤질, OH-단일 치환된 C2-C4알킬 또는 C1-C8아실이고 ; R2및 R3은 상호 독립적으로
Figure kpo00004
또는 -O-(R12O)-nR13이며, 또 R2는 추가로 하기 일반식(Ⅱ)의 기이고 ;
Figure kpo00005
R4및 R14는 R1에 대하여 주어진 의미 중 어느 하나이며 ; R5는 C1-C18알킬, 비치환되거나, C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬 비치환되거나 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 페닐, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 페닐고리가 치환된 C7-C12페닐알킬이거나, 또는 2,3 또는 4위치가 OH, C1-C12알콕시 또는 디(C1-C4알킬)아미노에 의해 치환된 C2-C4알킬이고 ; R6는 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 페닐 고리가 치환된 C7-C12페닐알킬, 2,3 또는 4위치가 OH 또는 C1-C12알콕시에 의해 치환된 C2-C4알킬, 테트라히드로푸르푸릴 또는 하기 일반식(Ⅲ)의 기이며 ;
Figure kpo00006
(식중에서 R15는 R1에 대하여 주어진 의미중 하나임) R7는 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 페닐 고리가 치환된 C7-C12페닐알킬 또는 테트라히드로푸르푸릴이거나, 또는 R6이 일반식(Ⅲ)의 기인 경우, R7은 추가로 2, 3 또는 4위치가 OH 또는 C1-C12알콕시에 의해 치환된 C2-C4알킬이거나, 또는 R6-R7은 이들에 결합된 질소원자와 함께 1 또는 2개의 질소원자를 함유하는 7-원 헤테로시클릭 고리의 일부를 형성하고 ; R8은 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 페닐 고리가 치환된 C7-C12페닐알킬, 2,3 또는 4위치가 -OH, C1-C12알콕시 또는 디(C1-C4알킬)아미노에 의해 치환된 C2-C4알킬, 테트라히드로푸르푸릴 또는 일반식(Ⅲ)의 기이며 ; R9는 C2-C10알킬렌이고 ; R10및 R11은 상호 독립적으로 C1-C18알킬이거나 또는 R10및 R11이들에 결합된 질소 원자와 함께 5원 내지 7원 헤테로시클릭 고리의 일부를 형성하며 R12는 C2-C4알킬렌이고 ; R13은 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 C1-C12알킬에 의해 치환된 페닐 또는 일반식(Ⅲ)의 기이며 ; 또 n은 2 내지 20의 정수이고 ; R16은 수소, 메틸 또는 벤질이며 ; 라디칼 R17은 상호 독립적으로 C1-C18알킬이고 ; 라디칼 C18은 상호 독립적으로 수소 또는 하기 일반식(Ⅳ)의 기이며 ;
Figure kpo00007
R19는 R16에 대하여 주어진 의미중 하나이고 ; 라디칼 R20은 상호 독립적으로 수소, 메틸 또는 벤질이며 ; R21은 C8-C18알킬 또는 C3-C18알콕시 알킬임.
C1-C8알킬로서의 R1, R4, R14및 R15는 예를들어 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸 또는 옥틸이다. C1-C4알킬, 특히 메틸이 바람직하다.
바람직하게는 2 또는 3위치가 -OH에 의해 단일 치환된 C2-C4알킬로서의 R1, R4, R5, R6, R7, R8, R14및 R15는 예를들어 2-히드록시에틸, 2-히드록시프로필, 3-히드록시프로필, 2-히드록시부틸 또는 4-히드록시부틸이다. 2-히드록시에틸이 바람직하다.
C1-C8아실로서의 R1, R4, R14및 R15는 벤조일 또는 지방족 C1-C8아실기일 수 있고, 예를들어 C1-C8알카노일 또는 C3-C8알케노일이다. 지방족 아실기의 예는 프로필, 아세틸, 프로피온일, 부티릴, 발레릴, 카프로일, 아크릴로일 및 크로톤오일이다. 아세틸이 바람직하다.
C1-C18알킬로서의 R5, R6, R8, R10, R11, R13및 R17은 예를들어 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 2-부틸, 이소부틸, 3급-부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 2-에틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 헥사데실 또는 옥타데실이다. R5, R6및 R8은 바람직하게는 C1-C12알킬이고, 또 R10, R11및 R13은 바람직하게는 C1-C4알킬인 반면, R17은 C1-C8알킬로서 바람직하다.
C1-C4알킬, 특히 메틸에 의해 임의로 치환될 수 있는 C5-C12시클로알킬으로서의 R5, R6및 R8은 예를들어 시클로펜틸, 시클로헥실, 메틸시클로헥실, 디메틸시클로헥실, 트리메틸시클로헥실, 3급-부틸시클로헥실, 시클로옥틸 또는 시클로도데실이다. 비치환되거나 또는 메틸에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬, 특히 시클로헥실이 바람직하다.
C1-C4알킬에 의해 치환된 페닐으로서의 R5는 예를들어 메틸페닐, 디메틸페닐, 트리메틸페닐, 3급-부틸페닐 또는 2,6-디-3급부틸-4-메틸페닐이다.
C1-C12알킬에 의해 치환된 페닐으로서의 R13은 예를들어 메틸페닐, 디메틸페닐, 트리메틸페닐, 3급-부틸페닐, 2,6-디-3급부틸-4-메틸페닐, 4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐 또는 노닐페닐이다.
C1-C4알킬에 의해 페닐고리가 임의로 치환될 수 있는 C7-C12페닐알킬으로서의 R5, R6, R7및 R8은 예를들어 벤질, 메틸벤질, 디메틸벤질, 트리메틸벤질, 3급부틸벤질 또는 2-페닐에틸이다.
벤질이 바람직하다.
C1-C12알콕시, 바람직하게는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 C2-C4알킬으로서의 C5, C6, C7및 C8은 예를들어 1-메톡시에틸, 2-에톡시에틸, 2-부톡시에틸, 3-메톡시프로필, 3-에톡시프로필, 3-부톡시프로필, 3-옥틸옥시프로필, 3-(2-에틸헥실옥시)프로필, 3-도데실옥시프로필 또는 4-메톡시부틸이다.
디(C1-C4알킬)아미노에 의해 치환된 C2-C4알킬으로서의 C5및 C8은 예를들어 2-디메틸아미노에틸, 2-디에틸아미노에틸, 2-디부틸아미노에틸, 3-디메틸아미노프로필, 3-디에틸아미노프로필 또는 3-디부틸아미노프로필이다.
R6은 R7이, 이들에 결합된 질소 원자와 함께, 1또는 2개의 질소원자를 함유하는 7-원 헤테로시클릭 고리의 일부를 형성하는 경우, 이 고리는 예를들어 1-헥사히드로아제핀일, 1-호모피페라진일, 5,5,7-트리메틸-1-호모피페라진일 또는 4,5,5,7-테트라메틸-1-호모피페라진일이다.
C2-C10알킬렌으로서의 R9는 예를들어 에틸렌, 프로필렌, 테트라메틸렌, 펜타메틸렌, 2,2-디메틸-1, 3-프로필렌, 헥사메틸렌, 옥타메틸렌 또는 데카메틸렌이다. C2-C6알킬렌이 바람직하다.
R10및 R11이, 이들에 결합된 질소와 함께, 5-원 내지 7-원 헤테로시클릭 기를 형성하는 경우, 이 기는 예를들어 1-피롤리딜, 1-피페리딜, 4-모르폴리닐, 4-티오모르폴리닐, 1-페페라진일, 4-메틸-1-피페라진일, 1-헥사히드로아제핀일, 1-호모피페라진일, 5,5,7-트리메틸-1-호모피페라진일 또는 4,5,5,7-테트라메틸-호모피페라진일이다. 라디칼 R10및 R11이 결합되어 있는 질소 원자외에, 헤테로시클릭기는 예를들어 O, S 또는 N과 같은 그밖의 헤테로 원자를 임의로 함유할 수 있다.
C2-C4알킬렌으로서의 R12는 예를들어 에틸렌, 프로필렌 테트라메틸렌이다. 에틸렌이 바람직하다.
일반식(Ⅲ)의 기로서의 R13은 바람직하게는 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페라딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜이다.
C3-C18알콕시알킬으로서의 R21은, 바람직하게는 C1-C12알콕시, 특히 C1-C4알콕시에 의해 2, 3 또는 4위치가 치환된 C2-C4알킬이다.
이것의 예는 2-메톡시에틸, 2-에톡시에틸, 2-부톡시에틸, 3-메톡시프로필, 3-에톡시프로필, 3-부톡시프로필, 3-옥틸옥시프로필, 3-(2-에틸헥실옥시)프로필, 3-도데실옥시프로필 및 4-메톡시부틸이다.
C8-C18알킬으로서의 R21은 예를들어 옥틸, 2-에틸헥실 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실 트리데실, 테드라데실, 헥사데실 또는 옥타데실이다. C8-C12알킬이 바람직하다.
R2및 R3이 상기 정의한 바와 같고 ; R5가 C1-C18알킬, 페닐, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 치환된 시클로헥실이며 ; R6이 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 또는 C1-C3알킬에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬, 벤질 2,3 또는 4위치가 -OH 또는 C1-C12알콕시에 의해 치환된 C2-C4알킬, 테트라히드로푸르푸릴 이거나 또는 일반식(Ⅲ)의 기이고 ; R7이 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 페닐고리가 치환된 벤질, 테트라히드로푸르푸릴이거나, 또는 R6이 일반식(Ⅲ)의 기인 경우, R7이 추가로 -OH 또는 C1-C12알콕시에 의해 2,3 또는 4위치가 치환된 C2-C4알킬이거나 ; 또는 라디칼 R6및 R7이, 이들에 결합된 질소원자와 함께, 1또는 2개의 질소원자를 함유하는 7-원헤테로시클릭 고리의 일부를 형성하며 ; R8이 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬, 벤질, 2, 3 또는 4위치가 OH, C1-C12알콕시 또는 디(C1-C4알킬)아미노에 의해 치환된 C2-C4알킬, 테트라히드로푸르푸릴 또는 일반식(Ⅲ)의 기인 일반식(Ⅰ)의 화합물이 바람직하다.
R2및 R3이 상기 정의한 바와같고 ; 또 R5가 C1-C18알킬 또는 페닐이며 ; R6가 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 치환된 시클로헥실, 벤질, 2 또는 3위치가 -OH 또는 C1-C12알콕시에 의해 치환된 C2-C3알킬, 테트라히드로푸르푸릴 또는 일반식(Ⅲ)의 기이고 ; R7이 벤질, 테트라히드로푸르푸릴이거나, 또는 R6이 일반식(Ⅲ)의 기인 경우, R7이 추가로 2 또는 3위치가 -OH 또는 C1-C8알콕시에 의해 치환된 C2-C3알킬이거나 ; 또는 라디칼 R6및 R7이, 이들에 결합된 질소원자와 함께, 1 또는 2개의 질소원자를 함유하는 7-원 헤테로시클릭 고리의 일부를 형성하며 ; R8이 수소, C1-C18알킬, C1-C4알킬에 의해 치환되거나 비치환된 시클로헥실, 벤질, 2또는 3위치가 -OH, C1-C12알콕시 또는 디(C1-C4알킬)아미노에 의해 치환된 C2-C3알킬, 테트라히드로푸릴 또는 일반식(Ⅲ)의 기이고 ; R9가 C2-C6알킬렌이며 ; R10및 R11이 상호 독립적으로 C1-C12알킬이거나, 또는 R10및 R11이 이들에 결합된 질소원자와 함께, 1-피롤리딜, 1-피페리딜, 4-모르폴리닐 또는 1-헥사이드로아제핀일을 형성하고 ; R12가 C2-C4알킬렌이며 ; R13이 수소 또는 C1-C12알킬이고 또 n이 2 내지 20의 정수인 일반식(Ⅰ)의 화합물이 특별히 바람직하다.
라디칼 R1, R4, R14및 R15는 바람직하게는 수소, -CH2CN, C1-C4알킬, 알릴, 벤질, 아세틸이거나 또는 2 또는 3위치가 -OH에 의해 치환된 C2-C3알킬이고, 특히 수소 또는 메틸이다.
중요한 일반식(Ⅰ)의 화합물은 R1이 수소 메틸이고 ; R2및 R3이 상기 정의한 바와같으며 ; R4및 R14가 수소 또는 메틸이고 ; R5가 C1-C12알킬이며 ; R6및 C8이 상호 독립적으로 수소, C1-C12알킬, 시클로헥실, 벤질 또는 일반식(Ⅲ)의 기(여기서, R15는 수소 또는 메틸임)이고 ; R7이 벤질, 테트라히드로푸르푸릴이거나 또는 R6이 일반식(Ⅲ)의 기인 경우, R7이 추가로 3-(C1-C4알콕시)프로필이거나 ; 또는 R6및 R7이 이들에 결합된 질소 원자와 함께 1-헥사히드로아제핀일, 5,5,7-트리메틸-1,4-디아제판-1-일 또는 4,5,5,7-테트라메틸-1,4-디아제판-1-일을 형성하며 ; R9가 C2-C6알킬렌이고 ; R10및 R11이 C1-l4알킬이며 ; R12가 C2-C4알킬렌이고 ; R13이 수소 또는 C1-C12알킬이며 ; 또 n이 2 내지 15의 정수인 것이다.
R1이 수소 또는 메틸이고 ; R2및 R3이 상호 독립적으로
Figure kpo00008
이며, 또 R2가 추가로 일반식(Ⅱ)의 기이고 ; R4및 R14가 수소 또는 메틸이며 ; R5가 C4-C12알킬이고 ; R6이 수소, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜이며 ; R7이 벤질, 테트라히드로푸르푸릴이거나, 또는 R6이 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜인 경우, R7이 추가로 3-메톡시프로필 또는 3-에톡시프로필이고 ; R10및 R11이 상호 독립적으로 C1-C4알킬이며, R13이 C1-C12알킬이고 또 n이 2 내지 10의 정수인 일반식(Ⅰ)의 화합물이 또한 중요하다.
R1이 수소 또는 메틸이고 ; R2및 R3이 상호 독립적으로
Figure kpo00009
이며, 또 R2가 추가로 일반식(Ⅱ)의 기이고 ; R4및 R14가 수소 또는 메틸이며 ; R5가 C8-C12알킬이고 ; R6이 수소, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜이며 ; R7이 테트라히드로푸르푸릴이거나, 또는 R6이 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜인 경우, R7이 추가로 3-메톡시프로필 또는 3-에톡시프로필이고 ; R10및 R11이 상호 독립적으로 메틸 또는 에틸인 일반식(Ⅰ)의 화합물이 특히 중요하다.
R2및 R3이 -SR5또는 -O-(R12O)3-R13특히 하기의 기
Figure kpo00010
이고, 또 R2가 추가로 일반식(Ⅱ)의 기인 일반식(Ⅰ)의 화합물이 또한 바람직하다.
R1이 수소 또는 메틸이고 ; R2및 R3이 상호 독립적으로
Figure kpo00011
이며, 또 R2가 추가로 일반식(Ⅱ)의 기(여기서, R14는 수소 또는 메틸임)이고 ; R4가 수소, 메틸이며 ; R5가 C1-C12알킬이고 ; R6및 R8이 상호 독립적으로 수소 또는 일반식(Ⅲ)의 기(여기서, R15는 수소 또는 메틸임)이며 ; R7이 테트라히드로푸르푸릴이거나 또는 R6이 일반식(Ⅲ)의 기인 경우, R7이 추가로 3-(C1-C4알콕시)프로필이거나, 또는 R6및 R7이 이들에 결합된 질소원자와 함께 5,5,7-트리메틸-1,4-디아제판-1-일을 형성하고 ; R9가 C2-C6알킬렌이며 또 R10및 R11이 상호 독립적으로 C1-C4 알킬인 일반식(Ⅰ)의 화합물이 특별히 바람직하다.
일반식(Ⅰ)의 화합물의 바람직한 예는 다음과 같다 ;
a) 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[테트라하이드로푸르푸릴아미노]-1,3,5-트리아진,
b) 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[5,5,7-트리메틸-1,4-디아제판-1-일]-1,3,5-트리아진,
c) 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-테트라히드로푸르푸릴아미노]-1,3,5-트리아진,
d) 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시]-1,3,5-트리아진,
e) 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[3-(디에틸아미노)프로필아미노]-1,3,5-트리아진,f) 2-[N,N-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시]-1,3,5-트리아진,
g) 2,4-비스[N,N-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[3-(디에틸아미노)프로필아미노]-1,3,5-트리아진,
h) 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[n-도데실티오]-1,3,5-트리아진,
i) 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[n-도데실티오]-1,3,5-트리아진,
j) 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-3-메톡시프로필아미노]-1,3,5-트리아진.
화합물 c), d), e), f), i) 및 j)가 특별히 바람직하다.
R16이 벤질인 일반식(Ⅰa)의 화합물이 바람직하다.
R16이 수소 또는 메틸이고 ; 라디칼 R17이 상호 동일하며 또 C1-C8알킬이고 또 라디칼 C18이 상호 동일하며 또 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜 또는 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜인 일반식(Ⅰa)의 화합물이 특별히 바람직하다.
일반식(Ⅰa) 화합물의 바람직한 예는 2-[N,N-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스[N,N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-부틸아미노]-1,3,5-트리아진이다.
라디칼 R20이 상호 독립적으로 수소 또는 메틸이고 R21이 C8-C12알킬인 일반식(Ⅰb)의 화합물이 바람직하다.
라디탈 R20이 벤질인 일반식(Ⅰb)의 화합물이 또한 바람직하다.
일반식(Ⅰb) 화합물의 바람직한 예는 다음과 같다 :
2,4-비스[N,N-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[N-(메틸)-n-옥틸아미노]-1,3,5-트리아진,
2,4-비스[N,N-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[N-(메틸)-n-도데실아미노]-1,3,5-트리아진,
일반식(Ⅰ)의 화합물은, 시아누릭 클로라이드를 순서와 무관하게 하기 일반식(Ⅴ), (Ⅵ) 및 (Ⅶ)의 화합물과 반응시키는 공지된 방법으로 제조할 수 있다 :
Figure kpo00012
상기 식에서, R1, R2및 R3은 상기 정의한 바와 같음.
시약의 비는, 특히 시아누릴 클로라이드의 제1 및 제2염소의 치환 반응에서는, 바람직하게는 이론비이나, 제3염소의 치환반응에서는 시약을 20％까지 과량으로 또한 사용할 수있다.
반응은 통상적으로 반응에서 방출되는 염산에 대한 당량 이상의 유기 또는 무기 염기, 바람직하게는 나트륨 또는 칼륨 수산화물 또는 탄산염의 존재하에, 예를들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 디옥산, 테트라히드로푸란, 디부틸 에테르, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 트리메틸벤젠, 에틸벤젠, 데칼린, 옥탄, 데칸, 클로로벤젠 또는 N-메틸 피롤리돈과 같은 불활성 용매내에서 수행한다.
시아누릭 클로라이드의 제1염소의 치환반응은 -30°내지 40℃, 특히 -10°내지 30℃의 온도에서 일어나고, 제2염소의 치환반응은 40°내지 150℃, 특히 50°내지 140℃의 온도에서 일어나며, 제3염소의 치환반응은 바람직하게는 100°내지 200℃, 특히 140°내지 180℃의 온도에서 일어난다.
여러가지 반응 단계는 단일 반응기에서, 중간체의 분리없이 동일한 반응 매질내에서 수행할 수 있거나 또는 중간체의 분리 및 경우에 따라 정제 후 수행할 수 있다.
일반식(Ⅰa) 및 (Ⅰb)의 화합물은 일반식(Ⅰ)의 화합물과 유사한 방법으로 제조할 수 있다.
출발물질은 공지되어 있고 상업적으로 수득할 수 없는 경우에는, 공지된 방법으로 제조할 수 있다.
일반식(Ⅰ) 화합물의 서두에서 언급한 바와같이, (Ⅰa) 또는 (Ⅰb)는 유기 물질 특히, 합성 중합체와 광 안정성, 열 안정성 또는 산화 안정성의 개선에 매우 유효하다. 특별히, 이 화합물들의 뛰어난 산화안정 능력은 놀랄만하다.
따라서, 본 발명의 또 다른 목적은 열적 분해, 산화성 분해 또는 광-유발 분해되기 쉬운 유기 물질 및 1개 이상의 일반식(Ⅰ), (Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 화합물을 함유하는 조성물이다.
유기 물질이 합성 중합체, 특히 예를들어 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌과 같은 폴리올레핀인 조성물이 바람직하다.
일반식(Ⅰ), (Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 화합물에 의해 안정화될 수 있는 유기 물질의 예는 다음과 같다 :
1. 예를들어 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리-1-부텐, 폴리메틸-1-펜텐, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔과 같은 모노올레핀 및 디올레핀의 중합체 ; 또 예를들어 시클로펜텐 또는 노르보르넨(norbornene)과 같은 시클로올레핀의 중합체 ; 예를들어 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE) 및 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE)과 같은 폴리에틸렌(임의로 교차 결합될 수 있음).
2. 예를들어 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물 ; 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물(예 : PP/HDPE, PP/LDPE) 및 상이한 종류의 폴리에틸렌의 혼합물(예 : LDPE/HOPE)와 같은 상기 1)에서 언급한 중합체들의 혼합물.
3. 예를들어 에틸렌/프로필렌, 선형 저 밀도 폴리에틸렌(LLDPE)과 그것의 저 밀도 폴리에틸렌(LDPE)과의 혼합물, 프로필렌/1-부텐, 에틸렌/헥센, 에틸렌/에틸펜텐, 에틸렌/헵텐, 에틸렌/옥텐, 프로필렌/이소부틸렌, 에틸렌/1-부텐, 프로필렌/부타디엔, 이소부틸렌/이소프렌, 에틸렌/알킬 아크릴레이트, 에틸렌/알킬메타크릴레이트, 에틸렌/비닐 아세테이트 또는 에틸렌/아크릴산 혼성 중합체와 같은 모노올레핀 및 디올레핀 상호의 또는 기타 비닐단량체와의 혼성 중합체, 및 그들의 염(이오노머 ionomers) 및 에틸렌과 프로필렌 및 디엔(예 : 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보르덴)의 터폴리머 ; 이러한 혼성중합체의 혼합물 및 예를들어 폴리프로필렌/에틸렌-프로필렌 혼성중합체, LDPE/EVA, LDPE/EAA, LLDPE/EVA 및 LLDPE/EAA와 같은 이들의 상기 1)에서 언급한 중합체와의 혼합물.
3a. 탄화수소 수지(예 : C5-C9) 및 그것의 수소화된 변형물(예 : 점착성 부여제)
4. 폴리스티렌, 폴리-(p-메틸스티렌), 폴리(α-메틸스티렌).
5. 예를들어 스티렌/부타디엔, 스티렌/아크릴로니트릴, 스티렌/알킬메타크릴레이트, 스티렌/말레산 무수물, 스티렌/부타디엔/에틸아크릴레이트, 스티렌/아크릴로니트릴/메틸 아크릴레이트와 같은 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔 또는 아크릴 유도체의 혼성 중합체 ; 스티렌 혼성 중합체 및 예를들어 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌/프로필렌/디엔 터폴리머와 같은 또 다른 중합체로부터 수득한 고충격 강도를 갖는 혼합물 ; 및 예를들어 스티렌/부타디엔/스티렌, 스티렌/이소프렌/스티렌, 스티렌/에틸렌/부틸렌/스티렌 또는 스티렌/에틸렌/프로필렌/스티렌과 같은 스티렌의 블록 혼성 공중합체.
6. 예를들어 폴리부타디엔 상의 스티렌, 폴리부타디엔-스티렌 또는 폴리부타디엔-아크릴로니트릴상의 스티렌 ; 폴리부타디엔상의 스티렌 및 아크릴로 니트릴(또는 메타크릴로니트릴) ; 폴리부타디엔상의 스티렌 및 말레산 무수물 또는 말레이미드 ; 폴리부타디엔상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 말레산 무수물 또는 말레이미드 ; 폴리부타디엔상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트, 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트, 에틸렌/프로필렌/디엔 터폴리머 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 아크릴레이트/부타디엔 혼성 중합체상의 스티렌 및 아크릴로니트릴과 같은 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그라프트 혼성 중합체는 물론 ; 5) 이하에 수록된 혼성 중합체와 이들의 혼합물, 예를들어 ABS-, MBS-, ASA-, 또는 AES 중합체.
7. 예를들어 폴리클로로프렌, 염소화 고무, 염소화 또는 술포염소화된 폴리에틸렌과 같은 할로겐 함유 중합체 ; 에피클로로히드린 동종- 및 혼성 중합체 ; 예를들어 폴리비닐클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐 플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드와 같은 할로겐 함유 화합물로부터 생성된 중합체는 물론, 예를들어 비닐 클로라이드/비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드/비닐 아세테이트 또는 비닐리덴 클로라이드/비닐 아세테이트 혼성 중합체와 같은 이들의 혼성 중합체.
8. 예를들어 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드 및 폴리아크릴로니트릴과 같이 α,β-불포화 산 및 이것의 유도체로부터 유도된 중합체.
9. 8) 이하에서 기술한 단량체들로부터, 또는 이들과 기타 불포화 단량체들로부터 제조된 혼성 중합체, 예를들어 아크릴로니트릴/부타디엔, 아크릴로니트릴/알릴 아크릴레이트, 아크릴로니트릴/알콕시알킬 아크릴레이트 또는 아크릴로 니트릴/비닐 할로게니드 혼성중합체 또는 아크릴로니트릴/알킬 메타크릴레이트/부타디엔 터폴리머.
10. 예를들어 폴리비닐알콜, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레이트, 폴리비닐부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴-멜라민과 같이, 알코올 및 아민, 또는 이들의 아실 유도체 또는 아세탈로부터 유도된 중합체 ; 또한 상기 1)에서 기술된 올레핀과 이들의 혼성 중합체.
11. 예를들어 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥시드, 폴리프로필렌 옥시드 또는 이들과 비스-글리시딜에테르와의 혼성 중합체와 같은, 시클릭 에테르의 동종 중합체 또는 혼성 중합체.
12. 예를들어 폴리옥시메틸렌 및 공동 단량체로서 에틸렌 옥시드를 함유하는 폴리옥시메틸렌등과 같은 폴리아세탈 ; 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로 변성시킨 폴리아세탈.
13. 폴리페닐렌 옥시드 및 술피드, 또 폴리페닐렌 옥시드와 폴리스티렌 또는 폴리아미드의 혼합물.
14. 한쪽에는 히드록시 말단기를 갖는 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리부타디엔을, 또 다른 한 쪽에는 지방족 및 방향족 폴리이소시아네이트를 사용하여 유도할 수 있는 폴리우레탄은 물론 이것의 전구 물질(폴리이소시아네이트, 폴리올 또는 전중합체).
15. 디아민 및 디카르복시산으로부터 유도되고/되거나 아미노카르복시산 또는 상응하는 락탐으로부터 유도되는 폴리아미드 및 코폴리아미드, 예를들어 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 6/10, 6/9, 6/12 및 4/6, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, 또 m-크실렌디아민 및 아디프산의 축합반응에 의해 수득되는 방향족 폴리아미드 ; 헥사메틸렌 디아민 및 이소프탈산 또는/및 테레프탈산으로부터 제조된 폴리아미드 및 임의로 예를들어 폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드와 같은 변성제로서의 탄성 중합체. 그밖의 상기 폴리아미드와 폴리올레핀의 혼성중합체, 올레핀 혼성 중합체, 이오노머 또는 화학 결합되거나 또는 그라프트된 탄성 중합체 ; 또는 예를들어 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜과 같은 폴리에테르와의 혼성 중합체, EPDM 또는 ABS로 변성된 폴리아미드 또는 코폴리아미드, 공정 중 축합된 폴리아미드(RIM-폴리아미드 시스템).
16. 폴리우레아, 폴리아미드 및 폴리아미드-이미드.
17. 예를들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸을-시클로헥산 테레프탈레이트, 폴리-[2,2,-(4-히드록시페닐)-프로판]테레프탈레이트 및 폴리히드록시 벤조에이트와 같이, 디카르복시산 및 디올로부터 및/또는 히드록시카르복시산 또는 상응하는 락톤으로부터 유도되는 폴리에스테르는 물론, 히드록시 말단기를 갖는 폴리에테르로부터 유도된 블록-코폴리에테르-에스테르.
18. 폴리카보네이트 및 폴리에스테르-카보네이트.
19. 폴리술폰, 폴리에테르술폰 및 폴리에테르케톤.
20. 한쪽에는 알데히드를 사용하고 또 다른 한 쪽에는 페놀, 우레아 및 멜라민을 사용하여 유도할 수 있는 교차결합가능한 중합체, 예를들어 페놀/포름알데히드 수지, 우레아/포름 알데히드 수지 및 멜라민/포름알데히드 수지.
21. 건성 및 비 건성 알키드 수지.
22. 포화 및 불포화 디카르복시산 및 폴리히드릭 알코올의 코폴리에스테르 및 교차결합제인 비닐 화합물로부터 유도된 불포화 폴리에스테르 수지, 및 또한 낮은 인화성을 갖는 이것의 할로겐-함유 변성물.
23. 예를들어 에폭시-아크릴레이트, 우레탄-아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트와 같은, 치환된 에스테르로부터 유도된 열 경화성 아크릴 수지.
24. 교차 결합제로서의 멜라민 수지, 우레아 수지, 폴리이소시아네이트 또는 에폭시드 수지와 혼합물 형태인 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 또는 아크릴레이트 수지.
25. 예를들어 비스-글리시딜 에테르 또는 시클로지방족 디에폭시드등의 폴리에폭시드로부터 유도되는 교차결합된 에폭시드.
26. 예를들어 셀룰로오즈, 고무, 젤라틴 및 중합체-동일 기법으로 화학적 변성시킨 이들의 유도체(예 : 셀룰로오즈 아세테이트, 셀룰로오즈 프로피오네이트 및 셀룰로오즈 부티레이트)와 같은 천연 중합체, 또는 예를들어 메틸 셀룰로오즈와 같은 셀룰로오즈 에테르 ; 송진 및 그의 유도체.
27. 상기 기술한 중합체들의 혼합물, 예를들어 PP/EDPM, 폴리아미드 6/EPDM 또는 ABS, PVC/EVA, PVD/ABS, PVC/MBS, C/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열 경화성 PUR, PC/열경화성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPE/HIPS, PPE/PA6.6 및 혼성 중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPE.
28. 순수환 단량체 화합물 또는 이들 화합물의 혼합물인 천연 생성 및 합성 유기 물질로서, 예를들어 광유, 동물 및 식물성 지방, 오일 및 왁스 ; 또는 합성 에스테르(프탈레이트, 아디페이트, 포스페이트 또는 트리멜리테이트)를 기재로하는 오일, 지방 및 왁스 ; 또는 합성 에스테르(프탈레이트, 아디페이트, 포스페이트 또는 트리멜리테이트)를 지재로하는 오일, 지방 및 왁스 ; 또한 중합체에 대한 가소제로서 또는 섬유 방적 오일로서 사용될 수 있는 물질인, 중량비로 혼합된 합성 에스테르 및 광유의 혼합물은 물론, 이들의 물질의 수성 유제.
29. 예를들어 천연 라텍스 또는 카르복시화된 스티렌/부타디엔 혼성 중합체의 라티스와 같은 천연 또는 합성 고무의 수성 유제.
중합체의 성질, 최종 용도 및 기타 첨가제의 존재에 따라, 여러가지 비율로 일반식(Ⅰ), (Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 화합물은, 안정화시킬 물질과의 혼합물로서 사용될 수 있다. 일반적으로, 중합체의 중량을 기준으로하여, 일반식(Ⅰ), (Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 화합물을 0.01 내지 5중량％, 바람직하게는 0.05 내지 1중량％ 사용하는 것이 유리하다.
일반식(Ⅰ), (Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 화합물은, 예를들어 분말 형태의 건식 블렌딩, 또는 용액 또는 현탁액 형태이거나 또는 주벳치 형태의 습식 블렌딩과 같은 여러가지 공법에 의해 중합체 물질에 혼입시킬 수 있고 ; 이러한 공정에서 중합체는 분말, 입자, 용액, 현탁액 형태로 사용되거나 또는 라덱스 형태로 사용될 수 있다.
일반식(Ⅰ), (Ⅰa) 또는 (Ⅰb) 화합물로 안정화된 물질은 성형 제품, 필름, 테이프, 모노필라멘트, 표면-코팅재료등의 제조를 위해 사용될 수 있다.
경우에 따라, 안정화시킬 물질과 일반식(Ⅰ), (Ⅰa) 또는 (Ⅰb)화합물의 혼합물에 예를들어 산화 방지제, UV 흡광체, 니켈 안정화제, 안료, 충전제, 가소제, 대전 방지제, 방염제, 윤활제, 부식 억제제 및 금속 탈활성제와 같은 합성 중합체에 대한 기타 통상적인 첨가제를 부가할 수 있다.
일반식(Ⅰ), (Ⅰa) 또는 (Ⅰb)의 화합물과 혼합할 수 있는 첨가제의 예는 특히 다음과 같다 :
1. 산화 방지제
1.1. 알킬화된 모노페놀, 예를들어 2,6-디-3-급부틸-4-메틸페놀, 2-3급부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-3급부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-3급부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-3급부틸-4-이소-부틸페놀, 2,6-디시클로로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로헥실페놀, 2,6-디-3급부틸-4-메톡시메틸페놀 2,6-디-노닐-4-메틸페놀.
1.2. 알킬화된 히드로퀴논, 예를들어 2,6-디-3급부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-3급부틸히드로퀴논, 2,5-3급-아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀.
1.3. 히드록시화된 티오디페닐 에테르, 예를들어 2,2'-티오비스(6-3급부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급부틸-2-메틸페놀).
1.4. 알킬리덴비스페놀, 예를들어 2,2'-메틸렌비스(6-3급부틸-4-메틸페놀, 2,2'-메틸렌비스(6-3급부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스-(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스-(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스-(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스-(6-3급부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스-[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페닐], 2,2'-메틸렌비스-[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페닐], 4,4'-메틸렌비스-[2,6-디-3급부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스-(6-3급부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스-(5-3급부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스-(3-3급부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-3급부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-3급부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실 메르캅토 부탄, 에틸렌 글리콜 비스-[3,3-비스(3'-3급부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-3급부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-3급부틸-2'-히드록시-5'-메틸벤질)-6-3급부틸-4-메틸페닐)테레프탈레이트.
1.5. 벤질 화합물, 예를들어 1,3,5-트리스(3,5-디-3급부틸-4-하디르록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤질, 비스(3,5-디-3급부틸-4-히드록시벤질)술피드, 이소옥틸 3,5-디-3급부틸-4-히드록시벤질-메르캅토아세트, 비스(4-3급부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-3급부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-3급부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 디옥타데실 3,5-디-3급부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 모노에틸 3,5-디-3급부틸-4-히드록시벤질-포스포네이트의 칼슘 염, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질)이소시아누레이트.
1.6. 아실아미노페놀, 예를들어 라우르산의 4-히드록시아닐리드, 스테아르산의 4-히드록시아닐리드, 2,4-비스(옥틸메르캅토)-6-(3,5-디-3급부틸-4-히드록시아닐리노)-s-트리아진, 옥틸-N-(3,5-디-3급부틸-4-히드록시페닐)카르바메이트.
1.7. β-(3,5-디-3급부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테스, 예를들어 메탄올, 디에틸렌글리콜, 옥타데칸올, 트리에틸렌 글리콜, 1,6-헥산디올, 펜타에리트리톨, 네오펜틸, 글리콜, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, 티오디에틸렌 글리콜, N,N'-비스(히드록시에틸)옥살산 디아미드와 같은 모노-또는 폴리히드록알코올과 β-(3,5-디-3급부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
1.8. β-(5-3급부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산의 에스테르, 예를들어 메탄올, 디에틸렌글리콜, 옥타데칸올, 트리에틸렌 글리콜, 1,6-헥산디올, 펜타에리트리톨, 네오펜틸 글리콜, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, 티오디에틸렌 글리콜, N,N'-비스(히드록시에틸)옥살산 디아미드와 같은 모노-또는 폴리히드릭 알코올과 β-(5-3급부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산의 에스테르.
1.9. β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르, 예를들어 메탄올, 디에틸렌글리콜, 옥타데칸올, 트리에틸렌 글리콜, 1,6-헥산디올, 펜타에리트리톨, 네오펜틸 글리콜, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, 티오디에틸렌 글리콜, N,N'-비스(히드록시에틸)이소시아누레이트, 티오디에틸렌글리콜, N,N'-비스(히드록시에틸)옥살산 디아미드와 같은 모노-또는 폴리히드릭 알코올과 β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
1.10. β-(3,5-디-3급부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를들어 N,N'-비스(3,5-디-3급부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-3급부틸-4-히드록시페닐 프로피오닐)트리메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-3급부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진.
2. UV 흡광체 및 광 안정화제
2.1. (2-(2'-히드록시 페닐)벤조트리아졸, 예를들어 5'-메틸, 3',5'-디-3급부틸, 5'-3급부틸, 5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸), 5-클로로-3',5'-디-3급부틸, 5-클로로-3'-3급부틸-5'-메틸, 3'-2급부틸-5'-3급부틸, 4'-옥톡시, 3',5'-디-3급아밀 및 3',5'-비스(α,α-디메틸벤질) 유도체.
2.2 2-히드록시벤조페논, 예를들어 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥톡시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3 치환된 및 비치환된 벤조산의 에스테르, 예를들어 4-3급부틸 페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일 레솔시놀, 비스(4-3급부틸벤조일)레솔시놀, 벤조일레솔시놀, 2,4-디-3급부틸페닐 3,5-디-3급부틸-4-히드록시벤조에이트 및 헥사데실 3,5-디 3급부틸-4-히드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트, 예를들어 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카르보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 메틸 α-카르보메톡시-p-메톡시신나메이트 및 N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5. 니켈 화합물, 예를들어 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로헥실디에탄올아민과 같은 추가의 리간드를 갖거나 또는 갖지않는, 1 : 1 또는 1 : 2 착화합물과 같은 2,2'-티오비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착화합물 ; 니켈 디부틸디티오카르바메이트 ; 예를들어 메틸 또는 에틸 에스테르와 같은 4-히드록시-3,5-디-3급부틸벤질포스폰산 모노알킬 에스테르의 니켈 염 ; 예를들어 2-히드록시-4-메틸페닐 운데실 케톤옥심과 같은 케로옥심의 니켈 착화합물 ; 추가의 리간드를 갖거나 또는 갖지 않는 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시파라졸의 니켈 착 화합물.
2.6. 입체장애 아민, 예를들어 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸 피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)n-부틸-3,5-디-3급부틸-4-히드록시벤질말로네이트, 1-히드록시에틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘 및 숙신산의 축합반응 생성물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민 및 4-3급 옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합반응 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논).
2.7. 옥살산 아미드, 예를들어 4,4'-디옥틸옥시옥스아닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-3급부틸옥스아닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-3급-부틸옥스아닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥스아닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥살아미드, 2-에톡시-5-3급부틸-2'-에틸옥스아닐리드 및 이것의 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-3급부틸옥스 아닐리드와의 혼합물 및 오르토-및 파라-메톡시 이치환된 옥스아닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시 이치환된 옥스아닐리드의 혼합물.
3. 금속 탈활성제, 예를들어 N,N'-디페닐옥살산 디아미드, N-살리실알-N'-살리실로일히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, N,N'-비스(3,5-디-3급부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살산 디히드라지드.
4. 포스피트 및 포스포니트, 예를들어 트리페닐 포스피트, 디페닐알킬 포스피트, 페닐디알킬 포스피트, 트리스(노닐페닐)포스피트, 트리라우릴 포스피트, 트리옥타데실 포스피트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스피트, 트리스(2,4-디-3급부틸페닐)포스피트, 디이소데실 벤타에리트리톨 디포스피트, 비스(2,4-디-3급부틸페놀)펜타에리트리톨 디포스피트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스피트, 테트라키스(2,4-디-3급부틸페닐) 4,4'-비페닐렌디포스포니트, 3,9-비스(2,4-디-3급부틸페녹시)-2,4,8,10-테트라옥시-3,9-디포스파스피로[5,5]운데칸.
5. 과산화물 스캐빈저(peroxide scavengers)
예를들어 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르와 같은 β-티오디프로피온산의 에스테르 ; 메르캅토벤즈이미다졸 또는 2-메르캅톱벤즈이미다졸의 아연염 ; 아연 디부틸디티오카르바메이트 ; 디옥타데실 디술피트 ; 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프로피오네이트.
6. 폴리아미드 안정화제, 예를들어 요오드 및/또는 인 화합물과 결합된 구리염 및 2가 망간의 염.
7. 염기성 공동 안정화제, 예를들어 멜라민 ; 폴리비닐 피롤리돈 ; 디시안디아미드 ; 트리알릴 시아누레이트 ; 우레아 유도체 ; 히드라진 유도체 ; 아민 ; 폴리아미드 ; 폴리우레탄 ; 예를들어 Ca 스테아레이트, Zn 스테아레이트, Mg 스테아레이트, Na 리시놀레이트 및 K팔미테이트와 같은 고 지방산의 알칼리 금속염 및 알카리노 금속염 ; 안티몬 피로카테콜레이트 또는 아연 피로카테콜레이트.
8. 핵 생성제, 예를들어 4-3급부틸-벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산.
9. 충전제 및 보강재, 예를들어, 칼슘 카르보제이트, 실리케이트, 유리섬유, 아스베스토스, 활석, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 흑연.
10. 기타 첨가제, 예를들어 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 광학적 광택제, 방염제, 대전 방지제 및 발포제.
[실시예 1]
A) 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리elf)-아미노]-4,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 제조
-10℃로 냉각시킨, 크실렌 160ml중의 시아누릭 클로라이드 18.45g(0.1몰)의 용액에 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피레리딜)아민 29.5g(0.1몰)을, 온도를 약 0℃로 유지시키면서, 서서히 부가한다. 부가를 종료한 후, 혼합물을 실온에서 3시간동안 교반한다. 수산화나트륨 파우더 4.4g(0.11몰)을 부가한 다음 실온에서 추가로 2시간동안 교반을 계속한다.
혼합물을 여과하고, 또 잔류분을 H2O로 세척한 다음 진공(2mbar)하의 110℃에서 건조시킨다.
수득한 생성물은 251 내지 252℃의 융점을 갖는다.
C21H36Cl2N6에 대한 원소분석
계산치(％) : C ; 15.99
실측치(％) : C ; 16.01
B) 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-아미노]-4,6-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)옥틸아미노]-1,3,5-트리아진의 제조
2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-아미노]-4,6-디클로로-1,3,5-트리아진 44.3g(0.1몰), 2,2,6,6-테트라메틸-4-옥틸아미노 피페리딘 56.38g(0.21몰) 및 크실렌 250ml를 환류하에서 4시간동안 가열한다. 수산화나트륨 파우더 8.8g(0.22몰)을 부가하고 반응중의 물의 분리 제거하면서, 혼합물을 추가로 16시간동안 환류하에서 가열한다. 혼합물 60 내지 70℃에서 여과하고, 수득한 용액을 진공(24mbar)에서 증발시킨다. 잔류분을 아세톤으로부터 결정화시킨다. 수득한 생성물은 117 내지 118℃의 융점을 갖는다.
C55H106N10O에 대한 분석 :
계산치(％) : C ; 72.79, H ; 11.77, N ; 15.43
실측치(％) : C ; 72.64, H ; 11.80, N ; 15.44
크실렌중의 1몰의 시아누릭 클로라이드를 처음에 1몰의 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아민과 반응시키고 또 이어 중간체로서 형성된 디클로로트리아진을 분리하지 않고 2몰의 2,2,6,6-테트라메틸-4-옥틸아미노피페리딘과 반응시킴으로써, 단일반응기내에서 과정에 따라 동일한 화합물을 수득할 수 있다.
[실시예 2-9]
실시예1에 기술된 과정에 따르고 또 적합한 시약을 사용함으로써, 하기 일반식의 화합물을 제조할 수 있다.
Figure kpo00013
Figure kpo00014
[실시예 10]
2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스[1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시]-1,3,5-트리아진의 제조
크실렌 250ml중의 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-디클로로-1,3,5-트리아진 44.3g(0.1몰)의 용액에 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-히드록시피페리딘 34.2g(0.2몰) 및 무수 탄산칼륨 1g을 부가한다. 이어서, 온도가 40℃를 초과하지 않도록 하면서, 수산화 칼륨 56.1g(0.1몰)을 교반하면서 서서히 부가한다. 테트라부틸암모늄 수소 황산염 6.8g(0.02몰)을 부가한 후, 혼합물을 90℃에서 2시간동안 교반하면서 가열한다. 이어 혼합물을 냉각시키고 여과한다. 유기 용매를 진공(24mbar)하에서 증발시키고 잔류분을 물로 세척한 다음 아세톤으로부터 결정화시킨다.
여과 및 건조 후, 199 내지 200℃의 융점을 갖는 생성물을 수득한다.
C41H76N8O2에 대한 분석 :
계산치(％) : C ; 69.06, H ; 10.74, N ; 15.71
실측치(％) : C ; 68.88, H ; 10.69, N ; 15.65
[실시예 11]
2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스[n-도데실티오]-1,3,5-트리아진의 제조
교반하면서, 110℃에서 가열된, 크실렌 130ml중의 1-도데칸티올 20.3g(0.11몰)의 용액에 나트륨 2.53g(0.11몰)을 서서히 부가한다. 부가 후, 혼합물을 120℃에서 2시간동안 가열한다. 이어 혼합물을 환류하에서 8시간동안 가열하면서, 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-디클로로-1,3,5-트리아진 22.1g(0.05몰)을 부가한다. 혼합물을 냉각시키고, 여과에 의해 유기 용액을 분리 제거한 다음 용매를 진공하(24mbar)에서 증발시킨다. 잔류분을 물로 세척하고 아세톤으로부터 결정화시킨다. 여과 및 건조 후, 융점이 62 내지 63℃인 생성물을 수득한다.
C45H86N6S2에 대한 분석 :
계산치(％) : C ; 69.71, H ; 11.18, N ; 10.84
실측치(％) : C ; 69.77, H ; 11.17, N ; 10.80
[실시예 12]
A) 2,4-비스[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-클로로-1,3,5-트리아진의 제조
20 내지 25℃의 크실렌 300ml중의 시아누릭 클로라이드 18.45g(0.1몰)의 용액에 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아민 59.1g(0.2몰)을, 이 온도를 유지시키면서 부가한다. 부가 종료 후, 혼합물을 20 내지 25℃에서 1/2시간동안 교반하고 130℃에서 3시간동안 가열한다. 잘게 빻아진 무수 탄산 칼륨 138.2g(1몰)을 부가하고, 혼합물을 환류하에 3시간동안 가열한 다음 반응중의 물을 분리제거하면서 추가로 16시간동안 가열한다.
이렇게하여 수득한 혼합물을 진공(24mber)하에서 증발시키고 잔류분을 물로 반복적으로 세척하여, Cl-에 대한 음의 반응(negative reaction)이 얻어지도록 하고 따뜻한 아세톤으로 처리한다.
여과 및 건조 후, 321 내지 322℃의 융점을 갖는 생성물을 수득한다.
C39H72CIN9에 대한 분석 :
계산치(％) : Cl ; 5.05
실측치(％) : Cl ; 5.02
B) 2,4-비스[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[3-(디에틸아미노)프로필아미노]-1,3,5-트리아진의 제조
2,4-비스[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-클로로-1,3,5-트리아진 63.2g(0.09몰), 3-(디에틸아미노)프로필아민 13.02g(0.1몰) 및 크실렌 250ml를 환류하에서 2시간동안 가열한다.
수산화 나트륨 파우더 4.4g(0.11몰)을 부가하고 또 반응중의 물을 분리제거하면서, 혼합물을 환류하에서 추가로 16시간동안 가열한다. 80℃에서 혼합물을 여과하고 용적이 1/2로 될 때까지 용액을 진공하에서 증발시킨다.
실온으로 냉각시킴으로써 크실렌 용액으로부터 생성물을 결정화시킨다.
생성물은 여과에 의해 분리되며 또 건조 후, 222 내지 224℃의 융점을 갖는다.
C46H89N11에 대한 분석 :
계산치(％) : C ; 69.39, H ; 11.27, N ; 19.35
실측치(％) : C ; 69.06, H ; 11.20, N ; 19.24
[실시예 13]
2,4-비스[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[n-도데실티오]-1,3,5-트리아진의 제조
크실렌 250ml중의 1-도데칸디올 20.3g(0.11몰), 나트륨 2.53g(0.11몰) 및 2,4-비스[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-클로로-1,3,5-트리아진 70.25g(0.1몰)을 사용하고, 실시예 11에 기술된 과정에 따라 반응을 진행시켜, 168 내지 170℃의 융점을 갖는 생성물을 수득한다.
C51H97N9S에 대한 분석 :
계산치(％) : C ; 70.53, H ; 11.26, N ; 14.52
실측치(％) : C ; 69.98, H ; 11.22, N ; 14.39
[실시예 14]
2-[N,N-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스[N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)에틸라미노]-1,3,5-트리아진의 제조
물 120ml중의 포름산 18.4g(0.4몰)의 용액에 실시예 6으로부터 수득한 화합물 36.96(0.05몰)을 용해시킨다. 파라포름알데히드 12g(0.4몰)을 부가하고 환류하에서 12시간동안 가열한다. 실온으로 냉각시킨 후, 물 100ml중의 수산화 나트륨 20g(0.5몰)의 용액으로 반응 혼합물을 처리한다. 생성된 침전물을 여과에 의해 분리제거하고, 충분한 양의 물로 세척한 다음 진공(2mbar)하에서 건조시킨다. 수득된 생성물은 328 내지 329℃의 융점을 갖는다.
C47H90N10에 대한 분석 :
계산치(％) : C ; 70.98, H ; 11.41, N ; 17.61
실측치(％) : C ; 70.40, H ; 11.40, N ; 17.48
[실시예 15-18]
실시예 14에 기술된 과정에 따라 반응을 진행시키고 또 적합한 시약을 사용하여, 하기 일반식을 갖는 화합물을 제조할 수 있다.
Figure kpo00015
Figure kpo00016
[실시예 19-23]
실시예 14에 기술된 과정에 따라 반응을 진행시키고 또 적합한 시약을 사용하여, 하기 일반식의 화합물을 제조할 수 있다.
Figure kpo00017
일반식(Ⅰ), (Ⅰa) 또는 (Ⅰb) 화합물의 안정화 효율을 하기 실시예에 의해 예시하겠으며, 여기에서는 상기 제조 실시예에서 수득한 몇몇 화합물을 폴리프로필렌에 대해 산화 방지제 및 광 안정화제로서 사용하였다.
[실시예 24]
슬로우 믹서(slow mixer)내에서 표 1에 나타낸 각 화합물 1g 및 칼슘 스테아레이트 1g을 용융지수가 2g/10분(230℃ 및 2.16kg 조건에서 측정함)인 폴리프로필렌 파우더 1000g과 혼합한다. 혼합물을 200 내지 220℃에서 2회 압출시킴으로써, 220℃에서 3분동안 압축-성형하여 1mm 두께의 판(plate)(DIN 53451에 따른 주형)으로 바로 전환시킬 수 있는 중합체 미립자를 수득한다. 이렇게하여 수득한 판을 메짐성이 생길때까지 온도가 135℃로 유지되고 강한 공기 순환이 있는 오븐에 노출시킨다.
결과를 표 1에 나타내었다.
[표 1]
[실시예 25]
슬로우 믹서내에서, 표 2에서 나타낸 각 화합물 1g, 트리스-(2,4-디-3급부틸페닐)포스피트 0.5g, 펜타에리트리톨 테트라키스-[3-(3,5-디-3급부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트] 0.5g 및 칼슘 스테아레이트 1g을 용융지수가 3g/10분(230℃ 및 2.16kg에서 측정함)인 폴리프로필렌 파우더 1000g과 혼합한다. 혼합물을 200 내지 220℃에서 압출시켜, 하기와 같은 조건하에서 파일롯트 형 기구(Leonard-Sumirago(VA) Italy)를 사용하여 두께 50㎛ 및 폭 2.5mm의 연신된 테이프로 전환시킬 수 있는 중합체 미립자를 수득한다 :
압출기 온도 : 210-230℃
헤드 온도 : 240-260℃
연신 비율 : 1 : 6
이렇게하여 제조된 테이프를 블랙 판넬 온도가 63℃이고 백색 카드상에 장치된 모델 65WR Weather-O-Meter(ASTM G 26-77)내에 노출시킨다.
광선에 여러번 노출시킨 후 채취한 시료에 대하여, 일정 속력의 텐소메터(tensometer)를 이용하여 잔류점착성을 측정하고 ; 초기 점착성을 반감시키는데 필요한 노출시간(T50)을 시간단위로 계산한다. 결과를 하기의 표 2에 나타내었다.
[표 2]
Figure kpo00019

Claims (18)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물;
    Figure kpo00020
    상기 식에서 R1은 수소, O, -NO, -CH2CN, C1-C8알킬, 아릴, 벤질, OH-단일 치환된 C2-C4알킬 또는 C1-C8아실이고; R2및 R3은 상호 독립적으로
    Figure kpo00021
    Figure kpo00022
    또는
    Figure kpo00023
    이며, 또 R2는 추가로 하기 일반식(Ⅱ)의 기이고;
    Figure kpo00024
    R4및 R14는 R1에 대하여 주어진 의미중 어느 하나이며; R5는 C1-C18알킬, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 페닐, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 페닐고리가 치환된 C7-C12페닐알킬이거나, 또는 2,3 또는 4위치가 -OH, C1-C12알콕시 또는 디(C1-C|4알킬)아미노에 의해 치환된 C2-C4알킬이고; R6은 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 페닐고리가 치환된 C7-C12페닐알킬, 2,3 또는 4위치가 -OH 또는 C1-C12알콕시에 의해 치환된 C2-C4알킬, 테트라히드로푸르푸릴 또는 하기 일반식(Ⅲ)의 기이며;
    Figure kpo00025
    (식중에서, R15는 R1에 대하여 주어진 의미중 하나임)
    R7는 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 페닐고리가 치환된 C7-C|12페닐알킬 또는 테트라히드로푸르푸릴이거나, 또는 R6이 일반식(Ⅲ)의 기인 경우, R7은 추가로 2,3 또는 4위치가 -OH 또는 C1-C12알콕시에 의해 치환된 C2-C4알킬이거나, 또는 R6및 R7은 이들에 결합된 질소원자와 함께 1 또는 2개의 질소원자를 함유하는 7-원 헤테로시클릭 고리의 일부를 형성하고; R8은 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 페닐고리가 치환된 C7-C12페닐알킬, 2,3 또는 4위치가 -OH, C1-C12알콕시 또는 디(C1-C4알킬)아미노에 의해 치환된 C2-C4알킬, 테트라히드로푸르푸릴 또는 일반식(Ⅲ)의 기이며; R9는 C2-C10알킬렌이고; R10및 R11은 상호 독립적으로 C1-C18알킬이거나 또는 R10및 R11은 이들에 결합된 질소원자와 함께 5원 내지 7원 헤테로시클릭 고리의 일부를 형성하며, R12는 C2-C4알킬렌이고; R13은 수소, C1-C|18알킬, 비치환되거나 C1-C12알킬에 의해 치환된 페닐 또는 일반식(Ⅲ)의 기이며; 또 n은 2 내지 20의 정수임.
  2. 제1항에 있어서, R5가 C1-C18알킬, 페닐, 비치환되거나 C1-C|4알킬에 의해 치환된 시클로헥실이며; R6이 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬, 벤질, 2,3 또는 4위치가 -OH 또는 C1-C12알콕시에 의해 치환된 C2-C4알킬, 테트라히드로푸르푸릴이거나 또는 일반식(Ⅲ)의 기이고; R7이 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 페닐고리가 치환된 벤질, 테트라히드로푸르푸릴이거나, 또는 R6이 일반식(Ⅲ)의 기인 경우, R7이 추가로 -OH 또는 C1-C12알콕시에 의해 2,3 또는 4위치가 치환된 C2-C4알킬이거나; 또는 라디칼 R6및 R7이 이들에 결합된 질소원자와 함께, 1 또는 2개의 질소원자를 함유하는 7-원 헤테로시클릭 고리의 일부를 형성하며; R8이 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 또는 C1-C|4알킬에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬, 벤질, 2,3 또는 4위치가 -OH, C1-C12알콕시 또는 디(C1-C4알킬)아미노에 의해 치환된 C2-C4알킬, 테트라히드로푸르루릴 또는 일반식(Ⅲ)의 기인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  3. 제1항에 있어서, R5가 C1-C18알킬 또는 페닐이며; R6가 수소, C1-C18알킬, 비치환되거나 C1-C4알킬에 의해 치환된 시클로헥실, 벤질, 2 또는 3위치가 -OH 또는 C1-C12알콕시에 의해 치환된 C2-C3알킬, 테트라히드로푸르푸릴 또는 일반식(Ⅲ)의 기이고; R7이 벤질, 테트라히드로푸르푸릴이거나, 또는 R6이 일반식(Ⅲ)의 기인 경우, R7이 추가로 2 또는 3위치가 -OH 또는 C1-C8알콕시에 의해 치환된 C2-C3알킬이거나; 또는 라디칼 R6및 R7이, 이들에 결합된 질소원자와 함께, 1 또는 2개의 질소원자를 함유하는 7-원 헤테로시클릭 고리의 일부를 형성하며; R8이 수소, C1-C18알킬, C1-C4알킬에 의해 치환되거나 비치환된 시클로헥실, 벤질, 2 또는 3위치가 -OH, C1-C12알콕시 또는 디(C1-C4알킬)아미노에 의해 치환된 C2-C3알킬, 테트라히드로푸르푸릴 또는 일반식(Ⅲ)의 기이고; R9가 C2-C6알킬렌이며; R10및 R11이 상호 독립적으로 C1-C12알킬이거나, 또는 R10및 R11이 이들에 결합된 질소원자와 함께, 1-피롤리딜, 1-피페리딜, 4-모로폴리닐 또는 1-헥사히드로아제핀일을 형성하고; R12가 C2-C4알킬렌이며; R13이 수소 또는 C1-C12알킬이고 또 n이 2 내지 20의 정수인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  4. 제1항에 있어서, R1, R4, R14및 R15가 상호 독립적으로 수소, -CH2CN, C1-C4알킬, 아릴, 벤질, 아세틸이거나, 또는 2 또는 3위치가 -OH에 의해 치환된 C2-C3알킬인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  5. 제1항에 있어서, R1, R4, R14및 R15가 상호 독립적으로 수소, 또는 메틸인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  6. 제1항에 있어서, R1이 수소 또는 메틸이며; R4및 R14가 수소 또는 메틸이고; R5가 C1-C12알킬이며; R6및 R8이 상호 독립적으로 수소, C1-C12알킬, 시클로헥실, 벤질 또는 일반식(Ⅲ)의 기(여기서, R15는 수소 또는 메틸임)이고; R7이 벤질, 테트라히드로푸르푸릴이거나 또는 R6이 일반식(Ⅲ)의 기인 경우, R7이 추가로 3-(C1-C|4알콕시)프로필이거나; 또는 R6및 R7이 이들에 결합된 질소원자와 함께 1-헥사히드로아제핀일, 5,5,7-트리메틸-1,4-디아제판-1-일 또는 4,5,5,7-테트라메틸-1,4-디아제판-1-일을 형성하며; R9가 C2-C6알킬렌이고; R10및 R11이 C1-C4알킬이며; R12가 C2-C4알킬렌이고; R13이 수소 또는 C1-C12알킬이며; 또 n이 2 내지 15의 정수인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  7. 제1항에 있어서, R1이 수소 또는 메틸이고; R2및 R3이 상호 독립적으로
    Figure kpo00026
    며, 또 R2가 추가로 일반식(Ⅱ)의 기이고; R4및 R14가 수소 또는 메틸이며; R5가 C4-C12알킬이고; R6이 수소, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜이며; R7이 벤질, 테트라히드로푸르푸릴이거나, 또는 R6이 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜인 경우, R7이 추가로 3-메톡시프로필 또는 3-에톡시프로필이고; R10및 R11이 상호 독립적으로 C1-C4알킬이며; R13이 C1-C12알킬이고 또 n이 2 내지 10의 정수인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  8. 제1항에 있어서, R1이 수소 또는 메틸이고; R2및 R3이 상호 독립적으로
    Figure kpo00027
    이며, 또 R2가 추가로 일반식(Ⅱ)의 기이고; R4및 R14가 수소 또는 메틸이며; R5가 C8-C12알킬이고; R6이 수소, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜이며; R7이 테트라히드로푸르푸릴이거나, 또는 R6이 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜인 경우, R7이 추가로 3-메톡시프로필 또는 3-에톡시프로필이고; R10및 R11이 상호 독립적으로 메틸 또는 에틸인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  9. 제1항에 있어서, R2및 R3이 상호 독립적으로 -SR5기이고 R2가 추가로 일반식(Ⅱ)의 기인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  10. 제1항에 있어서, R2및 R3가 상호 독립적으로 (스캔작업) 기이고 또 R2가 추가로 일반식(Ⅱ)의 기인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  11. 제1항에 있어서, R2및 R3가 상호 독립적으로
    Figure kpo00028
    R11이고, 또 R2가 추가로 일반식(Ⅱ)의 기인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  12. 제1항에 있어서, R1이 수소 또는 메틸이고; R2및 R3이 상호 독립적으로
    Figure kpo00029
    이며, 또 R2가 추가로 일반식
    (Ⅱ)의 기(여기서, R14는 수소 또는 메틸임)이고; R4가 수소, 메틸이며; R5가 C1-C12알킬이고; R6및 R8이 상호 독립적으로 수소 또는 일반식(Ⅲ)의 기(여기서, R15는 수소 또는 메틸임)이며; R7이 테트라히드로푸르푸릴이거나 또는 R6이 일반식(Ⅲ)의 기인 경우, R7이 추가로 3-(C1-C4알콕시)프로필이거나, 또는 R6및 R7이 이들에 결합된 질소원자와 함께 5,5,7-트리메틸-1,4-디아제판-1-일을 형성하고; R9가 C2-C6알킬렌이며 또 R10및 R11이 상호 독립적으로 C1-C4알킬인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  13. 제1항에 있어서, 상기 화합물이 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[테트라히드로푸르푸릴아미노]-1,3,5-트리아진, 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[5,5,7-트리메틸-1,4-디아제판-1-일]-1,3,5-트리아진, 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-테트라히드로푸르푸릴아미노]-1,3,5-트리아진, 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[3-(디에틸아미노)프로필아미노]-1,3,5-트리아진, 2-[N,N-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스[N,N-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[3-(디에틸아미노)프로필아미노]-1,3,5-트리아진, 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스[n-도데실티오]-1,3,5-트리아진, 2,4-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[n-도데실티오]-1,3,5-트리아진, 또는 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-3-메톡시프로필아미노]-1,3,5-트리아진인 것을 특징으로 하는, 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  14. 제1항에 있어서, 상기 화합물이 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-테트라히드로푸르푸릴아미노]-1,3,5-트리아진, 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스-[1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[3-(디에틸아미노)프로필아미노]-1,3,5-트리아진, 2-[N,N-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스[1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-6-[n-도데실티오]-1,3,5-트리아진, 또는 2-[N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노]-4,6-비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-3-메톡시프로필아미노]-1,3,5-트리아진인 것을 특징으로 하는, 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  15. 열적 분해, 산화성 분해 또는 광-유발 분해되기 쉬운 합성 중합체 및 제1항에 따른 화합물을 1개이상 함유하는 조성물.
  16. 제15항에 있어서, 합성 중합체가 폴리올레핀인 조성물.
  17. 제15항에 있어서, 합성 중합체가 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌인 조성물.
  18. 1개 이상의 제1항에 따른 화합물을 합성 중합체에 혼입하는 것을 포함하는, 열적 분해, 산화성 분해 또는 광 유발된 분해에 대하여 합성 중합체를 안정화시키는 방법.
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