JPH05186464A - 有機材料のための安定剤として使用するためのテトラヒドロフラン環を含む新規ピペリジン化合物 - Google Patents
有機材料のための安定剤として使用するためのテトラヒドロフラン環を含む新規ピペリジン化合物Info
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- JPH05186464A JPH05186464A JP4168650A JP16865092A JPH05186464A JP H05186464 A JPH05186464 A JP H05186464A JP 4168650 A JP4168650 A JP 4168650A JP 16865092 A JP16865092 A JP 16865092A JP H05186464 A JPH05186464 A JP H05186464A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08K5/3435—Piperidines
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規ピペリジン化合物を提供する。
【構成】 一般式（Ｉ）：
【化１】
〔式中、Ｘ及びＹは例えば次式（ＩＩ）又は（ＩＩ
Ｉ）： 【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は例えば水素原子又はメチル基を
表わす）で表わされる基を表わす〕で表わされるテトラ
メチルピペリジン化合物である。 【効果】 有機材料特に合成ポリマーのための光安定
剤、熱安定剤及び酸化安定剤として有用である。
Ｉ）： 【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 は例えば水素原子又はメチル基を
表わす）で表わされる基を表わす〕で表わされるテトラ
メチルピペリジン化合物である。 【効果】 有機材料特に合成ポリマーのための光安定
剤、熱安定剤及び酸化安定剤として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規ピペリジン化合
物、有機材料特に合成ポリマーのための光安定剤、熱安
定剤及び酸化安定剤としてのその用途、並びにその結果
安定化された有機材料に関するものである。
物、有機材料特に合成ポリマーのための光安定剤、熱安
定剤及び酸化安定剤としてのその用途、並びにその結果
安定化された有機材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン誘導体の、合成ポリマーのための光安定剤としての製
造方法及び用途に関する多数の特許、特にアメリカ合衆
国特許第３６４０９２８号、第３６８４７６５号、第３
８４０４９４号、第３９０４５８１号、第４０２１４３
２号、第４１３６０８１号及び第４７９８８３６号並び
にドイツ連邦共和国特許第３５２２６７８号が公表され
ている。
ン誘導体の、合成ポリマーのための光安定剤としての製
造方法及び用途に関する多数の特許、特にアメリカ合衆
国特許第３６４０９２８号、第３６８４７６５号、第３
８４０４９４号、第３９０４５８１号、第４０２１４３
２号、第４１３６０８１号及び第４７９８８３６号並び
にドイツ連邦共和国特許第３５２２６７８号が公表され
ている。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式式
（Ｉ）：
（Ｉ）：
【化５】 〔〔式中、同一又は異なってよいＸ及びＹは次式（ＩＩ
ａ）又は（ＩＩｂ）：
ａ）又は（ＩＩｂ）：
【化６】 〔式中、Ｒ1 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、Ｏ・基、ＯＨ基、ＮＯ基、ＣＨ2 ＣＮ基、炭素
原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ない
し１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３ないし６の
アルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基によりフェニル環上を一，二若しくは三置換され
ている）；又は炭素原子数１ないし８のアシル基を表わ
し、そしてＲ2 は水素原子、炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭
素原子数２ないし４のアルキル基（（これは、炭素原子
数１ないし８のアルコキシ基により、ジ（炭素原子数１
ないし４のアルキル）アミノ基により又は窒素原子上に
遊離原子価を有する５ないし７員窒素含有複素環基によ
り２，３又は４位を置換されている））；炭素原子数５
ないし１２のシクロアルキル基（これは、非置換又は炭
素原子数１ないし４のアルキル基により一，二若しくは
三置換されている）；炭素原子数７ないし９のフェニル
アルキル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４
のアルキル基によりフェニル環上を一，二若しくは三置
換されている）；テトラヒドロフルフリル基又は次式
（ＩＩＩ）：
キル基、Ｏ・基、ＯＨ基、ＮＯ基、ＣＨ2 ＣＮ基、炭素
原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ない
し１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３ないし６の
アルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基によりフェニル環上を一，二若しくは三置換され
ている）；又は炭素原子数１ないし８のアシル基を表わ
し、そしてＲ2 は水素原子、炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭
素原子数２ないし４のアルキル基（（これは、炭素原子
数１ないし８のアルコキシ基により、ジ（炭素原子数１
ないし４のアルキル）アミノ基により又は窒素原子上に
遊離原子価を有する５ないし７員窒素含有複素環基によ
り２，３又は４位を置換されている））；炭素原子数５
ないし１２のシクロアルキル基（これは、非置換又は炭
素原子数１ないし４のアルキル基により一，二若しくは
三置換されている）；炭素原子数７ないし９のフェニル
アルキル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４
のアルキル基によりフェニル環上を一，二若しくは三置
換されている）；テトラヒドロフルフリル基又は次式
（ＩＩＩ）：
【化３】（式中、Ｒ1 は上記において定義されたものと
同じ意味を表わす）で表わされるテトラヒドロフルフリ
ル基を表わす〕で表わされる基を表わすか、或いは２個
の基Ｘ、２個の基Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になっ
て基＞Ｎ−Ｒ〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基
を表わす〕を表わす〕〕で表わされる新規ピペリジン化
合物に関するものである。
同じ意味を表わす）で表わされるテトラヒドロフルフリ
ル基を表わす〕で表わされる基を表わすか、或いは２個
の基Ｘ、２個の基Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になっ
て基＞Ｎ−Ｒ〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基
を表わす〕を表わす〕〕で表わされる新規ピペリジン化
合物に関するものである。
【０００４】１８個よりも多くの炭素原子を有しないア
ルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル
基、第三ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル
基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキ
サデシル基又はオクタデシル基である。
ルキル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル
基、第三ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル
基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキ
サデシル基又はオクタデシル基である。
【０００５】炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、好
ましくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、特にメ
トキシ基又はエトキシ基により置換された炭素原子数２
ないし４のアルキル基の例は、２−メトキシエチル基、
２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−
エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−オ
クトキシプロピル基又は４−メトキシブチル基である。
ましくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、特にメ
トキシ基又はエトキシ基により置換された炭素原子数２
ないし４のアルキル基の例は、２−メトキシエチル基、
２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−
エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−オ
クトキシプロピル基又は４−メトキシブチル基である。
【０００６】ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）ア
ミノ基により、好ましくはジメチルアミノ基又はジエチ
ルアミノ基により置換された炭素原子数２ないし４のア
ルキル基の例は、２−ジメチルアミノエチル基、２−ジ
エチルアミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル
基、３−ジエチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミ
ノプロピル基又は４−ジエチルアミノブチル基である。
ミノ基により、好ましくはジメチルアミノ基又はジエチ
ルアミノ基により置換された炭素原子数２ないし４のア
ルキル基の例は、２−ジメチルアミノエチル基、２−ジ
エチルアミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル
基、３−ジエチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミ
ノプロピル基又は４−ジエチルアミノブチル基である。
【０００７】５ないし７員窒素含有複素環基により置換
された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、次
式：
された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、次
式：
【化８】 〔式中、Ａは直接結合、−Ｏ−基、−ＣＨ2 −基又は−
ＣＨ2 ＣＨ2 −基を表わす〕で表わされる基である。次
式：
ＣＨ2 ＣＨ2 −基を表わす〕で表わされる基である。次
式：
【化９】 で表わされる基が好ましい。
【０００８】炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基の
例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ
基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシ
ルオキシ基、ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ
基、ヘキサデシルオキシ基又はオクタデシルオキシ基で
ある。炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基が好まし
い。
例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ
基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシ
ルオキシ基、ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ
基、ヘキサデシルオキシ基又はオクタデシルオキシ基で
ある。炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基が好まし
い。
【０００９】炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基により一，二若しくは三置換されている）の例は、
シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチル
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘ
キシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシク
ロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオ
クチル基、シクロデシル基又はシクロドデシル基であ
る。非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル置換シ
クロヘキシル基が好ましい。
基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基により一，二若しくは三置換されている）の例は、
シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチル
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘ
キシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシク
ロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロオ
クチル基、シクロデシル基又はシクロドデシル基であ
る。非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキル置換シ
クロヘキシル基が好ましい。
【００１０】炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキ
シ基の例は、シクロペントキシ基、シクロヘキソキシ
基、シクロヘプトキシ基、シクロオクトキシ基、シクロ
デシルオキシ基及びシクロドデシルオキシ基である。シ
クロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基が好ましい。
シ基の例は、シクロペントキシ基、シクロヘキソキシ
基、シクロヘプトキシ基、シクロオクトキシ基、シクロ
デシルオキシ基及びシクロドデシルオキシ基である。シ
クロペントキシ基及びシクロヘキソキシ基が好ましい。
【００１１】炭素原子数３ないし６のアルケニル基の例
は、アリル基、２−メチルアリル基、２−ブテニル基又
は２−ヘキセニル基である。アリル基が好ましい。１位
の炭素原子は飽和していることが好ましい。
は、アリル基、２−メチルアリル基、２−ブテニル基又
は２−ヘキセニル基である。アリル基が好ましい。１位
の炭素原子は飽和していることが好ましい。
【００１２】炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基によりフェニル環上を一，二若しくは三置換されて
いる）の例は、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチ
ルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベン
ジル基又は２−フェニルエチル基である。ベンジル基が
好ましい。
基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基によりフェニル環上を一，二若しくは三置換されて
いる）の例は、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチ
ルベンジル基、トリメチルベンジル基、第三ブチルベン
ジル基又は２−フェニルエチル基である。ベンジル基が
好ましい。
【００１３】８個よりも多くの炭素原子を含まないアシ
ル基Ｒ1 は、脂肪族基又は芳香族基であってよい。代表
的な例は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタ
ノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイ
ル基又はクロトニル基である。炭素原子数１ないし８の
アルカノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケノイル
基及びベンゾイル基が好ましい。アセチル基が特に好ま
しい。
ル基Ｒ1 は、脂肪族基又は芳香族基であってよい。代表
的な例は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタ
ノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイ
ル基又はクロトニル基である。炭素原子数１ないし８の
アルカノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケノイル
基及びベンゾイル基が好ましい。アセチル基が特に好ま
しい。
【００１４】式（Ｉ）〔式中、２個の基Ｘ、２個の基Ｙ
又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒを表わ
す〕で表わされる化合物の例は、次式：
又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒを表わ
す〕で表わされる化合物の例は、次式：
【化１０】 で表わされる化合物である。
【００１５】Ｒ1 の好ましい定義は、水素原子、炭素原
子数１ないし４のアルキル基、ＯＨ基、炭素原子数６な
いし１２のアルコキシ基、炭素原子数５ないし８のシク
ロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基又はアセチル
基、特に水素原子又はメチル基である。
子数１ないし４のアルキル基、ＯＨ基、炭素原子数６な
いし１２のアルコキシ基、炭素原子数５ないし８のシク
ロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基又はアセチル
基、特に水素原子又はメチル基である。
【００１６】式中、同一又は異なってよいＸ及びＹが式
（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）〔式中、Ｒ2 は水素原子、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２又は
３のアルキル基（（これは、炭素原子数１ないし４のア
ルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）アミノ基により又は１−ピロリジル基、１−ピペリ
ジル基又は４−モルホリニル基により２又は３位を置換
されている））；炭素原子数５ないし８のシクロアルキ
ル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基により一，二若しくは三置換されている）；ベン
ジル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のア
ルキル基により一，二若しくは三置換されている）；テ
トラヒドロフルフリル基又は式（ＩＩＩ）で表わされる
基を表わす〕で表わされる基を表わすか、或いは２個の
基Ｘ、２個の基Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって
基＞Ｎ−Ｒ〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を
表わす〕を表わす前記式（Ｉ）で表わされる化合物が好
ましい。
（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）〔式中、Ｒ2 は水素原子、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２又は
３のアルキル基（（これは、炭素原子数１ないし４のア
ルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）アミノ基により又は１−ピロリジル基、１−ピペリ
ジル基又は４−モルホリニル基により２又は３位を置換
されている））；炭素原子数５ないし８のシクロアルキ
ル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基により一，二若しくは三置換されている）；ベン
ジル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のア
ルキル基により一，二若しくは三置換されている）；テ
トラヒドロフルフリル基又は式（ＩＩＩ）で表わされる
基を表わす〕で表わされる基を表わすか、或いは２個の
基Ｘ、２個の基Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって
基＞Ｎ−Ｒ〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を
表わす〕を表わす前記式（Ｉ）で表わされる化合物が好
ましい。
【００１７】式中、同一又は異なってよいＸ及びＹが式
（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）〔式中、Ｒ2 は水素原子、炭
素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数２又は
３のアルキル基（これは、メトキシ基により、エトキシ
基により、ジメチルアミノ基により、ジエチルアミノ基
により又は４−モルホリニル基により２又は３位を置換
されている）；シクロヘキシル基（これは、非置換又は
炭素原子数１ないし４のアルキル基により一，二若しく
は三置換されている）；ベンジル基、テトラヒドロフル
フリル基又は式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕で
表わされる基を表わすか、或いは２個の基Ｘ、２個の基
Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒ〔式
中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕を表わ
す前記式（Ｉ）で表わされる化合物が特に好ましい。
（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）〔式中、Ｒ2 は水素原子、炭
素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数２又は
３のアルキル基（これは、メトキシ基により、エトキシ
基により、ジメチルアミノ基により、ジエチルアミノ基
により又は４−モルホリニル基により２又は３位を置換
されている）；シクロヘキシル基（これは、非置換又は
炭素原子数１ないし４のアルキル基により一，二若しく
は三置換されている）；ベンジル基、テトラヒドロフル
フリル基又は式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕で
表わされる基を表わすか、或いは２個の基Ｘ、２個の基
Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒ〔式
中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕を表わ
す前記式（Ｉ）で表わされる化合物が特に好ましい。
【００１８】式中、同一又は異なってよいＸ及びＹが式
（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）〔式中、Ｒ2 は水素原子、炭
素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基又は式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕
で表わされる基を表わすか、或いは２個の基Ｘ、２個の
基Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒ
〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕を
表わす前記式（Ｉ）で表わされる化合物がとりわけ重要
である。
（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）〔式中、Ｒ2 は水素原子、炭
素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基又は式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕
で表わされる基を表わすか、或いは２個の基Ｘ、２個の
基Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒ
〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕を
表わす前記式（Ｉ）で表わされる化合物がとりわけ重要
である。
【００１９】式中、Ｘ及びＹが式（ＩＩａ）又は（ＩＩ
ｂ）〔式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ
2 は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を
表わす〕で表わされる基を表わすか、或いは２個の基Ｘ
及び２個の基Ｙは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒ〔式
中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕を表わ
す前記式（Ｉ）で表わされる化合物が特に重要である。
ｂ）〔式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ
2 は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を
表わす〕で表わされる基を表わすか、或いは２個の基Ｘ
及び２個の基Ｙは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒ〔式
中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕を表わ
す前記式（Ｉ）で表わされる化合物が特に重要である。
【００２０】特に好ましい式（Ｉ）で表わされる化合物
の例は、次式：
の例は、次式：
【化１１】 で表わされる化合物である。
【００２１】式（Ｉ）で表わされる化合物は、例えばテ
トラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカルボン酸
又はそのエステルと炭素原子数１ないし４のアルカノー
ルとから出発して、又は相当する二無水物から出発し
て、公知方法によって製造することができる。
トラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカルボン酸
又はそのエステルと炭素原子数１ないし４のアルカノー
ルとから出発して、又は相当する二無水物から出発し
て、公知方法によって製造することができる。
【００２２】特に、Ｘ及びＹが式（ＩＩａ）及び（ＩＩ
ｂ）で表わされる基を表わす場合には、式（Ｉ）で表わ
される化合物は例えばテトラヒドロフラン−２，３，
４，５−テトラカルボン酸の炭素原子数１ないし４のア
ルキルエステルと次式（ＩＶａ）又は（ＩＶｂ）：
ｂ）で表わされる基を表わす場合には、式（Ｉ）で表わ
される化合物は例えばテトラヒドロフラン−２，３，
４，５−テトラカルボン酸の炭素原子数１ないし４のア
ルキルエステルと次式（ＩＶａ）又は（ＩＶｂ）：
【化１２】 で表わされる化合物とを、適切なモル比で、好ましくは
理論量を越える過剰量を用いて、例えばＴｉ（ＩＶ）の
アルコキシドの又は水素化物の、Ｌｉ，Ｎａ又はＫのア
ルコキシド若しくはアミドの触媒量の存在下で反応させ
ることによって製造することができる。
理論量を越える過剰量を用いて、例えばＴｉ（ＩＶ）の
アルコキシドの又は水素化物の、Ｌｉ，Ｎａ又はＫのア
ルコキシド若しくはアミドの触媒量の存在下で反応させ
ることによって製造することができる。
【００２３】前記反応は、無溶媒で又は有機溶媒例えば
トルエン若しくはキシレン中で、例えば１００℃ないし
２００℃、好ましくは１２０℃ないし１８０℃の温度で
操作することによって行うことができる。
トルエン若しくはキシレン中で、例えば１００℃ないし
２００℃、好ましくは１２０℃ないし１８０℃の温度で
操作することによって行うことができる。
【００２４】式（Ｉ）〔〔式中、２個の基Ｘ、２個の基
Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒ〔式
中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕を表わ
す〕〕で表わされる化合物を製造するために、２段階
で、テトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカル
ボン酸の二無水物を次式（Ｖ）：
Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒ〔式
中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕を表わ
す〕〕で表わされる化合物を製造するために、２段階
で、テトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカル
ボン酸の二無水物を次式（Ｖ）：
【化１３】 で表わされる化合物２モルと反応させることが好まし
い。
い。
【００２５】第一相において、例えば０℃ないし６０
℃、好ましくは２０℃ないし４０℃の温度でジメチルホ
ルムアミド中で操作することにより、ビス（セミアミ
ド）が中間体として生成し、これは、続く反応反応にお
いて、例えば５０℃ないし１５０℃、好ましくは７０℃
ないし１２０℃の温度で無水酢酸及びトリエチルアミン
とともに加熱することにより環化してジイミドを生成す
る。
℃、好ましくは２０℃ないし４０℃の温度でジメチルホ
ルムアミド中で操作することにより、ビス（セミアミ
ド）が中間体として生成し、これは、続く反応反応にお
いて、例えば５０℃ないし１５０℃、好ましくは７０℃
ないし１２０℃の温度で無水酢酸及びトリエチルアミン
とともに加熱することにより環化してジイミドを生成す
る。
【００２６】テトラヒドロフラン−２，３，４，５−テ
トラカルボン酸及び相当する二無水物は市販されてい
る；相当するテトラエステル及び式（ＩＶａ）、（ＩＶ
ｂ）及び（Ｖ）で表わされる化合物も公知方法により容
易に製造することができる。
トラカルボン酸及び相当する二無水物は市販されてい
る；相当するテトラエステル及び式（ＩＶａ）、（ＩＶ
ｂ）及び（Ｖ）で表わされる化合物も公知方法により容
易に製造することができる。
【００２７】最初に述べた如く、式（Ｉ）で表わされる
化合物は有機材料特に合成ポリマー及びコポリマーの光
安定性、熱安定性及び酸化安定性を改良するために非常
に有効である。
化合物は有機材料特に合成ポリマー及びコポリマーの光
安定性、熱安定性及び酸化安定性を改良するために非常
に有効である。
【００２８】安定化され得る前記有機材料は下記のもの
である。
である。
【００２９】１． モノオレフィン及びジオレフィンの
ポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリブテン−１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプ
レン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポ
リマー、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリ
マー、ポリエチレン（所望により架橋されていてよ
い）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度
ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）、分岐鎖状低密度ポリエチレン（ＢＬＤ
ＰＥ）。
ポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリブテン−１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプ
レン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポ
リマー、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリ
マー、ポリエチレン（所望により架橋されていてよ
い）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度
ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）、分岐鎖状低密度ポリエチレン（ＢＬＤ
ＰＥ）。
【００３０】２． １）で記述したポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び異なる種類のポリエ
チレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ
／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）及び異なる種類のポリエ
チレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００３１】３． モノオレフィンとジオレフィンとの
互いの又はその他のビニルモノマーとのコポリマー、例
えばエチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポ
リエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポ
リマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／エ
チルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマ
ー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／イソ
ブチレンコポリマー、エチレン／ブテン−１コポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及びこれら
の一酸化炭素とのコポリマー又はエチレン／アクリル酸
コポリマー及びそれらの塩（イオノマー）、並びにエチ
レンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジシ
クロテンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンとのタ
ーポリマー；並びに前記コポリマーの混合物及び前記コ
ポリマーと上記１）において記載したポリマーとの混合
物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コ
ポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー
（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマ
ー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡ
Ａ及びランダム又は交互ポリアルキレン／一酸化炭素−
コポリマー並びにそれらの他のポリマー例えばポリアミ
ドとの混合物。
互いの又はその他のビニルモノマーとのコポリマー、例
えばエチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポ
リエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポ
リマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／エ
チルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマ
ー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／イソ
ブチレンコポリマー、エチレン／ブテン−１コポリマ
ー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン
／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレ
ートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及びこれら
の一酸化炭素とのコポリマー又はエチレン／アクリル酸
コポリマー及びそれらの塩（イオノマー）、並びにエチ
レンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジシ
クロテンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンとのタ
ーポリマー；並びに前記コポリマーの混合物及び前記コ
ポリマーと上記１）において記載したポリマーとの混合
物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コ
ポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー
（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマ
ー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡ
Ａ及びランダム又は交互ポリアルキレン／一酸化炭素−
コポリマー並びにそれらの他のポリマー例えばポリアミ
ドとの混合物。
【００３２】３ａ． 炭化水素樹脂（例えば炭素原子数
５ないし９）及びその水素化変性体（例えば粘着付与
剤）及びポリアルキレンと澱粉との混合物。
５ないし９）及びその水素化変性体（例えば粘着付与
剤）及びポリアルキレンと澱粉との混合物。
【００３３】４． ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチル
スチレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
スチレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。
【００３４】５． スチレン又はα−メチルスチレンと
ジエン又はアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチ
レン／アクリロニトリルコポリマー、スチレン／アルキ
ルメタクリレートコポリマー、スチレン／無水マレイン
酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリ
レートコポリマー、スチレン／ブタジエン／アルキルメ
タクリレートコポリマー、スチレン／アクリロニトリル
／メチルアクリレートコポリマー；スチレンコポリマー
とその他のポリマー例えばポリアクリレート、ジエンポ
リマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマー
とから製造された高い衝撃強度を有する混合物；及びス
チレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジ
エン／スチレンブロックコポリマー、スチレン／イソプ
レン／スチレンブロックコポリマー、スチレン／エチレ
ン／ブチレン／スチレンブロックコポリマー又はスチレ
ン／エチレン／プロピレン／スチレンブロックコポリマ
ー。
ジエン又はアクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチ
レン／アクリロニトリルコポリマー、スチレン／アルキ
ルメタクリレートコポリマー、スチレン／無水マレイン
酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリ
レートコポリマー、スチレン／ブタジエン／アルキルメ
タクリレートコポリマー、スチレン／アクリロニトリル
／メチルアクリレートコポリマー；スチレンコポリマー
とその他のポリマー例えばポリアクリレート、ジエンポ
リマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマー
とから製造された高い衝撃強度を有する混合物；及びス
チレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジ
エン／スチレンブロックコポリマー、スチレン／イソプ
レン／スチレンブロックコポリマー、スチレン／エチレ
ン／ブチレン／スチレンブロックコポリマー又はスチレ
ン／エチレン／プロピレン／スチレンブロックコポリマ
ー。
【００３５】６． スチレン又はα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンに対するス
チレンのグラフトコポリマー、ポリブタジエン−スチレ
ン又はポリブタジエン−アクリロニトリルに対するスチ
レンのグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するス
チレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリ
ル）のグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するス
チレン及び無水マレイン酸又はマレイミドのグラフトコ
ポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン、アクリロ
ニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミドのグラフト
コポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン、アクリ
ロニトリル及びメチルメタクリレートのグラフトコポリ
マー；ポリブタジエンに対するスチレン及びアルキルア
クリレート又はメタクリレートのグラフトコポリマー；
エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーに対するス
チレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー；ポ
リアクリレート又はポリメタクリレートに対するスチレ
ン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー；アクリ
レート／ブタジエンコポリマーに対するスチレン及びア
クリロニトリルのグラフトコポリマー、並びにそれらの
５）において記載したコポリマーとの混合物、例えばＡ
ＢＳポリマー、ＭＢＳポリマー、ＡＳＡポリマー又はＡ
ＥＳポリマーとして知られるコポリマー混合物。
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンに対するス
チレンのグラフトコポリマー、ポリブタジエン−スチレ
ン又はポリブタジエン−アクリロニトリルに対するスチ
レンのグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するス
チレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリ
ル）のグラフトコポリマー；ポリブタジエンに対するス
チレン及び無水マレイン酸又はマレイミドのグラフトコ
ポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン、アクリロ
ニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミドのグラフト
コポリマー；ポリブタジエンに対するスチレン、アクリ
ロニトリル及びメチルメタクリレートのグラフトコポリ
マー；ポリブタジエンに対するスチレン及びアルキルア
クリレート又はメタクリレートのグラフトコポリマー；
エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーに対するス
チレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー；ポ
リアクリレート又はポリメタクリレートに対するスチレ
ン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー；アクリ
レート／ブタジエンコポリマーに対するスチレン及びア
クリロニトリルのグラフトコポリマー、並びにそれらの
５）において記載したコポリマーとの混合物、例えばＡ
ＢＳポリマー、ＭＢＳポリマー、ＡＳＡポリマー又はＡ
ＥＳポリマーとして知られるコポリマー混合物。
【００３６】７． ハロゲン化ポリマー例えばポリクロ
ロプレン、塩化ゴム、塩化又はスルホクロル化ポリエチ
レン、エチレンと塩化エチレンとのコポリマー、エピク
ロロヒドリンモノ−及びコポリマー、ハロゲン含有ビニ
ル化合物からのポリマー例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、
並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビ
ニルデンコポリマー、塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマ
ー又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
ロプレン、塩化ゴム、塩化又はスルホクロル化ポリエチ
レン、エチレンと塩化エチレンとのコポリマー、エピク
ロロヒドリンモノ−及びコポリマー、ハロゲン含有ビニ
ル化合物からのポリマー例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポリ弗化ビニリデン、
並びにそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／塩化ビ
ニルデンコポリマー、塩化ビニル／酢酸ビニルコポリマ
ー又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００３７】８． α，β−不飽和酸及びその誘導体か
ら誘導されたポリマー、例えばポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ブチルアクリレートを用いた耐衝撃
性ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及び
ポリアクリロニトリル。
ら誘導されたポリマー、例えばポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ブチルアクリレートを用いた耐衝撃
性ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及び
ポリアクリロニトリル。
【００３８】９． ８）において記載したモノマーの互
いの又はその他の不飽和モノマーとのコポリマー、例え
ばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロ
ニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロ
ニトリル／アルコキアルキルアクリレート又はアクリロ
ニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー又はアクリロニ
トリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリ
マー。
いの又はその他の不飽和モノマーとのコポリマー、例え
ばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロ
ニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロ
ニトリル／アルコキアルキルアクリレート又はアクリロ
ニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー又はアクリロニ
トリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリ
マー。
【００３９】１０． 不飽和アルコール及びアミン又は
そのアシル誘導体又はそのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエー
ト、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポ
リアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに上
記１）において記載したオレフィンとのそれらのコポリ
マー。
そのアシル誘導体又はそのアセタールから誘導されたポ
リマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエー
ト、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポ
リアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに上
記１）において記載したオレフィンとのそれらのコポリ
マー。
【００４０】１１． 環状エーテルのホモポリマー及び
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリ
シジルエーテルとのそれらのコポリマー。
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリ
シジルエーテルとのそれらのコポリマー。
【００４１】１２． ポリアセタール、例えばポリオキ
シメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含
むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レート又はＭＢＳを用いて変性されたポリアセタール。
シメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含
むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリ
レート又はＭＢＳを用いて変性されたポリアセタール。
【００４２】１３． ポリフェニレンオキシド及びスル
フィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
及びポリアミドとの混合物。
フィド、並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
及びポリアミドとの混合物。
【００４３】１４． 一成分としての末端ヒドロキシル
基を有するポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジ
エンと、他成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシア
ネートとから誘導されたポリウレタン、並びにその先駆
物質（ポリイソシアネート、ポリオール又はプレポリマ
ー）。
基を有するポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジ
エンと、他成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシア
ネートとから誘導されたポリウレタン、並びにその先駆
物質（ポリイソシアネート、ポリオール又はプレポリマ
ー）。
【００４４】１５． ジアミン及びジカルボン酸から、
及び／又はアミノカルボン酸又は相当するラクタムから
誘導されるポリアミド及びコポリアミド、例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６，６／１０，
６／９，６／１２，４／６，１２／１２，ポリアミド１
１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンとアジピン
酸との縮合により得られた芳香族ポリアミド；ヘキサメ
チレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル
酸及び所望により変性剤としてのエラストマーから製造
されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチ
ルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェ
ニレンイソフタルアミド。更に、前記ポリアミドとポリ
オレフィン、オレフィンコポリマー、イオノマー又は化
学的に結合された若しくはグラフトされたエラストマー
とのコポリマー；又はポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテト
ラメチレングリコールとのコポリマー。ＥＰＤＭ又はＡ
ＢＳを用いて変性されたポリアミド又はコポリアミド。
加工中に縮合したポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド
系）。
及び／又はアミノカルボン酸又は相当するラクタムから
誘導されるポリアミド及びコポリアミド、例えばポリア
ミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６，６／１０，
６／９，６／１２，４／６，１２／１２，ポリアミド１
１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンとアジピン
酸との縮合により得られた芳香族ポリアミド；ヘキサメ
チレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル
酸及び所望により変性剤としてのエラストマーから製造
されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチ
ルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェ
ニレンイソフタルアミド。更に、前記ポリアミドとポリ
オレフィン、オレフィンコポリマー、イオノマー又は化
学的に結合された若しくはグラフトされたエラストマー
とのコポリマー；又はポリエーテル、例えばポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテト
ラメチレングリコールとのコポリマー。ＥＰＤＭ又はＡ
ＢＳを用いて変性されたポリアミド又はコポリアミド。
加工中に縮合したポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド
系）。
【００４５】１６． ポリ尿素、ポリイミド及びポリア
ミド−イミド。
ミド−イミド。
【００４６】１７． ジカルボン酸及びジオールから、
及び／又はヒドロキシカルボン酸又は相当するラクトン
から誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレ
フタール、ポリブチレンテレフタール、ポリ−１，４−
ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリ−
〔２，２−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン〕テ
レフタレート及びポリヒドロキシベンゾエート、並びに
ヒドロキシ末端基を有するポリエーテルから誘導された
ブロックコポリエーテル−エステル。
及び／又はヒドロキシカルボン酸又は相当するラクトン
から誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレ
フタール、ポリブチレンテレフタール、ポリ−１，４−
ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリ−
〔２，２−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン〕テ
レフタレート及びポリヒドロキシベンゾエート、並びに
ヒドロキシ末端基を有するポリエーテルから誘導された
ブロックコポリエーテル−エステル。
【００４７】１８． ポリカーボネート及びポリエステ
ル−カーボネート。
ル−カーボネート。
【００４８】１９． ポリスルホン、ポリエーテル−ス
ルホン及びポリエーテル−ケトン。
ルホン及びポリエーテル−ケトン。
【００４９】２０． 一成分としてのアルデヒド及び他
成分としてのフェノール、尿素及びメラミンから誘導さ
れる架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒ
ド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホ
ルムアルデヒド樹脂。
成分としてのフェノール、尿素及びメラミンから誘導さ
れる架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒ
ド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホ
ルムアルデヒド樹脂。
【００５０】２１． 乾性及び非乾性アルキド樹脂。
【００５１】２２． 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多
価アルコールと架橋剤としてのビニル化合物とから誘導
される不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のその
ハロゲン含有変性体。
価アルコールと架橋剤としてのビニル化合物とから誘導
される不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のその
ハロゲン含有変性体。
【００５２】２３． 置換アクリル樹脂、例えばエポキ
シ−アクリレート、ウレタン−アクリレート又はポリエ
ステル−アクリレートから誘導された熱硬化性アクリル
樹脂。
シ−アクリレート、ウレタン−アクリレート又はポリエ
ステル−アクリレートから誘導された熱硬化性アクリル
樹脂。
【００５３】２４． 架橋剤としてのメラミン樹脂、尿
素樹脂、ポリイソシアネート又はエポキシド樹脂と混合
されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂又はアクリレー
ト樹脂。
素樹脂、ポリイソシアネート又はエポキシド樹脂と混合
されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂又はアクリレー
ト樹脂。
【００５４】２５． ポリエポキシドから、例えばビス
−グリシジルエーテルから又は脂環式ジエポキシドから
誘導される架橋エポキシド樹脂。
−グリシジルエーテルから又は脂環式ジエポキシドから
誘導される架橋エポキシド樹脂。
【００５５】２６． 天然ポリマー、例えばセルロー
ス、ゴム、ゼラチン及びポリマー−同族法により化学的
に変性されたその誘導体、例えばセルロースアセテー
ト、セルロースプロピオネート及びセルロースブチレー
ト、又はセルロースエーテル、例えばメチルセルロー
ス；ロジン及びそれらの誘導体。
ス、ゴム、ゼラチン及びポリマー−同族法により化学的
に変性されたその誘導体、例えばセルロースアセテー
ト、セルロースプロピオネート及びセルロースブチレー
ト、又はセルロースエーテル、例えばメチルセルロー
ス；ロジン及びそれらの誘導体。
【００５６】２７． 上述のポリマーの混合物、例えば
ＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、
ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、Ｐ
Ｃ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／
ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯ
Ｍ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／
アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＥ／ＨＩＰＳ、Ｐ
ＰＥ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、Ｐ
Ａ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＥ。
ＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、
ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、Ｐ
Ｃ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／
ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯ
Ｍ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／
アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＥ／ＨＩＰＳ、Ｐ
ＰＥ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、Ｐ
Ａ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＥ。
【００５７】２８． 純粋なモノマー状化合物又は前記
化合物の混合物である天然及び合成有機材料、例えば鉱
油、動物及び植物脂肪、油及びワックス、又は合成エス
テル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェート又
はトリメリテート）をベースとする油、脂肪及びワック
ス、及び更にポリマーのための可塑剤として又は繊維紡
糸油として使用され得る何れかの重量比の合成エステル
と鉱油との混合物、並びに前記材料の水性乳剤。
化合物の混合物である天然及び合成有機材料、例えば鉱
油、動物及び植物脂肪、油及びワックス、又は合成エス
テル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェート又
はトリメリテート）をベースとする油、脂肪及びワック
ス、及び更にポリマーのための可塑剤として又は繊維紡
糸油として使用され得る何れかの重量比の合成エステル
と鉱油との混合物、並びに前記材料の水性乳剤。
【００５８】２９． 天然又は合成ゴムの水性乳剤、例
えば天然ラテックス又はカルボキシル化スチレン／ブタ
ジエンコポリマーのラテックス。
えば天然ラテックス又はカルボキシル化スチレン／ブタ
ジエンコポリマーのラテックス。
【００５９】式（Ｉ）で表わされる化合物は、ポリオレ
フィンとりわけポリエチレン及びポリプロピレンの光安
定性、熱安定性及び酸化安定性を改良するために特に適
している。
フィンとりわけポリエチレン及びポリプロピレンの光安
定性、熱安定性及び酸化安定性を改良するために特に適
している。
【００６０】式（Ｉ）で表わされる化合物は、安定化す
べき材料の性質に、最終用途に及び他の添加剤の存在に
応じて、種々の比率での有機材料との混合物として使用
することができる。
べき材料の性質に、最終用途に及び他の添加剤の存在に
応じて、種々の比率での有機材料との混合物として使用
することができる。
【００６１】一般的に、安定化すべき材料の重量に対し
て式（Ｉ）で表わされる化合物を例えば０．０１ないし
５重量％、好ましくは０．０５及び１％使用することが
好ましい。
て式（Ｉ）で表わされる化合物を例えば０．０１ないし
５重量％、好ましくは０．０５及び１％使用することが
好ましい。
【００６２】一般的に、式（Ｉ）で表わされる化合物は
ポリマー材料の重合又は架橋の前、間又は後に前記材料
に添加することができる。
ポリマー材料の重合又は架橋の前、間又は後に前記材料
に添加することができる。
【００６３】式（Ｉ）で表わされる化合物は、純粋な形
態又はワックス、油若しくはポリマー中にカプセル化さ
れてポリマー材料中に混合することができる。
態又はワックス、油若しくはポリマー中にカプセル化さ
れてポリマー材料中に混合することができる。
【００６４】式（Ｉ）で表わされる化合物は、種々の方
法例えば粉末の形態における乾式混合、又は溶液若しく
は懸濁液の形態における湿式混合又は更にマスターバッ
チの形態により、ポリマー材料に混合することができ
る；前記操作において、ポリマーは粉末、顆粒、溶液、
懸濁液の形態で又はラテックスの形態で使用することが
できる。
法例えば粉末の形態における乾式混合、又は溶液若しく
は懸濁液の形態における湿式混合又は更にマスターバッ
チの形態により、ポリマー材料に混合することができ
る；前記操作において、ポリマーは粉末、顆粒、溶液、
懸濁液の形態で又はラテックスの形態で使用することが
できる。
【００６５】式（Ｉ）で表わされる生成物を用いて安定
化される材料は、成形品、フィルム、テープ、モノフィ
ラメント、繊維、表面塗料等の製造のために使用するこ
とができる。
化される材料は、成形品、フィルム、テープ、モノフィ
ラメント、繊維、表面塗料等の製造のために使用するこ
とができる。
【００６６】所望により、合成ポリマーのための他の慣
用の添加剤例えば紫外線吸収剤、ニッケル安定剤、顔
料、充填剤、可塑剤、帯電防止剤、防炎加工剤、潤滑
剤、腐食防止剤及び金属奪活剤を、式（Ｉ）で表わされ
る化合物と有機材料との混合物中に添加することができ
る。
用の添加剤例えば紫外線吸収剤、ニッケル安定剤、顔
料、充填剤、可塑剤、帯電防止剤、防炎加工剤、潤滑
剤、腐食防止剤及び金属奪活剤を、式（Ｉ）で表わされ
る化合物と有機材料との混合物中に添加することができ
る。
【００６７】式（Ｉ）で表わされる化合物との混合物と
して使用することができる特定の添加剤の例は、下記の
ものである。
して使用することができる特定の添加剤の例は、下記の
ものである。
【００６８】１．酸化防止剤
【００６９】１．１．アルキル化モノフェノール 例えば２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェノール、
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６
−ジ第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三
ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロ
ペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシ
クロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６
−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６
−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチ
ル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル
−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチルウンデシ−１′−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１′−メチルヘプタデシ−
１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチルトリデシ−１′−イル）フェノール及び
それらの混合物。
２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６
−ジ第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ第三
ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロ
ペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシ
クロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６
−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６
−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ第三ブチ
ル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル
−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチルウンデシ−１′−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１′−メチルヘプタデシ−
１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１′−メチルトリデシ−１′−イル）フェノール及び
それらの混合物。
【００７０】１．２．アルキルチオメチルフェノール 例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチル
フェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチ
ルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エ
チルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−
ノニルフェノール。
フェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチ
ルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エ
チルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−
ノニルフェノール。
【００７１】１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒド
ロキノン 例えば２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノー
ル、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第
三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オク
タデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒド
ロキノン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニ
ソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソ
ール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
ステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）アジペート。
ロキノン 例えば２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノー
ル、２，５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第
三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オク
タデシルオキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒド
ロキノン、２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニ
ソール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソ
ール、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
ステアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）アジペート。
【００７２】１．４．ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル 例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチ
ルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフ
ェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３
−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三
ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４′−ビス
（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスル
フィド。
ーテル 例えば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチ
ルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフ
ェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３
−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三
ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオビス
（３，６−ジ第二アミルフェノール）、４，４′−ビス
（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスル
フィド。
【００７３】１．５．アルキリデンビスフェノール 例えば２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−第
三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレ
ンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２′−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２′−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチ
ルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−第三
ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチ
レンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフ
ェノール］、２，２′−メチレンビス［６−（α，α−
ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４′−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、４，４′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビ
ス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２
−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］
テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２
−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタ
ン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メルカプトフェニル）ペンタン。
メチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−第
三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレ
ンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２′−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２′−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチ
ルフェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−第三
ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチ
レンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフ
ェノール］、２，２′−メチレンビス［６−（α，α−
ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４′−メチレンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、４，４′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビ
ス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブ
チレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２
−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチ
ルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］
テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２
−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタ
ン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メルカプトフェニル）ペンタン。
【００７４】１．６．Ｏ−，Ｎ−及びＳ−ベンジル化合
物 例えば３，５，３′，５′−テトラ第三ブチル−４，
４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル
−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプ
トアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３
−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレ
フタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテ
ート。
物 例えば３，５，３′，５′−テトラ第三ブチル−４，
４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル
−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプ
トアセテート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３
−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレ
フタレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテ
ート。
【００７５】１．７．ヒドロキシベンジル化マロネート 例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三
ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオク
タデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプト
エチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）マロネート、ジ〔４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）フェニル〕−２，２−ビ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート。
ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオク
タデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプト
エチル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）マロネート、ジ〔４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）フェニル〕−２，２−ビ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
マロネート。
【００７６】１．８．ヒドロキシベンジル−芳香族炭化
水素 例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベン
ゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベン
ゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）フェノール。
水素 例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベン
ゼン、１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベン
ゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００７７】１．９．トリアジン化合物 例えば２，４−ビスオクチルメルカプト−６−（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，
５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イ
ソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシ
アヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−ト
リアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ
−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，
５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソ
シアヌレート。
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，
５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビ
ス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イ
ソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシ
アヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−ト
リアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ
−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，
５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソ
シアヌレート。
【００７８】１．１０．ベンゾホスホネート 例えばジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４
−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸
モノエチルエステルのＣａ塩。
シベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタ
デシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４
−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸
モノエチルエステルのＣａ塩。
【００７９】１．１１．アシルアミノフェノール 例えばラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン
酸４−ヒドロキシアニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
酸４−ヒドロキシアニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００８０】１．１２．下記の一価又は多価アルコール
を用いたβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
を用いたβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００８１】１．１３．下記の一価又は多価アルコール
を用いたβ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−
メチルフェニル）プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
を用いたβ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−
メチルフェニル）プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００８２】１．１４．下記の一価又は多価アルコール
を用いたβ−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
を用いたβ−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピン酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００８３】１．１５．下記の一価又は多価アルコール
を用いた３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル酢酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
を用いた３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル酢酸エステル 例えばメタノール、エタノール、オクタデカノール、
１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、
エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）蓚酸ジア
ミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノ
ール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプ
ロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，
６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．２〕オクタン。
【００８４】１．１６．β−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸アミド 例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
４−ヒドロキシフェニル）プロピン酸アミド 例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００８５】２．紫外線吸収剤及び光安定剤
【００８６】２．１．２−（２′−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール 例えば５′−メチル−、３′，５′−ジ第三ブチル−、
５′−第三ブチル−、５′−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−、５−クロロ−３′，５′−ジ第三ブ
チル−、５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル
−、３′−第二ブチル−５′−第三ブチル−、４′−オ
クトキシ−、３′，５′−ジ第三アミル−及び３′，
５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−、５−クロ
ロ−３′−第三ブチル−５′−（２−オクチルオキシカ
ルボニルエチル）−及び５−クロロ−３′−第三ブチル
−５′−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニ
ルエチル〕−の混合、５−クロロ−３′−第三ブチル−
５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−、３′−第
三ブチル−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）
−、３′−第三ブチル−５′−（２−オクチルオキシカ
ルボニルエチル）−、３′−第三ブチル−５′−〔２−
（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−、
３′−ドデシル−５′−メチル−及び３′−第三ブチル
−５′−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）
−２′−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル（２）、２，２′−メチレンビス〔４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル−フェノール〕；ポリエチレングリコール
３００を用いた２−〔３′−第三ブチル−５′−（２−
メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒドロキシルフェ
ニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールのエステル交換生成
物；〔Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 〕2 −
（式中、Ｒ＝３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシ−
５′−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ル）。
ル）ベンゾトリアゾール 例えば５′−メチル−、３′，５′−ジ第三ブチル−、
５′−第三ブチル−、５′−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−、５−クロロ−３′，５′−ジ第三ブ
チル−、５−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル
−、３′−第二ブチル−５′−第三ブチル−、４′−オ
クトキシ−、３′，５′−ジ第三アミル−及び３′，
５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−、５−クロ
ロ−３′−第三ブチル−５′−（２−オクチルオキシカ
ルボニルエチル）−及び５−クロロ−３′−第三ブチル
−５′−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニ
ルエチル〕−の混合、５−クロロ−３′−第三ブチル−
５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−、３′−第
三ブチル−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）
−、３′−第三ブチル−５′−（２−オクチルオキシカ
ルボニルエチル）−、３′−第三ブチル−５′−〔２−
（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル〕−、
３′−ドデシル−５′−メチル−及び３′−第三ブチル
−５′−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）
−２′−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル（２）、２，２′−メチレンビス〔４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル−フェノール〕；ポリエチレングリコール
３００を用いた２−〔３′−第三ブチル−５′−（２−
メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒドロキシルフェ
ニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールのエステル交換生成
物；〔Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 〕2 −
（式中、Ｒ＝３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシ−
５′−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェニ
ル）。
【００８７】２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン 例えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキ
シ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベン
ジルオキシ、４，２′，４′−トリヒドロキシ及び２′
−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
シ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベン
ジルオキシ、４，２′，４′−トリヒドロキシ及び２′
−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。
【００８８】２．３．置換及び非置換安息香酸エステル 例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニル
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイ
ル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，
４−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル−３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
サリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイ
ル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，
４−ジ第三ブチルフェニル３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル−３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００８９】２．４．アクリルレート 例えばエチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレ
ート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルア
クリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、
メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナ
メート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ
シンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキ
シシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シ
アノビニル）−２−メチルインドリン。
ート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルア
クリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、
メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナ
メート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ
シンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキ
シシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シ
アノビニル）−２−メチルインドリン。
【００９０】２．５．ニッケル化合物 例えば付加配位子例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノ
ールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミン
を有するか又は有しない、２，２′−チオビス［４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］
のニッケル錯体例えば１：１又は１：２錯体；ニッケル
ジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５
−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステ
ル例えばメチルエステル又はエチルエステルのニッケル
塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェ
ニルウンデシルケトキシムのニッケル塩、付加配位子を
有するか又は有しない、１−フェニル−４−ラウロイル
−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
ールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミン
を有するか又は有しない、２，２′−チオビス［４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］
のニッケル錯体例えば１：１又は１：２錯体；ニッケル
ジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５
−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエステ
ル例えばメチルエステル又はエチルエステルのニッケル
塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェ
ニルウンデシルケトキシムのニッケル塩、付加配位子を
有するか又は有しない、１−フェニル−４−ラウロイル
−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００９１】２．６．立体障害アミン 例えばビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル
−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロ
ネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合生成物、Ｎ、Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリ
アセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイ
ル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネ
ート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチ
ル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−
２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，
６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，
２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合
生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミ
ノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−
１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプ
ロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−
３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，
３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジ
オン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、
３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン。
ル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル
−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロ
ネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合生成物、Ｎ、Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミ
ンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリ
アセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジイ
ル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノ
ン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２
−ヒドロキシ−３，５−ジ第三ブチルベンジル）マロネ
ート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチ
ル−１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−
２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，
３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，
６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，
２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合
生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミ
ノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−
１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプ
ロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−
３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，
３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４−ジ
オン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、
３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン。
【００９２】２．７．蓚酸ジアミド 例えば４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、２，
２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ第三ブチルオキ
サニリド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ
第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプ
ロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチ
ル−２′−エチルオキサニリド及びその２−エトキシ−
２′−エチル−５，４′−ジ第三ブチル−オキサニリド
との混合物並びにオルト−及びパラ−メトキシ−二置換
オキサニリドの混合物並びにオルト−及びパラ−エトキ
シ−二置換オキサニリドの混合物。
２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ第三ブチルオキ
サニリド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ
第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプ
ロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチ
ル−２′−エチルオキサニリド及びその２−エトキシ−
２′−エチル−５，４′−ジ第三ブチル−オキサニリド
との混合物並びにオルト−及びパラ−メトキシ−二置換
オキサニリドの混合物並びにオルト−及びパラ−エトキ
シ−二置換オキサニリドの混合物。
【００９３】２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）
−１，３，５−トリアジン 例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オク
チルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキ
シ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６
−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン。２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニ
ル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロピルオキ
シ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−
１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキ
シ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−
１，３，５−トリアジン。
−１，３，５−トリアジン 例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オク
チルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキ
シ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６
−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン。２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニ
ル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ−プロピルオキ
シ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−
１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシ−プロピルオキ
シ）フェニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−
１，３，５−トリアジン。
【００９４】３．金属不活性化剤 例えばＮ，Ｎ′−ジフェニル蓚酸ジアミド、Ｎ−サリチ
ラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス
（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４
−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサロジヒド
ラジド、オキサニリド、イソフタル酸二無水物、セバシ
ン酸ビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ジアセタール
−アジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス−サリチロ
イル−蓚酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
ラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス
（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４
−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサロジヒド
ラジド、オキサニリド、イソフタル酸二無水物、セバシ
ン酸ビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ジアセタール
−アジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス−サリチロ
イル−蓚酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス−サリチロイ
ル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。
【００９５】４．ホスフィット及びホスホナイト 例えばトリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４
−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホス
フィット、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス−
イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニ
ル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトー
ルジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホ
スフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニ
ル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、６−イ
ソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチ
ル−１２Ｈ−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキ
サホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テト
ラ第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−
１，３，２−ジオキサホスホシン。
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４
−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホス
フィット、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス−
イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４−ジ第三ブチル−６−メチルフェニ
ル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトー
ルジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホ
スフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニ
ル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、６−イ
ソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ第三ブチ
ル−１２Ｈ−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−１，３，２−ジオキ
サホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テト
ラ第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ〔ｄ，ｇ〕−
１，３，２−ジオキサホスホシン。
【００９６】４ａ．ヒドロキシルアミン 例えばジベンジルヒドロキシルアミン、ジオクチルヒド
ロキシルアミン、ジドデシルヒドロキシルアミン、ジテ
トラデシルヒドロキシルアミン、ジヘキサデシルヒドロ
キシルアミン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、１
−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジルベンゾエート又はビス（１−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト。
ロキシルアミン、ジドデシルヒドロキシルアミン、ジテ
トラデシルヒドロキシルアミン、ジヘキサデシルヒドロ
キシルアミン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、１
−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジルベンゾエート又はビス（１−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト。
【００９７】５．過酸化物掃去剤 例えばβ−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリ
ル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、
メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプトベン
ズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメー
ト、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトー
ルテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネー
ト。
ル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、
メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプトベン
ズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメー
ト、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトー
ルテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネー
ト。
【００９８】６．ポリアミド安定剤 例えば、沃化物及び／又は燐化合物及び二価マンガン塩
と組み合わせた銅塩。
と組み合わせた銅塩。
【００９９】７．塩基性補助安定剤 例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカ
ルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウ
ムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウム
リシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピ
ロカテコレート又は亜鉛ピロカテココレート。
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩例えばカ
ルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウ
ムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウム
リシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピ
ロカテコレート又は亜鉛ピロカテココレート。
【０１００】８．核剤 例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニ
ル酢酸。
ル酢酸。
【０１０１】９．充填剤及び強化剤 例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及
び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
ト、タルク、陶土、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及
び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。
【０１０２】１０．その他の添加剤 例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、防
炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。
炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。
【０１０３】本発明の化合物は安定剤、特に写真複写技
術及び例えばリサーチ ディスクロージャー（Research
Disclosure ），１９９０，３１４２９（第４７４ない
し４８０頁）に記載されている様な他の複写技術におい
て知られている殆ど全ての材料のための光安定剤として
使用することができる。
術及び例えばリサーチ ディスクロージャー（Research
Disclosure ），１９９０，３１４２９（第４７４ない
し４８０頁）に記載されている様な他の複写技術におい
て知られている殆ど全ての材料のための光安定剤として
使用することができる。
【０１０４】
【実施例】式（Ｉ）で表わされる化合物の幾つかの製造
例及び用途例を、本発明の更に詳細な説明のために報告
する；これらの例は説明の目的のためのみに与えられ、
そして如何なる限定も意味しない。
例及び用途例を、本発明の更に詳細な説明のために報告
する；これらの例は説明の目的のためのみに与えられ、
そして如何なる限定も意味しない。
【０１０５】実施例１：次式：
【化１４】 で表わされる化合物の製造 トルエン２００ｍｌ中にブチルテトラヒドロフラン−
２，３，４，５−テトラカルボキシレート３５．４ｇ
（０．０７５モル）、２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジノール５０．３ｇ（０．３２モル）及びチ
タン（ＩＶ）イソプロポキシド１ｍｌを含む溶液を６時
間還流下で加熱し、溶媒及び反応中に遊離したブタノー
ルをゆっくり留去する。
２，３，４，５−テトラカルボキシレート３５．４ｇ
（０．０７５モル）、２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジノール５０．３ｇ（０．３２モル）及びチ
タン（ＩＶ）イソプロポキシド１ｍｌを含む溶液を６時
間還流下で加熱し、溶媒及び反応中に遊離したブタノー
ルをゆっくり留去する。
【０１０６】室温に冷却後、トルエン１００ｍｌを用い
て反応混合物を希釈し、水を用いて洗浄し、次いでＮａ
2 ＳＯ4 上で脱水する。
て反応混合物を希釈し、水を用いて洗浄し、次いでＮａ
2 ＳＯ4 上で脱水する。
【０１０７】次いで溶媒を真空中で除去し、次いで残部
をイソプロピルエーテルから結晶化させる。得られた生
成物は６２−６４℃の融点を有する。
をイソプロピルエーテルから結晶化させる。得られた生
成物は６２−６４℃の融点を有する。
【０１０８】Ｃ44Ｈ76Ｎ4 Ｏ9 に対する分析値： 計算値：Ｃ＝６５．６４％；Ｈ＝９．５１％；Ｎ＝６．
９６％ 測定値：Ｃ＝６５．４７％；Ｈ＝９．５１％；Ｎ＝６．
９３％
９６％ 測定値：Ｃ＝６５．４７％；Ｈ＝９．５１％；Ｎ＝６．
９３％
【０１０９】実施例２：下記の如く実施例１に記載した
方法により、しかし２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジノールの代わりに１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ピペリジノールを使用して、１４０−１
４２℃の融点（４：１アセトニトリル／水混合物から結
晶化）を有する次式：
方法により、しかし２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジノールの代わりに１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ピペリジノールを使用して、１４０−１
４２℃の融点（４：１アセトニトリル／水混合物から結
晶化）を有する次式：
【化１５】 で表わされる化合物を得る。
【０１１０】Ｃ48Ｈ84Ｎ4 Ｏ9 に対する分析値： 計算値：Ｃ＝６６．９４％；Ｈ＝９．８３％；Ｎ＝６．
５１％ 測定値：Ｃ＝６６．８６％；Ｈ＝９．７７％；Ｎ＝６．
４５％
５１％ 測定値：Ｃ＝６６．８６％；Ｈ＝９．７７％；Ｎ＝６．
４５％
【０１１１】実施例３：次式：
【化１６】 で表わされる化合物の製造 ブチルテトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカ
ルボキシレート３５．４ｇ（０．０７５モル）、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンアミン９
３．８ｇ（０．６モル）及びチタン（ＩＶ）イソプロポ
キシド１ｍｌを含む混合物を１３０℃で８時間加熱し、
反応中に生成したブタノールを除去する。
ルボキシレート３５．４ｇ（０．０７５モル）、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンアミン９
３．８ｇ（０．６モル）及びチタン（ＩＶ）イソプロポ
キシド１ｍｌを含む混合物を１３０℃で８時間加熱し、
反応中に生成したブタノールを除去する。
【０１１２】室温に冷却後、ジクロロメタン７０ｍｌを
添加し、次いでこの混合物を２，３分間還流下で加熱す
る。
添加し、次いでこの混合物を２，３分間還流下で加熱す
る。
【０１１３】冷却の結果生成した沈澱を濾過によって分
離し、次いでアセトニトリル１００ｍｌを用いて洗浄
し、次いでトルエンから結晶化する。得られた生成物は
２５０−２５２℃の融点を有する。
離し、次いでアセトニトリル１００ｍｌを用いて洗浄
し、次いでトルエンから結晶化する。得られた生成物は
２５０−２５２℃の融点を有する。
【０１１４】Ｃ44Ｈ80Ｎ8 Ｏ5 に対する分析値： 計算値：Ｃ＝６５．９６％；Ｈ＝１０．０６％；Ｎ＝１
３．９９％ 測定値：Ｃ＝６５．７２％；Ｈ＝１０．０１％；Ｎ＝１
３．８３％
３．９９％ 測定値：Ｃ＝６５．７２％；Ｈ＝１０．０１％；Ｎ＝１
３．８３％
【０１１５】実施例４：下記の如く実施例３に記載した
方法により、しかし２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジンアミンの代わりに１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジンアミンを使用して、２４２
−２４４℃の融点（ヘキサンから結晶化）を有する次
式：
方法により、しかし２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジンアミンの代わりに１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジンアミンを使用して、２４２
−２４４℃の融点（ヘキサンから結晶化）を有する次
式：
【化１７】 で表わされる化合物を得る。
【０１１６】Ｃ48Ｈ88Ｎ8 Ｏ9 に対する分析値： 計算値：Ｃ＝６７．２５％；Ｈ＝１０．３５％；Ｎ＝１
３．０７％ 測定値：Ｃ＝６６．９８％；Ｈ＝１０．３４％；Ｎ＝１
３．０４％
３．０７％ 測定値：Ｃ＝６６．９８％；Ｈ＝１０．３４％；Ｎ＝１
３．０４％
【０１１７】実施例５：次式：
【化１８】 で表わされる化合物の製造 ２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンアミン
３１．３ｇ（０．２モル）を３５℃を越えることなく、
ジメチルホルムアミド１５０ｍｌ中のテトラヒドロフラ
ン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物２１．
２ｇ（０．１モル）の溶液に１時間かけて添加する。
３１．３ｇ（０．２モル）を３５℃を越えることなく、
ジメチルホルムアミド１５０ｍｌ中のテトラヒドロフラ
ン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物２１．
２ｇ（０．１モル）の溶液に１時間かけて添加する。
【０１１８】添加終了後、この混合物を室温で２時間攪
拌し、次いで生成した沈澱を濾過によって分離し、次い
でアセトンを用いて洗浄する。無水酢酸４００ｍｌ及び
トリエチルアミン４０．５ｇ（０．４モル）を生成物に
添加し、次いで混合物を７５℃で５時間加熱する。
拌し、次いで生成した沈澱を濾過によって分離し、次い
でアセトンを用いて洗浄する。無水酢酸４００ｍｌ及び
トリエチルアミン４０．５ｇ（０．４モル）を生成物に
添加し、次いで混合物を７５℃で５時間加熱する。
【０１１９】反応中に沈澱が生成し、室温に冷却後、こ
の沈澱を濾過によって分離し、次いでアセトンを用いて
洗浄し、そして最後にジメチルホルムアミドから結晶化
させる。この生成物は＞３１０℃の融点を有する。
の沈澱を濾過によって分離し、次いでアセトンを用いて
洗浄し、そして最後にジメチルホルムアミドから結晶化
させる。この生成物は＞３１０℃の融点を有する。
【０１２０】Ｃ26Ｈ40Ｎ4 Ｏ5 に対する分析値： 計算値：Ｃ＝６３．９１％；Ｈ＝８．２５％；Ｎ＝１
１．４７％ 測定値：Ｃ＝６３．５３％；Ｈ＝８．１２％；Ｎ＝１
１．２９％
１．４７％ 測定値：Ｃ＝６３．５３％；Ｈ＝８．１２％；Ｎ＝１
１．２９％
【０１２１】実施例６：ポリプロピレンテープ中の光安
定化作用 表１に示す化合物各１ｇ、トリス（２，４−ジ第三ブチ
ルフェニル）ホスフィット１ｇ、ペンタエリトリトール
テトラキス−３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート０．５ｇ及びステアリン
酸カルシウム１ｇを、メルトインデックス＝２ｇ／１０
分（２３０℃及び２．１６ｋｇで測定）のポリプロピレ
ン粉末１０００ｇとともに低速ミキサー中で混合する。
定化作用 表１に示す化合物各１ｇ、トリス（２，４−ジ第三ブチ
ルフェニル）ホスフィット１ｇ、ペンタエリトリトール
テトラキス−３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート０．５ｇ及びステアリン
酸カルシウム１ｇを、メルトインデックス＝２ｇ／１０
分（２３０℃及び２．１６ｋｇで測定）のポリプロピレ
ン粉末１０００ｇとともに低速ミキサー中で混合する。
【０１２２】この混合物を２００−２２０℃で押し出し
てポリマー顆粒を得、次いでこれを下記条件下： 押出機温度 ： ２１０−２３０℃ ヘッド温度 ： ２４０−２６０℃ 延伸比 ： １：６ で操作されるパイロット型装置〔商標名：レオナルド−
スミラゴ（Leonard-Sumirago（ＶＡ）イタリー〕を使用
して、厚さ５０μｍ、幅２．５ｍｍの延伸テープに変え
る。
てポリマー顆粒を得、次いでこれを下記条件下： 押出機温度 ： ２１０−２３０℃ ヘッド温度 ： ２４０−２６０℃ 延伸比 ： １：６ で操作されるパイロット型装置〔商標名：レオナルド−
スミラゴ（Leonard-Sumirago（ＶＡ）イタリー〕を使用
して、厚さ５０μｍ、幅２．５ｍｍの延伸テープに変え
る。
【０１２３】こうして製造したテープをホワイトカード
上に固定し、ブラックパネル温度６３℃で６５ＷＲウェ
ザロメーター（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８５）中で暴露
する。
上に固定し、ブラックパネル温度６３℃で６５ＷＲウェ
ザロメーター（ＡＳＴＭ Ｄ２５６５−８５）中で暴露
する。
【０１２４】残部靭性を、定速張力計の手段によって種
々の時間光に暴露した後の試料に関して測定する；次い
で、初期靭性を半減させるために必要な暴露時間
（Ｔ50）を計算する。
々の時間光に暴露した後の試料に関して測定する；次い
で、初期靭性を半減させるために必要な暴露時間
（Ｔ50）を計算する。
【０１２５】上記と同一条件下であるが、しかし本発明
の化合物を添加することなく製造したテープを比較のた
めに暴露する。表１に結果を示す。
の化合物を添加することなく製造したテープを比較のた
めに暴露する。表１に結果を示す。
【０１２６】
【表１】 表１安定剤 Ｔ50（時間） 安定剤なし ４４０ 実施例１で製造した化合物 ３１５０ 実施例２で製造した化合物 ３４８０
【０１２７】実施例７：ポリプロピレンプラックにおけ
る酸化防止作用 表２に示す化合物１ｇ、オクタデシル３−（３，５−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート
０．５ｇ、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホ
スフィット１ｇ及びステアリン酸カルシウム１ｇをメル
トインデックス＝２．１ｇ／１０分（２３０℃及び２．
１６ｋｇで測定）のポリプロピレン粉末１０００ｇとと
もに低速ミキサー中で混合する。
る酸化防止作用 表２に示す化合物１ｇ、オクタデシル３−（３，５−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート
０．５ｇ、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホ
スフィット１ｇ及びステアリン酸カルシウム１ｇをメル
トインデックス＝２．１ｇ／１０分（２３０℃及び２．
１６ｋｇで測定）のポリプロピレン粉末１０００ｇとと
もに低速ミキサー中で混合する。
【０１２８】前記混合物を２００−２２０℃で２回押し
出してポリマー顆粒を得、次いでこれを２３０℃で６分
間圧縮成形することによって１ｍｍ厚のプラックに変え
る。
出してポリマー顆粒を得、次いでこれを２３０℃で６分
間圧縮成形することによって１ｍｍ厚のプラックに変え
る。
【０１２９】次いで、このプラックをＤＩＮ５３４５１
成形型の手段によって打抜き、次いで得られた試験片を
１３５℃の温度に保持した強制循環空気オーブン中で暴
露する。
成形型の手段によって打抜き、次いで得られた試験片を
１３５℃の温度に保持した強制循環空気オーブン中で暴
露する。
【０１３０】破壊を生じさせるために必要な時間（時間
による）を決定するために、１８０℃で前記試験片を折
り畳むことによって間隔毎に試験する。
による）を決定するために、１８０℃で前記試験片を折
り畳むことによって間隔毎に試験する。
【０１３１】上記と同一条件下で、しかし本発明の化合
物を添加することなく製造した試験片を比較のために暴
露する。表２に結果を示す。
物を添加することなく製造した試験片を比較のために暴
露する。表２に結果を示す。
【０１３２】
【表２】 表２安定剤 破壊までの時間（時
間による） 安定剤なし ６００ 実施例２で製造した化合物 １７６０
間による） 安定剤なし ６００ 実施例２で製造した化合物 １７６０
【化７】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 グラジアノ ザグノリ イタリー国，40038 ヴェルガト−ボロー ニャ，ヴィア フォルナシ，77
Claims (12)
- 【請求項１】 次式（Ｉ）： 【化１】 〔〔式中、同一又は異なってよいＸ及びＹは次式（ＩＩ
ａ）又は（ＩＩｂ）： 【化２】 〔式中、Ｒ1 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、Ｏ・基、ＯＨ基、ＮＯ基、ＣＨ2 ＣＮ基、炭素
原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ない
し１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３ないし６の
アルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキ
ル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基によりフェニル環上を一，二若しくは三置換され
ている）；又は炭素原子数１ないし８のアシル基を表わ
し、そしてＲ2 は水素原子、炭素原子数１ないし１８の
アルキル基、炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭
素原子数２ないし４のアルキル基（（これは、炭素原子
数１ないし８のアルコキシ基により、ジ（炭素原子数１
ないし４のアルキル）アミノ基により又は窒素原子上に
遊離原子価を有する５ないし７員窒素含有複素環基によ
り２，３又は４位を置換されている））；炭素原子数５
ないし１２のシクロアルキル基（これは、非置換又は炭
素原子数１ないし４のアルキル基により一，二若しくは
三置換されている）；炭素原子数７ないし９のフェニル
アルキル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４
のアルキル基によりフェニル環上を一，二若しくは三置
換されている）；テトラヒドロフルフリル基又は次式
（ＩＩＩ）： 【化３】 （式中、Ｒ1 は上記において定義されたものと同じ意味
を表わす）で表わされるテトラヒドロフルフリル基を表
わす〕で表わされる基を表わすか、或いは２個の基Ｘ、
２個の基Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ
−Ｒ〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わ
す〕を表わす〕〕で表わされる化合物。 - 【請求項２】 式中、Ｒ1 が水素原子、炭素原子数１な
いし４のアルキル基、ＯＨ基、炭素原子数６ないし１２
のアルコキシ基、炭素原子数５ないし８のシクロアルコ
キシ基、アリル基、ベンジル基又はアセチル基を表わす
請求項１記載の式（Ｉ）で表わされる化合物。 - 【請求項３】 式中、同一又は異なってよいＸ及びＹが
式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）〔式中、Ｒ2 は水素原子、
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２又
は３のアルキル基（（これは、炭素原子数１ないし４の
アルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ないし４のアル
キル）アミノ基により又は１−ピロリジル基、１−ピペ
リジル基又は４−モルホリニル基により２又は３位を置
換されている））；炭素原子数５ないし８のシクロアル
キル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４のア
ルキル基により一，二若しくは三置換されている）；ベ
ンジル基（これは、非置換又は炭素原子数１ないし４の
アルキル基により一，二若しくは三置換されている）；
テトラヒドロフルフリル基又は式（ＩＩＩ）で表わされ
る基を表わす〕で表わされる基を表わすか、或いは２個
の基Ｘ、２個の基Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になっ
て基＞Ｎ−Ｒ〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基
を表わす〕を表わす請求項１記載の式（Ｉ）で表わされ
る化合物。 - 【請求項４】 式中、同一又は異なってよいＸ及びＹが
式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）〔式中、Ｒ2 は水素原子、
炭素原子数１ないし１０のアルキル基、炭素原子数２又
は３のアルキル基（これは、メトキシ基により、エトキ
シ基により、ジメチルアミノ基により、ジエチルアミノ
基により又は４−モルホリニル基により２又は３位を置
換されている）；シクロヘキシル基（これは、非置換又
は炭素原子数１ないし４のアルキル基により一，二若し
くは三置換されている）；ベンジル基、テトラヒドロフ
ルフリル基又は式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕
で表わされる基を表わすか、或いは２個の基Ｘ、２個の
基Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒ
〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕を
表わす請求項１記載の式（Ｉ）で表わされる化合物。 - 【請求項５】 式中、同一又は異なってよいＸ及びＹが
式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）〔式中、Ｒ2 は水素原子、
炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基又は式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わ
す〕で表わされる基を表わすか、或いは２個の基Ｘ、２
個の基Ｙ又は基ＸとＹは、各々、一緒になって基＞Ｎ−
Ｒ〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕
を表わす請求項１記載の式（Ｉ）で表わされる化合物。 - 【請求項６】 式中、Ｘ及びＹが式（ＩＩａ）又は（Ｉ
Ｉｂ）〔式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を表わし、
Ｒ2 は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基
を表わす〕で表わされる基を表わすか、或いは２個の基
Ｘ及び２個の基Ｙは、各々、一緒になって基＞Ｎ−Ｒ
〔式中、Ｒは式（ＩＩＩ）で表わされる基を表わす〕を
表わす請求項１記載の式（Ｉ）で表わされる化合物。 - 【請求項７】 次式： 【化４】 で表わされる請求項１記載の式（Ｉ）で表わされる化合
物。 - 【請求項８】 光、熱及び酸化によって誘起される分解
を受け易い有機材料と少なくとも１種の請求項１記載の
式（Ｉ）で表わされる化合物とからなる組成物。 - 【請求項９】 有機材料が合成ポリマーである請求項８
記載の組成物。 - 【請求項１０】 式（Ｉ）で表わされる化合物に加え
て、合成ポリマーのための他の添加剤を含む請求項９記
載の組成物。 - 【請求項１１】 有機材料がポリオレフィンである請求
項８記載の組成物。 - 【請求項１２】 有機材料がポリエチレン又はポリプロ
ピレンある請求項８記載の組成物。
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