JPH04225974A - 有機材料用安定剤として使用するためのピペリジン−トリアジン化合物 - Google Patents
有機材料用安定剤として使用するためのピペリジン−トリアジン化合物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D413/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/56—Nitrogen atoms
- C07D211/58—Nitrogen atoms attached in position 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規ピペリジン−トリア
ジン化合物、有機材料、特に合成ポリマー用の光安定剤
、熱安定剤および酸化安定剤としての上記化合物の使用
、およびこの化合物により安定化された有機材料ならび
に種々の中間体に関する。
ジン化合物、有機材料、特に合成ポリマー用の光安定剤
、熱安定剤および酸化安定剤としての上記化合物の使用
、およびこの化合物により安定化された有機材料ならび
に種々の中間体に関する。
【0002】
【従来の技術】合成ポリマーが酸素の存在下で日光また
はその他の紫外線源に暴露されるとき、該ポリマーが光
酸化的劣化を受けることが知られている。
はその他の紫外線源に暴露されるとき、該ポリマーが光
酸化的劣化を受けることが知られている。
【0003】それ故に、上記ポリマーが実際に使用され
るとき、適当な光安定剤、例えばベンゾフェノンおよび
ベンゾトリアゾールのある種の誘導体、ニッケル錯体、
置換安息香酸エステル、アルキリデンマロネート、シア
ノアクリレート、芳香族オキサミドまたは立体障害性ア
ミンをそれに添加することが必要である。
るとき、適当な光安定剤、例えばベンゾフェノンおよび
ベンゾトリアゾールのある種の誘導体、ニッケル錯体、
置換安息香酸エステル、アルキリデンマロネート、シア
ノアクリレート、芳香族オキサミドまたは立体障害性ア
ミンをそれに添加することが必要である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジル基を含むいくつかのトリアジン化合
物および合成ポリマー用の光安定剤、熱安定剤および酸
化安定剤としての上記化合物の使用は米国特許4108
829号、4321374号、4433145号、44
91643号、4533688号および4740544
号、欧州特許公開117229号および176106号
公報、ならびに特開昭61−176662号および63
−196654号に報告されている。本発明は有機材料
用の光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤として有用な
上記従来の化合物とは異なる化合物を提供することを課
題とする。
ラメチルピペリジル基を含むいくつかのトリアジン化合
物および合成ポリマー用の光安定剤、熱安定剤および酸
化安定剤としての上記化合物の使用は米国特許4108
829号、4321374号、4433145号、44
91643号、4533688号および4740544
号、欧州特許公開117229号および176106号
公報、ならびに特開昭61−176662号および63
−196654号に報告されている。本発明は有機材料
用の光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤として有用な
上記従来の化合物とは異なる化合物を提供することを課
題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、次式I(化2
5):
5):
【化25】
[式中、Aは直接結合、−O−、−CH2 −または−
CH2 CH2 −を表し、mは2ないし6の整数を表
し、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基、O・、OH、NO、CH2 CN、炭素原子数1
ないし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし12の
シクロアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニ
ル基、非置換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし
4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換
された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表
すか、または炭素原子数1ないし8のアシル基を表し、
R2 は次式:−OR4 、−SR4 または−NR5
R6 {式中、R4 、R5 およびR6 は同一で
あっても異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1
ないし18のアルキル基、非置換または炭素原子数1な
いし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−
置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基
を表すか、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、非
置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によりモノ−、ジ
−もしくはトリ−置換されたフェニル基を表すか、非置
換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換された炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表すか、1な
いし8のアルコキシ基もしくはジ(炭素原子数1ないし
4のアルキル)アミノ基により2位、3位もしくは4位
で置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表す
か、テトラヒドロフルフリル基、次式II(化26):
CH2 CH2 −を表し、mは2ないし6の整数を表
し、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基、O・、OH、NO、CH2 CN、炭素原子数1
ないし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし12の
シクロアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニ
ル基、非置換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし
4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換
された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表
すか、または炭素原子数1ないし8のアシル基を表し、
R2 は次式:−OR4 、−SR4 または−NR5
R6 {式中、R4 、R5 およびR6 は同一で
あっても異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1
ないし18のアルキル基、非置換または炭素原子数1な
いし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−
置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基
を表すか、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、非
置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によりモノ−、ジ
−もしくはトリ−置換されたフェニル基を表すか、非置
換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換された炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表すか、1な
いし8のアルコキシ基もしくはジ(炭素原子数1ないし
4のアルキル)アミノ基により2位、3位もしくは4位
で置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表す
か、テトラヒドロフルフリル基、次式II(化26):
【化26】
(式中Aおよびmは上記と同じ意味を表す)で表される
基または次式III(化27):
基または次式III(化27):
【化27】
(式中R7 はR1 と同じ意味を表す)で表される基
を表すか、または−NR5 R6 基は5員ないし7員
の複素環式基を表す}で表される基を表すか、またはR
2 は次式IVa(化28)ないしIVc(化30):
を表すか、または−NR5 R6 基は5員ないし7員
の複素環式基を表す}で表される基を表すか、またはR
2 は次式IVa(化28)ないしIVc(化30):
【化28】
【化29】
【化30】
(式中R7 は上記と同じ意味を表す)で表される基の
いずれかを表し、nは1、2、3または4を表し、そし
てnが1を表す場合、R3 はR2 と同じ意味を表し
、nが2を表す場合、R3 は次式VaないしVc(化
32):−E1 −R8 −E2 − (Va)
いずれかを表し、nは1、2、3または4を表し、そし
てnが1を表す場合、R3 はR2 と同じ意味を表し
、nが2を表す場合、R3 は次式VaないしVc(化
32):−E1 −R8 −E2 − (Va)
【化31】
【化32】
(式中、E1 、E2 およびE3 は同一でも異なっ
ていてもよく、−O−または>N−R12を表し、R8
は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、1、2も
しくは3個の酸素原子または1もしくは2個の>N−R
12基により中断された炭素原子数4ないし12のアル
キレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシレンジメ
チレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソプロピ
リデンジシクロヘキシレン基、フェニレン基、イソプロ
ピリデンジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R
9 は炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、E
4 は>N−(R9 −E3 )S −、>CHO−ま
たは>CH−CH2 −NR12−を表し、rおよびs
は同一でも異なっていてもよく、0または1を表し、R
10は水素原子を表すか、またはrが1を表しE4 が
>CHO−を表すときR10はメチル基を表し得、R1
1は水素原子またはメチル基を表し、そしてR12は水
素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換
または炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−
、ジ−もしくはトリ−置換された炭素原子数5ないし1
2のシクロアルキル基を表すか、非置換またはフェニル
基上で炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−
、ジ−もしくはトリ−置換された炭素原子数7ないし9
のフェニルアルキル基を表すか、または式IIIで表さ
れる基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが
3を表す場合、R3 は次式VIa(化33)ないしV
Id(化36):
ていてもよく、−O−または>N−R12を表し、R8
は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、1、2も
しくは3個の酸素原子または1もしくは2個の>N−R
12基により中断された炭素原子数4ないし12のアル
キレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシレンジメ
チレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソプロピ
リデンジシクロヘキシレン基、フェニレン基、イソプロ
ピリデンジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R
9 は炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、E
4 は>N−(R9 −E3 )S −、>CHO−ま
たは>CH−CH2 −NR12−を表し、rおよびs
は同一でも異なっていてもよく、0または1を表し、R
10は水素原子を表すか、またはrが1を表しE4 が
>CHO−を表すときR10はメチル基を表し得、R1
1は水素原子またはメチル基を表し、そしてR12は水
素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換
または炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−
、ジ−もしくはトリ−置換された炭素原子数5ないし1
2のシクロアルキル基を表すか、非置換またはフェニル
基上で炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−
、ジ−もしくはトリ−置換された炭素原子数7ないし9
のフェニルアルキル基を表すか、または式IIIで表さ
れる基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが
3を表す場合、R3 は次式VIa(化33)ないしV
Id(化36):
【化33】
【化34】
【化35】
【化36】
(式中、E5 、E6 、E7 、E9 、E10およ
びE11は同一でも異なっていてもよく、上記E1 、
E2 およびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 お
よびE10が両方とも−O−を表すならばE11は−C
H2 O−基であってよく、R13、R14およびR1
5は同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし
6のアルキレン基を表し、tは0または1を表し、R1
6、R17およびR18は同一でも異なっていてもよく
、上記R12と同じ意味を表し、E8 は直接結合また
は−CH2 −を表し、u、vおよびxは同一でも異な
っていてもよく、2ないし6の整数を表し、そしてR1
9は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル基
を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが4を表
す場合、R3 は次式VIIa(化37)またはVII
b:
びE11は同一でも異なっていてもよく、上記E1 、
E2 およびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 お
よびE10が両方とも−O−を表すならばE11は−C
H2 O−基であってよく、R13、R14およびR1
5は同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし
6のアルキレン基を表し、tは0または1を表し、R1
6、R17およびR18は同一でも異なっていてもよく
、上記R12と同じ意味を表し、E8 は直接結合また
は−CH2 −を表し、u、vおよびxは同一でも異な
っていてもよく、2ないし6の整数を表し、そしてR1
9は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル基
を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが4を表
す場合、R3 は次式VIIa(化37)またはVII
b:
【化37】
R22(−O−)4 (VIIb)(式中、E
12は上記E1 、E2 およびE3と同じ意味を表し
、R20およびR21は同一でも異なっていてもよく、
炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、yは0ま
たは1を表し、そしてR22は炭素原子数4ないし12
のアルカンテトライル基を表す)で表される基を表す]
で表される新規化合物に関する。
12は上記E1 、E2 およびE3と同じ意味を表し
、R20およびR21は同一でも異なっていてもよく、
炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、yは0ま
たは1を表し、そしてR22は炭素原子数4ないし12
のアルカンテトライル基を表す)で表される基を表す]
で表される新規化合物に関する。
【0006】炭素原子数18までのアルキル基の例はメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、2−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペ
ンチル基、2−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、2−エチルヘキシル基、t−オクチル基、
ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリ
デシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基およびオク
タデシル基である。
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、2−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペ
ンチル基、2−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、2−エチルヘキシル基、t−オクチル基、
ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリ
デシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基およびオク
タデシル基である。
【0007】炭素原子数1ないし8のアルコキシ基、好
ましくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、特にメ
トキシ基またはエトキシ基により置換された炭素原子数
2ないし4のアルキル基の例は2−メトキシエチル基、
2−エトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、3−
エトキシプロピル基、3−ブトキシプロピル基、3−オ
クトキシプロピル基および4−メトキシブチル基である
。
ましくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、特にメ
トキシ基またはエトキシ基により置換された炭素原子数
2ないし4のアルキル基の例は2−メトキシエチル基、
2−エトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、3−
エトキシプロピル基、3−ブトキシプロピル基、3−オ
クトキシプロピル基および4−メトキシブチル基である
。
【0008】ジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)ア
ミノ基、好ましくはジメチルアミノ基またはジエチルア
ミノ基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキ
ル基の例は2−ジメチルアミノエチル基、2−ジエチル
アミノメチル基、3−ジメチルアミノプロピル基、2−
ジエチルアミノプロピル基、3−ジブチルアミノプロピ
ル基および4−ジエチルアミノブチル基である。
ミノ基、好ましくはジメチルアミノ基またはジエチルア
ミノ基により置換された炭素原子数2ないし4のアルキ
ル基の例は2−ジメチルアミノエチル基、2−ジエチル
アミノメチル基、3−ジメチルアミノプロピル基、2−
ジエチルアミノプロピル基、3−ジブチルアミノプロピ
ル基および4−ジエチルアミノブチル基である。
【0009】炭素原子数1ないし18のアルコキシ基R
1 およびR7 の代表例はメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブ
トキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキ
シ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシルオキシ基、
ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシ
ルオキシ基およびオクタデシルオキシ基である。炭素原
子数6ないし12のアルコキシ基、特にヘプトキシ基ま
たはオクトキシ基が好ましい。
1 およびR7 の代表例はメトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブ
トキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキ
シ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシルオキシ基、
ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシ
ルオキシ基およびオクタデシルオキシ基である。炭素原
子数6ないし12のアルコキシ基、特にヘプトキシ基ま
たはオクトキシ基が好ましい。
【0010】非置換または炭素原子数1ないし4のアル
キル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されてい
る炭素原子数5ないし12のシクロアルキル置換基の例
はシクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチ
ルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロ
ヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシ
クロヘキシル基、t−ブチルシクロヘキシル基、シクロ
オクチル基、シクロデシル基およびシクロドデシル基で
ある。非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基
により置換されたシクロヘキシル基が好ましい。
キル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されてい
る炭素原子数5ないし12のシクロアルキル置換基の例
はシクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチ
ルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロ
ヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシ
クロヘキシル基、t−ブチルシクロヘキシル基、シクロ
オクチル基、シクロデシル基およびシクロドデシル基で
ある。非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基
により置換されたシクロヘキシル基が好ましい。
【0011】炭素原子数5ないし12のシクロアルコキ
シ基R1 およびR7 の代表例はシクロペントキシ基
、シクロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロオ
クトキシ基、シクロデシルオキシ基およびシクロドデシ
ルオキシ基である。シクロペントキシ基およびシクロヘ
キソキシ基が好ましい。
シ基R1 およびR7 の代表例はシクロペントキシ基
、シクロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロオ
クトキシ基、シクロデシルオキシ基およびシクロドデシ
ルオキシ基である。シクロペントキシ基およびシクロヘ
キソキシ基が好ましい。
【0012】炭素原子数18までのアルケニル基の例は
アリル基、2−メチルアリル基、ヘキセニル基、デセニ
ル基、ウンデセニル基およびオレイル基である。
アリル基、2−メチルアリル基、ヘキセニル基、デセニ
ル基、ウンデセニル基およびオレイル基である。
【0013】これらのアルケニル基は1位の炭素原子が
飽和されているのが好ましく、アリル基が特に好ましい
。
飽和されているのが好ましく、アリル基が特に好ましい
。
【0014】置換フェニル基の例はメチルフェニル基、
ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、t−ブチ
ルフェニル基、ジ−t−ブチルフェニル基、3,5−ジ
−t−ブチル−4−メチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基およびエトキシフェニル基である。
ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、t−ブチ
ルフェニル基、ジ−t−ブチルフェニル基、3,5−ジ
−t−ブチル−4−メチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基およびエトキシフェニル基である。
【0015】非置換またはフェニル基上で炭素原子数1
ないし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ
−置換されている種々の炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル置換基の例はベンジル基、メチルベンジル基
、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、t−ブ
チルベンジル基および2−フェニルエチル基である。 ベンジル基が好ましい。
ないし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ
−置換されている種々の炭素原子数7ないし9のフェニ
ルアルキル置換基の例はベンジル基、メチルベンジル基
、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、t−ブ
チルベンジル基および2−フェニルエチル基である。 ベンジル基が好ましい。
【0016】炭素原子数8までのアシル基R1 および
R7 は脂肪族基であっても芳香族基であってもよい。 代表例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノ
イル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイル
基またはクロトノイル基である。炭素原子数1ないし8
のアルカノイル基、炭素原子数3ないし8のアルケノイ
ル基またはベンゾイル基が好ましい。アセチル基が特に
好ましい。
R7 は脂肪族基であっても芳香族基であってもよい。 代表例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノ
イル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイル
基またはクロトノイル基である。炭素原子数1ないし8
のアルカノイル基、炭素原子数3ないし8のアルケノイ
ル基またはベンゾイル基が好ましい。アセチル基が特に
好ましい。
【0017】5員ないし7員の複素環式基−NR5 R
6 はその他の異原子、例えば窒素原子または酸素原子
を含んでいてもよく、代表例は1−ピロリジル基、1−
ピペリジル基、4−モルホリニル基、4−メチル−1−
ピペラジニル基および1−ヘキサヒドロアゼピニル基で
ある。4−モルホリニル基が好ましい。
6 はその他の異原子、例えば窒素原子または酸素原子
を含んでいてもよく、代表例は1−ピロリジル基、1−
ピペリジル基、4−モルホリニル基、4−メチル−1−
ピペラジニル基および1−ヘキサヒドロアゼピニル基で
ある。4−モルホリニル基が好ましい。
【0018】炭素原子数12までのアルキレン基の例は
エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基、2,2−ジメチルトリメ
チレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレ
ン基、オクタメチレン基、デカメチレン基およびドデカ
メチレン基である。
エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基、2,2−ジメチルトリメ
チレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキサメチレ
ン基、オクタメチレン基、デカメチレン基およびドデカ
メチレン基である。
【0019】1、2または3個の酸素原子により中断さ
れた炭素原子数4ないし12のアルキレン基の例は3−
オキサペンタン−1,5−ジイル基、4−オキサヘプタ
ン−1,7−ジイル基、3,6−ジオキサオクタン−1
,8−ジイル基、4,7−ジオキサデカン−1,10−
ジイル基、4,9−ジオキサドデカン−1,12−ジイ
ル基および3,6,9−トリオキサウンデカン−1,1
1−ジイル基である。
れた炭素原子数4ないし12のアルキレン基の例は3−
オキサペンタン−1,5−ジイル基、4−オキサヘプタ
ン−1,7−ジイル基、3,6−ジオキサオクタン−1
,8−ジイル基、4,7−ジオキサデカン−1,10−
ジイル基、4,9−ジオキサドデカン−1,12−ジイ
ル基および3,6,9−トリオキサウンデカン−1,1
1−ジイル基である。
【0020】1または2個の>N−R12基により中断
された炭素原子数4ないし12のアルキレン基R8 の
代表例は次式:−(CH2 )2−6 −NR12−(
CH2 )2−6 −および−(CH2 )2−3 −
NR12−(CH2 )2−3 −NR12−(CH2
)2−3 −で表される基である。
された炭素原子数4ないし12のアルキレン基R8 の
代表例は次式:−(CH2 )2−6 −NR12−(
CH2 )2−6 −および−(CH2 )2−3 −
NR12−(CH2 )2−3 −NR12−(CH2
)2−3 −で表される基である。
【0021】炭素原子数4ないし12のアルカンテトラ
イル基の代表例は1,2,3,4−ブタンテトライル基
および次式(化38):
イル基の代表例は1,2,3,4−ブタンテトライル基
および次式(化38):
【化38】
で表される基である。
【0022】R1 およびR7 の好ましい定義は水素
原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、OH、炭素
原子数6ないし12のアルコキシ基、炭素原子数5ない
し8のシクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基また
はアセチル基、特に水素原子またはメチル基である。
原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、OH、炭素
原子数6ないし12のアルコキシ基、炭素原子数5ない
し8のシクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基また
はアセチル基、特に水素原子またはメチル基である。
【0023】式I中、Aが直接結合、−O−または−C
H2 −を表し、mが2ないし4の整数を表し、R2
が次式:−OR4 、−SR4 または−NR5 R6
(式中、R4 、R5 およびR6 は同一であって
も異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1ないし
14のアルキル基、非置換または炭素原子数1ないし4
のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換さ
れた炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基を表すか
、炭素原子数3ないし12のアルケニル基、フェニル基
、ベンジル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基も
しくはジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基
により2位もしくは3位で置換された炭素原子数2もし
くは3のアルキル基を表すか、テトラヒドロフルフリル
基、式IIで表される基または式IIIで表される基を
表すか、または−NR5 R6 基は1−ピロリジル基
、1−ピペリジル基、4−モルホリニル基、4−メチル
−1−ピペラジニル基または1−ヘキサヒドロアゼピニ
ル基を表す)で表される基を表すか、またはR2 は式
IVaないしIVcで表される基の1つを表し、nが1
、2、3または4を表し、そしてnが1を表す場合、R
3 がR2 と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R
3 が式VaないしVc(式中、E1 、E2 および
E3 は同一でも異なっていてもよく、−O−または>
N−R12を表し、R8 は炭素原子数2ないし10の
アルキレン基、1、2もしくは3個の酸素原子または1
もしくは2個の>N−R12基により中断された炭素原
子数4ないし10のアルキレン基、シクロヘキシレンジ
メチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソプロ
ピリデンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデンジフ
ェニレン基またはキシリレン基を表し、R9 は炭素原
子数2ないし4のアルキレン基を表し、E4 は>N−
(R9 −E3 )S −、>CHO−または>CH−
CH2 −NR12−を表し、rおよびsは同一でも異
なっていてもよく、0または1を表し、R10は水素原
子を表すか、またはrが1を表しE4 が>CHO−を
表すときR10はメチル基を表し得、R11は水素原子
またはメチル基を表し、そしてR12は水素原子、炭素
原子数1ないし12のアルキル基、非置換または炭素原
子数1ないし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしく
はトリ−置換された炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基を表すか、ベンジル基を表すか、または式III
で表される基を表す)で表される基の1つを表し、そし
てnが3を表す場合、R3 が式VIaないしVId(
式中、E5 、E6 、E7 、E9 、E10および
E11は同一でも異なっていてもよく、上記E1 、E
2 およびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 およ
びE10が両方とも−O−を表すならばE11は−CH
2 O−基であってよく、R13、R14およびR15
は同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6
のアルキレン基を表し、tは0または1を表し、R16
、R17およびR18は同一でも異なっていてもよく、
上記R12と同じ意味を表し、E8 は直接結合または
−CH2 −を表し、u、vおよびxは同一でも異なっ
ていてもよく、2ないし6の整数を表し、そしてR19
は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表す)で表される基の1つを表し、そしてnが4を表す
場合、R3 が式VIIaまたはVIIb(式中、E1
2は上記E1 、E2 およびE3 と同じ意味を表し
、R20およびR21は同一でも異なっていてもよく、
炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、yは0ま
たは1を表し、そしてR22は炭素原子数4ないし8の
アルカンテトライル基を表す)で表される基を表す化合
物が好ましい。
H2 −を表し、mが2ないし4の整数を表し、R2
が次式:−OR4 、−SR4 または−NR5 R6
(式中、R4 、R5 およびR6 は同一であって
も異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1ないし
14のアルキル基、非置換または炭素原子数1ないし4
のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換さ
れた炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基を表すか
、炭素原子数3ないし12のアルケニル基、フェニル基
、ベンジル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基も
しくはジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミノ基
により2位もしくは3位で置換された炭素原子数2もし
くは3のアルキル基を表すか、テトラヒドロフルフリル
基、式IIで表される基または式IIIで表される基を
表すか、または−NR5 R6 基は1−ピロリジル基
、1−ピペリジル基、4−モルホリニル基、4−メチル
−1−ピペラジニル基または1−ヘキサヒドロアゼピニ
ル基を表す)で表される基を表すか、またはR2 は式
IVaないしIVcで表される基の1つを表し、nが1
、2、3または4を表し、そしてnが1を表す場合、R
3 がR2 と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R
3 が式VaないしVc(式中、E1 、E2 および
E3 は同一でも異なっていてもよく、−O−または>
N−R12を表し、R8 は炭素原子数2ないし10の
アルキレン基、1、2もしくは3個の酸素原子または1
もしくは2個の>N−R12基により中断された炭素原
子数4ないし10のアルキレン基、シクロヘキシレンジ
メチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソプロ
ピリデンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデンジフ
ェニレン基またはキシリレン基を表し、R9 は炭素原
子数2ないし4のアルキレン基を表し、E4 は>N−
(R9 −E3 )S −、>CHO−または>CH−
CH2 −NR12−を表し、rおよびsは同一でも異
なっていてもよく、0または1を表し、R10は水素原
子を表すか、またはrが1を表しE4 が>CHO−を
表すときR10はメチル基を表し得、R11は水素原子
またはメチル基を表し、そしてR12は水素原子、炭素
原子数1ないし12のアルキル基、非置換または炭素原
子数1ないし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしく
はトリ−置換された炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基を表すか、ベンジル基を表すか、または式III
で表される基を表す)で表される基の1つを表し、そし
てnが3を表す場合、R3 が式VIaないしVId(
式中、E5 、E6 、E7 、E9 、E10および
E11は同一でも異なっていてもよく、上記E1 、E
2 およびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 およ
びE10が両方とも−O−を表すならばE11は−CH
2 O−基であってよく、R13、R14およびR15
は同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6
のアルキレン基を表し、tは0または1を表し、R16
、R17およびR18は同一でも異なっていてもよく、
上記R12と同じ意味を表し、E8 は直接結合または
−CH2 −を表し、u、vおよびxは同一でも異なっ
ていてもよく、2ないし6の整数を表し、そしてR19
は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表す)で表される基の1つを表し、そしてnが4を表す
場合、R3 が式VIIaまたはVIIb(式中、E1
2は上記E1 、E2 およびE3 と同じ意味を表し
、R20およびR21は同一でも異なっていてもよく、
炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、yは0ま
たは1を表し、そしてR22は炭素原子数4ないし8の
アルカンテトライル基を表す)で表される基を表す化合
物が好ましい。
【0024】式I中、Aが−O−または−CH2 −を
表し、mが2または3を表し、R2 が次式:−OR4
、−SR4 または−NR5 R6 (式中、R4
、R5 およびR6 は同一であっても異なっていても
よく、水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基
、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基によ
りモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されたシクロヘキシ
ル基を表すか、アリル基、ウンデセニル基、フェニル基
、ベンジル基を表すか、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、ジメチルアミノ基もしくはジエチルアミノ基に
より2位もしくは3位で置換された炭素原子数2もしく
は3のアルキル基を表すか、テトラヒドロフルフリル基
、式IIで表される基または式IIIで表される基を表
すか、または−NR5 R6 基は4−モルホリニル基
を表す)で表される基を表すか、またはR2 は式IV
aないしIVcで表される基の1つを表し、nが1、2
、3または4を表し、そしてnが1を表す場合、R3
がR2 と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R3
が式VaないしVc(式中、E1 、E2 およびE3
は同一でも異なっていてもよく、−O−または>N−
R12を表し、R8 は炭素原子数2ないし8のアルキ
レン基、2もしくは3個の酸素原子により中断された炭
素原子数6ないし10のアルキレン基、シクロヘキシレ
ンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソ
プロピリデンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデン
ジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R9 は炭
素原子数2または3のアルキレン基を表し、E4 は>
N−(R9 −E3 )S −または>CHO−を表し
、rおよびsは同一でも異なっていてもよく、0または
1を表し、R10は水素原子を表すか、またはrが1を
表しE4 が>CHO−を表すときR10はメチル基を
表し得、R11は水素原子またはメチル基を表し、そし
てR12は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル
基、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基に
よりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されたシクロヘキ
シル基を表すか、ベンジル基または式IIIで表される
基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが3を
表す場合、R3 が式VIaないしVId(式中、E5
、E6 、E7 、E9 、E10およびE11は同
一でも異なっていてもよく、上記E1 、E2およびE
3 と同じ意味を表し、そしてE9 およびE10が両
方とも−O−を表すならばE11は−CH2 O−基で
あってよく、R13、R14およびR15は同一でも異
なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキレン
基を表し、tは0または1を表し、R16、R17およ
びR18は同一でも異なっていてもよく、上記R12と
同じ意味を表し、E8は直接結合または−CH2 −を
表し、u、vおよびxは同一でも異なっていてもよく、
2ないし6の整数を表し、そしてR19は水素原子、メ
チル基またはエチル基を表す)で表される基の1つを表
し、そしてnが4を表す場合、R3 が式VIIaまた
はVIIb(式中、E12は上記E1 、E2 および
E3 と同じ意味を表し、R20およびR21は同一で
も異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキ
レン基を表し、yは0または1を表し、そしてR22は
炭素原子数4ないし6のアルカンテトライル基を表す)
で表される基を表す化合物が特に好ましい。
表し、mが2または3を表し、R2 が次式:−OR4
、−SR4 または−NR5 R6 (式中、R4
、R5 およびR6 は同一であっても異なっていても
よく、水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基
、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基によ
りモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されたシクロヘキシ
ル基を表すか、アリル基、ウンデセニル基、フェニル基
、ベンジル基を表すか、炭素原子数1ないし4のアルコ
キシ基、ジメチルアミノ基もしくはジエチルアミノ基に
より2位もしくは3位で置換された炭素原子数2もしく
は3のアルキル基を表すか、テトラヒドロフルフリル基
、式IIで表される基または式IIIで表される基を表
すか、または−NR5 R6 基は4−モルホリニル基
を表す)で表される基を表すか、またはR2 は式IV
aないしIVcで表される基の1つを表し、nが1、2
、3または4を表し、そしてnが1を表す場合、R3
がR2 と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R3
が式VaないしVc(式中、E1 、E2 およびE3
は同一でも異なっていてもよく、−O−または>N−
R12を表し、R8 は炭素原子数2ないし8のアルキ
レン基、2もしくは3個の酸素原子により中断された炭
素原子数6ないし10のアルキレン基、シクロヘキシレ
ンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソ
プロピリデンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデン
ジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R9 は炭
素原子数2または3のアルキレン基を表し、E4 は>
N−(R9 −E3 )S −または>CHO−を表し
、rおよびsは同一でも異なっていてもよく、0または
1を表し、R10は水素原子を表すか、またはrが1を
表しE4 が>CHO−を表すときR10はメチル基を
表し得、R11は水素原子またはメチル基を表し、そし
てR12は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル
基、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基に
よりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されたシクロヘキ
シル基を表すか、ベンジル基または式IIIで表される
基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが3を
表す場合、R3 が式VIaないしVId(式中、E5
、E6 、E7 、E9 、E10およびE11は同
一でも異なっていてもよく、上記E1 、E2およびE
3 と同じ意味を表し、そしてE9 およびE10が両
方とも−O−を表すならばE11は−CH2 O−基で
あってよく、R13、R14およびR15は同一でも異
なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキレン
基を表し、tは0または1を表し、R16、R17およ
びR18は同一でも異なっていてもよく、上記R12と
同じ意味を表し、E8は直接結合または−CH2 −を
表し、u、vおよびxは同一でも異なっていてもよく、
2ないし6の整数を表し、そしてR19は水素原子、メ
チル基またはエチル基を表す)で表される基の1つを表
し、そしてnが4を表す場合、R3 が式VIIaまた
はVIIb(式中、E12は上記E1 、E2 および
E3 と同じ意味を表し、R20およびR21は同一で
も異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキ
レン基を表し、yは0または1を表し、そしてR22は
炭素原子数4ないし6のアルカンテトライル基を表す)
で表される基を表す化合物が特に好ましい。
【0025】式I中、Aが−O−を表し、mが2または
3を表し、R2 が次式:−OR4 または−NR5
R6 (式中、R4 は炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基または式IIIで表される基を表し、そしてR5
およびR6 は同一であっても異なっていてもよく、炭
素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基を表すか、メトキシ基、エトキシ基、ジメチ
ルアミノ基もしくはジエチルアミノ基により2位もしく
は3位で置換された炭素原子数2もしくは3のアルキル
基を表すか、テトラヒドロフルフリル基、式IIで表さ
れる基または式IIIで表される基を表すか、またはR
5 は水素原子であってよく、または−NR5 R6
基は4−モルホリニル基を表す)で表される基を表すか
、またはR2 は式IVaないしIVcで表される基の
1つを表し、nが1、2、3または4を表し、そしてn
が1を表す場合、R3 がR2 と同じ意味を表し、n
が2を表す場合、R3 が式VaないしVc{式中、E
1 およびE2 は同一でも異なっていてもよく、−O
−または>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2な
いし8のアルキレン基、2もしくは3個の酸素原子によ
り中断された炭素原子数6ないし10のアルキレン基、
シクロヘキシレンジメチレン基またはメチレンジシクロ
ヘキシレン基を表し、式Vbが次式:
3を表し、R2 が次式:−OR4 または−NR5
R6 (式中、R4 は炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基または式IIIで表される基を表し、そしてR5
およびR6 は同一であっても異なっていてもよく、炭
素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基を表すか、メトキシ基、エトキシ基、ジメチ
ルアミノ基もしくはジエチルアミノ基により2位もしく
は3位で置換された炭素原子数2もしくは3のアルキル
基を表すか、テトラヒドロフルフリル基、式IIで表さ
れる基または式IIIで表される基を表すか、またはR
5 は水素原子であってよく、または−NR5 R6
基は4−モルホリニル基を表す)で表される基を表すか
、またはR2 は式IVaないしIVcで表される基の
1つを表し、nが1、2、3または4を表し、そしてn
が1を表す場合、R3 がR2 と同じ意味を表し、n
が2を表す場合、R3 が式VaないしVc{式中、E
1 およびE2 は同一でも異なっていてもよく、−O
−または>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2な
いし8のアルキレン基、2もしくは3個の酸素原子によ
り中断された炭素原子数6ないし10のアルキレン基、
シクロヘキシレンジメチレン基またはメチレンジシクロ
ヘキシレン基を表し、式Vbが次式:
【化39】
【化40】
(式中、rおよびsは同一でも異なっていてもよく、0
または1を表し、R12は水素原子、炭素原子数1ない
し4のアルキル基、シクロヘキシル基または式IIIで
表される基を表す)で表される基を表し、そしてR11
は水素原子またはメチル基を表す}で表される基の1つ
を表し、そしてnが3を表す場合、R3 が式VIaま
たはVIb(式中、E5 、E6 およびE7 は同一
でも異なっていてもよく、上記E1 およびE2 と同
じ意味を表し、R13、R14およびR15は同一でも
異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキレ
ン基を表し、tは0または1を表し、R16、R17お
よびR18は同一でも異なっていてもよく、上記R12
と同じ意味を表し、E8 は直接結合または−CH2
−を表し、そしてuおよびvは同一でも異なっていても
よく、3ないし6の整数を表す)で表される基を表し、
そしてnが4を表す場合、R3 が式VIIa(式中、
E12は上記E1 およびE2 と同じ意味を表し、R
20およびR21は同一でも異なっていてもよく、炭素
原子数2または3のアルキレン基を表し、そしてyは0
または1を表す)で表される基を表す化合物が特に興味
深い。
または1を表し、R12は水素原子、炭素原子数1ない
し4のアルキル基、シクロヘキシル基または式IIIで
表される基を表す)で表される基を表し、そしてR11
は水素原子またはメチル基を表す}で表される基の1つ
を表し、そしてnが3を表す場合、R3 が式VIaま
たはVIb(式中、E5 、E6 およびE7 は同一
でも異なっていてもよく、上記E1 およびE2 と同
じ意味を表し、R13、R14およびR15は同一でも
異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキレ
ン基を表し、tは0または1を表し、R16、R17お
よびR18は同一でも異なっていてもよく、上記R12
と同じ意味を表し、E8 は直接結合または−CH2
−を表し、そしてuおよびvは同一でも異なっていても
よく、3ないし6の整数を表す)で表される基を表し、
そしてnが4を表す場合、R3 が式VIIa(式中、
E12は上記E1 およびE2 と同じ意味を表し、R
20およびR21は同一でも異なっていてもよく、炭素
原子数2または3のアルキレン基を表し、そしてyは0
または1を表す)で表される基を表す化合物が特に興味
深い。
【0026】式I中、R1 が水素原子またはメチル基
を表し、Aが−O−を表し、mが3を表し、R2 が次
式:−OR4 または−NR5 R6 (式中、R4
は炭素原子数1ないし4のアルキル基、2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル基または1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル基を表し、そし
てR5 およびR6 は同一であっても異なっていても
よく、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキ
シル基、テトラヒドロフルフリル基、次式(化41):
を表し、Aが−O−を表し、mが3を表し、R2 が次
式:−OR4 または−NR5 R6 (式中、R4
は炭素原子数1ないし4のアルキル基、2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル基または1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル基を表し、そし
てR5 およびR6 は同一であっても異なっていても
よく、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキ
シル基、テトラヒドロフルフリル基、次式(化41):
【化41】
で表される基、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル基または1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジル基を表すか、またはR5 は水素原子で
あってよく、または−NR5 R6 基は4−モルホリ
ニル基を表す)で表される基を表し、nが1、2、3ま
たは4を表し、そしてnが1を表す場合、R3 がR2
と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R3 が式V
a(式中、E1 およびE2 は同一でも異なっていて
もよく、>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2な
いし6のアルキレン基、2もしくは3個の酸素原子によ
り中断された炭素原子数8ないし10のアルキレン基ま
たはメチレンジシクロヘキシレン基を表し、そしてR1
2は水素原子、メチル基、2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル基または1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジル基を表す)で表される基を表
し、そしてnが3を表す場合、R3 が次式(化42)
:
ペリジル基または1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジル基を表すか、またはR5 は水素原子で
あってよく、または−NR5 R6 基は4−モルホリ
ニル基を表す)で表される基を表し、nが1、2、3ま
たは4を表し、そしてnが1を表す場合、R3 がR2
と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R3 が式V
a(式中、E1 およびE2 は同一でも異なっていて
もよく、>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2な
いし6のアルキレン基、2もしくは3個の酸素原子によ
り中断された炭素原子数8ないし10のアルキレン基ま
たはメチレンジシクロヘキシレン基を表し、そしてR1
2は水素原子、メチル基、2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル基または1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジル基を表す)で表される基を表
し、そしてnが3を表す場合、R3 が次式(化42)
:
【化42】
(式中、R12は上記と同じ意味を表し、そしてR13
および中R14は同一でも異なっていてもよく、炭素原
子数2または3のアルキレン基を表す)で表される基を
表し、そしてnが4を表す場合、R3 が次式(化43
):
および中R14は同一でも異なっていてもよく、炭素原
子数2または3のアルキレン基を表す)で表される基を
表し、そしてnが4を表す場合、R3 が次式(化43
):
【化43】
(式中、R12は上記と同じ意味を表し、そしてR20
およびR21は同一でも異なっていてもよく、炭素原子
数2または3のアルキレン基を表す)で表される基を表
す化合物が中でも興味深い。
およびR21は同一でも異なっていてもよく、炭素原子
数2または3のアルキレン基を表す)で表される基を表
す化合物が中でも興味深い。
【0027】式Iで表される化合物はそれ自体公知の方
法、例えば塩化シアヌルを次式VIIIa(化44)な
いしVIIIc:
法、例えば塩化シアヌルを次式VIIIa(化44)な
いしVIIIc:
【化44】
R2 −H (VIIIb)R3 −(
H)n (VIIIc)で表される化合物と、適当
なモル比、特に化学量論比でもって、あらゆる順序で反
応させることにより製造され得る。
H)n (VIIIc)で表される化合物と、適当
なモル比、特に化学量論比でもって、あらゆる順序で反
応させることにより製造され得る。
【0028】反応は芳香族炭化水素溶媒、例えばトルエ
ン、キシレンまたはトリメチルベンゼン中、例えば−2
0℃ないし220℃、好ましくは−10℃ないし200
℃の温度で操作して行われるのが好ましい。
ン、キシレンまたはトリメチルベンゼン中、例えば−2
0℃ないし220℃、好ましくは−10℃ないし200
℃の温度で操作して行われるのが好ましい。
【0029】反応中に遊離した塩酸は無機塩基、例えば
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムま
たは炭酸カリウムを遊離した酸に対して少なくとも当量
用いて中和されるのが好ましい。
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムま
たは炭酸カリウムを遊離した酸に対して少なくとも当量
用いて中和されるのが好ましい。
【0030】R1 がメチル基である場合、式Iで表さ
れる化合物はR1 =Hである相当する化合物をホルム
アルデヒドおよびギ酸と、またはホルムアルデヒドおよ
び水素とを水素添加触媒例えばパラジウムまたは白金の
存在下で反応させることにより製造されるのが好ましい
。
れる化合物はR1 =Hである相当する化合物をホルム
アルデヒドおよびギ酸と、またはホルムアルデヒドおよ
び水素とを水素添加触媒例えばパラジウムまたは白金の
存在下で反応させることにより製造されるのが好ましい
。
【0031】式VIIIaで表される化合物は新規であ
り、そして本発明のその他の態様を構成する。それらは
、例えば次式IX(化45):
り、そして本発明のその他の態様を構成する。それらは
、例えば次式IX(化45):
【化45】
で表されるピペリドンを次式X(化46):
【化46】
で表されるアミンと、水素および水素添加触媒例えば白
金、ニッケルまたはパラジウムの存在下で反応させるこ
とにより製造され得る。
金、ニッケルまたはパラジウムの存在下で反応させるこ
とにより製造され得る。
【0032】式VIIIbおよびVIIIcで表される
化合物が式VIIIaで表される化合物と異なっている
場合、それらは市販品であるか、または公知方法により
容易に得られる。
化合物が式VIIIaで表される化合物と異なっている
場合、それらは市販品であるか、または公知方法により
容易に得られる。
【0033】最初に記載したように、式Iで表される化
合物は有機材料、特に合成ポリマーおよびコポリマーの
光安定性、熱安定性および酸化安定性を改善するのに非
常に有効である。
合物は有機材料、特に合成ポリマーおよびコポリマーの
光安定性、熱安定性および酸化安定性を改善するのに非
常に有効である。
【0034】安定化され得る有機材料の例を以下に示す
:1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、
例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン
−1、ポリメチルペンテン−1、ポリイソプレンまたは
ポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロ
ペンテンまたはノルボルネンのポリマー、(非架橋また
は架橋され得る)ポリエチレン、例えば高密度ポリエチ
レン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)お
よび線状低密度ポリエチレン(LLDPE)。 2.1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレン
とポリエチレンとの混合物(例えばPP/HDPE,P
P/LDPE)および異なるタイプのポリエチレンの混
合物(例えば、LDPE/HDPE)。 3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プロピレ
ンコポリマー、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)
およびその低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物
、プロピレン/ブテン−1コポリマー、エチレン/ヘキ
センコポリマー、エチレン/エチルペンテンコポリマー
、エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテン
コポリマー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソ
ブチレン/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキル
アクリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリ
レートコポリマー、エチレン/ビニルアセテートまたは
エチレン/アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類(
アイオノマー)、およびエチレンとプロピレンとジエン
例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチ
リデンノルボルネンとのターポリマー;並びに前記コポ
リマー相互の、および上記1.のポリマーとの混合物、
例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレン−コポリ
マー、LDPE/EVA、LDPE/EAA、LLDP
E/EVAおよびLLDPE/EAA。3a. α−オ
レフィンと一酸化炭素との規則的または交互ランダムコ
ポリマー。3b.炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5な
いし9)およびそれらの水素化変性物(例えば粘着付与
剤)。 4.ポリスチレン、ポリ−(p−メチルスチレン)、ポ
リ−(α−メチルスチレン)。 5.スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタ
ジエン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/アル
キルメタクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキル
アクリレート、スチレン/無水マレイン酸、スチレン/
アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチレンコポ
リマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエンターポ
リマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチレンのブロ
ックコポリマー例えばスチレン/ブタジエン/スチレン
、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレン/エチレ
ン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチレン/プ
ロピレン/スチレン。 6.スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポ
リマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジ
エン/スチレンまたはポリブタジエン/アクリロニトリ
ルにスチレン;ポリブタジエンにスチレンおよびアクリ
ロニトリル(またはメタアクリロニトリル);ポリブタ
ジエンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレイン
イミド;ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル
および無水マレイン酸またはマレインイミド;ポリブタ
ジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタ
アクリレート、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタアクリレート、エチレン/プ
ロピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、ポリアクリレートまたはポリアクリルメタ
クリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリ
レート/ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、並びにこれらと5.に列挙したコポリマー
との混合物、例えばABS−、MBS−、ASA−また
はAES−ポリマーとして知られているコポリマー混合
物。7.ハロゲン化ポリマー、例えばポリクロロプレン
、塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレ
ン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピク
ロロヒドリンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロ
ゲン化ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル
、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化
ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニ
ル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルまたは塩
化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。 8.α,β−不飽和酸およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。 9.前項8.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブ
タジエンコポリマー、アクリロニトリル/アルキルアク
リレートコポリマー、アクリロニトリル/アルコキシア
ルキルアクリレートまたはアクリロニトリル/ハロゲン
化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル/アルキル
メタアクリレート/ブタジエンターポリマー。 10.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、
ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、ポリア
リルフタレートまたはポリアリルメラミン;並びにそれ
らと上記1.に記載したオレフィンとのコポリマー。 11. 環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー
、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グ
リシジルエーテルとのコポリマー。 12. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンお
よびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキ
シメチレン;熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリア
セタール、アクリレートまたはMBS。 13. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並び
にポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリア
ミドとの混合物。 14. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリ
エーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の
成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとか
ら誘導されたポリウレタン並びにそれらの前駆体。 15. ジアミンおよびジカルボン酸および/またはア
ミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導された
ポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド4、
ポリアミド6、6/6、6/10、6/9、6/12お
よび4/6、ポリアミド11、ポリアミド12、m−キ
シレンとジアミンとアジピン酸の縮合によって得られる
芳香族ポリアミド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソ
フタル酸または/およびテレフタル酸および所望により
変性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド
、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレン
テレフタルアミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタ
ルアミド;前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィ
ンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合または
グラフトしたエラストマーとのブロックコポリマー;ま
たは前記ポリアミドとポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテ
トラメチレングリコールとのブロックコポリマー;なら
びにEPDMまたはABSで変性させたポリアミドまた
はコポリアミド、および加工の間に縮合されたポリアミ
ド(RIM−ポリアミド系)。 16. ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミ
ドならびにポリベンズイミダゾール。 17. ジカルボン酸およびジオールおよび/ または
ヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導
されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1, 4−ジ
メチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロ
キシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポ
リエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエス
テル;およびポリカーボネートまたはMBSで変性され
たポリエステル。 18. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボ
ネート。 19. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポ
リエーテルケトン。 20. 一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分
としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された
架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹
脂、尿素/ ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホ
ルムアルデヒド樹脂。 21. 乾性および不乾性アルキド樹脂。 22. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコー
ルとのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合
物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性
の低いそれらのハロゲン含有変性物。 23. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアク
リレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルア
クリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 24. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネート
またはエポキシ樹脂で架橋結合されたアルキド樹脂、ポ
リエステル樹脂またはアクリレート樹脂。 25. ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテ
ルまたは脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポキ
シ樹脂。 26. 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラ
チンおよびこれらの化学的に変性させた同族誘導体、例
えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪
酸セルロース、またはセルロースエーテル、例えばメチ
ルセルロース;ならびにロジンおよびそれらの誘導体。 27. 前記したポリマーの混合物(ポリブレンド)、
例えばPP/EPDM、ポリアミド6/EPDMまたは
ABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/M
BS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA
、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリレー
ト、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PUR、
POM/アクリレート、POM/MBS、PPE/HI
PS、PPE/PA6.6およびコポリマー、PA/H
DPE、PA/PP、PA/PPE。 28. 純単量体化合物または該化合物の混合物である
天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物
脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル( 例
えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリ
メリテート)をベースとした上記オイル、脂肪およびワ
ックス、および紡糸用組成物として使用され得る、合成
エステルと鉱油とのあらゆる重量比の混合物、ならびに
上記材料の水性エマルジョン。 29. 天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例え
ば天然ラテックスまたはカルボキシル化スチレン/ブタ
ジエンコポリマーのラテックス。
:1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、
例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン
−1、ポリメチルペンテン−1、ポリイソプレンまたは
ポリブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロ
ペンテンまたはノルボルネンのポリマー、(非架橋また
は架橋され得る)ポリエチレン、例えば高密度ポリエチ
レン(HDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)お
よび線状低密度ポリエチレン(LLDPE)。 2.1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレン
とポリエチレンとの混合物(例えばPP/HDPE,P
P/LDPE)および異なるタイプのポリエチレンの混
合物(例えば、LDPE/HDPE)。 3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プロピレ
ンコポリマー、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)
およびその低密度ポリエチレン(LDPE)との混合物
、プロピレン/ブテン−1コポリマー、エチレン/ヘキ
センコポリマー、エチレン/エチルペンテンコポリマー
、エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテン
コポリマー、プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソ
ブチレン/イソプレンコポリマー、エチレン/アルキル
アクリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリ
レートコポリマー、エチレン/ビニルアセテートまたは
エチレン/アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類(
アイオノマー)、およびエチレンとプロピレンとジエン
例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチ
リデンノルボルネンとのターポリマー;並びに前記コポ
リマー相互の、および上記1.のポリマーとの混合物、
例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレン−コポリ
マー、LDPE/EVA、LDPE/EAA、LLDP
E/EVAおよびLLDPE/EAA。3a. α−オ
レフィンと一酸化炭素との規則的または交互ランダムコ
ポリマー。3b.炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5な
いし9)およびそれらの水素化変性物(例えば粘着付与
剤)。 4.ポリスチレン、ポリ−(p−メチルスチレン)、ポ
リ−(α−メチルスチレン)。 5.スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタ
ジエン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/アル
キルメタクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキル
アクリレート、スチレン/無水マレイン酸、スチレン/
アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチレンコポ
リマーと別のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエンターポ
リマーからの高耐衝撃性混合物;およびスチレンのブロ
ックコポリマー例えばスチレン/ブタジエン/スチレン
、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレン/エチレ
ン/ブチレン/スチレンまたはスチレン/エチレン/プ
ロピレン/スチレン。 6.スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポ
リマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジ
エン/スチレンまたはポリブタジエン/アクリロニトリ
ルにスチレン;ポリブタジエンにスチレンおよびアクリ
ロニトリル(またはメタアクリロニトリル);ポリブタ
ジエンにスチレンおよび無水マレイン酸またはマレイン
イミド;ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル
および無水マレイン酸またはマレインイミド;ポリブタ
ジエンにスチレン、アクリロニトリルおよびメチルメタ
アクリレート、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキ
ルアクリレートまたはメタアクリレート、エチレン/プ
ロピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、ポリアクリレートまたはポリアクリルメタ
クリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリ
レート/ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリ
ロニトリル、並びにこれらと5.に列挙したコポリマー
との混合物、例えばABS−、MBS−、ASA−また
はAES−ポリマーとして知られているコポリマー混合
物。7.ハロゲン化ポリマー、例えばポリクロロプレン
、塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホンポリエチレ
ン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリマー、エピク
ロロヒドリンホモ−およびコポリマー、好ましくはハロ
ゲン化ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル
、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化
ビニリデン並びにこれらのコポリマー、例えば塩化ビニ
ル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニルまたは塩
化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマー。 8.α,β−不飽和酸およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタアク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。 9.前項8.に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブ
タジエンコポリマー、アクリロニトリル/アルキルアク
リレートコポリマー、アクリロニトリル/アルコキシア
ルキルアクリレートまたはアクリロニトリル/ハロゲン
化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル/アルキル
メタアクリレート/ブタジエンターポリマー。 10.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのア
シル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、
ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、ポリア
リルフタレートまたはポリアリルメラミン;並びにそれ
らと上記1.に記載したオレフィンとのコポリマー。 11. 環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー
、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グ
リシジルエーテルとのコポリマー。 12. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンお
よびエチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキ
シメチレン;熱可塑性ポリウレタンで変性させたポリア
セタール、アクリレートまたはMBS。 13. ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド並び
にポリフェニレンオキシドとポリスチレンまたはポリア
ミドとの混合物。 14. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリ
エーテル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の
成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとか
ら誘導されたポリウレタン並びにそれらの前駆体。 15. ジアミンおよびジカルボン酸および/またはア
ミノカルボン酸または相当するラクタムから誘導された
ポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド4、
ポリアミド6、6/6、6/10、6/9、6/12お
よび4/6、ポリアミド11、ポリアミド12、m−キ
シレンとジアミンとアジピン酸の縮合によって得られる
芳香族ポリアミド;ヘキサメチレンジアミンおよびイソ
フタル酸または/およびテレフタル酸および所望により
変性剤としてのエラストマーから製造されるポリアミド
、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレン
テレフタルアミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタ
ルアミド;前記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィ
ンコポリマー、アイオノマーまたは化学的に結合または
グラフトしたエラストマーとのブロックコポリマー;ま
たは前記ポリアミドとポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテ
トラメチレングリコールとのブロックコポリマー;なら
びにEPDMまたはABSで変性させたポリアミドまた
はコポリアミド、および加工の間に縮合されたポリアミ
ド(RIM−ポリアミド系)。 16. ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミ
ドならびにポリベンズイミダゾール。 17. ジカルボン酸およびジオールおよび/ または
ヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導
されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1, 4−ジ
メチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロ
キシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポ
リエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエス
テル;およびポリカーボネートまたはMBSで変性され
たポリエステル。 18. ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボ
ネート。 19. ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポ
リエーテルケトン。 20. 一方の成分としてアルデヒドおよび他方の成分
としてフェノール、尿素およびメラミンから誘導された
架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹
脂、尿素/ ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホ
ルムアルデヒド樹脂。 21. 乾性および不乾性アルキド樹脂。 22. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコー
ルとのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合
物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性
の低いそれらのハロゲン含有変性物。 23. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアク
リレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルア
クリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 24. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネート
またはエポキシ樹脂で架橋結合されたアルキド樹脂、ポ
リエステル樹脂またはアクリレート樹脂。 25. ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテ
ルまたは脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポキ
シ樹脂。 26. 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラ
チンおよびこれらの化学的に変性させた同族誘導体、例
えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪
酸セルロース、またはセルロースエーテル、例えばメチ
ルセルロース;ならびにロジンおよびそれらの誘導体。 27. 前記したポリマーの混合物(ポリブレンド)、
例えばPP/EPDM、ポリアミド6/EPDMまたは
ABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/M
BS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA
、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリレー
ト、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PUR、
POM/アクリレート、POM/MBS、PPE/HI
PS、PPE/PA6.6およびコポリマー、PA/H
DPE、PA/PP、PA/PPE。 28. 純単量体化合物または該化合物の混合物である
天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物および植物
脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル( 例
えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリ
メリテート)をベースとした上記オイル、脂肪およびワ
ックス、および紡糸用組成物として使用され得る、合成
エステルと鉱油とのあらゆる重量比の混合物、ならびに
上記材料の水性エマルジョン。 29. 天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例え
ば天然ラテックスまたはカルボキシル化スチレン/ブタ
ジエンコポリマーのラテックス。
【0035】式Iで表される化合物は、ポリオレフィン
、特にポリエチレンおよびポリプロピレンの光安定性、
熱安定性および酸化安定性を改善するのに特に適してい
る。
、特にポリエチレンおよびポリプロピレンの光安定性、
熱安定性および酸化安定性を改善するのに特に適してい
る。
【0036】式Iで表される化合物は、安定化される材
料の性質、最終用途およびその他の添加剤の存在に応じ
て種々の比率で有機材料と混合して使用され得る。
料の性質、最終用途およびその他の添加剤の存在に応じ
て種々の比率で有機材料と混合して使用され得る。
【0037】式Iで表される化合物は安定化すべき材料
の重量に対して、例えば0.01ないし5重量%、好ま
しくは0.05と1重量%の間で使用するのが一般的に
適当である。
の重量に対して、例えば0.01ないし5重量%、好ま
しくは0.05と1重量%の間で使用するのが一般的に
適当である。
【0038】式Iで表される化合物は、種々の方法、例
えば粉末の形態でドライミキシングまたは溶液もしくは
懸濁液またはマスターバッチの形態でウエットミキシン
グによりポリマー材料に混入され得、そのような操作に
おいてポリマーは粉末、顆粒、溶液、懸濁液またはラテ
ックスの形態で使用され得る。
えば粉末の形態でドライミキシングまたは溶液もしくは
懸濁液またはマスターバッチの形態でウエットミキシン
グによりポリマー材料に混入され得、そのような操作に
おいてポリマーは粉末、顆粒、溶液、懸濁液またはラテ
ックスの形態で使用され得る。
【0039】一般に、式Iで表される化合物はポリマー
材料に、該材料の重合または架橋の前、間または後に添
加され得る。
材料に、該材料の重合または架橋の前、間または後に添
加され得る。
【0040】式Iで表される化合物は純粋な形態で、ま
たはワックス、オイルもしくはポリマー中にカプセル化
されて被安定化材料中に混入され得る。
たはワックス、オイルもしくはポリマー中にカプセル化
されて被安定化材料中に混入され得る。
【0041】式Iで表される化合物で安定化された材料
は成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、繊維
、表面コーティング等の製造に使用され得る。
は成形品、フィルム、テープ、モノフィラメント、繊維
、表面コーティング等の製造に使用され得る。
【0042】所望する場合には、合成ポリマー用の慣用
のその他の添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、
ニッケル安定剤、顔料、充填剤、可塑剤、静電防止剤、
難燃剤、潤滑剤、腐蝕防止剤および金属不活性化剤が式
Iで表される化合物と有機材料との混合物に添加され得
る。
のその他の添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、
ニッケル安定剤、顔料、充填剤、可塑剤、静電防止剤、
難燃剤、潤滑剤、腐蝕防止剤および金属不活性化剤が式
Iで表される化合物と有機材料との混合物に添加され得
る。
【0043】式Iで表される化合物と混合して使用され
得る添加剤の特定の例を以下に示す: 1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば2,6−
ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチ
ル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブ
チル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル
−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル
−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチ
ル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジ−ノニル−
4−メチルフェノール。 1.2 アルキル化ハイドロキノン、例えば2,6−
ジ−第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ
−第三ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−第三アミル
ハイドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシ
ルオキシフェノール。 1.3 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例
えば、 2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノー
ル)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル
−2−メチルフェノール)。 1.4 アルキリデンビスフェノール、例えば2,2
’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノ
ール)、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4
−エチルフェノール)、2,2’−メチレンビス〔4−
メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール
〕、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロ
ヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−
ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレン
ビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2’
−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール
)、2,2’−エチリデンビス(6−第三ブチル−4−
イソブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス〔6
−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、
2,2’−メチレンビス〔6−(α,α−ジメチルベン
ジル)−4−ノニルフェノール〕、4,4’−メチレン
ビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4’
−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノー
ル)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ
−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第
三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4
−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、
1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン
、エチレングリコールビス〔3,3−ビス(3’−第三
ブチル−4’ーヒドロキシフェニル)ブチレート〕、ビ
ス(3−第三ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ジシクロペンタジエン、ビス〔2−(3’−第三
ブチル−2’ーヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−
6−第三ブチル−4−メチルフェニル〕テレフタレート
。 1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン
、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)スルフィド、イソオクチル3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビ
ス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル)ジチオテレフタレート、1,3,5−トリ
ス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブ
チル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホス
ホネートのカルシウム塩、1,3,5−トリス(3,5
−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシ
アヌレート。 1.6 アシルアミノフェノール、例えばラウリン酸
4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸4−ヒドロキシ
アニリド、2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−s−トリアジン、オクチルN−(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバメート。 1.7 β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N,N’−ビス(
ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。1.8 β−
(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールと
のエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N,N’−ビス(
ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。 1.9 β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価
アルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N,N’−ビス(
ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。 1.10 β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、例えばN,N
’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,N
’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,N’
−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル)ヒドラジン。 2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 2−( 2’−ヒドロキシフェニル) ベン
ゾトリアゾール、例えば、 5’−メチル、3’,5’−ジ−第三ブチル−、5’−
第三ブチル−、5’,5’−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル) −、5−クロロ−3’,5’−ジ−第
三ブチル−、5−クロロ−3’−第三ブチル−5’−メ
チル−、3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−、4’
−オクトキシ−、3’,5’−ジ−第三アミル−および
3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−誘導
体。 2.2 2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば4
−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ−、
4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベン
ジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ−およ
び2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。 2.3 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル
、例えば 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ
−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、および3,5−ジ−第三ブチル
4−ヒドロキシベンゾエート。 2.4 アクリレート、例えば α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸エチル
エステル、α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
ル酸イソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮
酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メト
キシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル
−p−メトキシ−桂皮酸ブチルエステル、α−カルボメ
トキシ−p −メトキシ桂皮酸メチルエステル、および
N−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −2
−メチルインドリン。 2.5 ニッケル化合物、例えば 2,2’−チオビス−〔4−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば
1:1または1:2錯体であって、所望によりn−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘ
キシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴
うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸
モノアルキルエステル、例えばメチルもしくはエチルエ
ステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体、例え
ば2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシルケ
トキシム、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロ
キシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により
他の配位子を伴うもの。 2.6 立体障害性アミン、例えば ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバ
ケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−ヒドロ
キシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、N,N’
−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合
生成物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2
,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)1,2
,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,1’−
(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テ
トラメチルピペラジノン)。 2.7 シュウ酸ジアミド、例えば 4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−
ジオクチルオキシ−5,5’−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ−第
三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2’−エチルオ
キサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロ
ピル)オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル
−2’−エチルオキサニリドおよび該化合物と2エトキ
シ−2’−エチル−5,4’−ジ−第三ブチルオキサニ
リドとの混合物、o−およびp−メトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物、およびo−およびp−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。 2.8 2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,
5−トリアジン、例えば 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオ
キシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4
,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5
−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プ
ロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキ
シ−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(
4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,
5−トリアジン。 3.金属不活性化剤、例えば N,N’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラ
ル−N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス(
サリチロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル
)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−
トリアゾール、ビス(ベンジリデン)シュウ酸ジヒドラ
ジン。 4.ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノニルフェ
ニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリ
オクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリト
リトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ−第三ブ
チルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペンタエリ
トリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブ
チルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィットト
リステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキ
ス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナト、3,9−ビス(2,4−ジ−第
三ブチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキ
サ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデカン。 4a.ヒドロキシルアミン、例えば ジベンジルヒドロキシルアミン、ジオクチルヒドロキシ
ルアミン、ジドデシルヒドロキシルアミン、ジテトラデ
シルヒドロキシルアミン、ジヘキサデシルヒドロキシル
アミン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、1−ヒド
ロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ルベンゾエート、ビス(1−ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート。 5.過酸化物スカベンジャー、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオ
ネート。 6.ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および/またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。 7.塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステ
アリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸
マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびパルミチ
ン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモンまたはピロ
カテコール酸亜鉛。 8.核剤、例えば 4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸
。 9.充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト。 10.その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光漂白剤、難燃剤、
静電防止剤および発泡剤。
得る添加剤の特定の例を以下に示す: 1.酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば2,6−
ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチ
ル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブ
チル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル
−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル
−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチ
ル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘ
キシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオ
クタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリ
シクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−
4−メトキシメチルフェノール、2,6−ジ−ノニル−
4−メチルフェノール。 1.2 アルキル化ハイドロキノン、例えば2,6−
ジ−第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ
−第三ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−第三アミル
ハイドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシ
ルオキシフェノール。 1.3 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例
えば、 2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノー
ル)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル
−2−メチルフェノール)。 1.4 アルキリデンビスフェノール、例えば2,2
’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノ
ール)、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4
−エチルフェノール)、2,2’−メチレンビス〔4−
メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール
〕、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロ
ヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−
ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレン
ビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2’
−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール
)、2,2’−エチリデンビス(6−第三ブチル−4−
イソブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス〔6
−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、
2,2’−メチレンビス〔6−(α,α−ジメチルベン
ジル)−4−ノニルフェノール〕、4,4’−メチレン
ビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノール)、4,4’
−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノー
ル)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ
−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第
三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4
−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、
1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン
、エチレングリコールビス〔3,3−ビス(3’−第三
ブチル−4’ーヒドロキシフェニル)ブチレート〕、ビ
ス(3−第三ブチル−4ーヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ジシクロペンタジエン、ビス〔2−(3’−第三
ブチル−2’ーヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−
6−第三ブチル−4−メチルフェニル〕テレフタレート
。 1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン
、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)スルフィド、イソオクチル3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビ
ス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル)ジチオテレフタレート、1,3,5−トリ
ス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブ
チル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホス
ホネートのカルシウム塩、1,3,5−トリス(3,5
−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシ
アヌレート。 1.6 アシルアミノフェノール、例えばラウリン酸
4−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸4−ヒドロキシ
アニリド、2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)
−s−トリアジン、オクチルN−(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバメート。 1.7 β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価ア
ルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N,N’−ビス(
ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。1.8 β−
(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)プロピオン酸の以下の一価または多価アルコールと
のエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N,N’−ビス(
ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。 1.9 β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価
アルコールとのエステル、 アルコールの例:メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、N,N’−ビス(
ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド。 1.10 β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、例えばN,N
’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,N
’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,N’
−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル)ヒドラジン。 2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 2−( 2’−ヒドロキシフェニル) ベン
ゾトリアゾール、例えば、 5’−メチル、3’,5’−ジ−第三ブチル−、5’−
第三ブチル−、5’,5’−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル) −、5−クロロ−3’,5’−ジ−第
三ブチル−、5−クロロ−3’−第三ブチル−5’−メ
チル−、3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−、4’
−オクトキシ−、3’,5’−ジ−第三アミル−および
3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−誘導
体。 2.2 2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば4
−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ−、
4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベン
ジルオキシ−、4,2’,4’−トリヒドロキシ−およ
び2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。 2.3 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル
、例えば 4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ
−第三ブチルフェニル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾエート、および3,5−ジ−第三ブチル
4−ヒドロキシベンゾエート。 2.4 アクリレート、例えば α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリル酸エチル
エステル、α−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
ル酸イソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮
酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メト
キシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル
−p−メトキシ−桂皮酸ブチルエステル、α−カルボメ
トキシ−p −メトキシ桂皮酸メチルエステル、および
N−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル) −2
−メチルインドリン。 2.5 ニッケル化合物、例えば 2,2’−チオビス−〔4−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば
1:1または1:2錯体であって、所望によりn−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘ
キシル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴
うもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート、4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸
モノアルキルエステル、例えばメチルもしくはエチルエ
ステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体、例え
ば2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシルケ
トキシム、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロ
キシ−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により
他の配位子を伴うもの。 2.6 立体障害性アミン、例えば ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバ
ケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−ヒドロ
キシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒド
ロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、N,N’
−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合
生成物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2
,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)1,2
,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,1’−
(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テ
トラメチルピペラジノン)。 2.7 シュウ酸ジアミド、例えば 4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−
ジオクチルオキシ−5,5’−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ−第
三ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2’−エチルオ
キサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロ
ピル)オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三ブチル
−2’−エチルオキサニリドおよび該化合物と2エトキ
シ−2’−エチル−5,4’−ジ−第三ブチルオキサニ
リドとの混合物、o−およびp−メトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物、およびo−およびp−エトキシ−二
置換オキサニリドの混合物。 2.8 2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,
5−トリアジン、例えば 2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオ
キシフェニル) −1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4
,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5
−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プ
ロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキ
シ−4−オクチルオキシフェニル) −4,6−ビス(
4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル) −
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,
5−トリアジン。 3.金属不活性化剤、例えば N,N’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、N−サリチラ
ル−N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス(
サリチロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル
)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−
トリアゾール、ビス(ベンジリデン)シュウ酸ジヒドラ
ジン。 4.ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス(ノニルフェ
ニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリ
オクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリト
リトールジホスフィット、トリス(2,4−ジ−第三ブ
チルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペンタエリ
トリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブ
チルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィットト
リステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキ
ス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナト、3,9−ビス(2,4−ジ−第
三ブチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキ
サ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデカン。 4a.ヒドロキシルアミン、例えば ジベンジルヒドロキシルアミン、ジオクチルヒドロキシ
ルアミン、ジドデシルヒドロキシルアミン、ジテトラデ
シルヒドロキシルアミン、ジヘキサデシルヒドロキシル
アミン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、1−ヒド
ロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ルベンゾエート、ビス(1−ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート。 5.過酸化物スカベンジャー、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または2−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオ
ネート。 6.ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および/またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。 7.塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステ
アリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸
マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびパルミチ
ン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモンまたはピロ
カテコール酸亜鉛。 8.核剤、例えば 4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸
。 9.充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト。 10.その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光漂白剤、難燃剤、
静電防止剤および発泡剤。
【0044】式Iで表される化合物は安定剤、特に、リ
サーチ公開(Research Disclosure
)90/31429〔No.314,474ないし48
0頁(1990)〕に記載されているような写真複製お
よびその他の複製技術の分野において公知のほとんど全
ての材料用の光安定剤としても使用できる。
サーチ公開(Research Disclosure
)90/31429〔No.314,474ないし48
0頁(1990)〕に記載されているような写真複製お
よびその他の複製技術の分野において公知のほとんど全
ての材料用の光安定剤としても使用できる。
【0045】
【実施例】式Iで表される化合物の製造および使用の種
々の例は以下の実施例においてより詳細に報告されてい
る。これらの実施例は説明のためのものであり、なんら
制限を意味するものではない。中間体N−(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−3−モルホリ
ノプロピルアミンならびに実施例2、4、8および12
の化合物が特に好ましい。
々の例は以下の実施例においてより詳細に報告されてい
る。これらの実施例は説明のためのものであり、なんら
制限を意味するものではない。中間体N−(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−3−モルホリ
ノプロピルアミンならびに実施例2、4、8および12
の化合物が特に好ましい。
【0046】N−(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルアミンの製造
3−モルホリノプロピルアミン288.4g(2モル)
、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリドン31
0.5g(2モル)およびメタノール300mlを2リ
ットルのオートクレーブ中に導入する。5%白金担持炭
素15gを添加し、そして水素添加を水素吸収が終了す
るまで(約15時間)60バールおよび60℃で行う。 室温まで冷却した後、触媒をろ過により除去し、溶媒を
除去し、そして生成物を蒸留により精製する:沸点93
−95℃/0.13ミリバール。 元素分析(C16H33N3 O) 計算値:C=67.80%; H=11.73%
; N=14.82% 実測値:C=67.35%
; H=11.61%; N=14.75%
−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルアミンの製造
3−モルホリノプロピルアミン288.4g(2モル)
、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリドン31
0.5g(2モル)およびメタノール300mlを2リ
ットルのオートクレーブ中に導入する。5%白金担持炭
素15gを添加し、そして水素添加を水素吸収が終了す
るまで(約15時間)60バールおよび60℃で行う。 室温まで冷却した後、触媒をろ過により除去し、溶媒を
除去し、そして生成物を蒸留により精製する:沸点93
−95℃/0.13ミリバール。 元素分析(C16H33N3 O) 計算値:C=67.80%; H=11.73%
; N=14.82% 実測値:C=67.35%
; H=11.61%; N=14.75%
【00
47】実施例1:次式(化47):
47】実施例1:次式(化47):
【化47】
で表される化合物の製造A)2−クロロ−4,6−ビス
〔N−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル
)−ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジンの製造4
−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン85g(0.4モル)をキシレン300ml中の塩
化シアヌル36.9g(0.2モル)の10℃まで冷却
した溶液に10℃と20℃の間に温度を維持しながらゆ
っくり添加する。添加終了後、混合物を1時間室温で攪
拌し、水50mlに溶解した水酸化ナトリウム16g(
0.4モル)を添加し、混合物を60℃で2時間加熱し
、そして水相を分離除去する。B)N−(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)−3−モルホリノ
プロピルアミン56.6g(0.2モル)および粉砕し
た水酸化ナトリウム16g(0.4モル)を得られたキ
シレン溶液に添加し、そして10時間後に155℃の内
部温度に達するように反応水および溶媒の一部を除去し
ながら混合物を還流下で加熱し、そしてこの温度をさら
に10時間維持する。70℃まで冷却した後、反応混合
物をキシレン300mlで希釈し、ろ過し、そして減圧
下で蒸発させる。残渣をアセトニトリルから結晶化させ
る。得られた生成物は77−80℃で融解する。 元素分析(C45H86N10O) 計算値:C=69.01%; H=11.07%
; N=17.88% 実測値:C=68.34%
; H=10.99%; N=17.72%
〔N−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル
)−ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジンの製造4
−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン85g(0.4モル)をキシレン300ml中の塩
化シアヌル36.9g(0.2モル)の10℃まで冷却
した溶液に10℃と20℃の間に温度を維持しながらゆ
っくり添加する。添加終了後、混合物を1時間室温で攪
拌し、水50mlに溶解した水酸化ナトリウム16g(
0.4モル)を添加し、混合物を60℃で2時間加熱し
、そして水相を分離除去する。B)N−(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)−3−モルホリノ
プロピルアミン56.6g(0.2モル)および粉砕し
た水酸化ナトリウム16g(0.4モル)を得られたキ
シレン溶液に添加し、そして10時間後に155℃の内
部温度に達するように反応水および溶媒の一部を除去し
ながら混合物を還流下で加熱し、そしてこの温度をさら
に10時間維持する。70℃まで冷却した後、反応混合
物をキシレン300mlで希釈し、ろ過し、そして減圧
下で蒸発させる。残渣をアセトニトリルから結晶化させ
る。得られた生成物は77−80℃で融解する。 元素分析(C45H86N10O) 計算値:C=69.01%; H=11.07%
; N=17.88% 実測値:C=68.34%
; H=10.99%; N=17.72%
【00
48】実施例2:次式(化48):
48】実施例2:次式(化48):
【化48】
で表される化合物の製造A)2−クロロ−4,6−ビス
〔N−1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)−ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジンの製
造等量の試薬を用い、実施例1Aに記載されたようにし
て、2−クロロ−4,6−ビス〔N−2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−ブチルアミノ〕−1
,3,5−トリアジンのキシレン溶液を調製する。ギ酸
20.2g(0.44モル)とホルムアルデヒドの無メ
タノール30%水溶液46g(0.46モル)とを含む
混合物を上記溶液に3時間かけて添加し、添加水と反応
水を連続的に除去しながら110℃まで加熱する。次に
反応混合物を70℃まで冷却し、水20ml中の水酸化
ナトリウム3gの溶液を添加し、そして混合物を30分
間攪拌する。水相を分離除去した後、有機相を水で洗浄
し、そして減圧下で蒸発させる。残渣をアセトンから結
晶化させる。生成物は131−133℃で融解する。 Cl=6.30%(C31H58ClN7 に対する計
算値=6.28%)B)2−クロロ−4,6−ビス−〔
N−(1,2,2,6,6−ベンタメチル−4−ピペリ
ジル)−ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン56
.4g(0.1モル)、N−(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルア
ミン28.3g(0.1モル)、粉砕した水酸化ナトリ
ウム8g(0.2モル)およびメシチレン200mlの
混合物を、10時間後に175℃の内部温度に達するよ
うに反応水および溶媒の一部を除去しながら還流下で加
熱し、そしてこの温度での加熱をさらに10時間続ける
。 70℃まで冷却した後、反応混合物をメシチレン200
mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で蒸発させる。残
渣をヘキサンから結晶化させる。得られた生成物は87
−90℃で融解する。 元素分析(C47H90N10O) 計算値:C=69.58%; H=11.18%
; N=17.26% 実測値:C=69.26%
; H=11.10%; N=17.23%
〔N−1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリ
ジル)−ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジンの製
造等量の試薬を用い、実施例1Aに記載されたようにし
て、2−クロロ−4,6−ビス〔N−2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)−ブチルアミノ〕−1
,3,5−トリアジンのキシレン溶液を調製する。ギ酸
20.2g(0.44モル)とホルムアルデヒドの無メ
タノール30%水溶液46g(0.46モル)とを含む
混合物を上記溶液に3時間かけて添加し、添加水と反応
水を連続的に除去しながら110℃まで加熱する。次に
反応混合物を70℃まで冷却し、水20ml中の水酸化
ナトリウム3gの溶液を添加し、そして混合物を30分
間攪拌する。水相を分離除去した後、有機相を水で洗浄
し、そして減圧下で蒸発させる。残渣をアセトンから結
晶化させる。生成物は131−133℃で融解する。 Cl=6.30%(C31H58ClN7 に対する計
算値=6.28%)B)2−クロロ−4,6−ビス−〔
N−(1,2,2,6,6−ベンタメチル−4−ピペリ
ジル)−ブチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン56
.4g(0.1モル)、N−(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルア
ミン28.3g(0.1モル)、粉砕した水酸化ナトリ
ウム8g(0.2モル)およびメシチレン200mlの
混合物を、10時間後に175℃の内部温度に達するよ
うに反応水および溶媒の一部を除去しながら還流下で加
熱し、そしてこの温度での加熱をさらに10時間続ける
。 70℃まで冷却した後、反応混合物をメシチレン200
mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で蒸発させる。残
渣をヘキサンから結晶化させる。得られた生成物は87
−90℃で融解する。 元素分析(C47H90N10O) 計算値:C=69.58%; H=11.18%
; N=17.26% 実測値:C=69.26%
; H=11.10%; N=17.23%
【00
49】実施例3:次式(化49):
49】実施例3:次式(化49):
【化49】
で表される化合物の製造メシチレン80ml中に溶解し
たN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)−3−モルホリノプロピルアミン85g(0.3モ
ル)をメシチレン200ml中の塩化シアヌル18.4
g(0.1モル)の溶液に温度を20℃と50℃の間に
維持しながらゆっくり添加する。混合物を室温で1時間
攪拌し、粉砕した水酸化ナトリウム16g(0.4モル
)を添加し、そして10時間後に190℃の内部温度に
達するように反応水および溶媒の一部を除去しながら混
合物を還流下で加熱し、そしてこの温度をさらに10時
間維持する。70℃まで冷却した後、反応混合物をメシ
チレン200mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で蒸
発させる。残渣をヘキサンから結晶化させる。得られた
生成物は167−170℃で融解する。 元素分析(C51H96N12O3 ) 計算値:C
=66.19%; H=10.46%; N=18
.16% 実測値:C=66.08%; H=10
.55%; N=17.89%
たN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)−3−モルホリノプロピルアミン85g(0.3モ
ル)をメシチレン200ml中の塩化シアヌル18.4
g(0.1モル)の溶液に温度を20℃と50℃の間に
維持しながらゆっくり添加する。混合物を室温で1時間
攪拌し、粉砕した水酸化ナトリウム16g(0.4モル
)を添加し、そして10時間後に190℃の内部温度に
達するように反応水および溶媒の一部を除去しながら混
合物を還流下で加熱し、そしてこの温度をさらに10時
間維持する。70℃まで冷却した後、反応混合物をメシ
チレン200mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で蒸
発させる。残渣をヘキサンから結晶化させる。得られた
生成物は167−170℃で融解する。 元素分析(C51H96N12O3 ) 計算値:C
=66.19%; H=10.46%; N=18
.16% 実測値:C=66.08%; H=10
.55%; N=17.89%
【0050】実施例4
:次式(化50):
:次式(化50):
【化50】
で表される化合物の製造A)2−クロロ−4,6−ビス
〔N−(3−モルホリノプロピル)−N−(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−アミノ〕−1
,3,5−トリアジンの製造キシレン1200ml中の
塩化シアヌル138.4g(0.75モル)の溶液をキ
シレン800ml中のN−(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルアミ
ン425.2g(1.5モル)の溶液に温度を20℃と
50℃の間に維持しながらゆっくり添加する。次いで混
合物を室温で1時間攪拌し、水170mlに溶解した水
酸化ナトリウム60g(1.5モル)を添加し、そして
混合物を100℃で2時間加熱する。室温まで冷却した
後、水相を分離除去し、そして有機相をNa2 SO4
で脱水し、ろ過し、そして減圧下で蒸発させる。残渣
を酢酸エチルから結晶化させる。得られた生成物は68
−71℃で融解する。Cl=5.25%(C35H64
ClN9 O2 に対する計算値=5.23%)B)メ
シチレン200ml中の2−クロロ−4,6−ビス−〔
N−(3−モルホリノプロピル)−N−(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)−アミノ〕−1,
3,5−トリアジン67.8g(0.1モル)、N,N
’−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)−1,6−ヘキサンジアミン19.7g(0.
05モル)および粉砕した水酸化ナトリウム8g(0.
2モル)を、10時間後に190℃の内部温度に達する
ように反応水および溶媒の一部を除去しながら還流下で
加熱し、そしてこの温度での加熱をさらに10時間続け
る。70℃まで冷却した後、反応混合物をメシチレン2
00mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で蒸発させる
。残渣をアセトンから結晶化させる。得られた生成物は
212−215℃で融解する。 元素分析(C94H 176N22O4 ) 計算値
:C=67.26%; H=10.57%; N=
18.36% 実測値:C=67.02%; H=
10.45%; N=18.14%
〔N−(3−モルホリノプロピル)−N−(2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−アミノ〕−1
,3,5−トリアジンの製造キシレン1200ml中の
塩化シアヌル138.4g(0.75モル)の溶液をキ
シレン800ml中のN−(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルアミ
ン425.2g(1.5モル)の溶液に温度を20℃と
50℃の間に維持しながらゆっくり添加する。次いで混
合物を室温で1時間攪拌し、水170mlに溶解した水
酸化ナトリウム60g(1.5モル)を添加し、そして
混合物を100℃で2時間加熱する。室温まで冷却した
後、水相を分離除去し、そして有機相をNa2 SO4
で脱水し、ろ過し、そして減圧下で蒸発させる。残渣
を酢酸エチルから結晶化させる。得られた生成物は68
−71℃で融解する。Cl=5.25%(C35H64
ClN9 O2 に対する計算値=5.23%)B)メ
シチレン200ml中の2−クロロ−4,6−ビス−〔
N−(3−モルホリノプロピル)−N−(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)−アミノ〕−1,
3,5−トリアジン67.8g(0.1モル)、N,N
’−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)−1,6−ヘキサンジアミン19.7g(0.
05モル)および粉砕した水酸化ナトリウム8g(0.
2モル)を、10時間後に190℃の内部温度に達する
ように反応水および溶媒の一部を除去しながら還流下で
加熱し、そしてこの温度での加熱をさらに10時間続け
る。70℃まで冷却した後、反応混合物をメシチレン2
00mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で蒸発させる
。残渣をアセトンから結晶化させる。得られた生成物は
212−215℃で融解する。 元素分析(C94H 176N22O4 ) 計算値
:C=67.26%; H=10.57%; N=
18.36% 実測値:C=67.02%; H=
10.45%; N=18.14%
【0051】実施
例5−6 実施例4に記載した操作に従い、適当なモル比でそれぞ
れの試薬を用いて、次式(化51):
例5−6 実施例4に記載した操作に従い、適当なモル比でそれぞ
れの試薬を用いて、次式(化51):
【化51】
で表される化合物(表1)を製造する。
【表1】
【0052】実施例7:次式(化52):
【化52】
で表される化合物の製造4−ブチルアミノ−2,2,6
,6−テトラメチルピペリジン42.5g(0.2モル
)をキシレン300ml中の塩化シアヌル36.9g(
0.2モル)の0℃まで冷却した溶液に10℃を越さず
にゆっくり添加する。次に、水30ml中の水酸化ナト
リウム8g(0.2モル)の溶液を温度を10℃に維持
しながらゆっくり添加する。混合物を10−20℃で1
時間攪拌し、次いでN−(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルアミン
56.7g(0.2モル)を添加し、そして混合物を5
0℃で4時間加熱する。室温まで冷却した後、水30m
l中の水酸化ナトリウム8g(0.2モル)の溶液を添
加し、そして混合物を同じ温度で2時間攪拌する。水相
を分離除去し、N,N’−ビス−(3−アミノプロピル
)−1,2−エタンジアミン8.7g(0.05モル)
および粉砕した水酸化ナトリウム16g(0.4モル)
を添加し、そして10時間後に160℃の内部温度に達
するように反応水および溶媒の一部を除去しながら混合
物を還流下で加熱し、そしてこの温度での加熱をさらに
13時間続ける。70℃まで冷却した後、反応混合物を
キシレン300mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で
蒸発させる。得られた生成物は111−115℃で融解
する。 元素分析(C 136H 254N36O4 ) 計
算値:C=66.46%; H=10.42%;
N=20.52% 実測値:C=65.50%;
H=10.28%; N=20.28%
,6−テトラメチルピペリジン42.5g(0.2モル
)をキシレン300ml中の塩化シアヌル36.9g(
0.2モル)の0℃まで冷却した溶液に10℃を越さず
にゆっくり添加する。次に、水30ml中の水酸化ナト
リウム8g(0.2モル)の溶液を温度を10℃に維持
しながらゆっくり添加する。混合物を10−20℃で1
時間攪拌し、次いでN−(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−3−モルホリノプロピルアミン
56.7g(0.2モル)を添加し、そして混合物を5
0℃で4時間加熱する。室温まで冷却した後、水30m
l中の水酸化ナトリウム8g(0.2モル)の溶液を添
加し、そして混合物を同じ温度で2時間攪拌する。水相
を分離除去し、N,N’−ビス−(3−アミノプロピル
)−1,2−エタンジアミン8.7g(0.05モル)
および粉砕した水酸化ナトリウム16g(0.4モル)
を添加し、そして10時間後に160℃の内部温度に達
するように反応水および溶媒の一部を除去しながら混合
物を還流下で加熱し、そしてこの温度での加熱をさらに
13時間続ける。70℃まで冷却した後、反応混合物を
キシレン300mlで希釈し、ろ過し、そして減圧下で
蒸発させる。得られた生成物は111−115℃で融解
する。 元素分析(C 136H 254N36O4 ) 計
算値:C=66.46%; H=10.42%;
N=20.52% 実測値:C=65.50%;
H=10.28%; N=20.28%
【0053】
実施例8:次式(化53):
実施例8:次式(化53):
【化53】
で表される化合物の製造ギ酸7.6g(0.165モル
)とホルムアルデヒドの無メタノール30%水溶液17
g(0.17モル)とを含む混合物をキシレン150m
l中の実施例3で調製した化合物46.3g(0.05
モル)の110℃まで加熱した溶液に3時間かけて添加
するが、このとき添加水と反応水を連続的に除去する。 次に反応混合物を70℃まで冷却し、水50ml中の水
酸化ナトリウム8gの溶液を添加し、そして混合物を3
0分間攪拌する。水相を分離除去した後、有機相を水で
洗浄し、Na2 SO4 で乾燥し、そして減圧下で蒸
発させる。得られた生成物は94−97℃で融解する。 元素分析(C54H 102N12O3 ) 計算値
:C=67.04%; H=10.63%; N=
17.37% 実測値:C=66.31%; H=
10.41%; N=17.29%
)とホルムアルデヒドの無メタノール30%水溶液17
g(0.17モル)とを含む混合物をキシレン150m
l中の実施例3で調製した化合物46.3g(0.05
モル)の110℃まで加熱した溶液に3時間かけて添加
するが、このとき添加水と反応水を連続的に除去する。 次に反応混合物を70℃まで冷却し、水50ml中の水
酸化ナトリウム8gの溶液を添加し、そして混合物を3
0分間攪拌する。水相を分離除去した後、有機相を水で
洗浄し、Na2 SO4 で乾燥し、そして減圧下で蒸
発させる。得られた生成物は94−97℃で融解する。 元素分析(C54H 102N12O3 ) 計算値
:C=67.04%; H=10.63%; N=
17.37% 実測値:C=66.31%; H=
10.41%; N=17.29%
【0054】実施
例9−11 実施例8に記載した操作に従い、実施例4、5および6
からの化合物を用いて、次式(化54):
例9−11 実施例8に記載した操作に従い、実施例4、5および6
からの化合物を用いて、次式(化54):
【化54】
で表される化合物(表2)を製造する。
【表2】
【0055】実施例12
実施例8に記載した操作に従い、実施例1からの化合物
を用いて、次式(化55):
を用いて、次式(化55):
【化55】
で表される化合物(融点87−89℃)を製造する。
【0056】実施例13:(ポリプロピレンテープ中で
の光安定化作用)表3に示された化合物各1g、トリス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィット1.
0g、ペンタエリトリトールテトラキス−〔3−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート〕0.5g、およびステアリン酸カルシウム1
gをスローミキサー中でメルトインデックス2g/10
分(230℃および2.16kgで測定)のポリプロピ
レン粉末1000gと混合する。混合物を200−23
0℃で押出してポリマー顆粒とし、次に以下の条件:押
出温度:210−230℃ 頭部温度:240−260℃ 延伸比: 1:6で操作するパイロットタイプ装置(
レオナルド−スミラゴ(VA)イタリア)により厚さ5
0μmおよび幅2.5mmの延伸テープに変換する。こ
のようにして製造したテープを白色カード上に載せ、モ
デル65WRウエザロ−O−メーター(ASTM D
2565−85)中にブラックパネル温度63℃で暴露
する。光への暴露の種々の時間後採取した試料に関して
、一定速度の張力計により残留靱性を測定する。初期の
靱性が半分になるまでの暴露時間(単位:時間)(T5
0)を次に計算する。上記と同じ条件であるが安定剤を
添加せずに製造したテープを比較のために暴露する。得
られた結果を表3に示す。
の光安定化作用)表3に示された化合物各1g、トリス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィット1.
0g、ペンタエリトリトールテトラキス−〔3−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート〕0.5g、およびステアリン酸カルシウム1
gをスローミキサー中でメルトインデックス2g/10
分(230℃および2.16kgで測定)のポリプロピ
レン粉末1000gと混合する。混合物を200−23
0℃で押出してポリマー顆粒とし、次に以下の条件:押
出温度:210−230℃ 頭部温度:240−260℃ 延伸比: 1:6で操作するパイロットタイプ装置(
レオナルド−スミラゴ(VA)イタリア)により厚さ5
0μmおよび幅2.5mmの延伸テープに変換する。こ
のようにして製造したテープを白色カード上に載せ、モ
デル65WRウエザロ−O−メーター(ASTM D
2565−85)中にブラックパネル温度63℃で暴露
する。光への暴露の種々の時間後採取した試料に関して
、一定速度の張力計により残留靱性を測定する。初期の
靱性が半分になるまでの暴露時間(単位:時間)(T5
0)を次に計算する。上記と同じ条件であるが安定剤を
添加せずに製造したテープを比較のために暴露する。得
られた結果を表3に示す。
【表3】安定剤
T50(時間)なし
300実施例1からの化合物
1500実施例4からの化合物
1900実施例7からの化合物
1650実施例9からの化合物 1
830実施例10からの化合物 1500
T50(時間)なし
300実施例1からの化合物
1500実施例4からの化合物
1900実施例7からの化合物
1650実施例9からの化合物 1
830実施例10からの化合物 1500
【
0057】実施例14:(ポリプロピレン繊維中での光
安定化作用)表4に示された化合物各2.5g、トリス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィット0.
5g、カルシウムモノエチル3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニルベンジルホスホネート0.5g
、ステアリン酸カルシウム1gおよび二酸化チタン2.
5gをスローミキサー中でメルトインデックス12g/
10分(230℃および2.16kgで測定)のポリプ
ロピレン粉末1000gと混合する。混合物を200−
230℃で押出してポリマー顆粒とし、次に以下の条件
: 押出温度:200−230℃ 頭部温度:255−260℃ 延伸比: 1:3.5 番手: 繊維あたり11dtexで操作するパイ
ロットタイプ装置(レオナルド−スミラゴ(VA)イタ
リア)により繊維に変換する。このようにして製造した
繊維を白色カード上に載せ、モデル65WRウエザロ−
O−メーター(ASTM D2565−85)中にブ
ラックパネル温度63℃で暴露する。光への暴露の種々
の時間後採取した試料に関して、一定速度の張力計によ
り残留靱性を測定する。初期の靱性が半分になるまでの
暴露時間(単位:時間)(T50)を次に計算する。上
記と同じ条件であるが安定剤を添加せずに製造した繊維
を比較のために暴露する。得られた結果を表4に示す。
0057】実施例14:(ポリプロピレン繊維中での光
安定化作用)表4に示された化合物各2.5g、トリス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィット0.
5g、カルシウムモノエチル3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニルベンジルホスホネート0.5g
、ステアリン酸カルシウム1gおよび二酸化チタン2.
5gをスローミキサー中でメルトインデックス12g/
10分(230℃および2.16kgで測定)のポリプ
ロピレン粉末1000gと混合する。混合物を200−
230℃で押出してポリマー顆粒とし、次に以下の条件
: 押出温度:200−230℃ 頭部温度:255−260℃ 延伸比: 1:3.5 番手: 繊維あたり11dtexで操作するパイ
ロットタイプ装置(レオナルド−スミラゴ(VA)イタ
リア)により繊維に変換する。このようにして製造した
繊維を白色カード上に載せ、モデル65WRウエザロ−
O−メーター(ASTM D2565−85)中にブ
ラックパネル温度63℃で暴露する。光への暴露の種々
の時間後採取した試料に関して、一定速度の張力計によ
り残留靱性を測定する。初期の靱性が半分になるまでの
暴露時間(単位:時間)(T50)を次に計算する。上
記と同じ条件であるが安定剤を添加せずに製造した繊維
を比較のために暴露する。得られた結果を表4に示す。
【表4】安定剤
T50(時間)なし
150実施例7からの化合物
1050実施例9からの化合物
1000実施例11からの化合物
970
T50(時間)なし
150実施例7からの化合物
1050実施例9からの化合物
1000実施例11からの化合物
970
【0058】実施例15:(ポリプロピレ
ンプラック中での酸化防止作用)表5に示された化合物
各1g、オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート0.5g、ト
リス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィット
1g、およびステアリン酸カルシウム1gをスローミキ
サー中でメルトインデックス2g/10分(230℃お
よび2.16kgで測定)のポリプロピレン粉末100
0gと混合する。 混合物を200−230℃で2回
押出してポリマー顆粒とし、次に230℃で6分間の圧
縮成形により厚さ1mmのプラックに変換する。該プラ
ックをDIN 53 451型によりパンチし、そ
して得られた試験片を135℃の温度に維持された強制
循環空気炉内に暴露する。この試験片は、破壊を起こす
のに必要な時間(単位:時間)を決定するために180
°に折り曲げることにより時間を隔てて評価される。上
記の条件であるが本発明の化合物を添加せずに製造され
た試験片もまた比較のために暴露される。得られた結果
を表5に示す。
ンプラック中での酸化防止作用)表5に示された化合物
各1g、オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート0.5g、ト
リス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフィット
1g、およびステアリン酸カルシウム1gをスローミキ
サー中でメルトインデックス2g/10分(230℃お
よび2.16kgで測定)のポリプロピレン粉末100
0gと混合する。 混合物を200−230℃で2回
押出してポリマー顆粒とし、次に230℃で6分間の圧
縮成形により厚さ1mmのプラックに変換する。該プラ
ックをDIN 53 451型によりパンチし、そ
して得られた試験片を135℃の温度に維持された強制
循環空気炉内に暴露する。この試験片は、破壊を起こす
のに必要な時間(単位:時間)を決定するために180
°に折り曲げることにより時間を隔てて評価される。上
記の条件であるが本発明の化合物を添加せずに製造され
た試験片もまた比較のために暴露される。得られた結果
を表5に示す。
【表5】安定剤
破壊までの時間(単位:時間)
破壊までの時間(単位:時間)
Claims (14)
- 【請求項1】 次式I(化1): 【化1】 [式中、Aは直接結合、−O−、−CH2 −または−
CH2 CH2 −を表し、mは2ないし6の整数を表
し、R1 は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキ
ル基、O・、OH、NO、CH2 CN、炭素原子数1
ないし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし12の
シクロアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニ
ル基、非置換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし
4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換
された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表
すか、または炭素原子数1ないし8のアシル基を表し、
R2 は次式:−OR4 、−SR4 または−NR5
R6 {式中、R4 、R5 およびR6 は同一で
あっても異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1
ないし18のアルキル基、非置換または炭素原子数1な
いし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−
置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基
を表すか、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、非
置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基もしくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によりモノ−、ジ
−もしくはトリ−置換されたフェニル基を表すか、非置
換またはフェニル基上で炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換された炭素
原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表すか、1な
いし8のアルコキシ基もしくはジ(炭素原子数1ないし
4のアルキル)アミノ基により2位、3位もしくは4位
で置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を表す
か、テトラヒドロフルフリル基、次式II(化2): 【化2】 (式中Aおよびmは上記と同じ意味を表す)で表される
基または次式III(化3): 【化3】 (式中R7 はR1 と同じ意味を表す)で表される基
を表すか、または−NR5 R6 基は5員ないし7員
の複素環式基を表す}で表される基を表すか、またはR
2 は次式IVa(化4)ないしIVc(化6):【化
4】 【化5】 【化6】 (式中R7 は上記と同じ意味を表す)で表される基の
いずれかを表し、nは1、2、3または4を表し、そし
てnが1を表す場合、R3 はR2 と同じ意味を表し
、nが2を表す場合、R3 は次式VaないしVc(化
8):−E1 −R8 −E2 − (Va)【
化7】 【化8】 (式中、E1 、E2 およびE3 は同一でも異なっ
ていてもよく、−O−または>N−R12を表し、R8
は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、1、2も
しくは3個の酸素原子または1もしくは2個の>N−R
12基により中断された炭素原子数4ないし12のアル
キレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘキシレンジメ
チレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソプロピ
リデンジシクロヘキシレン基、フェニレン基、イソプロ
ピリデンジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R
9 は炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、E
4 は>N−(R9 −E3 )S −、>CHO−ま
たは>CH−CH2 −NR12−を表し、rおよびs
は同一でも異なっていてもよく、0または1を表し、R
10は水素原子を表すか、またはrが1を表しE4 が
>CHO−を表すときR10はメチル基を表し得、R1
1は水素原子またはメチル基を表し、そしてR12は水
素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、非置換
または炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−
、ジ−もしくはトリ−置換された炭素原子数5ないし1
2のシクロアルキル基を表すか、非置換またはフェニル
基上で炭素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−
、ジ−もしくはトリ−置換された炭素原子数7ないし9
のフェニルアルキル基を表すか、または式IIIで表さ
れる基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが
3を表す場合、R3 は次式VIa(化9)ないしVI
d(化12): 【化9】 【化10】 【化11】 【化12】 (式中、E5 、E6 、E7 、E9 、E10およ
びE11は同一でも異なっていてもよく、上記E1 、
E2 およびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 お
よびE10が両方とも−O−を表すならばE11は−C
H2 O−基であってよく、R13、R14およびR1
5は同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし
6のアルキレン基を表し、tは0または1を表し、R1
6、R17およびR18は同一でも異なっていてもよく
、上記R12と同じ意味を表し、E8 は直接結合また
は−CH2 −を表し、u、vおよびxは同一でも異な
っていてもよく、2ないし6の整数を表し、そしてR1
9は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル基
を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが4を表
す場合、R3 は次式VIIa(化13)またはVII
b: 【化13】 R22(−O−)4 (VIIb)(式中、E
12は上記E1 、E2 およびE3と同じ意味を表し
、R20およびR21は同一でも異なっていてもよく、
炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、yは0ま
たは1を表し、そしてR22は炭素原子数4ないし12
のアルカンテトライル基を表す)で表される基を表す]
で表される化合物。 - 【請求項2】 式I中、R1 およびR7 が同一で
も異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1ないし
4のアルキル基、OH、炭素原子数6ないし12のアル
コキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基
、アリル基、ベンジル基またはアセチル基を表す請求項
1記載の化合物。 - 【請求項3】 式I中、Aが直接結合、−O−または
−CH2 −を表し、mが2ないし4の整数を表し、R
2 が次式:−OR4 、−SR4 または−NR5
R6 (式中、R4 、R5 およびR6 は同一であ
っても異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数1な
いし14のアルキル基、非置換または炭素原子数1ない
し4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置
換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基を表
すか、炭素原子数3ないし12のアルケニル基、フェニ
ル基、ベンジル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基もしくはジ(炭素原子数1ないし4のアルキル)アミ
ノ基により2位もしくは3位で置換された炭素原子数2
もしくは3のアルキル基を表すか、テトラヒドロフルフ
リル基、式IIで表される基または式IIIで表される
基を表すか、または−NR5 R6 基は1−ピロリジ
ル基、1−ピペリジル基、4−モルホリニル基、4−メ
チル−1−ピペラジニル基または1−ヘキサヒドロアゼ
ピニル基を表す)で表される基を表すか、またはR2
は式IVaないしIVcで表される基の1つを表し、n
が1、2、3または4を表し、そしてnが1を表す場合
、R3 がR2 と同じ意味を表し、nが2を表す場合
、R3 が式VaないしVc(式中、E1 、E2 お
よびE3 は同一でも異なっていてもよく、−O−また
は>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2ないし1
0のアルキレン基、1、2もしくは3個の酸素原子また
は1もしくは2個の>N−R12基により中断された炭
素原子数4ないし10のアルキレン基、シクロヘキシレ
ンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、イソ
プロピリデンジシクロヘキシレン基、イソプロピリデン
ジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R9 は炭
素原子数2ないし4のアルキレン基を表し、E4 は>
N−(R9 −E3 )S −、>CHO−または>C
H−CH2 −NR12−を表し、rおよびsは同一で
も異なっていてもよく、0または1を表し、R10は水
素原子を表すか、またはrが1を表しE4 が>CHO
−を表すときR10はメチル基を表し得、R11は水素
原子またはメチル基を表し、そしてR12は水素原子、
炭素原子数1ないし12のアルキル基、非置換または炭
素原子数1ないし4のアルキル基によりモノ−、ジ−も
しくはトリ−置換された炭素原子数5ないし8のシクロ
アルキル基を表すか、ベンジル基を表すか、または式I
IIで表される基を表す)で表される基の1つを表し、
そしてnが3を表す場合、R3 が式VIaないしVI
d(式中、E5 、E6 、E7 、E9 、E10お
よびE11は同一でも異なっていてもよく、上記E1
、E2 およびE3 と同じ意味を表し、そしてE9
およびE10が両方とも−O−を表すならばE11は−
CH2 O−基であってよく、R13、R14およびR
15は同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ない
し6のアルキレン基を表し、tは0または1を表し、R
16、R17およびR18は同一でも異なっていてもよ
く、上記R12と同じ意味を表し、E8 は直接結合ま
たは−CH2 −を表し、u、vおよびxは同一でも異
なっていてもよく、2ないし6の整数を表し、そしてR
19は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが4を
表す場合、R3 が式VIIaまたはVIIb(式中、
E12は上記E1 、E2 およびE3 と同じ意味を
表し、R20およびR21は同一でも異なっていてもよ
く、炭素原子数2ないし6のアルキレン基を表し、yは
0または1を表し、そしてR22は炭素原子数4ないし
8のアルカンテトライル基を表す)で表される基を表す
請求項1記載の化合物。 - 【請求項4】 式I中、Aが−O−または−CH2
−を表し、mが2または3を表し、R2 が次式:−O
R4 、−SR4 または−NR5 R6 (式中、R
4 、R5 およびR6 は同一であっても異なってい
てもよく、水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基
によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されたシクロヘ
キシル基を表すか、アリル基、ウンデセニル基、フェニ
ル基、ベンジル基を表すか、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基、ジメチルアミノ基もしくはジエチルアミノ
基により2位もしくは3位で置換された炭素原子数2も
しくは3のアルキル基を表すか、テトラヒドロフルフリ
ル基、式IIで表される基または式IIIで表される基
を表すか、または−NR5 R6 基は4−モルホリニ
ル基を表す)で表される基を表すか、またはR2 は式
IVaないしIVcで表される基の1つを表し、nが1
、2、3または4を表し、そしてnが1を表す場合、R
3 がR2 と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R
3 が式VaないしVc(式中、E1 、E2 および
E3 は同一でも異なっていてもよく、−O−または>
N−R12を表し、R8 は炭素原子数2ないし8のア
ルキレン基、2もしくは3個の酸素原子により中断され
た炭素原子数6ないし10のアルキレン基、シクロヘキ
シレンジメチレン基、メチレンジシクロヘキシレン基、
イソプロピリデンジシクロヘキシレン基、イソプロピリ
デンジフェニレン基またはキシリレン基を表し、R9
は炭素原子数2または3のアルキレン基を表し、E4
は>N−(R9 −E3 )S −または>CHO−を
表し、rおよびsは同一でも異なっていてもよく、0ま
たは1を表し、R10は水素原子を表すか、またはrが
1を表しE4 が>CHO−を表すときR10はメチル
基を表し得、R11は水素原子またはメチル基を表し、
そしてR12は水素原子、炭素原子数1ないし8のアル
キル基、非置換または炭素原子数1ないし4のアルキル
基によりモノ−、ジ−もしくはトリ−置換されたシクロ
ヘキシル基を表すか、ベンジル基または式IIIで表さ
れる基を表す)で表される基の1つを表し、そしてnが
3を表す場合、R3 が式VIaないしVId(式中、
E5 、E6 、E7 、E9 、E10およびE11
は同一でも異なっていてもよく、上記E1 、E2 お
よびE3 と同じ意味を表し、そしてE9 およびE1
0が両方とも−O−を表すならばE11は−CH2 O
−基であってよく、R13、R14およびR15は同一
でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアル
キレン基を表し、tは0または1を表し、R16、R1
7およびR18は同一でも異なっていてもよく、上記R
12と同じ意味を表し、E8は直接結合または−CH2
−を表し、u、vおよびxは同一でも異なっていても
よく、2ないし6の整数を表し、そしてR19は水素原
子、メチル基またはエチル基を表す)で表される基の1
つを表し、そしてnが4を表す場合、R3 が式VII
aまたはVIIb(式中、E12は上記E1 、E2
およびE3 と同じ意味を表し、R20およびR21は
同一でも異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6の
アルキレン基を表し、yは0または1を表し、そしてR
22は炭素原子数4ないし6のアルカンテトライル基を
表す)で表される基を表す請求項1記載の化合物。 - 【請求項5】 式I中、Aが−O−を表し、mが2ま
たは3を表し、R2 が次式:−OR4 または−NR
5 R6 (式中、R4 は炭素原子数1ないし8のア
ルキル基または式IIIで表される基を表し、そしてR
5 およびR6 は同一であっても異なっていてもよく
、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基を表すか、メトキシ基、エトキシ基、ジ
メチルアミノ基もしくはジエチルアミノ基により2位も
しくは3位で置換された炭素原子数2もしくは3のアル
キル基を表すか、テトラヒドロフルフリル基、式IIで
表される基または式IIIで表される基を表すか、また
はR5 は水素原子であってよく、または−NR5 R
6 基は4−モルホリニル基を表す)で表される基を表
すか、またはR2 は式IVaないしIVcで表される
基の1つを表し、nが1、2、3または4を表し、そし
てnが1を表す場合、R3がR2 と同じ意味を表し、
nが2を表す場合、R3 が式VaないしVc{式中、
E1 およびE2 は同一でも異なっていてもよく、−
O−または>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2
ないし8のアルキレン基、2もしくは3個の酸素原子に
より中断された炭素原子数6ないし10のアルキレン基
、シクロヘキシレンジメチレン基またはメチレンジシク
ロヘキシレン基を表し、式Vbが次式:【化14】 【化15】 (式中、rおよびsは同一でも異なっていてもよく、0
または1を表し、R12は水素原子、炭素原子数1ない
し4のアルキル基、シクロヘキシル基または式IIIで
表される基を表す)で表される基を表し、そしてR11
は水素原子またはメチル基を表す}で表される基の1つ
を表し、そしてnが3を表す場合、R3 が式VIaま
たはVIb(式中、E5 、E6 およびE7 は同一
でも異なっていてもよく、上記E1 およびE2 と同
じ意味を表し、R13、R14およびR15は同一でも
異なっていてもよく、炭素原子数2ないし6のアルキレ
ン基を表し、tは0または1を表し、R16、R17お
よびR18は同一でも異なっていてもよく、上記R12
と同じ意味を表し、E8 は直接結合または−CH2
−を表し、そしてuおよびvは同一でも異なっていても
よく、3ないし6の整数を表す)で表される基を表し、
そしてnが4を表す場合、R3 が式VIIa(式中、
E12は上記E1 およびE2 と同じ意味を表し、R
20およびR21は同一でも異なっていてもよく、炭素
原子数2または3のアルキレン基を表し、そしてyは0
または1を表す)で表される基を表す請求項1記載の化
合物。 - 【請求項6】 式I中、R1 が水素原子またはメチ
ル基を表し、Aが−O−を表し、mが3を表し、R2
が次式:−OR4 または−NR5 R6 (式中、R
4 は炭素原子数1ないし4のアルキル基、2,2,6
,6−テトラメチル−4−ピペリジル基または1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル基を表し、
そしてR5 およびR6 は同一であっても異なってい
てもよく、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シクロ
ヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、次式(化16
):【化16】 で表される基、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル基または1,2,2,6,6−ペンタメチル−
4−ピペリジル基を表すか、またはR5 は水素原子で
あってよく、または−NR5 R6 基は4−モルホリ
ニル基を表す)で表される基を表し、nが1、2、3ま
たは4を表し、そしてnが1を表す場合、R3 がR2
と同じ意味を表し、nが2を表す場合、R3 が式V
a(式中、E1 およびE2 は同一でも異なっていて
もよく、>N−R12を表し、R8 は炭素原子数2な
いし6のアルキレン基、2もしくは3個の酸素原子によ
り中断された炭素原子数8ないし10のアルキレン基ま
たはメチレンジシクロヘキシレン基を表し、そしてR1
2は水素原子、メチル基、2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル基または1,2,2,6,6−ペン
タメチル−4−ピペリジル基を表す)で表される基を表
し、そしてnが3を表す場合、R3 が次式(化17)
: 【化17】 (式中、R12は上記と同じ意味を表し、そしてR13
および中R14は同一でも異なっていてもよく、炭素原
子数2または3のアルキレン基を表す)で表される基を
表し、そしてnが4を表す場合、R3 が次式(化18
):【化18】 (式中、R12は上記と同じ意味を表し、そしてR20
およびR21は同一でも異なっていてもよく、炭素原子
数2または3のアルキレン基を表す)で表される基を表
す請求項1記載の化合物。 - 【請求項7】 次式(化19ないし22):【化19
】 【化20】 【化21】 【化22】 で表される請求項1記載の式Iで表される化合物。 - 【請求項8】 光、熱および酸化により誘導される劣
化に感受性である有機材料および少なくとも1種の請求
項1記載の化合物を含有する組成物。 - 【請求項9】 有機材料が合成ポリマーである請求項
8記載の組成物。 - 【請求項10】式Iで表される化合物の他に、合成ポリ
マー用のその他の慣用の添加剤を含有する請求項9記載
の組成物。 - 【請求項11】有機材料がポリオレフィンである請求項
8記載の組成物。 - 【請求項12】有機材料がポリエチレンまたはポリプロ
ピレンである請求項8記載の組成物。 - 【請求項13】次式VIIIa(化23):【化23】 (式中、Aは直接結合、−O−、−CH2 −または−
CH2 CH2 −を表し、mは2ないし6の整数を表
し、そしてR1 は水素原子、炭素原子数1ないし8の
アルキル基、O・、OH、NO、CH2 CN、炭素原
子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし
12のシクロアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のア
ルケニル基、非置換またはフェニル基上で炭素原子数1
ないし4のアルキル基によりモノ−、ジ−もしくはトリ
−置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル
基を表すか、または炭素原子数1ないし8のアシル基を
表す)で表される化合物。 - 【請求項14】次式(化24): 【化24】 で表される請求項13記載の式VIIIaで表される化
合物。
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