JPH0465097B2

JPH0465097B2 -

Info

Publication number: JPH0465097B2
Application number: JP57182014A
Authority: JP
Inventors: Gugumyu Furansoa
Original assignee: Ciba Geigy AG
Current assignee: Novartis AG
Priority date: 1981-10-16
Filing date: 1982-10-16
Publication date: 1992-10-19
Also published as: EP0080431A3; DE3273474D1; HK60489A; EP0080431B1; JPS5879033A; CA1190038A; EP0080431A2; SG20689G; US4692486A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は有機材料の安定剤組成物としての低分
子量および高分子量ポリアルキルピペリジンの組
合せに関するものである。従来低分子量ポリアルキルピペリジンは、多く
の刊行物に光安定剤として記載されている。例え
ば次の一般式：（式中、ｎは１ないし３の数を表わし、Ｒは一価
ないし３価の炭化水素基を表わす。）で表わされる重要な種類の立体障害ピレリジン
は、米国特許第4038280号明細書に開示されてい
る。近年、光安定剤として適する種々の高分子量ポ
リアルキルピペリジンも報告されている。例えば
米国特許第4233412号明細書には立体障害ピペリ
ジン基を有する縮合および付加重合体が開示さ
れ、米国特許第4210612号明細書には立体障害ピ
ペリジン基を有するポリアクリレートが開示し
れ、そして米国特許第4806204号明細書には立体
障害ピペリジン基を有するトリアジンポリマーが
開示されている。さらに、一方の成分が立体障害ピペリジンで、
多方の成分が例えば従来知られたUV吸収剤であ
る相乗効果を有する混合物を見出すための試みも
なされている。この種の混合物は、例えば米国特
許第4110304号明細書により知られており、該明
細書には低分子量ポリアルキルピペリジンとベン
ゾフエノン類、ベンゾトリアゾール類、修散ジア
ニリド類またはサリチル酸誘導体との混合物が開
示されている。本発明者は、低分子量および高分子量ポリアル
キルピペリジンの混合物が、光安定化作用に関し
て顕著な相乗効果を奏することを見出した。この
光安定化作用の増加は当業者が予期し得なかつた
ものである。何故ならば、この作用は作用原理が
同じで分子量の相違のみで区別される光安定剤の
組合せによるからである。従来の相乗効果を奏す
る混合物は、例えばフエノール系酸化防止剤およ
びいわゆるチオシネルジスト剤に知られるよう
に、構造および作用が大きく異なる物質よりな
る。本発明は (A) 次式（Ａ−１）ないし（Ａ−12）： R₁−OC(O)−（CH₂）₈−Ｃ(O)Ｏ−R₁ （Ａ−１）、 R₂−OC(O)−（CH₂）₈−Ｃ(O)OR₂ （Ａ−２）、 R₁−NH−（CH₂）₆−NH−R₁ （Ａ−３）、 R₂−OCH₂CH＝CHCH₂−Ｏ−R₂ （Ａ−４）、 R₁−OC(O)−Ｎ（R₁）−（CH₂）₆ −Ｎ（R₁）Ｃ(O)Ｏ−R₁ （Ａ−５）、 R₁−Ｏ−Si（CH₃）₂−Ｏ−R₁ （Ａ−６）、 R₁−NH−Ｃ(O)−（CH₂）₈−Ｃ(O) −NH−R₁ （Ａ−12）、（上記各式中、 R₁は次式：で表わされる基を表わし、 R₂は次式：で表わされる基を表わし、 R₃は次式：で表わされる基を表わす。）で表わされる化合物よりなる群から選ばれた低
分子量の立体障害ポリアルキルピペリジンおよ
び (B) 次式（Ｂ−１）ないし（Ｂ−８）： ―〔CH（COO−R₂）−CH₂―〕（重合度５−100、好ましくは５−50、特に10
−25）（Ｂ−１） ―〔Ｎ（R₁）−（CH₂）₆−Ｎ（R₁）−（CH₂）―（（重合度５−50、好ましくは５−25、特に５−
15）（Ｂ−２） ―〔CH （COO−R₁）（）−CH₂―〕 ―〔CH₂−CH₂―〕（）
（Ｂ−３）（：のモル比＝１：10〜１：20分子量
10000ないし30000） ―〔Ｎ（R₁）−（CH₂）₆−Ｎ（R₁）−Ｃ(O) −（CH₂）₄−Ｃ(O)―〕（重合度５−50、好ましくは５−25、特に５−
15）（Ｂ−６）で表わされる繰返しの単位の１つを有する化合
物および次式（Ｂ−10）： R₄NH（CH₂）₃−Ｎ（R₄）−（CH₂）₂ −Ｎ（R₄）−（CH₂）₃−NHR₄ （Ｂ−10）（式（Ｂ−１）ないし（Ｂ−８）および（Ｂ−
10）中、 R₁およびR₂は前記の意味を表わし、 R₄は次式：で表わされる基を表わす。）で表わされる化合物よりなる群から選ばれた高分
子量立体障害ポリアルキルペリジンよりなる安定
剤組成物に関する。成分(A)のうち、（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−
５）、（Ａ−７）、（Ａ−８）、（Ａ−10）および（Ａ
−11）の化合物、特に（Ａ−１）、（Ａ−５）、（Ａ
−８）、（Ａ−10）および（Ａ−11）の化合物が好
ましい。成分(B)のうち、（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、（Ｂ−
３）、（Ｂ−４）、（Ｂ−５）、（Ｂ−６）および（Ｂ
−10）の化合物が特に好ましい。成分(A)および(B)よりなる混合物の一般的特徴
は、成分(A)が成分(B)に比して著しく分子量が小さ
いこと、および成分(A)および(B)の全化合物がポリ
アルキルピペリジン誘導体であり、したがつて例
えばR₁、R₂、R₃またはR₄で表わされる基の１つ
を有することである。成分(A)および(B)の化合物は公知であり公知の方
法で製造できる。成分(A)：(B)の割合は広い範囲で選択できる。し
かしながら、相乗効果は成分(A)：(B)の割合が10：
１ないし１：10、好ましくは５：１ないし１：
５、そして特に１：２ないし２：１の混合物にお
いて著しい。成分(A)および(B)の化合物は、保護すべき物質に
対して合計濃度0.01ないし５重量％の量で有機材
料に添加される。好ましくは0.03ないし1.5重量
％、そして特に0.2ないし0.6重量％混入すること
が好ましい。混入は重合前に行うか、または重合後に、例え
ば化合物および適当であれば他の添加剤をプラス
チツク技術分野で慣用の方法により成形工程前ま
たは成形工程中に溶融物中に混合するか、または
溶解もしくは分散した化合物をポリマー上に適用
し、必要であれば次いで溶媒を蒸発させることに
よつて行なつてもよい。成分(A)および(B)の化合物は、安定化すべき物質
中に、これらの化合物を例えば2.5ないし25重量
％含有するマスターバツチの形で添加することも
できる。架橋ポリエチレンの場合には、架橋工程前に化
合物を添加することもできる。成分(A)の化合物１種もしくはそれ以上および成
分(B)の化合物１種もしくはそれ以上よりなる化合
物は、有機材料を酸素、熱および光による劣化に
対して安定化するために適する。次に示すものは
こうして安定化される有機材料の例である：１モノオレフイン及びジオレフインのポリマ
ー、例えばポリエチレン（必要に応じて架橋さ
れていてもよい）、ポリプロピレン、ポリイソ
ブチレン、ポリブト−１−エン、ポリメチルペ
ント−１−エン、ポリイソプレンまたはポリブ
タジエン、及びシクロオレフイン、例えばシク
ロペンテン若しくはノルボルネンのポリマー。２前記(1)に挙げたポリマーの混合物、例えばポ
リプロピレンとポリエチレンまたはポリイソブ
チレンとの混合物。３モノオレフイン及びジオレフインの相互のコ
ポリマーまたは他のビニルモノマーとのコポリ
マー、例えばエチレン／プロピレンコポリマ
ー、プロピレン、ブト−１−エンコポリマー、
プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレ
ン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／
ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソブ
チレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリ
レートコポリマー、エチレン／アルキルメタク
リレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコ
ポリマー、またはエチレン／アクリル酸コポリ
マー及びその塩（イオノマー）、並びにエチレ
ンとプロピレン及びジエン、例えばヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノ
ルポルネンとのターポリマー。４ポリスチレン。５スチレンまたはα−メチルスチレンとジエン
またはアクリル誘導体とのコポリマー、例えば
スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニ
トリル、スチレン／メタクリル酸エチル、スチ
レン／ブタジエン／アクリル酸エチル、スチレ
ン／アクリロニトリル／アクリル酸メチル；ス
チレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリ
アククリレート、ジエンポリマーまたはエチレ
ン／プロピレン／ジエンターポリマーとから得
られた衝撃強度の高い混合物：及びスチレンの
ブロツクコポリマー、例えばスチレン／ブタジ
エン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチ
レン、スチレン／エチレン−ブチレン／スチレ
ン、またはスチレン−エチレン／プロピレン−
スチレンのブロツクコポリマー。６スチレンのグラフトコポリマー、例えばスチ
レンとポリブタジエン、スチレン及びアクリロ
ニトリルとポリブタンジエン、スチレン及びマ
レイン酸無水物とポリブタジエン、スチレン及
びアクリル酸アルキルまたはメタクリル酸アル
キルとポリブタジエン、スチレン及びアクリロ
ニトリルとエチレン−プロピレン−ジエンタ−
ポリマー、スチレン及びアクリロニトリルとポ
リアルキルアクリレートまたはポリアルキルメ
タクリレート、スチレン及びアクリロニトリル
とアクリレート−ブタジエンコポリマーのよう
なグラフトコポリマー、及びこれらと(5)に列挙
したコポリマーとの混合物、例えばABS、
MBS、ASAまたはAESポリマーとして知られ
ている混合物。７ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロブ
レン、塩素化ゴム、塩発化若しくはクロロスル
ホン化ポリエチレン、エピクロロヒドリンホモ
ポリマーおよびコポリマー、特にハロゲン含有
ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポ
リ弗化ビニリデン及びこれらのコポリマー、例
えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニ
ル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビ
ニルコポリマー。８ α，β−不飽和酸及びその誘導体から誘導さ
れたポリマー、例えばポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポ
リアクリロニトリル。９前記(8)に挙げたモノマー相互のまたは他の不
飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロ
ニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニ
トリル／アルキルアクリレートコポリマー、ア
クリロニトリル／アルコキシアクリレートコポ
リマー、アクリロニトリル／ハロンゲン化ビニ
ルコポリマーまたはアクリロニトリル／アルキ
ルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。 10 不飽和アルコール及びアミンまたはそのアシ
ル誘導体またはアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニル
ベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビ
ニルブチラール、ポリアリルフタレート、ポリ
アリルメラミン。 11 環状エーテルのホモポリマー及びコポリマ
ー、例えばポリエチレングリコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたは
これらとビス−グリシジルエーテルとのコポリ
マー。 12 ポリアセタール、例えばポリオキシメチレ
ン、及びコモノマー、例えばエチレンオキシド
を含むポリオキシメチレン。 13 ポリフエニレンオキシド及びスルフイド。 14 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポ
リエーテル、ポリエステル及びポリブタジエン
と他方の成分として樹脂族または芳香族ポリイ
ソシアネートから誘導されたポリウレタン及び
その駆動物質（ポリイソシアネート、ポリオー
ル及びプレポリマー）。 15 ジアミン及びジカルボン酸及び／またはアミ
ノカルボン酸または相当するラクタムから誘導
されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポ
リアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／
６、ポリアミド６／10、ポリアミド11、ポリア
ミド12、ポリ−２，４，４−トリメチルヘキサ
メチレンテレフタルアミド、ポリ−ｍ−フエニ
レンイソフタルアミド、及びこれらとポリエー
テル、例えばポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコールまたはポリテトラメチレン
グリコールとのコポリマー。 16 ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミドイミ
ド。 17 ジカルボン酸及びジオール及び／またはヒド
ロキシカルボン酸または相当するラクトンから
誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート
及びポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサ
ンテレフタレート、ポリ−〔２，２−ビス−（４
−ヒドロキシフエニル）プロバン〕テレフタレ
ートまたはポリヒドロキシベンゾエート及び更
にヒドロキシ末端基を有するポリエチレン、ジ
アルコール及びジカルボン酸から誘導されたブ
ロツクポリエーテルエステル。 18 ポリカーボネート。 19 ポリスルホン及びポリエーテルスルホン。 20 一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分
としてフエノール、尿素またはメラミンから誘
導された架橋ポリマー、例えばフエノール−ホ
ルムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド
樹脂及びメラミン−ホルムアルデヒド樹脂。 21 乾性及び不乾性アルキド樹脂。 22 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコー
ル及び架橋剤としてのビニル化合物とのコポリ
エステルから誘導された不飽和ポリエステル樹
脂並びに燃焼性の低いハロゲン含有変性物。 23 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシア
クリレート、ウレタン／アクリレートまたはポ
リエステル／アクリレートから誘導された架橋
性アクリル樹脂。 24 メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネー
トまたはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。 25 ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエ
ーテル、または脂環式ジエポキシドから誘導さ
れた架橋エポキシ樹脂。 26 天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム
及びゼラチン、並びにこれらの化学的に変性さ
れた重合同族体誘導体、例えば酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース及び酪酸セルロー
ス、及びセルロースエーテル、例えばメチルセ
ルロース。このようにして安定化される有機材料は、好ま
しくは有機ポリマーであり、非常に多様の形、例
えば成形品、フイルム、フアイバー、フオーム、
プロフイールまたは塗装剤として、あるいはラツ
カー、接着剤またはパテの結合剤として使用でき
る。本発明の安定剤組成物は、他の添加剤を慣用濃
度で併用してもよい。そのような添加剤の例とし
て次のものがあげられる：１酸化防止剤 1.1 アルキル化モノフエノール２，６−ジ−第３ブチル−４−メチルフエ
ノール、２−第３ブチル−４，６−ジメチル
フエノール、２，６−ジ−第３ブチル−４−
エチルフエノール、２，６−ジ−第３ブチル
−４−ｎ−ブチルフエノール、２，６−ジ−
第３ブチル−４−イソブチルフエノール、
２，６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフ
エノール、２−（α−メチル−シクロヘキシ
ル）−４，６−ジメチルフエノール、２，６
−ジ−オクタデシル−４−メチルフエノー
ル、２，４，６−トリ−シクロヘキシルフエ
ノールおよび２，６−ジ−第３ブチル−４−
メトキシメチルフエノール。 1.2 アルキル化ハイドロキノン２，６−ジ−第３ブチル−４−メトキシフ
エノール、２，５−ジ−第３ブチルハイドロ
キノンおよび２，５−ジ−第３アミルハイド
ロキノン。 1.3 ヒドロキシル化チオジフエニルエーテ
ル２，2′−チオ−ビス−（６−第３ブチル−
４−メチルフエノール）、２，2′−チオ−ビ
ス−（４−オクチルフエノール）、４，4′−チ
オ−ビス−（６−第３ブチル−３−メチルフ
エノール）および４，4′−チオ−ビス−（６
−第３ブチル−２−メチルフエノール）。 1.4 アルキリデン−ビス−フエノール２，2′−メチレン−ビス−（６−第３ブチ
ル−４−メチルフエノール）、２，2′−メチ
レン−ビス−（６−第３ブチル−４−エチル
フエノール）、２，2′−メチレン−ビス−〔４
−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）
−フエノール〕、２，2′−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−シクロヘキシルフエノー
ル）、２，2′−メチレン−ビス−（６−ノニル
−４−メチルフエノール）、２，2′−メチレ
ン−ビス−（４，６−ジ−第３ブチルフエノ
ール）、２，2′−エチリデン−ビス−（４，６
−ジ−第３ブチルフエノール）、２，2′−エ
チリデン−ビス−（６−第３ブチル−４−イ
ソブチルフエノール）、４，4′−メチレン−
ビス−（２，６−第３ブチルフエノール）、
４，4′−メチレン−ビス−（６−第３ブチル
−２−メチルフエノール）、１，１−ビス−
（５−第３ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフエノール）−ブタン、２，６−ジ−（３
−第３ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフエノール、１，１，
３−トリス−（５−第３ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフエノール）−ブタン、１，
１−ビス−（５−第３ブチル−４−ヒドロキ
シ−２−メチルフエニル）−３−ｎ−トデシ
ルメルカプトブタン、エチレングリコール
ビス−〔３，３−ビス−（3′−第３ブチル−
4′−ヒドロキシフエニル）−ブチラート、ジ
−（３−第３ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフエニル）−ジシクロペンタジエンお
よびジ−〔２−（3′−第３ブチル−2′−ヒドロ
キシ−5′−メチル−ベンジル）−６−第３ブ
チル−４−メチル−フエニル〕テレフタレー
ト。 1.5 ベンジル化合物１，３，５−トリ−（３，５−ジ−第３ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，
６−トリメチルベンゼン、ジ−（３，５−ジ
−第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ス
ルフイド、イソオクチル３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプ
トアセテート、ビス−（４−第３ブチル−３
−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）
−ジチオールテレフタレート、１，３，５
−トリス−（３，５−ジ−第３ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス−（４−第３ブチル−３
−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）
イソシアヌレート、ジオクタデシル、３，５
−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル
−ホスホネートおよびモノエチル３，５−
ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル−
ホスホネエートのカルシウム塩。１６アシルアミノフエノール４−ヒドロキシ−ラウリル酸アニリド、４
−ヒドロキシ−ステアリン酸アニリドおよび
２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−
（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
アニリノ）−ｓ−トリアジン。 1.7 β−（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロ
キシフエニル）プロピオン酸のエステル一価もしくは多価アルコール、例えばメタ
ノール、オクタデカノール、ヘキサン−１，
６−ジオール、ネオベンチルグリコール、チ
オジエチレン、グリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエ
リトリトール、トリス−ヒドロキシエチル
イソシアヌレートおよびジヒドロキシエチル
−修酸ジアミドとのエステル。 1.8 β−（５−第３ブチル−４−ヒドロキシ−３
−メチルフエニル）プロピオン酸のエステル一価もしくは多価アルコール、例えばメタ
ノール、オクタデカノール、ヘキサン−１，
６−ジオール、ネオペンチルグリコール、チ
オジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリ
トリトール、トリス−ヒドロキシエチルイ
ソシアヌレートおよびジヒドロキシエチル−
修酸ジアミドとのエステル。 1.9 β−（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロ
キシフエニル）プロピオン酸アミド例えばＮ，N′−ジ−（３，５−ジ−第３ブ
チル−４−ヒドロキシフエニルプロピオニ
ル）−ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，N′−ジ
−（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキ
シフエニルプロピオニル）−トリメチレンジ
アミンおよびＮ，N′−ジ−（３，５−ジ−第
３ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロピオ
ニル）ヒドラジン。２紫外線吸収剤および光安定剤 2.1 ２−（2′−ヒドロキシフエニル）ベンゾトリ
アゾール例えば5′−メチル；３，5′−ジ−第３ブチ
ル；5′−第３ブチル；5′−（１，１，３，３
−テトラメチルブチル）；５−クロル−3′，
5′−ジ−第３ブチル；５−クロル−3′−第３
ブチル−5′−メチル；3′−第２ブチル−5′−
第３ブチル；4′−オクトキシおよび3′，5′−
ジ−第３アミル誘導体。 2.2 ２−ヒドロキシベンゾフエノン例えば、４−ヒドロキシ；４−メトキシ；
４−オクトキシ；４−デシルオキシ；４−ド
デシルオキシ；４−ベンジルオキシ；４，
2′，4′−トリヒドロキシおよび2′−ヒドロキ
シ−４，4′−ジメトキシ誘導体。 2.3 置換もしくは非置換安息香酸のエステル例えば、４−第３ブチル−フエニルサリチ
レート、フエニルサリチレート、オクチルフ
エニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシ
ノール，ビス−（４−第３ブチルベンゾイル）
−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノー
ルおよび２，４−ジ−第３ブチルフエニル−
３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート。 2.4 アクリレート例えば、エチルもしくはイソオクチルα−
シアノ−β，β−ジフエニルアクリレート、
メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、
メチルもしくはブチル α−シアノ−β−メ
チル−ｐ−メトキシ−シンナメート、メチル
α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシ−シン
ナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−
β−シアノビニル）−２−メチル−インドリ
ン。 2.5 ニツケル化合物例えば２，2′−チオ−ビス−〔４−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）−フエノ
ール〕のニツケル錯体例えば１：１もしくは
１：２錯体で所望により付加配位子、例えば
ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンも
しくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミ
ンを持つもの、ニツケルジブチルジチオカ
ルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−
第３ブチルベンジル−ホスホン酸モノアルキ
ルエステル例えばメチルもしくはエチルエス
テルのニツケル塩、ケトオキシムのニツケル
錯体、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフ
エニルウンデシルケトオキシムおよび１−フ
エニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ−
ピラゾールのニツケル錯体で所望により付加
配位子を持つもの。 2.6 修酸ジアミド例えば４，4′−ジ−オクチルオキシ−修酸
アニリド、２，2′−ジ−オクチルオキシ−
５，5′−ジ−第３ブチル修酸アニリド、２，
2′−ジドデシルオキシ−５，5′−ジ−第３ブ
チル修酸アニリド、２−エトキシ−2′−エチ
ル−修酸アニリド、Ｎ，N′−ビス−（３−ジ
メチルアミノプロピル）−修酸アミド、２−
エトキシ−５−第３ブチル−2′−エチル−修
酸アニリドおよびそれと２−エトキシ−2′−
エチル−５，4′−ジ−第３ブチル修酸アニリ
ドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキ
シ−ジ置換およびまたｏ−およびｐ−エトキ
シ−ジ置換修酸アニリドの混合物。３金属不活性化剤例えばＮ，N′−ジフエニル修酸ジアミド、
Ｎ−サリチラル−N′−サリチロイルヒドラジ
ン、Ｎ，N′−ビス−サリチロイルヒドラジン、
Ｎ，N′−ビス−（３，５−ジ−第３ブチル−４
−ヒドロキシフエニルプロピオニル）−ヒドラ
ジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−
トリアゾールおよびビス−ベンジリデン−修酸
ジヒドラジン。４ホスフイツトおよびホスホニツト例えばトリフエニルホスホフイツト、ジフエ
ニルアルキルホスフイツト、フエニルジアルキ
ルホスフイツト、トリ−（ノニルフエニル）ホ
スフイツト、トリラウリルホスフイツト、トリ
オクタデシルホスフイツト、ジステアリル−ペ
ンタエリトリトールジホスフイツト、トリス
−（２，４−ジ−第３ブチルフエニル）ホスフ
イツト、ジイソデシル−ペンタエリトリトール
ジホスフイツト、ジ−（２，４−ジ−第３ブ
チルフエニル）−ペンタエリトリトールジホ
スフイツト、トリステアリル−ソルビトールト
リホスフイツトおよびテトラキス−（２，４−
ジ−第３ブチルフエニル）４，4′−ジフエニレ
ンジホスホニツト。５過酸化物分解化合物例えば、β−チオ−ジプロピオン酸のエステ
ル例えばラリウル、ステアリル、ミリスチルも
しくはトリデシルエステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾ
ールの亜鉛塩、亜鉛ジブチル−ジチオアルバメ
ート、ジオクタデシルジスルフイドおよびペン
タエリトリトールテトラキス−（４−ドデシ
ルメルカプト）−プロピオネート。６ポリアミド安定剤例えば沃素および／または燐化合物を組合せ
た銅塩、および二価マンガン塩。７塩基性補助安定剤例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジ
シアンジアミド、トリアリルシアヌレート、
尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリ
アミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ
金属およびアルカリ土類金属塩、例えばステア
リン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステア
リン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウ
ム、パルミチン酸カリウムおよびピロカテコー
ル酸アンチモンもしくはピロカテコール酸ス
ズ。８核剤例えば４−第３ブチル安息香酸、アジピン酸
およびジフエニル酢酸。９充填剤および補強剤例えば炭酸カルシウム、シリケート、ガラス
繊維、石綿、タルク、カオリン、雲母、硫酸バ
リウム、金属酸化物および水酸化、カーボンブ
ラツクおよびグラフアイト。 10 他の添加剤例えば可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、螢光増
白剤、防炎加工剤、帯電防止剤および液体発泡
剤。以下に本発明に従つて安定剤混合物を使用する
ことによつて得られる驚くべき相乗効果を実施例
にて示す。なお、下記の実施例にて使用される式（Ｂ−
１）ないし（Ｂ−８）で表される繰り返し単位の
一つを有する化合物の重合度と平均重合度を下記
する。

【表】実施例１ポリプロピレンフイルム中での光安安定作用 100部のポリプロピレン粉末（メルトフローイ
ンデツクス 230℃／2.16Kg〜12）を、プラベン
ダープラストグラフ中200℃にて0.05部のペンタ
エリトリチルテトラキス−３−（３，５−ジ−
第３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオ
ネート、0.05部のトリス−（２，４−ジ−第３ブ
チルフエニル）ホスフイツトおよび0.075部の次
表の２種の各安定剤とともに10分間均質化した。
このようにして得られた組成物をニーダーから出
来るだけ早く取り出し、トグルプレス中で２〜３
mmの厚さのプレートに圧縮成形する。得られた粗
成形品の一部をカツトしそして２枚の高光沢ハー
ドアルミニウムホイル間で実験室プレスにより６
分間、260℃にて12トンの圧力で圧縮して0.1mmの
厚さのフイルムを得、即座に冷水中で冷却する。
このフイルムを各45×45mmに打抜き、キセノテス
ト1200中で照射する。一定の時間間隔でこれらの
テストサンプルを照射装置から取り出し、それら
のカルボニル含有量を赤外線スペクトルメーター
で試験した。露光によるカルボニル吸光の増加は
ポリマーの光酸化度の基準〔エル．ブラバンら
（L.Blaban etal.，）ジヤーナル・オブ・ポリマー
サイエンス，パートＣ（J.Polymer Sci.PartC.）
第22巻、第1059〜1071頁（1969年）〕、〔ジエイ・
エフ．ヒーコツク（J.F.Heacock）ジヤーナル・
オブ・ポリマーサイエンスパートＡ−１（J.
Polymer Sci.PartA−１）第22巻、第2921〜34
頁（1969年）〕、〔デー．ジエイ．カールソン（D.
J.Carlsson）およびデー．エム．ワイルス（D.
M.Wiles）マクロモレキユールズ
（Macromolecules）第２巻、第587〜606頁、
1969年参照〕となり、経験によれば、ポリマーの
機械的特性の悪化を表わすことが判つている。
0.100のカルボニル吸光に至る時間を安定化作用
の基準とする。結果を第１表に示す。

【表】実施例１−２ポリプロピレンフイルム中での光安定化作用実施例１と同様にして試験をする。結果を下記
の第１−２表に示す。

【表】実施例１−３２mmポリプロピレン注型フイルム中での光安定
化作用 100部のポリプロピレン粉末（メルトフローイ
ンデツクス＝2.4ｇ／10min、230℃／2.16Kg）を
バレルミキサー中、0.05部のペンタエリスリチル
＝テトラキス［３−（３，５−ジ−第３ブチル−
４−ヒドロキシフエニル）−プロピオネート］、
0.05部のトリス［２，４−ジ−第３ブチルフエニ
ル］＝ホスフイツト、0.1部のステアリン酸カルシ
ウム、0.25部のフタロシアニンブルーおよび第１
−３表に示した安定剤と共に混合する。次いで、この混合物を押し出し機中200−220℃
の温度で配合する。得られた粒状物を、240−260℃での注入成形に
より２mm厚のプラツクに変形する。かくして得られたプラツクを、黒色パネルの温
度が63±３℃であるウエザー−Ｏ−メーターCi65
（Weather−Ometer Ci 65）中に暴露し
（ASTM G26−27）、IR−分光光度計でカルボニ
ル吸光を周期的に検査する。0.5のカルボニル吸
光に到達するまでの時間が、安定剤混合物の効果
の尺度である。結果を第１−３表に示す。

【表】実施例２ポリウレタン注型フイルム中での光安定化作用 100部の市販、未安定化ポリウレタン樹脂（エ
スタン：Estane 5707F1）および以下の第２表
の各成分Ａと成分Ｂの0.25部をジメチルホルムア
ミドおよびアセトン１：１混合物300部中に溶解
させる。撹拌を一夜行ない完全に溶液とする。重
合溶液を次いでガラスプレート上に注ぎ430μの
厚さのフイルムを得る。ガラスプレート上のフイ
ルムを60℃にて４分間、続いて140℃の空気循環
炉で６分間乾燥させる。得られた製品は65μの厚
さの乾式注型フイルムである。これをガラスプレ
ートから取り除き、５×10cmのサイズの試験試料
にカツトする。試験試料をキセノテスト450中で420nｍでの透
過ロス15％が観察されるまで照射する。結果を第２表にまとめた。

【表】実施例３結晶性ポリスチレンの光安定化作用 100部の結晶性ポリスチレンペレツトを第３表
に示す成分A0.1部および成分B0.1部とともに乾
燥混合し、乾燥混合物を次いで押出により均質化
する。このようにして得られた安定化ペレツトを
射出成形し、２mmの厚さのプレートを得た。この
プレートをウエザー−Ｏ−メーターWRC600
（Weather−Ｏ−Meter WRC 600）中で2000時
間照射し、黄色度指数（YI）をASTM Ｄ
1925／70に従い測定した。結果を第３表に示した。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１ (A) 次式（Ａ−１）ないし（Ａ−12）： R₁−OC（Ｏ）−（CH₂）₈−Ｃ（Ｏ）Ｏ−R₁
（Ａ−１）、 R₂−OC（Ｏ）−（CH₂）₈−Ｃ（Ｏ）OR₂
（Ａ−２）、 R₁−NH−（CH₂）₆−NH−R₁ （Ａ−３）、 R₂−OCH₂CH＝CHCH₂−Ｏ−R₂
（Ａ−４）、 R₁−OC（Ｏ）−Ｎ（R₁）−（CH₂）₆−Ｎ（R₁）Ｃ
（Ｏ）Ｏ−R₁ （Ａ−５）、 R₁−Ｏ−Si（CH₃）₂−Ｏ−R₁ （Ａ−６）、 R₁−NH−Ｃ（Ｏ）−（CH₂）₈−Ｃ（Ｏ）−NH−
R₁ （Ａ−12）、（上記各式中、 R₁は次式：で表わされる基を表わし、 R₂は次式：で表わされる基を表わし、 R₃は次式：で表わされる基を表わす。）で表わされる化合物よりなる群から選ばれた低
分子量の立体障害ポリアルキルピペリジンおよ
び (B) 次式（Ｂ−１）ないし（Ｂ−８）： ―〔CH（COO−R₂）−CH₂―〕（重合度５−100）
（Ｂ−１） ―〔Ｎ（R₁）−（CH₂）₆−Ｎ（R₁）−（CH₂）₂―〕（重合度５−50）（Ｂ−２） ―〔CH （COO−R₁）（）−CH₂―〕 ―〔CH₂−CH₂―〕（）
（Ｂ−３）（：のモル比＝１：10〜１：20分子量
10000ないし30000） ―〔Ｎ（R₁）−（CH₂）₆−Ｎ（R₁）−Ｃ(O) −（CH₂）₄−Ｃ(O)―〕（重合度５−50）
（Ｂ−６）で表わされる繰返しの単位の１つを有する化合
物および次式（Ｂ−10）： R₄NH（CH₂）₃−Ｎ（R₄）−（CH₂）₂ −Ｎ（R₄）−（CH₂）₃−NHR₄ （Ｂ−10）（式（Ｂ−１）ないし（Ｂ−８）および（Ｂ−
10）中、R₁およびR₂は前記の意味を表わし、
R₄は次式：で表わされる基を表わす。）で表わされる化合物よりなる群から選ばれた高分
子量立体障害ポリアルキルピペリジンよりなる安
定剤組成物。２成分(A)として化合物（Ａ−１）、（Ａ−２）、
（Ａ−５）、（Ａ−７）、（Ａ−８）、（Ａ−10）また
は（Ａ−11）を含有する特許請求の範囲第１項記
載の組成物。３成分(B)として化合物（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、
（Ｂ−３）、（Ｂ−４）、（Ｂ−５）、（Ｂ−６）また
は（Ｂ−10）を含有する特許請求の範囲第１項記
載の組成物。４成分(A)として化合物（Ａ−１）、（Ａ−５）、
（Ａ−８）、（Ａ−10）または（Ａ−11）を含有す
る特許請求の範囲第１項記載の組成物。５成分(A)と(B)を10：１ないし１：10の割合で含
有する特許請求の範囲第１項記載の組成物。６成分(A)と(B)を５：１ないし１：５の割合で含
有する特許請求の範囲第５項記載の組成物。