JPH04225974A - 有機材料用安定剤として使用するためのピペリジン−トリアジン化合物 - Google Patents

有機材料用安定剤として使用するためのピペリジン−トリアジン化合物

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JPH04225974A
JPH04225974A JP3126815A JP12681591A JPH04225974A JP H04225974 A JPH04225974 A JP H04225974A JP 3126815 A JP3126815 A JP 3126815A JP 12681591 A JP12681591 A JP 12681591A JP H04225974 A JPH04225974 A JP H04225974A
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    • C07D211/56Nitrogen atoms
    • C07D211/58Nitrogen atoms attached in position 4
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3477Six-membered rings
    • C08K5/3492Triazines
    • C08K5/34926Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規ピペリジン−トリア
ジン化合物、有機材料、特に合成ポリマー用の光安定剤
、熱安定剤および酸化安定剤としての上記化合物の使用
、およびこの化合物により安定化された有機材料ならび
に種々の中間体に関する。
【0002】
【従来の技術】合成ポリマーが酸素の存在下で日光また
はその他の紫外線源に暴露されるとき、該ポリマーが光
酸化的劣化を受けることが知られている。
【0003】それ故に、上記ポリマーが実際に使用され
るとき、適当な光安定剤、例えばベンゾフェノンおよび
ベンゾトリアゾールのある種の誘導体、ニッケル錯体、
置換安息香酸エステル、アルキリデンマロネート、シア
ノアクリレート、芳香族オキサミドまたは立体障害性ア
ミンをそれに添加することが必要である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジル基を含むいくつかのトリアジン化合
物および合成ポリマー用の光安定剤、熱安定剤および酸
化安定剤としての上記化合物の使用は米国特許4108
829号、4321374号、4433145号、44
91643号、4533688号および4740544
号、欧州特許公開117229号および176106号
公報、ならびに特開昭61−176662号および63
−196654号に報告されている。本発明は有機材料
用の光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤として有用な
上記従来の化合物とは異なる化合物を提供することを課
題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、次式I(化2
5):
【化25】 [式中、Aは直接結合、−O−、−CH2 −または−
CH2 CH2 −を表し、mは2ないし6の整数を表
し、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基、O・、OH、NO、CH2 CN、炭素原子数1
ないし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし12の
シクロアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニ
ル基、非置換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし
4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換
された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表
すか、または炭素原子数1ないし8のアシル基を表し、
R2 は次式:−OR4 、−SR4 または−NR5
 R6 {式中、R4 、R5 およびR6 は同一で
あっても異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1
ないし18のアルキル基、非置換または炭素原子数1な
いし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−
置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基
を表すか、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、非
置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によりモノ−、ジ
−もしくはトリ−置換されたフェニル基を表すか、非置
換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換された炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表すか、1な
いし8のアルコキシ基もしくはジ(炭素原子数1ないし
4のアルキル)アミノ基により2位、3位もしくは4位
で置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表す
か、テトラヒドロフルフリル基、次式II(化26):
【化26】 (式中Aおよびmは上記と同じ意味を表す)で表される
基または次式III(化27):
【化27】 (式中R7 はR1 と同じ意味を表す)で表される基
を表すか、または−NR5 R6 基は5員ないし7員
の複素環式基を表す}で表される基を表すか、またはR
2 は次式IVa(化28)ないしIVc(化30):
【化28】
【化29】
【化30】 (式中R7 は上記と同じ意味を表す)で表される基の
いずれかを表し、nは1、2、3または4を表し、そし
てnが1を表す場合、R3 はR2 と同じ意味を表し
、nが2を表す場合、R3 は次式VaないしVc(化
32):−E1 −R8 −E2 −    (Va)
【化31】
【化32】 (式中、E1 、E2 およびE3 は同一でも異なっ
ていてもよく、−O−または>N−R12を表し、R8
 は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、1、2も
しくは3個の酸素原子または1もしくは2個の>N−R
12基により中断された炭素原子数4ないし12のアル
キレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシレンジメ
チレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソプロピ
リデンジシクロヘキシレン基、フェニレン基、イソプロ
ピリデンジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R
9 は炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、E
4 は>N−(R9 −E3 )S −、>CHO−ま
たは>CH−CH2 −NR12−を表し、rおよびs
は同一でも異なっていてもよく、0または1を表し、R
10は水素原子を表すか、またはrが1を表しE4 が
>CHO−を表すときR10はメチル基を表し得、R1
1は水素原子またはメチル基を表し、そしてR12は水
素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換
または炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−
、ジ−もしくはトリ−置換された炭素原子数5ないし1
2のシクロアルキル基を表すか、非置換またはフェニル
基上で炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−
、ジ−もしくはトリ−置換された炭素原子数7ないし9
のフェニルアルキル基を表すか、または式IIIで表さ
れる基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが
3を表す場合、R3 は次式VIa(化33)ないしV
Id(化36):
【化33】
【化34】
【化35】
【化36】 (式中、E5 、E6 、E7 、E9 、E10およ
びE11は同一でも異なっていてもよく、上記E1 、
E2 およびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 お
よびE10が両方とも−O−を表すならばE11は−C
H2 O−基であってよく、R13、R14およびR1
5は同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし
6のアルキレン基を表し、tは0または1を表し、R1
6、R17およびR18は同一でも異なっていてもよく
、上記R12と同じ意味を表し、E8 は直接結合また
は−CH2 −を表し、u、vおよびxは同一でも異な
っていてもよく、2ないし6の整数を表し、そしてR1
9は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル基
を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが4を表
す場合、R3 は次式VIIa(化37)またはVII
b:
【化37】 R22(−O−)4     (VIIb)(式中、E
12は上記E1 、E2 およびE3と同じ意味を表し
、R20およびR21は同一でも異なっていてもよく、
炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、yは0ま
たは1を表し、そしてR22は炭素原子数4ないし12
のアルカンテトライル基を表す)で表される基を表す]
で表される新規化合物に関する。
【0006】炭素原子数18までのアルキル基の例はメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、2−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペ
ンチル基、2−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、2−エチルヘキシル基、t−オクチル基、
ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリ
デシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基およびオク
タデシル基である。
【0007】炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、好
ましくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、特にメ
トキシ基またはエトキシ基により置換された炭素原子数
2ないし4のアルキル基の例は2−メトキシエチル基、
2−エトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、3−
エトキシプロピル基、3−ブトキシプロピル基、3−オ
クトキシプロピル基および4−メトキシブチル基である
【0008】ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)ア
ミノ基、好ましくはジメチルアミノ基またはジエチルア
ミノ基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキ
ル基の例は2−ジメチルアミノエチル基、2−ジエチル
アミノメチル基、3−ジメチルアミノプロピル基、2−
ジエチルアミノプロピル基、3−ジブチルアミノプロピ
ル基および4−ジエチルアミノブチル基である。
【0009】炭素原子数1ないし18のアルコキシ基R
1 およびR7 の代表例はメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブ
トキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキ
シ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシルオキシ基、
ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシ
ルオキシ基およびオクタデシルオキシ基である。炭素原
子数6ないし12のアルコキシ基、特にヘプトキシ基ま
たはオクトキシ基が好ましい。
【0010】非置換または炭素原子数1ないし4のアル
キル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されてい
る炭素原子数5ないし12のシクロアルキル置換基の例
はシクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチ
ルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロ
ヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシ
クロヘキシル基、t−ブチルシクロヘキシル基、シクロ
オクチル基、シクロデシル基およびシクロドデシル基で
ある。非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基
により置換されたシクロヘキシル基が好ましい。
【0011】炭素原子数5ないし12のシクロアルコキ
シ基R1 およびR7 の代表例はシクロペントキシ基
、シクロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロオ
クトキシ基、シクロデシルオキシ基およびシクロドデシ
ルオキシ基である。シクロペントキシ基およびシクロヘ
キソキシ基が好ましい。
【0012】炭素原子数18までのアルケニル基の例は
アリル基、2−メチルアリル基、ヘキセニル基、デセニ
ル基、ウンデセニル基およびオレイル基である。
【0013】これらのアルケニル基は1位の炭素原子が
飽和されているのが好ましく、アリル基が特に好ましい
【0014】置換フェニル基の例はメチルフェニル基、
ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、t−ブチ
ルフェニル基、ジ−t−ブチルフェニル基、3,5−ジ
−t−ブチル−4−メチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基およびエトキシフェニル基である。
【0015】非置換またはフェニル基上で炭素原子数1
ないし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ
−置換されている種々の炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル置換基の例はベンジル基、メチルベンジル基
、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、t−ブ
チルベンジル基および2−フェニルエチル基である。 ベンジル基が好ましい。
【0016】炭素原子数8までのアシル基R1 および
R7 は脂肪族基であっても芳香族基であってもよい。 代表例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノ
イル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイル
基またはクロトノイル基である。炭素原子数1ないし8
のアルカノイル基、炭素原子数3ないし8のアルケノイ
ル基またはベンゾイル基が好ましい。アセチル基が特に
好ましい。
【0017】5員ないし7員の複素環式基−NR5 R
6 はその他の異原子、例えば窒素原子または酸素原子
を含んでいてもよく、代表例は1−ピロリジル基、1−
ピペリジル基、4−モルホリニル基、4−メチル−1−
ピペラジニル基および1−ヘキサヒドロアゼピニル基で
ある。4−モルホリニル基が好ましい。
【0018】炭素原子数12までのアルキレン基の例は
エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基、2,2−ジメチルトリメ
チレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレ
ン基、オクタメチレン基、デカメチレン基およびドデカ
メチレン基である。
【0019】1、2または3個の酸素原子により中断さ
れた炭素原子数4ないし12のアルキレン基の例は3−
オキサペンタン−1,5−ジイル基、4−オキサヘプタ
ン−1,7−ジイル基、3,6−ジオキサオクタン−1
,8−ジイル基、4,7−ジオキサデカン−1,10−
ジイル基、4,9−ジオキサドデカン−1,12−ジイ
ル基および3,6,9−トリオキサウンデカン−1,1
1−ジイル基である。
【0020】1または2個の>N−R12基により中断
された炭素原子数4ないし12のアルキレン基R8 の
代表例は次式:−(CH2 )2−6 −NR12−(
CH2 )2−6 −および−(CH2 )2−3 −
NR12−(CH2 )2−3 −NR12−(CH2
 )2−3 −で表される基である。
【0021】炭素原子数4ないし12のアルカンテトラ
イル基の代表例は1,2,3,4−ブタンテトライル基
および次式(化38):
【化38】 で表される基である。
【0022】R1 およびR7 の好ましい定義は水素
原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、OH、炭素
原子数6ないし12のアルコキシ基、炭素原子数5ない
し8のシクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基また
はアセチル基、特に水素原子またはメチル基である。
【0023】式I中、Aが直接結合、−O−または−C
H2 −を表し、mが2ないし4の整数を表し、R2 
が次式:−OR4 、−SR4 または−NR5 R6
 (式中、R4 、R5 およびR6 は同一であって
も異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1ないし
14のアルキル基、非置換または炭素原子数1ないし4
のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換さ
れた炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基を表すか
、炭素原子数3ないし12のアルケニル基、フェニル基
、ベンジル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基も
しくはジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基
により2位もしくは3位で置換された炭素原子数2もし
くは3のアルキル基を表すか、テトラヒドロフルフリル
基、式IIで表される基または式IIIで表される基を
表すか、または−NR5 R6 基は1−ピロリジル基
、1−ピペリジル基、4−モルホリニル基、4−メチル
−1−ピペラジニル基または1−ヘキサヒドロアゼピニ
ル基を表す)で表される基を表すか、またはR2 は式
IVaないしIVcで表される基の1つを表し、nが1
、2、3または4を表し、そしてnが1を表す場合、R
3 がR2 と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R
3 が式VaないしVc(式中、E1 、E2 および
E3 は同一でも異なっていてもよく、−O−または>
N−R12を表し、R8 は炭素原子数2ないし10の
アルキレン基、1、2もしくは3個の酸素原子または1
もしくは2個の>N−R12基により中断された炭素原
子数4ないし10のアルキレン基、シクロヘキシレンジ
メチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソプロ
ピリデンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデンジフ
ェニレン基またはキシリレン基を表し、R9 は炭素原
子数2ないし4のアルキレン基を表し、E4 は>N−
(R9 −E3 )S −、>CHO−または>CH−
CH2 −NR12−を表し、rおよびsは同一でも異
なっていてもよく、0または1を表し、R10は水素原
子を表すか、またはrが1を表しE4 が>CHO−を
表すときR10はメチル基を表し得、R11は水素原子
またはメチル基を表し、そしてR12は水素原子、炭素
原子数1ないし12のアルキル基、非置換または炭素原
子数1ないし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしく
はトリ−置換された炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基を表すか、ベンジル基を表すか、または式III
で表される基を表す)で表される基の1つを表し、そし
てnが3を表す場合、R3 が式VIaないしVId(
式中、E5 、E6 、E7 、E9 、E10および
E11は同一でも異なっていてもよく、上記E1 、E
2 およびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 およ
びE10が両方とも−O−を表すならばE11は−CH
2 O−基であってよく、R13、R14およびR15
は同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6
のアルキレン基を表し、tは0または1を表し、R16
、R17およびR18は同一でも異なっていてもよく、
上記R12と同じ意味を表し、E8 は直接結合または
−CH2 −を表し、u、vおよびxは同一でも異なっ
ていてもよく、2ないし6の整数を表し、そしてR19
は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表す)で表される基の1つを表し、そしてnが4を表す
場合、R3 が式VIIaまたはVIIb(式中、E1
2は上記E1 、E2 およびE3 と同じ意味を表し
、R20およびR21は同一でも異なっていてもよく、
炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、yは0ま
たは1を表し、そしてR22は炭素原子数4ないし8の
アルカンテトライル基を表す)で表される基を表す化合
物が好ましい。
【0024】式I中、Aが−O−または−CH2 −を
表し、mが2または3を表し、R2 が次式:−OR4
 、−SR4 または−NR5 R6 (式中、R4 
、R5 およびR6 は同一であっても異なっていても
よく、水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基
、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基によ
りモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されたシクロヘキシ
ル基を表すか、アリル基、ウンデセニル基、フェニル基
、ベンジル基を表すか、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、ジメチルアミノ基もしくはジエチルアミノ基に
より2位もしくは3位で置換された炭素原子数2もしく
は3のアルキル基を表すか、テトラヒドロフルフリル基
、式IIで表される基または式IIIで表される基を表
すか、または−NR5 R6 基は4−モルホリニル基
を表す)で表される基を表すか、またはR2 は式IV
aないしIVcで表される基の1つを表し、nが1、2
、3または4を表し、そしてnが1を表す場合、R3 
がR2 と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R3 
が式VaないしVc(式中、E1 、E2 およびE3
 は同一でも異なっていてもよく、−O−または>N−
R12を表し、R8 は炭素原子数2ないし8のアルキ
レン基、2もしくは3個の酸素原子により中断された炭
素原子数6ないし10のアルキレン基、シクロヘキシレ
ンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソ
プロピリデンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデン
ジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R9 は炭
素原子数2または3のアルキレン基を表し、E4 は>
N−(R9 −E3 )S −または>CHO−を表し
、rおよびsは同一でも異なっていてもよく、0または
1を表し、R10は水素原子を表すか、またはrが1を
表しE4 が>CHO−を表すときR10はメチル基を
表し得、R11は水素原子またはメチル基を表し、そし
てR12は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル
基、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基に
よりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されたシクロヘキ
シル基を表すか、ベンジル基または式IIIで表される
基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが3を
表す場合、R3 が式VIaないしVId(式中、E5
 、E6 、E7 、E9 、E10およびE11は同
一でも異なっていてもよく、上記E1 、E2およびE
3 と同じ意味を表し、そしてE9 およびE10が両
方とも−O−を表すならばE11は−CH2 O−基で
あってよく、R13、R14およびR15は同一でも異
なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキレン
基を表し、tは0または1を表し、R16、R17およ
びR18は同一でも異なっていてもよく、上記R12と
同じ意味を表し、E8は直接結合または−CH2 −を
表し、u、vおよびxは同一でも異なっていてもよく、
2ないし6の整数を表し、そしてR19は水素原子、メ
チル基またはエチル基を表す)で表される基の1つを表
し、そしてnが4を表す場合、R3 が式VIIaまた
はVIIb(式中、E12は上記E1 、E2 および
E3 と同じ意味を表し、R20およびR21は同一で
も異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキ
レン基を表し、yは0または1を表し、そしてR22は
炭素原子数4ないし6のアルカンテトライル基を表す)
で表される基を表す化合物が特に好ましい。
【0025】式I中、Aが−O−を表し、mが2または
3を表し、R2 が次式:−OR4 または−NR5 
R6 (式中、R4 は炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基または式IIIで表される基を表し、そしてR5 
およびR6 は同一であっても異なっていてもよく、炭
素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基を表すか、メトキシ基、エトキシ基、ジメチ
ルアミノ基もしくはジエチルアミノ基により2位もしく
は3位で置換された炭素原子数2もしくは3のアルキル
基を表すか、テトラヒドロフルフリル基、式IIで表さ
れる基または式IIIで表される基を表すか、またはR
5 は水素原子であってよく、または−NR5 R6 
基は4−モルホリニル基を表す)で表される基を表すか
、またはR2 は式IVaないしIVcで表される基の
1つを表し、nが1、2、3または4を表し、そしてn
が1を表す場合、R3 がR2 と同じ意味を表し、n
が2を表す場合、R3 が式VaないしVc{式中、E
1 およびE2 は同一でも異なっていてもよく、−O
−または>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2な
いし8のアルキレン基、2もしくは3個の酸素原子によ
り中断された炭素原子数6ないし10のアルキレン基、
シクロヘキシレンジメチレン基またはメチレンジシクロ
ヘキシレン基を表し、式Vbが次式:
【化39】
【化40】 (式中、rおよびsは同一でも異なっていてもよく、0
または1を表し、R12は水素原子、炭素原子数1ない
し4のアルキル基、シクロヘキシル基または式IIIで
表される基を表す)で表される基を表し、そしてR11
は水素原子またはメチル基を表す}で表される基の1つ
を表し、そしてnが3を表す場合、R3 が式VIaま
たはVIb(式中、E5 、E6 およびE7 は同一
でも異なっていてもよく、上記E1 およびE2 と同
じ意味を表し、R13、R14およびR15は同一でも
異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキレ
ン基を表し、tは0または1を表し、R16、R17お
よびR18は同一でも異なっていてもよく、上記R12
と同じ意味を表し、E8 は直接結合または−CH2 
−を表し、そしてuおよびvは同一でも異なっていても
よく、3ないし6の整数を表す)で表される基を表し、
そしてnが4を表す場合、R3 が式VIIa(式中、
E12は上記E1 およびE2 と同じ意味を表し、R
20およびR21は同一でも異なっていてもよく、炭素
原子数2または3のアルキレン基を表し、そしてyは0
または1を表す)で表される基を表す化合物が特に興味
深い。
【0026】式I中、R1 が水素原子またはメチル基
を表し、Aが−O−を表し、mが3を表し、R2 が次
式:−OR4 または−NR5 R6 (式中、R4 
は炭素原子数1ないし4のアルキル基、2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル基または1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル基を表し、そし
てR5 およびR6 は同一であっても異なっていても
よく、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキ
シル基、テトラヒドロフルフリル基、次式(化41):
【化41】 で表される基、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル基または1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジル基を表すか、またはR5 は水素原子で
あってよく、または−NR5 R6 基は4−モルホリ
ニル基を表す)で表される基を表し、nが1、2、3ま
たは4を表し、そしてnが1を表す場合、R3 がR2
 と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R3 が式V
a(式中、E1 およびE2 は同一でも異なっていて
もよく、>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2な
いし6のアルキレン基、2もしくは3個の酸素原子によ
り中断された炭素原子数8ないし10のアルキレン基ま
たはメチレンジシクロヘキシレン基を表し、そしてR1
2は水素原子、メチル基、2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル基または1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジル基を表す)で表される基を表
し、そしてnが3を表す場合、R3 が次式(化42)
【化42】 (式中、R12は上記と同じ意味を表し、そしてR13
および中R14は同一でも異なっていてもよく、炭素原
子数2または3のアルキレン基を表す)で表される基を
表し、そしてnが4を表す場合、R3 が次式(化43
):
【化43】 (式中、R12は上記と同じ意味を表し、そしてR20
およびR21は同一でも異なっていてもよく、炭素原子
数2または3のアルキレン基を表す)で表される基を表
す化合物が中でも興味深い。
【0027】式Iで表される化合物はそれ自体公知の方
法、例えば塩化シアヌルを次式VIIIa(化44)な
いしVIIIc:
【化44】 R2 −H        (VIIIb)R3 −(
H)n   (VIIIc)で表される化合物と、適当
なモル比、特に化学量論比でもって、あらゆる順序で反
応させることにより製造され得る。
【0028】反応は芳香族炭化水素溶媒、例えばトルエ
ン、キシレンまたはトリメチルベンゼン中、例えば−2
0℃ないし220℃、好ましくは−10℃ないし200
℃の温度で操作して行われるのが好ましい。
【0029】反応中に遊離した塩酸は無機塩基、例えば
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムま
たは炭酸カリウムを遊離した酸に対して少なくとも当量
用いて中和されるのが好ましい。
【0030】R1 がメチル基である場合、式Iで表さ
れる化合物はR1 =Hである相当する化合物をホルム
アルデヒドおよびギ酸と、またはホルムアルデヒドおよ
び水素とを水素添加触媒例えばパラジウムまたは白金の
存在下で反応させることにより製造されるのが好ましい
【0031】式VIIIaで表される化合物は新規であ
り、そして本発明のその他の態様を構成する。それらは
、例えば次式IX(化45):
【化45】 で表されるピペリドンを次式X(化46):
【化46】 で表されるアミンと、水素および水素添加触媒例えば白
金、ニッケルまたはパラジウムの存在下で反応させるこ
とにより製造され得る。
【0032】式VIIIbおよびVIIIcで表される
化合物が式VIIIaで表される化合物と異なっている
場合、それらは市販品であるか、または公知方法により
容易に得られる。
【0033】最初に記載したように、式Iで表される化
合物は有機材料、特に合成ポリマーおよびコポリマーの
光安定性、熱安定性および酸化安定性を改善するのに非
常に有効である。
【0034】安定化され得る有機材料の例を以下に示す
:1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、
例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン
−1、ポリメチルペンテン−1、ポリイソプレンまたは
ポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロ
ペンテンまたはノルボルネンのポリマー、(非架橋また
は架橋され得る)ポリエチレン、例えば高密度ポリエチ
レン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)お
よび線状低密度ポリエチレン(LLDPE)。 2.1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレン
とポリエチレンとの混合物(例えばPP/HDPE,P
P/LDPE)および異なるタイプのポリエチレンの混
合物(例えば、LDPE/HDPE)。 3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プロピレ
ンコポリマー、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)
およびその低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物
、プロピレン/ブテン−1コポリマー、エチレン/ヘキ
センコポリマー、エチレン/エチルペンテンコポリマー
、エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテン
コポリマー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソ
ブチレン/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキル
アクリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリ
レートコポリマー、エチレン/ビニルアセテートまたは
エチレン/アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類(
アイオノマー)、およびエチレンとプロピレンとジエン
例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチ
リデンノルボルネンとのターポリマー;並びに前記コポ
リマー相互の、および上記1.のポリマーとの混合物、
例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレン−コポリ
マー、LDPE/EVA、LDPE/EAA、LLDP
E/EVAおよびLLDPE/EAA。3a. α−オ
レフィンと一酸化炭素との規則的または交互ランダムコ
ポリマー。3b.炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5な
いし9)およびそれらの水素化変性物(例えば粘着付与
剤)。 4.ポリスチレン、ポリ−(p−メチルスチレン)、ポ
リ−(α−メチルスチレン)。 5.スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタ
ジエン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/アル
キルメタクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキル
アクリレート、スチレン/無水マレイン酸、スチレン/
アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチレンコポ
リマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエンターポ
リマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチレンのブロ
ックコポリマー例えばスチレン/ブタジエン/スチレン
、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレン/エチレ
ン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチレン/プ
ロピレン/スチレン。 6.スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポ
リマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジ
エン/スチレンまたはポリブタジエン/アクリロニトリ
ルにスチレン;ポリブタジエンにスチレンおよびアクリ
ロニトリル(またはメタアクリロニトリル);ポリブタ
ジエンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレイン
イミド;ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル
および無水マレイン酸またはマレインイミド;ポリブタ
ジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタ
アクリレート、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタアクリレート、エチレン/プ
ロピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、ポリアクリレートまたはポリアクリルメタ
クリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリ
レート/ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、並びにこれらと5.に列挙したコポリマー
との混合物、例えばABS−、MBS−、ASA−また
はAES−ポリマーとして知られているコポリマー混合
物。7.ハロゲン化ポリマー、例えばポリクロロプレン
、塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレ
ン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピク
ロロヒドリンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロ
ゲン化ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル
、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化
ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニ
ル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルまたは塩
化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。 8.α,β−不飽和酸およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。 9.前項8.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブ
タジエンコポリマー、アクリロニトリル/アルキルアク
リレートコポリマー、アクリロニトリル/アルコキシア
ルキルアクリレートまたはアクリロニトリル/ハロゲン
化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル/アルキル
メタアクリレート/ブタジエンターポリマー。 10.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、
ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、ポリア
リルフタレートまたはポリアリルメラミン;並びにそれ
らと上記1.に記載したオレフィンとのコポリマー。 11. 環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー
、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グ
リシジルエーテルとのコポリマー。 12. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンお
よびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキ
シメチレン;熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリア
セタール、アクリレートまたはMBS。 13. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並び
にポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリア
ミドとの混合物。 14. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリ
エーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の
成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとか
ら誘導されたポリウレタン並びにそれらの前駆体。 15. ジアミンおよびジカルボン酸および/またはア
ミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導された
ポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド4、
ポリアミド6、6/6、6/10、6/9、6/12お
よび4/6、ポリアミド11、ポリアミド12、m−キ
シレンとジアミンとアジピン酸の縮合によって得られる
芳香族ポリアミド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソ
フタル酸または/およびテレフタル酸および所望により
変性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド
、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレン
テレフタルアミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタ
ルアミド;前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィ
ンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合または
グラフトしたエラストマーとのブロックコポリマー;ま
たは前記ポリアミドとポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテ
トラメチレングリコールとのブロックコポリマー;なら
びにEPDMまたはABSで変性させたポリアミドまた
はコポリアミド、および加工の間に縮合されたポリアミ
ド(RIM−ポリアミド系)。 16. ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミ
ドならびにポリベンズイミダゾール。 17. ジカルボン酸およびジオールおよび/ または
ヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導
されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1, 4−ジ
メチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロ
キシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポ
リエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエス
テル;およびポリカーボネートまたはMBSで変性され
たポリエステル。 18. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボ
ネート。 19. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポ
リエーテルケトン。 20. 一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分
としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された
架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹
脂、尿素/ ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホ
ルムアルデヒド樹脂。 21. 乾性および不乾性アルキド樹脂。 22. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコー
ルとのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合
物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性
の低いそれらのハロゲン含有変性物。 23. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアク
リレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルア
クリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 24. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネート
またはエポキシ樹脂で架橋結合されたアルキド樹脂、ポ
リエステル樹脂またはアクリレート樹脂。 25. ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテ
ルまたは脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポキ
シ樹脂。 26. 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラ
チンおよびこれらの化学的に変性させた同族誘導体、例
えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪
酸セルロース、またはセルロースエーテル、例えばメチ
ルセルロース;ならびにロジンおよびそれらの誘導体。 27. 前記したポリマーの混合物(ポリブレンド)、
例えばPP/EPDM、ポリアミド6/EPDMまたは
ABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/M
BS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA
、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリレー
ト、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PUR、
POM/アクリレート、POM/MBS、PPE/HI
PS、PPE/PA6.6およびコポリマー、PA/H
DPE、PA/PP、PA/PPE。 28. 純単量体化合物または該化合物の混合物である
天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物
脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル( 例
えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリ
メリテート)をベースとした上記オイル、脂肪およびワ
ックス、および紡糸用組成物として使用され得る、合成
エステルと鉱油とのあらゆる重量比の混合物、ならびに
上記材料の水性エマルジョン。 29. 天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例え
ば天然ラテックスまたはカルボキシル化スチレン/ブタ
ジエンコポリマーのラテックス。
【0035】式Iで表される化合物は、ポリオレフィン
、特にポリエチレンおよびポリプロピレンの光安定性、
熱安定性および酸化安定性を改善するのに特に適してい
る。
【0036】式Iで表される化合物は、安定化される材
料の性質、最終用途およびその他の添加剤の存在に応じ
て種々の比率で有機材料と混合して使用され得る。
【0037】式Iで表される化合物は安定化すべき材料
の重量に対して、例えば0.01ないし5重量%、好ま
しくは0.05と1重量%の間で使用するのが一般的に
適当である。
【0038】式Iで表される化合物は、種々の方法、例
えば粉末の形態でドライミキシングまたは溶液もしくは
懸濁液またはマスターバッチの形態でウエットミキシン
グによりポリマー材料に混入され得、そのような操作に
おいてポリマーは粉末、顆粒、溶液、懸濁液またはラテ
ックスの形態で使用され得る。
【0039】一般に、式Iで表される化合物はポリマー
材料に、該材料の重合または架橋の前、間または後に添
加され得る。
【0040】式Iで表される化合物は純粋な形態で、ま
たはワックス、オイルもしくはポリマー中にカプセル化
されて被安定化材料中に混入され得る。
【0041】式Iで表される化合物で安定化された材料
は成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、繊維
、表面コーティング等の製造に使用され得る。
【0042】所望する場合には、合成ポリマー用の慣用
のその他の添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、
ニッケル安定剤、顔料、充填剤、可塑剤、静電防止剤、
難燃剤、潤滑剤、腐蝕防止剤および金属不活性化剤が式
Iで表される化合物と有機材料との混合物に添加され得
る。
【0043】式Iで表される化合物と混合して使用され
得る添加剤の特定の例を以下に示す: 1.酸化防止剤 1.1  アルキル化モノフェノール、例えば2,6−
ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチ
ル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブ
チル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル
−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル
−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチ
ル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジ−ノニル−
4−メチルフェノール。 1.2  アルキル化ハイドロキノン、例えば2,6−
ジ−第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ
−第三ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−第三アミル
ハイドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシ
ルオキシフェノール。 1.3  ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例
えば、 2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノー
ル)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル
−2−メチルフェノール)。 1.4  アルキリデンビスフェノール、例えば2,2
’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノ
ール)、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4
−エチルフェノール)、2,2’−メチレンビス〔4−
メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール
〕、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロ
ヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−
ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレン
ビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2’
−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール
)、2,2’−エチリデンビス(6−第三ブチル−4−
イソブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス〔6
−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、
2,2’−メチレンビス〔6−(α,α−ジメチルベン
ジル)−4−ノニルフェノール〕、4,4’−メチレン
ビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4’
−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノー
ル)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ
−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第
三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4
−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、
1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン
、エチレングリコールビス〔3,3−ビス(3’−第三
ブチル−4’ーヒドロキシフェニル)ブチレート〕、ビ
ス(3−第三ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ジシクロペンタジエン、ビス〔2−(3’−第三
ブチル−2’ーヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−
6−第三ブチル−4−メチルフェニル〕テレフタレート
。 1.5  ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン
、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)スルフィド、イソオクチル3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビ
ス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル)ジチオテレフタレート、1,3,5−トリ
ス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブ
チル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホス
ホネートのカルシウム塩、1,3,5−トリス(3,5
−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシ
アヌレート。 1.6  アシルアミノフェノール、例えばラウリン酸
4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸4−ヒドロキシ
アニリド、2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−s−トリアジン、オクチルN−(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバメート。 1.7  β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N,N’−ビス(
ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。1.8  β−
(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールと
のエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N,N’−ビス(
ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。 1.9  β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価
アルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N,N’−ビス(
ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。 1.10  β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、例えばN,N
’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,N
’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,N’
−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル)ヒドラジン。 2.  紫外線吸収剤および光安定剤 2.1  2−( 2’−ヒドロキシフェニル) ベン
ゾトリアゾール、例えば、 5’−メチル、3’,5’−ジ−第三ブチル−、5’−
第三ブチル−、5’,5’−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル) −、5−クロロ−3’,5’−ジ−第
三ブチル−、5−クロロ−3’−第三ブチル−5’−メ
チル−、3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−、4’
−オクトキシ−、3’,5’−ジ−第三アミル−および
3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−誘導
体。 2.2  2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば4
−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ−、
4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベン
ジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ−およ
び2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。 2.3  置換されたおよび非置換安息香酸のエステル
、例えば 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ
−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、および3,5−ジ−第三ブチル
4−ヒドロキシベンゾエート。 2.4  アクリレート、例えば α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸エチル
エステル、α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
ル酸イソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮
酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メト
キシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル
−p−メトキシ−桂皮酸ブチルエステル、α−カルボメ
トキシ−p −メトキシ桂皮酸メチルエステル、および
N−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −2
−メチルインドリン。 2.5  ニッケル化合物、例えば 2,2’−チオビス−〔4−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば
1:1または1:2錯体であって、所望によりn−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘ
キシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴
うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸
モノアルキルエステル、例えばメチルもしくはエチルエ
ステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体、例え
ば2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシルケ
トキシム、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロ
キシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により
他の配位子を伴うもの。 2.6  立体障害性アミン、例えば ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバ
ケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−ヒドロ
キシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、N,N’
−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合
生成物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2
,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)1,2
,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,1’−
(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テ
トラメチルピペラジノン)。 2.7  シュウ酸ジアミド、例えば 4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−
ジオクチルオキシ−5,5’−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ−第
三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2’−エチルオ
キサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロ
ピル)オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル
−2’−エチルオキサニリドおよび該化合物と2エトキ
シ−2’−エチル−5,4’−ジ−第三ブチルオキサニ
リドとの混合物、o−およびp−メトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物、およびo−およびp−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。 2.8  2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,
5−トリアジン、例えば 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオ
キシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4
,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5
−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プ
ロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキ
シ−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(
4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,
5−トリアジン。 3.金属不活性化剤、例えば N,N’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラ
ル−N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス(
サリチロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル
)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−
トリアゾール、ビス(ベンジリデン)シュウ酸ジヒドラ
ジン。 4.ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノニルフェ
ニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリ
オクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリト
リトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ−第三ブ
チルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペンタエリ
トリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブ
チルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィットト
リステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキ
ス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナト、3,9−ビス(2,4−ジ−第
三ブチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキ
サ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデカン。 4a.ヒドロキシルアミン、例えば ジベンジルヒドロキシルアミン、ジオクチルヒドロキシ
ルアミン、ジドデシルヒドロキシルアミン、ジテトラデ
シルヒドロキシルアミン、ジヘキサデシルヒドロキシル
アミン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、1−ヒド
ロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ルベンゾエート、ビス(1−ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート。 5.過酸化物スカベンジャー、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオ
ネート。 6.ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および/またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。 7.塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステ
アリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸
マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびパルミチ
ン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモンまたはピロ
カテコール酸亜鉛。 8.核剤、例えば 4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸
。 9.充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト。 10.その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光漂白剤、難燃剤、
静電防止剤および発泡剤。
【0044】式Iで表される化合物は安定剤、特に、リ
サーチ公開(Research Disclosure
)90/31429〔No.314,474ないし48
0頁(1990)〕に記載されているような写真複製お
よびその他の複製技術の分野において公知のほとんど全
ての材料用の光安定剤としても使用できる。
【0045】
【実施例】式Iで表される化合物の製造および使用の種
々の例は以下の実施例においてより詳細に報告されてい
る。これらの実施例は説明のためのものであり、なんら
制限を意味するものではない。中間体N−(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−3−モルホリ
ノプロピルアミンならびに実施例2、4、8および12
の化合物が特に好ましい。
【0046】N−(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルアミンの製造
3−モルホリノプロピルアミン288.4g(2モル)
、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリドン31
0.5g(2モル)およびメタノール300mlを2リ
ットルのオートクレーブ中に導入する。5%白金担持炭
素15gを添加し、そして水素添加を水素吸収が終了す
るまで(約15時間)60バールおよび60℃で行う。 室温まで冷却した後、触媒をろ過により除去し、溶媒を
除去し、そして生成物を蒸留により精製する:沸点93
−95℃/0.13ミリバール。 元素分析(C16H33N3 O)   計算値:C=67.80%;  H=11.73%
;  N=14.82%  実測値:C=67.35%
;  H=11.61%;  N=14.75%
【00
47】実施例1:次式(化47):
【化47】 で表される化合物の製造A)2−クロロ−4,6−ビス
〔N−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル
)−ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジンの製造4
−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン85g(0.4モル)をキシレン300ml中の塩
化シアヌル36.9g(0.2モル)の10℃まで冷却
した溶液に10℃と20℃の間に温度を維持しながらゆ
っくり添加する。添加終了後、混合物を1時間室温で攪
拌し、水50mlに溶解した水酸化ナトリウム16g(
0.4モル)を添加し、混合物を60℃で2時間加熱し
、そして水相を分離除去する。B)N−(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)−3−モルホリノ
プロピルアミン56.6g(0.2モル)および粉砕し
た水酸化ナトリウム16g(0.4モル)を得られたキ
シレン溶液に添加し、そして10時間後に155℃の内
部温度に達するように反応水および溶媒の一部を除去し
ながら混合物を還流下で加熱し、そしてこの温度をさら
に10時間維持する。70℃まで冷却した後、反応混合
物をキシレン300mlで希釈し、ろ過し、そして減圧
下で蒸発させる。残渣をアセトニトリルから結晶化させ
る。得られた生成物は77−80℃で融解する。 元素分析(C45H86N10O)   計算値:C=69.01%;  H=11.07%
;  N=17.88%  実測値:C=68.34%
;  H=10.99%;  N=17.72%
【00
48】実施例2:次式(化48):
【化48】 で表される化合物の製造A)2−クロロ−4,6−ビス
〔N−1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)−ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジンの製
造等量の試薬を用い、実施例1Aに記載されたようにし
て、2−クロロ−4,6−ビス〔N−2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−ブチルアミノ〕−1
,3,5−トリアジンのキシレン溶液を調製する。ギ酸
20.2g(0.44モル)とホルムアルデヒドの無メ
タノール30%水溶液46g(0.46モル)とを含む
混合物を上記溶液に3時間かけて添加し、添加水と反応
水を連続的に除去しながら110℃まで加熱する。次に
反応混合物を70℃まで冷却し、水20ml中の水酸化
ナトリウム3gの溶液を添加し、そして混合物を30分
間攪拌する。水相を分離除去した後、有機相を水で洗浄
し、そして減圧下で蒸発させる。残渣をアセトンから結
晶化させる。生成物は131−133℃で融解する。 Cl=6.30%(C31H58ClN7 に対する計
算値=6.28%)B)2−クロロ−4,6−ビス−〔
N−(1,2,2,6,6−ベンタメチル−4−ピペリ
ジル)−ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン56
.4g(0.1モル)、N−(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルア
ミン28.3g(0.1モル)、粉砕した水酸化ナトリ
ウム8g(0.2モル)およびメシチレン200mlの
混合物を、10時間後に175℃の内部温度に達するよ
うに反応水および溶媒の一部を除去しながら還流下で加
熱し、そしてこの温度での加熱をさらに10時間続ける
。 70℃まで冷却した後、反応混合物をメシチレン200
mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で蒸発させる。残
渣をヘキサンから結晶化させる。得られた生成物は87
−90℃で融解する。 元素分析(C47H90N10O)   計算値:C=69.58%;  H=11.18%
;  N=17.26%  実測値:C=69.26%
;  H=11.10%;  N=17.23%
【00
49】実施例3:次式(化49):
【化49】 で表される化合物の製造メシチレン80ml中に溶解し
たN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)−3−モルホリノプロピルアミン85g(0.3モ
ル)をメシチレン200ml中の塩化シアヌル18.4
g(0.1モル)の溶液に温度を20℃と50℃の間に
維持しながらゆっくり添加する。混合物を室温で1時間
攪拌し、粉砕した水酸化ナトリウム16g(0.4モル
)を添加し、そして10時間後に190℃の内部温度に
達するように反応水および溶媒の一部を除去しながら混
合物を還流下で加熱し、そしてこの温度をさらに10時
間維持する。70℃まで冷却した後、反応混合物をメシ
チレン200mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で蒸
発させる。残渣をヘキサンから結晶化させる。得られた
生成物は167−170℃で融解する。 元素分析(C51H96N12O3 )  計算値:C
=66.19%;  H=10.46%;  N=18
.16%  実測値:C=66.08%;  H=10
.55%;  N=17.89%
【0050】実施例4
:次式(化50):
【化50】 で表される化合物の製造A)2−クロロ−4,6−ビス
〔N−(3−モルホリノプロピル)−N−(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−アミノ〕−1
,3,5−トリアジンの製造キシレン1200ml中の
塩化シアヌル138.4g(0.75モル)の溶液をキ
シレン800ml中のN−(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルアミ
ン425.2g(1.5モル)の溶液に温度を20℃と
50℃の間に維持しながらゆっくり添加する。次いで混
合物を室温で1時間攪拌し、水170mlに溶解した水
酸化ナトリウム60g(1.5モル)を添加し、そして
混合物を100℃で2時間加熱する。室温まで冷却した
後、水相を分離除去し、そして有機相をNa2 SO4
 で脱水し、ろ過し、そして減圧下で蒸発させる。残渣
を酢酸エチルから結晶化させる。得られた生成物は68
−71℃で融解する。Cl=5.25%(C35H64
ClN9 O2 に対する計算値=5.23%)B)メ
シチレン200ml中の2−クロロ−4,6−ビス−〔
N−(3−モルホリノプロピル)−N−(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)−アミノ〕−1,
3,5−トリアジン67.8g(0.1モル)、N,N
’−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)−1,6−ヘキサンジアミン19.7g(0.
05モル)および粉砕した水酸化ナトリウム8g(0.
2モル)を、10時間後に190℃の内部温度に達する
ように反応水および溶媒の一部を除去しながら還流下で
加熱し、そしてこの温度での加熱をさらに10時間続け
る。70℃まで冷却した後、反応混合物をメシチレン2
00mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で蒸発させる
。残渣をアセトンから結晶化させる。得られた生成物は
212−215℃で融解する。 元素分析(C94H 176N22O4 )  計算値
:C=67.26%;  H=10.57%;  N=
18.36%  実測値:C=67.02%;  H=
10.45%;  N=18.14%
【0051】実施
例5−6 実施例4に記載した操作に従い、適当なモル比でそれぞ
れの試薬を用いて、次式(化51):
【化51】 で表される化合物(表1)を製造する。
【表1】
【0052】実施例7:次式(化52):
【化52】 で表される化合物の製造4−ブチルアミノ−2,2,6
,6−テトラメチルピペリジン42.5g(0.2モル
)をキシレン300ml中の塩化シアヌル36.9g(
0.2モル)の0℃まで冷却した溶液に10℃を越さず
にゆっくり添加する。次に、水30ml中の水酸化ナト
リウム8g(0.2モル)の溶液を温度を10℃に維持
しながらゆっくり添加する。混合物を10−20℃で1
時間攪拌し、次いでN−(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルアミン
56.7g(0.2モル)を添加し、そして混合物を5
0℃で4時間加熱する。室温まで冷却した後、水30m
l中の水酸化ナトリウム8g(0.2モル)の溶液を添
加し、そして混合物を同じ温度で2時間攪拌する。水相
を分離除去し、N,N’−ビス−(3−アミノプロピル
)−1,2−エタンジアミン8.7g(0.05モル)
および粉砕した水酸化ナトリウム16g(0.4モル)
を添加し、そして10時間後に160℃の内部温度に達
するように反応水および溶媒の一部を除去しながら混合
物を還流下で加熱し、そしてこの温度での加熱をさらに
13時間続ける。70℃まで冷却した後、反応混合物を
キシレン300mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で
蒸発させる。得られた生成物は111−115℃で融解
する。 元素分析(C 136H 254N36O4 )  計
算値:C=66.46%;  H=10.42%;  
N=20.52%  実測値:C=65.50%;  
H=10.28%;  N=20.28%
【0053】
実施例8:次式(化53):
【化53】 で表される化合物の製造ギ酸7.6g(0.165モル
)とホルムアルデヒドの無メタノール30%水溶液17
g(0.17モル)とを含む混合物をキシレン150m
l中の実施例3で調製した化合物46.3g(0.05
モル)の110℃まで加熱した溶液に3時間かけて添加
するが、このとき添加水と反応水を連続的に除去する。 次に反応混合物を70℃まで冷却し、水50ml中の水
酸化ナトリウム8gの溶液を添加し、そして混合物を3
0分間攪拌する。水相を分離除去した後、有機相を水で
洗浄し、Na2 SO4 で乾燥し、そして減圧下で蒸
発させる。得られた生成物は94−97℃で融解する。 元素分析(C54H 102N12O3 )  計算値
:C=67.04%;  H=10.63%;  N=
17.37%  実測値:C=66.31%;  H=
10.41%;  N=17.29%
【0054】実施
例9−11 実施例8に記載した操作に従い、実施例4、5および6
からの化合物を用いて、次式(化54):
【化54】 で表される化合物(表2)を製造する。
【表2】
【0055】実施例12 実施例8に記載した操作に従い、実施例1からの化合物
を用いて、次式(化55):
【化55】 で表される化合物(融点87−89℃)を製造する。
【0056】実施例13:(ポリプロピレンテープ中で
の光安定化作用)表3に示された化合物各1g、トリス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィット1.
0g、ペンタエリトリトールテトラキス−〔3−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート〕0.5g、およびステアリン酸カルシウム1
gをスローミキサー中でメルトインデックス2g/10
分(230℃および2.16kgで測定)のポリプロピ
レン粉末1000gと混合する。混合物を200−23
0℃で押出してポリマー顆粒とし、次に以下の条件:押
出温度:210−230℃ 頭部温度:240−260℃ 延伸比:  1:6で操作するパイロットタイプ装置(
レオナルド−スミラゴ(VA)イタリア)により厚さ5
0μmおよび幅2.5mmの延伸テープに変換する。こ
のようにして製造したテープを白色カード上に載せ、モ
デル65WRウエザロ−O−メーター(ASTM  D
2565−85)中にブラックパネル温度63℃で暴露
する。光への暴露の種々の時間後採取した試料に関して
、一定速度の張力計により残留靱性を測定する。初期の
靱性が半分になるまでの暴露時間(単位:時間)(T5
0)を次に計算する。上記と同じ条件であるが安定剤を
添加せずに製造したテープを比較のために暴露する。得
られた結果を表3に示す。
【表3】安定剤                  
  T50(時間)なし              
            300実施例1からの化合物
        1500実施例4からの化合物   
     1900実施例7からの化合物      
  1650実施例9からの化合物        1
830実施例10からの化合物      1500

0057】実施例14:(ポリプロピレン繊維中での光
安定化作用)表4に示された化合物各2.5g、トリス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィット0.
5g、カルシウムモノエチル3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニルベンジルホスホネート0.5g
、ステアリン酸カルシウム1gおよび二酸化チタン2.
5gをスローミキサー中でメルトインデックス12g/
10分(230℃および2.16kgで測定)のポリプ
ロピレン粉末1000gと混合する。混合物を200−
230℃で押出してポリマー顆粒とし、次に以下の条件
: 押出温度:200−230℃ 頭部温度:255−260℃ 延伸比:  1:3.5 番手:    繊維あたり11dtexで操作するパイ
ロットタイプ装置(レオナルド−スミラゴ(VA)イタ
リア)により繊維に変換する。このようにして製造した
繊維を白色カード上に載せ、モデル65WRウエザロ−
O−メーター(ASTM  D2565−85)中にブ
ラックパネル温度63℃で暴露する。光への暴露の種々
の時間後採取した試料に関して、一定速度の張力計によ
り残留靱性を測定する。初期の靱性が半分になるまでの
暴露時間(単位:時間)(T50)を次に計算する。上
記と同じ条件であるが安定剤を添加せずに製造した繊維
を比較のために暴露する。得られた結果を表4に示す。
【表4】安定剤                  
  T50(時間)なし              
            150実施例7からの化合物
        1050実施例9からの化合物   
     1000実施例11からの化合物     
   970
【0058】実施例15:(ポリプロピレ
ンプラック中での酸化防止作用)表5に示された化合物
各1g、オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート0.5g、ト
リス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィット
1g、およびステアリン酸カルシウム1gをスローミキ
サー中でメルトインデックス2g/10分(230℃お
よび2.16kgで測定)のポリプロピレン粉末100
0gと混合する。  混合物を200−230℃で2回
押出してポリマー顆粒とし、次に230℃で6分間の圧
縮成形により厚さ1mmのプラックに変換する。該プラ
ックをDIN  53  451型によりパンチし、そ
して得られた試験片を135℃の温度に維持された強制
循環空気炉内に暴露する。この試験片は、破壊を起こす
のに必要な時間(単位:時間)を決定するために180
°に折り曲げることにより時間を隔てて評価される。上
記の条件であるが本発明の化合物を添加せずに製造され
た試験片もまた比較のために暴露される。得られた結果
を表5に示す。
【表5】安定剤                  
  破壊までの時間(単位:時間)

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  次式I(化1): 【化1】 [式中、Aは直接結合、−O−、−CH2 −または−
    CH2 CH2 −を表し、mは2ないし6の整数を表
    し、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキ
    ル基、O・、OH、NO、CH2 CN、炭素原子数1
    ないし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし12の
    シクロアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニ
    ル基、非置換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし
    4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換
    された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表
    すか、または炭素原子数1ないし8のアシル基を表し、
    R2 は次式:−OR4 、−SR4 または−NR5
     R6 {式中、R4 、R5 およびR6 は同一で
    あっても異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1
    ないし18のアルキル基、非置換または炭素原子数1な
    いし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−
    置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基
    を表すか、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、非
    置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
    炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によりモノ−、ジ
    −もしくはトリ−置換されたフェニル基を表すか、非置
    換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし4のアルキ
    ル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換された炭素
    原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表すか、1な
    いし8のアルコキシ基もしくはジ(炭素原子数1ないし
    4のアルキル)アミノ基により2位、3位もしくは4位
    で置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表す
    か、テトラヒドロフルフリル基、次式II(化2): 【化2】 (式中Aおよびmは上記と同じ意味を表す)で表される
    基または次式III(化3): 【化3】 (式中R7 はR1 と同じ意味を表す)で表される基
    を表すか、または−NR5 R6 基は5員ないし7員
    の複素環式基を表す}で表される基を表すか、またはR
    2 は次式IVa(化4)ないしIVc(化6):【化
    4】 【化5】 【化6】 (式中R7 は上記と同じ意味を表す)で表される基の
    いずれかを表し、nは1、2、3または4を表し、そし
    てnが1を表す場合、R3 はR2 と同じ意味を表し
    、nが2を表す場合、R3 は次式VaないしVc(化
    8):−E1 −R8 −E2 −    (Va)【
    化7】 【化8】 (式中、E1 、E2 およびE3 は同一でも異なっ
    ていてもよく、−O−または>N−R12を表し、R8
     は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、1、2も
    しくは3個の酸素原子または1もしくは2個の>N−R
    12基により中断された炭素原子数4ないし12のアル
    キレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシレンジメ
    チレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソプロピ
    リデンジシクロヘキシレン基、フェニレン基、イソプロ
    ピリデンジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R
    9 は炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、E
    4 は>N−(R9 −E3 )S −、>CHO−ま
    たは>CH−CH2 −NR12−を表し、rおよびs
    は同一でも異なっていてもよく、0または1を表し、R
    10は水素原子を表すか、またはrが1を表しE4 が
    >CHO−を表すときR10はメチル基を表し得、R1
    1は水素原子またはメチル基を表し、そしてR12は水
    素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換
    または炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−
    、ジ−もしくはトリ−置換された炭素原子数5ないし1
    2のシクロアルキル基を表すか、非置換またはフェニル
    基上で炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−
    、ジ−もしくはトリ−置換された炭素原子数7ないし9
    のフェニルアルキル基を表すか、または式IIIで表さ
    れる基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが
    3を表す場合、R3 は次式VIa(化9)ないしVI
    d(化12): 【化9】 【化10】 【化11】 【化12】 (式中、E5 、E6 、E7 、E9 、E10およ
    びE11は同一でも異なっていてもよく、上記E1 、
    E2 およびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 お
    よびE10が両方とも−O−を表すならばE11は−C
    H2 O−基であってよく、R13、R14およびR1
    5は同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし
    6のアルキレン基を表し、tは0または1を表し、R1
    6、R17およびR18は同一でも異なっていてもよく
    、上記R12と同じ意味を表し、E8 は直接結合また
    は−CH2 −を表し、u、vおよびxは同一でも異な
    っていてもよく、2ないし6の整数を表し、そしてR1
    9は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル基
    を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが4を表
    す場合、R3 は次式VIIa(化13)またはVII
    b: 【化13】 R22(−O−)4     (VIIb)(式中、E
    12は上記E1 、E2 およびE3と同じ意味を表し
    、R20およびR21は同一でも異なっていてもよく、
    炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、yは0ま
    たは1を表し、そしてR22は炭素原子数4ないし12
    のアルカンテトライル基を表す)で表される基を表す]
    で表される化合物。
  2. 【請求項2】  式I中、R1 およびR7 が同一で
    も異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1ないし
    4のアルキル基、OH、炭素原子数6ないし12のアル
    コキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基
    、アリル基、ベンジル基またはアセチル基を表す請求項
    1記載の化合物。
  3. 【請求項3】  式I中、Aが直接結合、−O−または
    −CH2 −を表し、mが2ないし4の整数を表し、R
    2 が次式:−OR4 、−SR4 または−NR5 
    R6 (式中、R4 、R5 およびR6 は同一であ
    っても異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1な
    いし14のアルキル基、非置換または炭素原子数1ない
    し4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置
    換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基を表
    すか、炭素原子数3ないし12のアルケニル基、フェニ
    ル基、ベンジル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
    基もしくはジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミ
    ノ基により2位もしくは3位で置換された炭素原子数2
    もしくは3のアルキル基を表すか、テトラヒドロフルフ
    リル基、式IIで表される基または式IIIで表される
    基を表すか、または−NR5 R6 基は1−ピロリジ
    ル基、1−ピペリジル基、4−モルホリニル基、4−メ
    チル−1−ピペラジニル基または1−ヘキサヒドロアゼ
    ピニル基を表す)で表される基を表すか、またはR2 
    は式IVaないしIVcで表される基の1つを表し、n
    が1、2、3または4を表し、そしてnが1を表す場合
    、R3 がR2 と同じ意味を表し、nが2を表す場合
    、R3 が式VaないしVc(式中、E1 、E2 お
    よびE3 は同一でも異なっていてもよく、−O−また
    は>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2ないし1
    0のアルキレン基、1、2もしくは3個の酸素原子また
    は1もしくは2個の>N−R12基により中断された炭
    素原子数4ないし10のアルキレン基、シクロヘキシレ
    ンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソ
    プロピリデンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデン
    ジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R9 は炭
    素原子数2ないし4のアルキレン基を表し、E4 は>
    N−(R9 −E3 )S −、>CHO−または>C
    H−CH2 −NR12−を表し、rおよびsは同一で
    も異なっていてもよく、0または1を表し、R10は水
    素原子を表すか、またはrが1を表しE4 が>CHO
    −を表すときR10はメチル基を表し得、R11は水素
    原子またはメチル基を表し、そしてR12は水素原子、
    炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置換または炭
    素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−、ジ−も
    しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし8のシクロ
    アルキル基を表すか、ベンジル基を表すか、または式I
    IIで表される基を表す)で表される基の1つを表し、
    そしてnが3を表す場合、R3 が式VIaないしVI
    d(式中、E5 、E6 、E7 、E9 、E10お
    よびE11は同一でも異なっていてもよく、上記E1 
    、E2 およびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 
    およびE10が両方とも−O−を表すならばE11は−
    CH2 O−基であってよく、R13、R14およびR
    15は同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ない
    し6のアルキレン基を表し、tは0または1を表し、R
    16、R17およびR18は同一でも異なっていてもよ
    く、上記R12と同じ意味を表し、E8 は直接結合ま
    たは−CH2 −を表し、u、vおよびxは同一でも異
    なっていてもよく、2ないし6の整数を表し、そしてR
    19は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
    基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが4を
    表す場合、R3 が式VIIaまたはVIIb(式中、
    E12は上記E1 、E2 およびE3 と同じ意味を
    表し、R20およびR21は同一でも異なっていてもよ
    く、炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、yは
    0または1を表し、そしてR22は炭素原子数4ないし
    8のアルカンテトライル基を表す)で表される基を表す
    請求項1記載の化合物。
  4. 【請求項4】  式I中、Aが−O−または−CH2 
    −を表し、mが2または3を表し、R2 が次式:−O
    R4 、−SR4 または−NR5 R6 (式中、R
    4 、R5 およびR6 は同一であっても異なってい
    てもよく、水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキ
    ル基、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基
    によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されたシクロヘ
    キシル基を表すか、アリル基、ウンデセニル基、フェニ
    ル基、ベンジル基を表すか、炭素原子数1ないし4のア
    ルコキシ基、ジメチルアミノ基もしくはジエチルアミノ
    基により2位もしくは3位で置換された炭素原子数2も
    しくは3のアルキル基を表すか、テトラヒドロフルフリ
    ル基、式IIで表される基または式IIIで表される基
    を表すか、または−NR5 R6 基は4−モルホリニ
    ル基を表す)で表される基を表すか、またはR2 は式
    IVaないしIVcで表される基の1つを表し、nが1
    、2、3または4を表し、そしてnが1を表す場合、R
    3 がR2 と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R
    3 が式VaないしVc(式中、E1 、E2 および
    E3 は同一でも異なっていてもよく、−O−または>
    N−R12を表し、R8 は炭素原子数2ないし8のア
    ルキレン基、2もしくは3個の酸素原子により中断され
    た炭素原子数6ないし10のアルキレン基、シクロヘキ
    シレンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、
    イソプロピリデンジシクロヘキシレン基、イソプロピリ
    デンジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R9 
    は炭素原子数2または3のアルキレン基を表し、E4 
    は>N−(R9 −E3 )S −または>CHO−を
    表し、rおよびsは同一でも異なっていてもよく、0ま
    たは1を表し、R10は水素原子を表すか、またはrが
    1を表しE4 が>CHO−を表すときR10はメチル
    基を表し得、R11は水素原子またはメチル基を表し、
    そしてR12は水素原子、炭素原子数1ないし8のアル
    キル基、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル
    基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されたシクロ
    ヘキシル基を表すか、ベンジル基または式IIIで表さ
    れる基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが
    3を表す場合、R3 が式VIaないしVId(式中、
    E5 、E6 、E7 、E9 、E10およびE11
    は同一でも異なっていてもよく、上記E1 、E2 お
    よびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 およびE1
    0が両方とも−O−を表すならばE11は−CH2 O
    −基であってよく、R13、R14およびR15は同一
    でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアル
    キレン基を表し、tは0または1を表し、R16、R1
    7およびR18は同一でも異なっていてもよく、上記R
    12と同じ意味を表し、E8は直接結合または−CH2
     −を表し、u、vおよびxは同一でも異なっていても
    よく、2ないし6の整数を表し、そしてR19は水素原
    子、メチル基またはエチル基を表す)で表される基の1
    つを表し、そしてnが4を表す場合、R3 が式VII
    aまたはVIIb(式中、E12は上記E1 、E2 
    およびE3 と同じ意味を表し、R20およびR21は
    同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6の
    アルキレン基を表し、yは0または1を表し、そしてR
    22は炭素原子数4ないし6のアルカンテトライル基を
    表す)で表される基を表す請求項1記載の化合物。
  5. 【請求項5】  式I中、Aが−O−を表し、mが2ま
    たは3を表し、R2 が次式:−OR4 または−NR
    5 R6 (式中、R4 は炭素原子数1ないし8のア
    ルキル基または式IIIで表される基を表し、そしてR
    5 およびR6 は同一であっても異なっていてもよく
    、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシル
    基、ベンジル基を表すか、メトキシ基、エトキシ基、ジ
    メチルアミノ基もしくはジエチルアミノ基により2位も
    しくは3位で置換された炭素原子数2もしくは3のアル
    キル基を表すか、テトラヒドロフルフリル基、式IIで
    表される基または式IIIで表される基を表すか、また
    はR5 は水素原子であってよく、または−NR5 R
    6 基は4−モルホリニル基を表す)で表される基を表
    すか、またはR2 は式IVaないしIVcで表される
    基の1つを表し、nが1、2、3または4を表し、そし
    てnが1を表す場合、R3がR2 と同じ意味を表し、
    nが2を表す場合、R3 が式VaないしVc{式中、
    E1 およびE2 は同一でも異なっていてもよく、−
    O−または>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2
    ないし8のアルキレン基、2もしくは3個の酸素原子に
    より中断された炭素原子数6ないし10のアルキレン基
    、シクロヘキシレンジメチレン基またはメチレンジシク
    ロヘキシレン基を表し、式Vbが次式:【化14】 【化15】 (式中、rおよびsは同一でも異なっていてもよく、0
    または1を表し、R12は水素原子、炭素原子数1ない
    し4のアルキル基、シクロヘキシル基または式IIIで
    表される基を表す)で表される基を表し、そしてR11
    は水素原子またはメチル基を表す}で表される基の1つ
    を表し、そしてnが3を表す場合、R3 が式VIaま
    たはVIb(式中、E5 、E6 およびE7 は同一
    でも異なっていてもよく、上記E1 およびE2 と同
    じ意味を表し、R13、R14およびR15は同一でも
    異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキレ
    ン基を表し、tは0または1を表し、R16、R17お
    よびR18は同一でも異なっていてもよく、上記R12
    と同じ意味を表し、E8 は直接結合または−CH2 
    −を表し、そしてuおよびvは同一でも異なっていても
    よく、3ないし6の整数を表す)で表される基を表し、
    そしてnが4を表す場合、R3 が式VIIa(式中、
    E12は上記E1 およびE2 と同じ意味を表し、R
    20およびR21は同一でも異なっていてもよく、炭素
    原子数2または3のアルキレン基を表し、そしてyは0
    または1を表す)で表される基を表す請求項1記載の化
    合物。
  6. 【請求項6】  式I中、R1 が水素原子またはメチ
    ル基を表し、Aが−O−を表し、mが3を表し、R2 
    が次式:−OR4 または−NR5 R6 (式中、R
    4 は炭素原子数1ないし4のアルキル基、2,2,6
    ,6−テトラメチル−4−ピペリジル基または1,2,
    2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル基を表し、
    そしてR5 およびR6 は同一であっても異なってい
    てもよく、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロ
    ヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、次式(化16
    ):【化16】 で表される基、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
    ペリジル基または1,2,2,6,6−ペンタメチル−
    4−ピペリジル基を表すか、またはR5 は水素原子で
    あってよく、または−NR5 R6 基は4−モルホリ
    ニル基を表す)で表される基を表し、nが1、2、3ま
    たは4を表し、そしてnが1を表す場合、R3 がR2
     と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R3 が式V
    a(式中、E1 およびE2 は同一でも異なっていて
    もよく、>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2な
    いし6のアルキレン基、2もしくは3個の酸素原子によ
    り中断された炭素原子数8ないし10のアルキレン基ま
    たはメチレンジシクロヘキシレン基を表し、そしてR1
    2は水素原子、メチル基、2,2,6,6−テトラメチ
    ル−4−ピペリジル基または1,2,2,6,6−ペン
    タメチル−4−ピペリジル基を表す)で表される基を表
    し、そしてnが3を表す場合、R3 が次式(化17)
    : 【化17】 (式中、R12は上記と同じ意味を表し、そしてR13
    および中R14は同一でも異なっていてもよく、炭素原
    子数2または3のアルキレン基を表す)で表される基を
    表し、そしてnが4を表す場合、R3 が次式(化18
    ):【化18】 (式中、R12は上記と同じ意味を表し、そしてR20
    およびR21は同一でも異なっていてもよく、炭素原子
    数2または3のアルキレン基を表す)で表される基を表
    す請求項1記載の化合物。
  7. 【請求項7】  次式(化19ないし22):【化19
    】 【化20】 【化21】 【化22】 で表される請求項1記載の式Iで表される化合物。
  8. 【請求項8】  光、熱および酸化により誘導される劣
    化に感受性である有機材料および少なくとも1種の請求
    項1記載の化合物を含有する組成物。
  9. 【請求項9】  有機材料が合成ポリマーである請求項
    8記載の組成物。
  10. 【請求項10】式Iで表される化合物の他に、合成ポリ
    マー用のその他の慣用の添加剤を含有する請求項9記載
    の組成物。
  11. 【請求項11】有機材料がポリオレフィンである請求項
    8記載の組成物。
  12. 【請求項12】有機材料がポリエチレンまたはポリプロ
    ピレンである請求項8記載の組成物。
  13. 【請求項13】次式VIIIa(化23):【化23】 (式中、Aは直接結合、−O−、−CH2 −または−
    CH2 CH2 −を表し、mは2ないし6の整数を表
    し、そしてR1 は水素原子、炭素原子数1ないし8の
    アルキル基、O・、OH、NO、CH2 CN、炭素原
    子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし
    12のシクロアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のア
    ルケニル基、非置換またはフェニル基上で炭素原子数1
    ないし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ
    −置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル
    基を表すか、または炭素原子数1ないし8のアシル基を
    表す)で表される化合物。
  14. 【請求項14】次式(化24): 【化24】 で表される請求項13記載の式VIIIaで表される化
    合物。
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