JPH0350233A - 重合体のポリアルキル―1―オキサ―ジアザスピロデカン類 - Google Patents

重合体のポリアルキル―1―オキサ―ジアザスピロデカン類

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JPH0350233A
JPH0350233A JP2155546A JP15554690A JPH0350233A JP H0350233 A JPH0350233 A JP H0350233A JP 2155546 A JP2155546 A JP 2155546A JP 15554690 A JP15554690 A JP 15554690A JP H0350233 A JPH0350233 A JP H0350233A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の利用分野1 本発明は、新規のポリアルキル−1−オキサ−ジアザス
ピロデカン類およびそれを光酸化に対して有機ポリマー
を安定化する為の光安定剤として用いることに関する。
[従来技術及び発明が解決しようとする課題]高分子量
のポリアルキルピペリジン安定剤、例えばN−β−ヒド
ロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒ
ドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物は公知で
ある(米国特許第4,232.131号明細書参照)、
この化合物は市販されている。これは非常にを効である
けれども、全ての点で満足するものではない。
本発明者は、重合体ポリアルキル−1−オキサ−ジアザ
スピロデカン化合物である新規の高度に有効な安定剤を
見出した。
[発明の構成1 従って本発明は、式(1) [式中、nは2〜50の整数であり、 Yは式(n)または(I[[) (式中、ジアザスピロデカン系中の環位置を示す指数3
または4の窒素の−っの価票はプロピレン−2−オキシ
基のCH,と結合している。)で表される一つの基であ
り、 R′は水素原子、酸素原子、No基、炭素原子数1〜1
2のアルキル基、アリル基、炭素原子数1〜22ノアシ
ル基またはベンジル基でアリ、R2およびR3は互いに
同じであって水素原子であるかまたは炭素原子数1〜5
のアルキル基であり、 R4はその時、メチル基であるか、またはR2が水素原
子または炭素原子数1〜5のアルキル基でそして R3およびR4は、それらに結合する炭素原子と一緒に
成って、炭素原子数5または6のシクロアルキル基また
は式 を形成し、 R5およびR&は互いに同じでも異なっていてもよく、
水素原子、炭素原子数1〜30のアルキル基であるか、
無置換のまたは塩素化されたまたは炭素原子数1〜4の
アルキル基で置換されたフェニル−またはナフチル基で
あるかまたは、無置換のまたは炭素原子数1〜4のアル
キル基で置換された炭素原子数7〜12のフェニルアル
キル基であるかまたは R%およびR6はそれらに結合している炭素原子と一緒
に成って、無置換のまたは炭素原子数1〜4のアルキル
基で一〜四置換された炭素原子数5〜18のシクロアル
キル基または式で表される基を形成しそして R7は水素原子または炭素原子数1〜22のアシル基で
あるかまたは R?は末端モノマー単位においては、酸素原子が末端C
H,基と結合しそしてオキシラン環を形成するような意
味を有さない。] で表される重合体ポリアルキル−1−オキサ−ジアザス
ピロデカンを提供することである。
この新規の化合物は、式(I) [式中、nは2〜50、殊に2〜20、特に2〜10の
整数であり、 Yは式(II)または(III) (式中、ジアザスピロデカン系中の環位置を示す指数3
または4の窒素の一つの価票はプロピレン−2−オキシ
基のC1,と結合している。)で表される一つの基であ
り、 R1は水素原子、酸素原子、NO基、炭素原子数1〜1
2のアルキル基、殊に炭素原子数1〜4のアルキル基、
アリル基、炭素原子数1〜22のアシル基、殊にアセチ
ル基またはベンジル基であり、特にR1は水素原子であ
り、R8およびR3は互いに同じであって水素原子であ
るかまたは炭素原子数1〜5のアルキル基、殊に水素原
子であり、 R4はその時、メチル基であるか、またはR1が水素原
子または炭素原子数1〜5のアルキル基でそして R3およびR4は、それらに結合する炭素原子と一緒に
成って、炭素原子数5または6のシフクロアルキル基ま
たは式 を形成し、 R5およびR&は互いに同じでも異なっていてもよく、
水素原子、炭素原子数1〜3o、殊に1〜18、特に1
〜5のアルキル基であるか、無置換のまたは塩素化され
たまたは炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたフ
ェニル−またはナフチル基、特にフェニル基であるがま
たは、無置換のまたは炭素原子数1〜4のアルキル基で
置換された炭素原子数7〜12のフェニルアルキル基、
特にベンジル基であるかまたは R5およびR6はそれらに結合している炭素原子と一緒
に成って、無置換のまたは炭素原子数1〜4のアルキル
基で一〜四置換された炭素原子数5〜18、殊に5〜1
2のシクロアルキル基または式 で表される基を形成しそして R7は水素原子、炭素原子数1〜22のアシル基、殊に
水素原子またはアセチル基、特に水素原子であるかまた
は R7は末端モノマー単位においては、酸素原子が末@ 
CHを基と結合しそしてオキシラン環を形成するような
意味を有さない。j に従う。
式(1)の本発明のオリゴマー及びポリマーを製造する
ことのできるモノマー原料(VI)の例には以下のもの
がある: (1) 2,2.7.7,9.9−へキサメチル−3−
(2,3−エポキシプロピル)−1−オキサ−3,8−
ジアザ−4−オキツースピロー[4,5]−デカン (2) 2.2.7,7,9.9−へキサメチル−4−
(2,3−エポキシプロピル)−1−オキサ−3−オキ
゛へ4,8−ジアザ−スピロ−[4,5]−デカン (3) 2.2.4,4.10,10.12.12−、
t−フタメチル−ツーオキサ−3,11,14−トリア
ザ−14−(2,3−エポキシプロピル)−15−オキ
ソ−ジスビロー[5,1,5,2]−ペンタデカン (4) 2,7.7.9.9−ペンタメチル−2−オク
タデシル−3−(2,3−エポキシプロピル)−1−オ
キサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー[4,5
J−デカン(5) 2,7.7.9.9−ペンタメチル
−2−ベンジル−3(2,3−エポキシプロピル)−1
−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピロー[4
,5]−デカン(6) 7.7.9.9−テトラメチル
−2,2−ジヘブチル−3−(2,3−エポキシプロピ
ル)−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースピ
ロー[4,51−デカン(7) 7,7,9.9−テト
ラメチル−2,2−ジベンジル−3−(2,3−エポキ
シプロピル)−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキ
ツースピロー[4,5]−デカン(8) 7.7.9.
9−テトラメチル−2−メチル−3−(2,3−エポキ
シプロピル)−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキ
ソ−スピロ−[4,5)−デカン(9) 7.7.9.
9−テトラメチル−2−イソ−ノニル−3−(2,3−
エポキシプロピル)−1−オキサ−3,8−ジアザ−4
−オキソ−スピロ〜[4,5]−デカン(10) 2.
2.4.4−テトラメチル−7−オキサ−3,14−ジ
アザ−14−(2,3−エポキシプロピル)−15−オ
キソ−ジスビロー[5,1,5,2]−ペンタデカン(
11) 2.2.4.4−テトラメチル−7−オキサ−
3,2゜ジアザ−20−(2,3−エポキシプロピル)
−21−オキソ−ジスビロー[5,1,11,2]−ヘ
ンエイコサン(12) 2.7.7.9.9−ペンタメ
チル−2−ウンデシル−1−オキサ−3−オキソ−4−
(2,3−エポキシプロピル)−4,8−ジアザ−スピ
ロ−[4,5]−デカン(13) 7.7.9.9−テ
トラメチル−2−エチル−1−オキサ−3−オキソ−4
−(2,3−エポキシプロピル)−4,8−ジアザ−ス
ピロ−[4,5]−デカン(14) 7.7,9.9−
テトラメチル−2−イソ−ヘプチル−1−オキサ−3−
オキソ−4−(2,3−エポキシプロピル)−4,8−
ジアザ−スピロ−[4,5]−デカン<15) 2.2
,4.4−テトラメチル−7−オキサ−3,15−ジア
ザ−15−(2,3−エポキシプロピル)−14−オキ
ソ−ジスビロー[5,1,5,2]−ペンタデカン及び
これら化合物とプロトン酸との塩。
本発明の新規化合物を製造する為の七ツマ−(VI)は
、式V(式中のHalは塩素原子、臭素原子または沃素
原子、殊に塩素原子を意味する)のエピハロヒドリン中
のハロゲン原子を、弐■で表されるポリアルキルオキサ
ジアザスピロデカン類またはそれとプロトン酸との塩で
以下の反応式に従って塩化水素を除きなから求核置換置
換することによって得られる。次いで、そのオキシラン
を加熱することで式Iで表される本発明のオリゴマー及
びポリマーが形成される:上記反応式中、基R2、R3
、R4、R’% Y 、 Hatおよびnは上述の意味
を有する。基R1は水素原子であるそして基R7も同様
に水素原子であるかまたは末端モノマー単位において、
酸素原子が末端のC1,基とオキシラン環を形成するよ
うな意味を有さない。
化合物■は原料(IV)と(V、)とを1:1〜1:5
、殊に1:1〜1:2、特に1:1〜1:1.2のモル
比で不活性有機溶剤中で等モル−20倍モル量の固体状
アルカリ金属水酸化物またはそれの20〜50χ濃度水
溶液の相応する量の存在下に、相転移触媒の使用下に反
応させることによって合成される。反応温度は20〜1
20°C1殊に20〜80°C5特に40〜60“Cで
ある。
適する有機溶剤は脂肪族−または芳香族炭化水素、例え
ば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、ナフサ留分、ト
ルエン、シクロヘキサン、キシレン等がある。
相転移触媒は、第四アンモニウムおよびハロゲン化ホス
ホニウムより成る群の内の通例の物質を意味する。ポリ
エチレングリコール類およびポリエチレングリコール類
のジアルキルエーテル類も非常に適している。必要とさ
れる量は化合物(IV)を基準として0.1〜5重量%
である。
一般に反応は1〜20時間後に完了する。
化合物(Vl)は、場合によっては少量の水を添加した
後に、相分離することによって単離される。有機相は水
で数回洗浄し、乾燥剤、例えばNazSO4またはMg
5O,によって乾燥しそして濃縮する。これは一般に油
状の生成物である。
この方法で得られたエポキシド類を100〜240°C
1殊に100〜200’C,特に120〜180℃に加
熱することで、固体で非晶質の最初にガラス状の2≦n
≦50のポリマーが得られる。重合時間が短いと低い重
合度が得られ、長い重合時間は高い重合度をもたらす。
同様に、重合度が温度の増加と共に高くなる傾向が認め
られる。
また、このポリマーまたはオリゴマーは、エビクロロヒ
ドリンとアザスピロデカンとの反応の後に、エポキシド
を最初に単離せず、全部の反応混合物を上記の高い温度
にしそして重合の終了後に反応混合物を後処理すること
によっても製造される。
重合後に、ポリマーの末端第二アミン基は場合によって
は自体公知の方法によってその誘導体に転化することが
できる。
原料として用いられるポリアルキルオキサジアザスピロ
デカン類は公知であり、米国特許第4.110.334
号明細書および米国特許第4.107.139号明細書
に示された指示に従って得ることができる。
本発明の化合物は有機ポリマー、例えば以下に挙げたも
のにおいて光安定剤として使用される: 1、 モノ−およびジ−オレフィンのポリマー例えばポ
リエチレン(場合によっては架橋していてもよいもの)
、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリ−1−ブテ
ン、ポリメチル1−ペンテン、ポリイソプレンまたはポ
リブタジェン;およびシクロオレフィンのポリマー、例
えばシクロペンテンまたは一ノルボルネンのポリマー 2.1.の所に挙げたポリマーの混合物、例えばポリプ
ロピレンとポリエチレンまたはポリイソブチレンとの混
合物。
3、 七ノーおよびジ−オレフィン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えば工チレンープロピレ
ンーコボリマー、プロピレン−ブテン−1−コポリマー
、プロピレン−イソブチレン−コポリマー、エチレン−
ブテン−1−コポリマー、プロピレンーブタジエンーコ
ボリマー、イソブチレン−イソプレン−コポリマー、エ
チレン−アルキルアクリレート−コポリマー、エチレン
−アルキルメタクリレート−コポリマー、エチレン−ビ
ニルアセテート−コポリマーまたはエチレン−アクリル
酸−コポリマーおよびその塩(イオノマー類)、および
エチレンとプロピレンとジエン類、例えばヘキサジエン
、ジシクロペンタジェンまたはエチリデンノルボルネン
とのターポリマー 4、 ポリスチレン。
5、 スチレンまたはα−メチルスチレンとジエン類ま
たはアクリロイル誘導体とのコポリマー、例えばスチレ
ン−ブタジェン、スチレン−無水マレイン酸、スチレン
−アクリロニトリル、スチレン−エチルメタクリレート
、スチレン−ブタジェン−エチルアクリレート、スチレ
ン−アクリロニトリル−メチルアクリレートのコポリマ
ー:スチレン−コポリマーと他のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエン−ポリマーまたはエチレン−プロ
ピレン−ジエン−ターポリマーの如き他のポリマーとの
高耐衝撃性混合物;また、スチレンのブロックコポリマ
ー、例えばスチレン−ブタジェン−スチレン、スチレン
−イソプレン−スチレン、スチレン−エチレン/ブチレ
ン−スチレンまたはスチレン−エチレン/プロピレン−
スチレンのブロックコポリマー。
6、 スチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタ
ジェンにスチレンを、ポリブタジェンにスチレンおよび
アクリロニトリルを、ポリブタジェンにスチレンおよび
無水マレイン酸を、ポリブタジェンにスチレンおよびア
ルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートを、
エチレンープロピレンージエンーターボリマーにスチレ
ンおよびアクリロニトリルを、ポリアルキルアクリレー
トまたはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよび
アクリロニトリルを、アクリレート−ブタジェンコポリ
マーにスチレンおよびアクリロニトリルをグラフトした
グラフトコポリマー、およびこれらと5.の所に挙げた
コポリマーとの混合物、例えばABS 、 MBS 、
 ASAまたはAESポリマーの如き公知のもの。
7、ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化−またはクロロスルホナート化ポリ
エチレン、エビクロロヒドリン−ホモ−および一コポリ
マー、特にハロゲン含有ビニル化合物から製造されるポ
リマー類、例えばポリビニルクロライド、ポリビニリデ
ンクロライド、ポリビニルフルオライドおよびポリビニ
リデンフルオライド;また、それらのコポリマー、例え
ばビニルクロライド−ビニリデンクロライド−、ビニル
クロライド−ビニルアセテート−またはビニリデンクロ
ライド−ビニルアセテート−コポリマー 8、 α、β−不飽和酸およびその誘導体から誘導され
るポリマー、例えばポリアクリレート類およびポリメタ
クリレート類、ポリアクリルアミド類およびポリアクリ
ロニトリル類。
9.8.の所に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和
モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル−ブ
タジェン−コポリマー、アクリロニトリル−アルキルア
クリレート−コポリマー、アクリロニトリル−アルコキ
シアクリレート−コポリマー、アクリロニトリル−ビニ
ルハロゲン化物−コポリマーまたはアクリロニトリル−
アルキルメタクリレート−ブタジェン−ターポリマー 10、不飽和アルコールおよびアミンまたはそれのアシ
ル誘導体またはアセタールから誘導されるポリマー、例
えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポ
リビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリ
ビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリル
フタレートおよびポリアリルメラミン。
11.環状エーテル類のホモポリマーおよびコポリマー
、例えばポリエチレングリコール類、ポリエチレンオキ
サイド、ポリプロピレンオキサイドまたはそれらとビス
グリシジルエーテルとのコポリマー 12、ポリアセクール類、例えばポリオキシメチレンお
よびまた、コモノマー、例えばエチレンオキサイドを含
有するポリオキシメチレン類。
13、ポリフェニレンオキサイドおよびポリフェニレン
スルフィド類。
14、末端水酸基を持つポリエーテル、ポリエステルお
よびポリブタジェンを一方とし、脂肪族または芳香族ポ
リイソシアネートをもう一方とするポリウレタン類およ
びそれの前駆体(ポリイソシアネート−ポリオール−プ
レポリマー)。
15、ジアミンおよびジカルボン酸からおよび/または
アミノカルボン酸または相応するラクタムから誘導され
るポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド4
、ポリアミド6、ポリアミド6/6、ポリアミド6/1
0 、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリ−2,4
,4−)リメチルへキサメチレン−テレフタルアミド、
ポリートフエニレンーイソフタルアミド、およびそれら
とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコールまたはポリテトラメチルレンーグ
リコールとのコポリマー 16、ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミドイミド。
17、ジカルボン酸およびジオールからおよび/または
ヒドロキシカルボン酸からまたは相応するラクトンから
誘導されるポリエステル、例えばポリエチレン−テレフ
タレート、ポリブチレン−テレフタレート、ポリ−1,
4−ジメチロールシクロヘキサン−テレフタレート、ポ
リ(2,2−ビス(4−ヒドロキシ−フェニル)−プロ
パン)テレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエートお
よびまた、末端水酸基を持つポリエチレン、ジアルコー
ルおよびジカルボン酸から誘導されるブロック−ポリエ
ーテル−エステル。
18、ポリカルボナート。
19、ポリスルホンおよびポリエーテルスルホン。
20、アルデヒドを一方としそしてフェノール類、尿素
またはメラミンをもう一方として誘導される架橋したポ
リマー、例えばフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン−ホルムアル
デヒド樹脂。
21、乾性アルキッド樹脂および非乾性アルキッド樹脂
22、飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
とのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合物
から誘導される不飽和ポリエステル樹脂およびまた、そ
れのハロゲン含有難燃変性物。
23、置換されたアクリルエステルから誘導される架橋
可能なアクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウ
レタン−アクリレートまたはポリエステルアクリレート
から誘導されるアクリル樹脂。
24、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂と架橋したアルキッド樹脂、ポリエス
テル樹脂およびアクリレート樹脂。
25、ポリエポキシドから誘導される架橋したエポキシ
樹脂、例えばビス−グリシジルエーテル類または脂環式
ジエボキシド類から誘導される架橋した樹脂。
26、天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼ
ラチンおよびそれらから化学的に転化された重合体同属
の誘導体、例えばセルロースアセテート類、セルロース
プロピオナート類、およびセルロースブチラード類およ
びセルロースエーテル類、例えばメチルセルロース。
27、上記ポリマーの混合物、例えばPP/EPDM、
ポリアミド6/EPDMまたはABS 、 PVC/E
VA 、 PVC/ABS 、PVC/MBS 、、P
C/ABS、PBTP/ABS、PC/ASASPC/
PBTSPVC/CPE 、 PVD/7クリレート、
POM/熱可塑性PU、 POM/アクリレート、PO
M/MBS 、 PPE/HIPS、 PPE/ポリア
ミド6.6およびコポリマー、PA/HDPE 、 P
A/PPおよびPA/PPE。
28、純粋なモノマーまたはモノマー混合物である天然
に産する有機物質および合成有機物質、例えば鉱油、動
物−および植物脂肪、−泊および一ワックス、または合
成エステルをベースとする油、脂肪およびワックスまた
はこれらの物質の混合物。
29、天然−または合成ゴムの水性分散物。
新規の安定剤は一般に有機ポリマー中に慣用の方法によ
って混入する。この混入は例えば、各成分および場合に
よっては他の添加物を成形前または一間に溶融物と混合
することによって実施することができる。この混入はま
た、溶解したまたは分散した化合物を直接的にポリマー
に導入することによってまたはこれらの化合物をポリマ
ーの溶液、懸濁物またはエマルジョンと混合し、場合に
よっては次いで溶剤を蒸発することによって実施するこ
ともできる。ポリマーに添加すべき量は、安定化すべき
物質を基準として1.0重t%以上である。
新規の化合物は、安定化すべきポリマーにこれらの化合
物を2.5〜50、好ましくは5.0〜20重量%の濃
度で含むマスターバッチの状態で添加してもよい。
更に、安定化すべき有機ポリマーは、例えば以下に挙げ
る種類の別の酸化防止剤を含有していてもよい: 1、 アルキル化モノフェノール類、例えば2.6−ジ
ー第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三プチル
−4,6−シメチルフエノール、2.6−ジー第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2.6−ジー第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2.6−ジー第三ブチル−
4−i−ブチルフェノール、2.6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノール、 2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−シメチル
フエノール、 2.6−ジ−オクタデシル−4−メチルフェノール、2
.4.6− )リー シクロヘキシルフェノール、2.
6−ジー第三ブチル−4−メエトキシメチルフェノール
アルキル化ハイドロキノン類、例えば 2.6−ジー第三ブチル−4−メトキシフェノール、2
.5−ジー第三ブチル−ハイドロキノン、2.5−ジー
第三アミル−ハイドロキノン、2.6−ジフェニル−4
−オクタデシルオキシフェノール。
3、 ヒドロキシレート化チオジフェニルエーテル類、
例えば 2.2゛−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、 2.2′−チオ−ビス−(4−オクチルフェノール)、
4.4゛−チオ−ビス−(6−第三ブチル−3−メチル
フェノール)、 4.4°−チオ−ビス−(6−第三ブチル−2−メチル
2゜ フェノール)。
アルキリデン−ビスフェノール類、例えば2.2′−メ
チレン−ビス−(6−第三ブチル−4−メチルフェノー
ル)、 2.2’−メチレン−ビス−(6−第三ブチル−4−エ
チルフェノール)、 2.2“−メチレン−ビス−[4−メチル−6−(α−
メチルシクロヘキシル)−フェノール1.2.2′−メ
チレン−ビス−(4−メチル−6−シクロヘキシルフェ
ノール)、 2.2”−メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチル
フェノール)、 2.2°−メチレン−ビス−(4,6−ジー第三ブチル
フェノール)、 2.2゛−エチリデン−ビス−(4,6−ジー第三ブチ
ルフェノール)、 2.2°−エチリデン−ビス−(6−第三ブチル−4−
イソブチルフェノール)、 2.2°−メチレン−ビス−[6−(α−メチルベンジ
ル)−4−ノニルフェノール1. 4゜ 2.2′−メチレン−ビス−[6−(α、α−ジメチル
ベンジル)−4−ノニルフェノール1.4.4°−メチ
レン−ビス−(2,6−ジー第三ブチルフェノール)、 4.4′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル−2−メ
チルフェノール)、 1.1−ビス−(5−第三ブチル−4〜ヒドロキシ−2
−メチルフェニル)−ブタン、 2.6−ジー(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒド
ロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1.1.3
−トリス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メ
チルフェニル)−ブタン、 1.1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタ
ン、 ジー(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフ
ェニル)−ジシクロペンタジェン、 ジー[2−(3’−第三ブチル−2°−ヒドロキシ−5
”−メチルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフ
ェニル1−テレフタレート、 エチレングリコール−ビス−[3,3°−ビス(3’第
三ブチル−4゛−ヒドロキシフェニル)ブチラード1 
5、 ベンジル化合物、例えば 1.3.5− トリス−(3,5−ジー第三ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリーメチルベ
ンゼン、 ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−スルフィド、 イソオクチル−3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル−メルカプトアセテート、ビス−(4−第三
ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−シメチルベンジル)
−ジチオール−テレフタレート、 1.3.5− )リス−(3,5−ジー第三ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、1.3.
5− )リス−(4−第三プチル−3−ヒドロキシ−2
,6−シメチルベンジル)−イソシアヌレート、ジオク
タデシル−3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル−ホスホナート、 モノ−エチル−3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル−ホスホナートのカルシウム塩。
6、 アシルアミノフェノール類、例えば4−ヒドロキ
シーラウラニリド、 4−ヒドロキシーステアラニリド、 2.4−ビス−オクタメルカプト−6−(3,5−ジー
第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−S−トリアジ
ン、 2オクチル−N−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)−力ルバマート。
7、 β−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−プロピオン酸と一価−または多価アルコー
ル類、例えばメタノール、オクタデカノール、1.6−
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレン−グリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリスリトール、トリス−ヒド
ロキシエチル−イソシアヌレート、ジ−ヒドロキシエチ
ルオキサミド等とのエステル。
β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)−プロピオン酸と一価または多価アルコール、
例えばメタノール、オクタデカノール、1.6−ヘキサ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
−グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキシ
エチル−イソシアヌレート、ジ−ヒドロキシエチルオキ
サミド等とのエステル。
9、 β−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−プロピオン酸のアミド類、例えばN、N’
−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル)−へキサメチレンジアミン、 N、 N’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)−トリメチレンジアミン
、 N、 N’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)−ヒドラジン。
更に、安定化すべきポリマーは別の添加物、8゜ 例えば以下のものを含有していてもよい:1.紫外線吸
収剤および光安定剤 1.1 2−(2’−ヒドロキシフェニル)−ベンシト
R1アゾール類、例えば 5°−メチル−31,51−ジー第三ブチル−15′−
第三プチル−15’−(1,1,3,3−テトラメチル
ブチル)−55−クロロ−3°、5°−ジー第三ブチル
、5−クロロ−3″−第三ブチル−5゛−メチル−3°
−第二ブチル−5°−第三ブチル−14′−オクトキシ
−13°、5゛−ジー第三アミル−13″、5゛−ビス
−(α、α−ジメチルベンジル)誘導体。
1.22−ヒドロキシベンゾフェノン類、例えば4−ヒ
ドロキシ−14−メトキシ−14−オクトキシ−14−
デシルオキシ−14−ドデシルオキシ、4−ベンジルオ
キシ−14,2°、4“−トリヒト、ロキシー、2゛−
ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
1.3  場合によって置換された安息香酸のエステル
、例えば 4−第三ブチルーフェニルーサルチラート、フェニルー
サルチラート、オクチルフェニルーサルチラート、ジベ
ンゾイルレゾルシノール、ビス−(4−第三ブチルベン
ゾイル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール
、2.4−ジー第三ブチルフェニル−3,5−第三プチ
ル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、ヘキサデシル−3
,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
1.4  アクリレート類、例えば エチル−α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリレート
およびイソオクチル−α−シアノ−β、β−ジフェニル
アクリレート、エチル−α−カルボメトキシーシンナマ
ート、メチル−α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ
シナマートおよびブチル−α−シアノ−β−メチル−p
−メトキシシナマート、メチル−α−カルボメトキシ−
p−メトキシシナマートおよびN−(β−カルボメトキ
シ−β−シアノ−ビニル)−2−メチル−インドリン。
1.5  ニッケル化合物、例えば 2.2゛−チオ−ビス−[4−(1,1,3,3−テト
ラメチル−ブチル)−フェノール1のニッケル錯塩、例
えば場合によっては追加的配位子、例えばn−ブチルア
ミン、トリエタノールアミンまたはN−シクロヘキシル
−ジェタノールアミンを持つ1:1−または1:2−錯
塩、アルキルニッケルージチオカルバマート類、モノア
ルキル−4−ヒドロキシ−3,5−ジー第三ブチル−ベ
ンジルホスホナート類のニッケル塩、例えばメチル−ま
たはエチルエステルのそれら、ケトオキシム類のニッケ
ル錯塩、例えば2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル−
ウンデシル−ケトオキシムのそれら、1−フェニル−4
−ラウロイル−5−ヒドロキシピラゾールの、場合によ
っては追加的配位子を持つニッケル錯塩および2−ヒド
ロキシ−4−アルコキシベンゾフェノン類のニッケル塩
1.6  立体障害アミン類、例えば 1.6.1  ビス−(2,2,6,6−チトラメチル
ビペリジル)セバケート、 ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル
)セバケート、 ビス−(2,2,6,6−チトラメチルビペリジル)−
グルタレート、 ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル
)−グルタレート、 ビス−(2,2,6,6−チトラメチルビペリジル)−
スクシナート、 ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル
)−スクシナート、 4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−ケトラメチル
ピペリジン、 4−ステアリルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジン、 4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−ケトラメチ
ルピペリジン、 4−ステアロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジン、 2.2,6.6−テトラメチルビベリジルーベヘナート
ー 1.2.2.6.6−ベンタメチルピペリジルーベヘナ
ート、 2.2.4.4−テトラメチル−7−オキサ−3,20
−ジアザジスピロ[5,1,11,2]−ヘンエイコサ
ン−21−オン、 2.2.3.4.4−ペンタメチル−7−オキサ−3,
20−ジアザジスピロ[5,1,11,21−ヘンエイ
コサン−21−オン、 2.2.4.4−テトラメチル−3−アセチル−7−オ
キサ−3,20−ジアザジスピロー[5,1,11,2
]−ヘンエイコサン−21−オン、 2.2.4.4−テトラメチル−7−オキサ−3,20
−ジアザ−20−(β−ラウリロキシカルボニルエチル
)−21−オキサ−ジスピロー[5,1,11,2]−
ヘンエイコサン、 2.2.3.4.4−ペンタメチル−7−オキサ−3,
20−ジアザ−20−(β−ラウリロキシカルボニルエ
チル)−21−オキサ−ジスピロー[5,1,11,2
]−ヘンエイコサン、 2.2,4.4−テトラメチル−3−アセチル−7−オ
キサ−3,20−ジアザ−20−(β−ラウリロキシカ
ルボニルエチル)−21−オキサ−ジスピロー[5,1
゜11.2]−へンエイコサン、 1.1’、3.3′、5,5°−へキサヒドロ−2,2
’、4.4”、6゜6゛−ヘキサアザ−2,2°、6,
6°−ビスメタノ−7,8−ジオキソ−4,4′−ビス
−(1,2,2,6,6−ベンタメチルー4−ピペリジ
ル)−ビスフェニル、NN“N”N1−テトラキス−(
2,4−ビス−(N−(2,2゜6.6−テトラメチル
−4−ピペリジル)−ブチルアミノ]−1,3,5−)
リアジン−6−イル) −4,7−シアザデカンー1,
10−ジアミン、 NN’N”N1−テトラキス−(2,4−ビス−tN−
(1,2゜2.6.6−ベンタメチルー4−ピペリジル
)−ブチルアミノ]−1,3,5−トリアジン−6−イ
ル) −4,7−シアザデカンー1.10−ジアミン、
N N’N’N”−テトラキス−(2,4−ビス−[N
−(2,2゜6.6−テトラメチル−4−ピペリジル)
−メトキシプロピルアミノ]−1,3,5−トリアジン
−6−イル) −4,7−シアザデカンー1.10−ジ
アミン、N N’N’N”−テトラキス−(2,4−ビ
ス−[N−(1,2゜2.6.6−ベンタメチルー4−
ピペリジル)−メトキシプロピルアミノ]−1,3,5
−)リアジン−6−イル)−4,7−シアザデカンー1
,10−ジアミン、ビス−(1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジル)−n−ブチル−3,5−ジー第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル−マロナート、 トリス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)−ニトリロトリアセタート、 テトラキス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸
、1.1’−(1,2−エタンジイル)−ビス−(3,
3,5,5−テトラメチル−ピペラジノン)。
1.6.2.  ポリ−N、 N’−ビス−(2ご2.
6.6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,8−ジ
アザデカン、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,
6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシ−ピペリジンと
コハク酸との縮合生成物、 N、 N’−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)−へキサメチレンジアミンと4−第三
オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−)リ
アジンとの縮合生成物、 N、 N’−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)−へキサメチレンジアミンと4−モル
ホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−)リアジンと
の縮合生成物。
多くの場合、本発明の化合物と1.6.1の所に挙げた
化合物との組合せが特に有利である。
1.7  オキシアミド類、例えば 4.4゛−ジ−オクチルオキシ−オキサニリド、2.2
゛−ジ−オクチルオキシ−5,5゛−ジー第三ブチル−
オキサニリド、 2.2゛−ジドデシルオキシ−5,5°−ジー第三ブチ
ル−オキサニリド、 2−エトキシ−2°−エチル−オキサニリド、N、N’
−ビス−(3−ジメチルアミノプロピル)−オキサミド
、 2−エトキシ−5−第三ブチル−2°−エチルオキサニ
リドおよび これと2−エトキシ−21−エチル−5,4−ジ第三ブ
チル−オキサニリドとの混合物、 オルト−およびパラ−メトキシ置換されたオキサニリド
の混合物および0−およびp−エトキシ−二置換された
オキサニリドの混合物。
2、金属不活性化剤、例えば N、 N’−ジフェニルオキサミド、 N−サリチラルーN゛−サリチロイルーヒドラジン、N
、 N’−ビス−サリチロイル−ヒドラジン、N、N”
−ビス−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)−ヒドラジン、3−サリチロイル
−アミノ−1,2,3−トリアゾール、 ビス−ベンジリデン−蓚酸−ジヒドラジド。
3、 ホスフィツト類およびホスホニット類、例えば トリフェニル−ホスフィツト、ジフェニル−アルキル−
ホスフィツト、フェニル−ジアルキルホスフィツト、ト
リスノニルフェニル−ホスフィツト、トリラウリル−ホ
スフィツト、トリオクタデシル−ホスフィツト、ジステ
アリルーペンタエリスリチルージホスフィット、トリス
−(2,4−ジー第三ブチルフェニル)ホスフィツト、
ジイソデシルーベンタエリスリチルージホスフィット、
ビス−(2,4−ジー第三ブチルフェニル)ペンタエリ
スリチルージホスフィット、トリステアリルーツルビチ
ル−トリスホスフィツト、テトラキス−(2,4−ジー
第三ブチルフェニル)−4,4’−ビフエニレンージホ
スホニット、3.9−ビス−(2,4−ジー第三ブチル
フェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,
9−ジホスフアスピロ[5,5]−ウンデカン、トリス
−(2−第三ブチル−4−チオ−(2゛−メテニル4゛
−ヒドロキシ−5゛−第三ブチル)−フェニル−5メテ
ニル)−フェニル−ホスフィ・ノド。
4、過酸化物分解剤、例えば β−チオ−ジプロピオン酸のエステル類、例えばラウリ
ル−、ステアリル−ミリスチル−またはトリデシル−エ
ステル類、メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカ
プトベンズイミダゾールの亜鉛塩、アルキル亜鉛−ジチ
オカルバマート類、ジオクタデシル−スルフィド、ペン
タエリスリトール−テトラキス−(β−ドデシルメルカ
プト)−プロピオナート。
5、基礎的補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミン、
トリアリル−シアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘
導体、アミン類、ポリアミン類、ポリウレタン類、高級
脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、ま
たはフェノラート類、例えばステアリン酸カルシウム、
ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、リシノ
ール酸ナトリウム、パルミチン酸カリウム、アンモニウ
ムーカテコーラートまたは錫−カテコラード、アルカリ
土類金属またはアンモニアの水酸化物および酸化物、例
えばCaOSMgO、ZnO。
6、核化剤、例えば 4−第三プチル−安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢
酸、ジベンジリデンソルビトール。
7、 フィラーおよび補強剤、例えば 炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タ
ルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび一水酸化物、カーボンブラック、グラファイト・ 8、他の添加物、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、難燃剤、
帯電防止剤、発泡剤。
上記の1〜6の群の内の種々の追加的添加物を、安定化
すべきポリマーに、成形用組成物の全重量を基準として
0.1〜lO重量%、殊に00O1〜5重量%の量で添
加する。7および8の群の内の添加物の割合は、成形用
組成物全体を基準として1〜80重量%、殊に10〜5
0重量%である。
本発明に従って安定化した有機ポリマーは、色々な形状
、例えばフィルム、繊維、テープ状物、形材としてまた
は塗料、接着材または漆喰の為の結合剤として使用する
ことができる。
従来技術の重合体安定剤は、有効であるだけでなく揮発
性、移行抵抗(低い滲出性に等しい)および熱安定性を
も含めた重要な用途上のパラメーターの全部についての
工業的要求を満足していないという欠点を有している。
反対に、本発明の新規の安定剤はこれらの要求を十分に
満足している。これらは非常に有効な安定剤であり且つ
、物理的性質を基礎とする欠点を実質的に有していない
本発明を以下の実施例によって更に詳細に説明する。
裏隻皿」 2.2.7,7.9.9−へキサメチル−1−オキサ−
3−(2,3−エポキシプロビル)−3,8−ジアザ−
4−オキツースピロー[4,5]−デカンおよびそれか
ら得られるオリゴマー 150 cn+’のトルエンに、引き続いて24.0g
(0゜1mojりの2.2.7.7,9.9−へキサメ
チル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキツースビ
ロー[4,51−デカン、18.5g(0,2mojり
のエビクロロヒドリン、5滴のトリカプリルメチルアン
モニア−クロライド[Fluka社のアリクアート(商
標:A11quat) 336)および40gの50χ
濃度水酸化ナトリウム溶液(NaOH約0.5moi!
、)を添加し、次いでこの反応混合物を65゛Cで16
時間攪拌する。攪拌機のスイッチを切った後に、二つの
透明な相が生じる。これらを互いに分離する。有機相を
50c*3の水で三面洗浄し、50gの硫酸ナトリウム
で乾燥し、室温において1gの活性炭と一緒に30分間
攪拌しそして濾過する。揮発性成分を減圧下に除く。こ
のものは無色の油状物であり、加熱時にエポキシ化合物
をもたらす。この化合物を170°Cに3時間加熱し、
この条件のもとで重合して、130〜184°Cの融点
を持つ無色の固体樹脂をもたらす。粘度数(トルエンに
溶解した1重量%濃度溶液にて25°CでDIN 53
.728号に従って測定した)は0.03であった。
実1」Lklu 実施例1で用いた操作を繰り返す。後記の表に、実験条
件および、各側に関連するモノマー−およびポリマー物
質のデータを示す。第2欄(化合物No、)は明細書の
第11〜13頁に代表的なモノマー原料の表に対応し、
これらから何れの場合にもポリアルキルジアザスピロデ
カンが得られる。
以下の実施例は、新規化合物が従来技術に比較して優れ
ていることを実証している。
1隻■u 100.00重量部のポリプロピレン粉末(MFI 2
3015:2〜5g/ 10分)に、攪拌しながら0.
20重量部のステアリン酸カルシウム、0.15重量部
のグリコール−ビス〔3,3−ビス(4°−ヒドロキシ
−3°−第三ブチル−フェニル)−ブタノアート1. 0.05重量部のジオクタデシル−ジスルフィド、 65.00重量部のタルク(Lussenac社のOO
Sタイプ)および 0.50重量部の試験すべき安定剤 より成る混合物(アセトン溶液)を添加する。
溶剤を回転式蒸発器で除き、この混合物を実験室用押出
機(ショート・コンプレツシヨン・ゾーン・スクリュー
、スクリュー直径: 20 m鰯、長さ=200.ノズ
ルの縦方向長さ: 30 a+s+、ノズルの直径: 
2 mar、スクリュー速度:125回転/分)を用い
て押出成形する。 Windsor射出成形機sp s
oタイプで顆粒を射出成形し、60X60X1m−の板
を得る。T−型試験体をこの板から打ち抜く。
耐加熱老化性は、空気循環式乾燥炉内で、回転皿を備え
た電動式炎中にこの試験体を吊しそして新鮮な空気を間
断なく供給しながらこの試験体を140℃で熱応力に委
ねることによって測定する。
初期の局所的脆化が若干の点で生じるまでの期間を測定
する。この期間は変色した部分、濁った部分、時には脆
い部分の形成によってDIN53.383に従って示さ
れる。
結果を第2表に示す。
実施例1287 比較例A”         65 1):  ドイツ特許第2.636.144号明細書に
従うチマソルブ(Chimasorb:商標)944実
m 100.00重量部のポリエチレン粉末(MFI 19
0/2.16: 2〜5g/ 10分)に、 0.2重量部の試験すべき安定剤 のアセトン溶液を添加する。この混合物を実施例13と
同様に用いて、IIIII+の厚さの板を製造する。
耐加熱老化性を、乾燥炉中てこの板を100°Cでの熱
応力に委ねることによって測定した。
4週間後に、板の黄変をASTM o 1925−TO
に従う黄色度指数によって測定する [ハンターラブ(
Hunterlab)比色計モデル025 M−2)。
実施例12     19.8  22.3   2.
5比較例A      20.6  26.9   6
.3比較例C”     20,4  21.3   
0.92):試験すさき如何なる安定剤も用いてない裏
施五艮 100.00重量部のポリエチレン粉末(密度:0.9
44g/c+m” 、 MPI 190/2.16: 
0.5g/ 10分)に、0.2重量部の試験すべき安
定剤 のアセトン溶液を添加する。この混合物を用いて実施例
13と同様に、lsumの厚さの板を製造する。
耐加熱老化性を、実施例14における如くこの板を処理
しそして実施例14における如く4週間後に黄色度指数
を測定することによって決定する。
比較例A      29.2  87.0   57
.8比較例C23,424,51,1 ス11殊」 100.00重量部のポリプロピレン粉末(MFI 2
3015:2〜5g/ 10分)に、攪拌しながら0.
10重量部のステアリン酸カルシウム、0.05 重量
部のグリコール−ビス[3,3−ビス(4”−ヒドロキ
シ−3′−第三ブチル−フェニル)−ブタノアート1. 0.10重量部のトリス−(2,4−ジー第三ブチル−
フェニル)−ホスフィツトおよび 0.50重量部の試験すべき安定剤 をアセトンに溶解した溶液を添加する。
実施例13におけるのと同様に、この混合物を用いて顆
粒を製造する。この顆粒を用いて実施例13におけるの
と同様にla+mの厚さの板を製造する。
”太陽光照射装置”【へりウス・ピー・オー・エッチ(
Heraeus POH)によって製造された太陽光試
験(Suntest)装置、紫外線フィルター組合せ物
“赤外線反射皮膜を持つ紫外線特殊ガラス”、ブラック
パネル温度55°C±5℃、給温せず、画状噴霧せず、
32 amの区間を照射する1中で試験体を長期間の照
射に委ねることによって光安定性を測定した。
表面が顕著に脆化するまで暴露した試験体を(視覚的に
)評価した。
第ユ影支 実施例12         > 3350時間比較例
A         < 1632時間災施開H 光安定性を、実施例16で製造された板をへりウス・ピ
ー・オー・エッチ(Heraeus POH)によって
製造された暴露装置【キセノテス(Xeno test
) 12001 中で試料ホルダーを回転させながら照
射することによって測定する。照射強度は、d=1.7
11Illの特殊フィルターガラスを用いて調整した。
光安定性は、DIN 53,387 (102分の乾燥
段階、18分の水噴霧段階、ブラックパネル温度45℃
、湿度70χ)に従って測定した。試料は、表面が著し
く脆化するまで暴露させる。
実施例12 比較例A 2315時間 1885時間 次IL匝 光安定性は、実施例16における如く製造した顆粒を実
験室用インフレーション装置で0.1 m難の厚さのフ
ィルムを得る加工をすることによって測定した。このフ
ィルムからDIN 53.455に従って試験体を打ち
抜く (形状3.1:3の比で縮小されている)。
この試験体を、実施例17に記載したのと同じ条件で、
試料ホルダーを回転させながら照射する。照射時間(時
)を測定しそして破断点伸び率を測定した。破断点伸び
率は、引張試験機にて5cm/分の引張速度で測定した
実施例12         875時間比較例八62
5時間 実直■旦 100.00重量部のポリプロピレン粉末(MFI 2
3015:40〜80g/ 10分)に、 0.5  重量部のペンタエリスリチル−テトラキス−
3−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−プロピオナート、 0.10重量部のトリス−(2,4−ジー第三ブチル−
フェニル)ホスフィツトおよび 0.075重量部の試験すべき安定剤 をアセトンに溶解した溶液を添加する。
この混合物を実施例13における如く用いて顆粒を製造
する。
この顆粒を、実験室用インフレーション装置で0,1 
au+の厚さのフィルムを製造する為に用いる。このフ
ィルムから、50X351m!+の寸法の試験体を製造
しそしてこれを実施例17に記載したのと同じ条件のも
とで、試料ホルダーを回転させながら照射する。光安定
性は、暴露された試料のカルボニル数 B (1710cm+−’) E (1260cm−’) の変化をDIN 53.383/2に従う赤外分光器を
用いて測定することによって決めた。カルボニル数の著
しい増加は、ポリプロピレンの酸化に対する感受性が比
較的に高いこと、従って安定性が低いことを示している
実施例12         0.3 比較例Bコ)1.6 3)ドイツ特許第2.719.131号明細書に従うチ
ヌビン(Tinuvin :商標)622裏施脳別 100.00重量部のエチレン−アクリル酸−コポリマ
ー顆粒(エクソン・ケミカル(Exxon Chea+
1cals)よって販売っされたESCN 5110]
の表面を、 0.1  重量部のホスタノックス(Hostanox
:商標) VP ZnC51の商品名で市販されている
加工用安定剤および 0.2  重量部の試験すべき安定剤 にてドラム式ミ、キサー中で被覆する。
次いでこの顆粒を実験代用押出機で押出成形して、平ら
なフィルム(厚さ180μ請、幅40C1l)を得る。
このフィルムからDIN 53.455に従って試験体
を打ち抜((形状3.1:3の比で縮小されている)。
この試験体を、実施例17に記載したのと同じ条件で、
試料ホルダーを回転させながら照射する。照射時間(時
)を測定しそして破断点伸び率を測定した。破断点伸び
率は、引張試験機にて5cm/分の引張速度で測定した
実施例12 比較例A 50 χ 0 χ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、nは2〜50の整数であり、 Yは式(II)または(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、ジアザスピロデカン系中の環位置を示す指数3
    または4の窒素の一つの価票はプロピレン−2−オキシ
    基のCH_2と結合している。)で表される一つの基で
    あり、 R^1は水素原子、酸素原子、No基、炭素原子数1〜
    12のアルキル基、アリル基、炭素原子数1〜22のア
    シル基またはベンジル基であり、R^2およびR^3は
    互いに同じであって水素原子であるかまたは炭素原子数
    1〜5のアルキル基であり、 R^4はその時、メチル基であるか、またはR^2が水
    素原子または炭素原子数1〜5のアルキル基でそして R^3およびR^4は、それらに結合する炭素原子と一
    緒に成って、炭素原子数5または6のシクロアルキル基
    または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を形成し、 R^5およびR^6は互いに同じでも異なっていてもよ
    く、水素原子、炭素原子数1〜30のアルキル基である
    か、無置換のまたは塩素化されたまたは炭素原子数1〜
    4のアルキル基で置換されたフェニル−またはナフチル
    基であるかまたは、無置換のまたは炭素原子数1〜4の
    アルキル基で置換された炭素原子数7〜12のフェニル
    アルキル基であるかまたは R^5およびR^6はそれらに結合している炭素原子と
    一緒に成って、無置換のまたは炭素原子数1〜4のアル
    キル基で一〜四置換された炭素原子数5〜18のシクロ
    アルキル基または式▲数式、化学式、表等があります▼ で表される基を形成しそして R^7は水素原子または炭素原子数1〜22のアシル基
    であるかまたは R^7は末端モノマー単位においては、酸素原子が末端
    CH_3基と結合しそしてオキシラン環を形成するよう
    な意味を有さない。] で表される重合体ポリアルキル−1−オキサ−ジアザス
    ビロデカン。 2)合成ポリマーの安定化の為に請求項1に記載の化合
    物を用いる方法。 3)ポリマーがポリオレフィンである請求項2に記載の
    方法。 4)ポリマーがハロゲン含有ポリマーである請求項2に
    記載の方法。 5)ポリマーがポリアクリレートまたはポリメタクリレ
    ートである請求項2に記載の方法。 6)ポリマーがポリスチレン−ホモ−またはコポリマー
    である請求項2に記載の方法。 7)光りの害的作用に対して合成ポリマーを安定化する
    方法において、ポリマーに場合によっては従来の安定化
    物質の他に、ポリマーを基準として0.01〜10重量
    部の請求項1に記載の安定剤を添加することを特徴とす
    る、上記方法。 8)請求項1に記載の安定剤をポリマーを基準として0
    .01〜10重量部含有する光分解に対して安定化され
    た合成ポリマー。
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