JP3090936B2 - 重合体のポリアルキル―1―オキサ―ジアザスピロデカン類 - Google Patents

重合体のポリアルキル―1―オキサ―ジアザスピロデカン類

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JP3090936B2 JP02155546A JP15554690A JP3090936B2 JP 3090936 B2 JP3090936 B2 JP 3090936B2 JP 02155546 A JP02155546 A JP 02155546A JP 15554690 A JP15554690 A JP 15554690A JP 3090936 B2 JP3090936 B2 JP 3090936B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の利用分野] 本発明は、新規のポリアルキル−1−オキサ−ジアザ
スピロデカン類およびそれを光酸化に対して有機ポリマ
ーを安定化する為の光安定剤として用いることに関す
る。
[従来技術及び発明が解決しようとする課題] 高分子量のポリアルキルピペリジン安定剤、例えばN
−β−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4
−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物は公
知である(米国特許第4,232,131号明細書参照)。この
化合物は市販されている。これは非常に有効であるけれ
ども、全ての点で満足するものではない。
本発明者は、重合体ポリアルキル−1−オキサ−ジア
ザスピロデカン化合物である新規の高度に有効な光安定
剤を見出した。
[発明の構成] 従って本発明は、式(I) [式中、nは2〜50の整数であり、 Yは式(II)または(III) (式中、指数3または4はジアザスピロデカン系中の環
位置を示しそして窒素の一つの結合はプロピレン−2−
オキシ基のCH2と結合している。)で表される一つの基
であり、 R1、R2およびR3は水素原子であり、 R4はメチル基であり、 R5およびR6は互いに同じでも異なっていてもよく、水素
原子、炭素原子数1〜30のアルキル基であるかまたは、 R5およびR6はそれらに結合している炭素原子と一緒に成
って、無置換のまたは炭素原子数1〜4のアルキル基で
一〜四置換された炭素原子数5〜18のシクロアルキル基
であり、 R7は水素原子または炭素原子数1〜22のアシル基である
かまたは R7は、末端モノマー単位の場合に、酸素原子が末端CH2
基と結合しそしてオキシラン環を形成することはな
い。] で表される重合体ポリアルキル−1−オキサ−ジアザス
ピロデカンを提供することである。
この新規の化合物は、式(I) [式中、nは2〜50、殊に2〜20、特に2〜10の整数で
あり、 Yは式(II)または(III) (式中、指数3または4はジアザスピロデカン系中の環
位置を示しそして窒素の一つの結合はプロピレン−2−
オキシのCH2と結合している。)で表される一つの基で
あり、 R1、R2およびR3は水素原子であり、 R4はメチル基であり、 R5およびR6は互いに同じでも異なっていてもよく、水素
原子、炭素原子数1〜30、殊に1〜18、特に1〜5のア
ルキル基であるかまたは、 R5およびR6はそれらに結合している炭素原子と一緒に成
って、無置換のまたは炭素原子数1〜4のアルキル基で
一〜四置換された炭素原子数5〜18、殊に5〜12のシク
ロアルキル基であり、 R7は水素原子または炭素原子数1〜22のアシル基である
かまたは R7は、末端モノマー単位の場合に、酸素原子が末端CH2
基と結合しそしてオキシラン環を形成することはな
い。] で表される。
式(I)の本発明のオリゴマー及びポリマーを製造す
ることのできるモノマー原料(VI)の例には以下のもの
がある: (1)2,2,7,7,9,9−ヘキサメチル−3−(2,3−エポキ
シプロピル)−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ
−スピロ−[4,5]−デカン (2)2,2,7,7,9,9−ヘキサメチル−4−(2,3−エポキ
シプロピル)−1−オキサ−3−オキソ−4,8−ジアザ
−スピロ−[4,5]−デカン (3)2,2,4,4,10,10,12,12−オクタメチル−7−オキ
サ−3,11,14−トリアザ−14−(2,3−エポキシプロピ
ル)−15−オキソ−ジスピロ−[5.1.5.2]−ペンタデ
カン (4)2,7,7,9,9−ペンタメチル−2−オクタデシル−
3−(2,3−エポキシプロピル)−1−オキサ−3,8−ジ
アザ−4−オキソ−スピロ−[4,5]−デカン (5)2,7,7,9,9−ペンタメチル−2−ベンジル−3−
(2,3−エポキシプロピル)−1−オキサ−3,8−ジアザ
−4−オキソ−スピロ−[4,5]−デカン (6)7,7,9,9−テトラメチル−2,2−ジヘプチル−3−
(2,3−エポキシプロピル)−1−オキサ−3,8−ジアザ
−4−オキソ−スピロ−[4,5]−デカン (7)7,7,9,9−テトラメチル−2,2−ジベンジル−3−
(2,3−エポキシプロピル)−1−オキサ−3,8−ジアザ
−4−オキソ−スピロ−[4,5]−デカン (8)7,7,9,9−テトラメチル−2−メチル−3−(2,3
−エポキシプロピル)−1−オキサ−3,8−ジアザ−4
−オキソ−スピロ−[4,5]−デカン (9)7,7,9,9−テトラメチル−2−イソ−ノニル−3
−(2,3−エポキシプロピル)−1−オキサ−3,8−ジア
ザ−4−オキソ−スピロ−[4,5]−デカン (10)2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−3,14−オ
キソ−14−(2,3−エポキシプロピル)−15−オキソ−
ジスピロ−[5.1.5.2]−ペンタデカン (11)2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−3,20−ジ
アザ−20−(2,3−エポキシプロピル)−21−オキソ−
ジスピロ−[5.1.11.2]−ヘンエイコサン (12)2,7,7,9,9−ペンタメチル−2−ウンデシル−1
−オキサ−3−オキソ−4−(2,3−エポキシプロピ
ル)−4,8−ジアザ−スピロ−[4,5]−デカン (13)7,7,9,9−テトラメチル−2−エチル−1−オキ
サ−3−オキソ−4−(2,3−エポキシプロピル)−4,8
−ジアザ−スピロ−[4,5]−デカン (14)7,7,9,9−テトラメチル−2−イソ−ヘプチル−
1−オキサ−3−オキソ−4−(2,3−エポキシプロピ
ル)−4,8−ジアザ−スピロ−[4,5]−デカン (15)2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−3,15−ジ
アザ−15−(2,3−エポキシプロピル)−14−オキソ−
ジスピロ−[5.1.5.2]−ペンタデカン 及びこれら化合物とプロトン酸との塩。
本発明の新規化合物を製造する為のモノマー(VI)
は、式V(式中のHalは塩素原子、臭素原子または沃素
原子、殊に塩素原子を意味する)のエピハロヒドリン中
のハロゲン原子を、式IVで表されるポリアルキルオキサ
ジアザスピロデカン類またはそれとプロトン酸との塩で
以下の反応式に従って塩化水素を除きながら求核置換す
ることによって得られる。次いで、そのオキシランを加
熱することで式Iで表される本発明のオリゴマー及びポ
リマーが形成される: 上記反応式中、基R2、R3、R4、R5、R6、Y、Halおよ
びnは上述の意味を有する。基R1は水素原子であるそし
て基R7も同様に水素原子であるかまたは末端モノマー単
位において、酸素原子が末端のCH2基とオキシラン環を
形成するような意味を有さない。
化合物VIは原料(IV)と(V)とを1:1〜1:5、殊に1:
1〜1:2、特に1:1〜1:1.2のモル比で不活性有機溶剤中で
等モル〜20倍モル量の固体状アルカリ金属水酸化物また
はそれの20〜50%濃度水溶液の相応する量の存在下に、
相転移触媒の使用下に反応させることによって合成され
る。反応温度は20〜120℃、殊に20〜80℃、特に40〜60
℃である。
適する有機溶剤は脂肪族−または芳香族炭化水素、例
えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、ナフサ留分、
トルエン、シクロヘキサン、キシレン等がある。
相転移触媒は、第四アンモニウムおよびハロゲン化ホ
スホニウムより成る群の内の通例の物質を意味する。ポ
リエチレングリコール類およびポリエチレングリコール
類のジアルキルエーテル類も非常に適している。必要と
される量は化合物(IV)を基準として0.1〜5重量%で
ある。
一般に反応は1〜20時間後に完了する。
化合物(VI)は、場合によっては少量の水を添加した
後に、相分離することによって単離される。有機相は水
で数回洗浄し、乾燥剤、例えばNa2SO4またはMgSO4によ
って乾燥しそして濃縮する。これは一般に油状の生成物
である。
この方法で得られたエポキシド類を100〜240℃、殊に
100〜200℃、特に120〜180℃に加熱することで、固体で
非晶質の最初にガラス状の2≦n≦50のポリマーが得ら
れる。重合時間が短いと低い重合度が得られ、長い重合
時間は高い重合度をもたらす。同様に、重合度が温度の
増加と共に高くなる傾向が認められる。
また、このポリマーまたはオリゴマーは、エピクロロ
ヒドリンとアザスピロデカンとの反応の後に、エポキシ
ドを最初に単離せず、全部の反応混合物を上記の高い温
度にしそして重合の終了後に反応混合物を後処理するこ
とによっても製造される。
重合後に、ポリマーの末端第二アミン基は場合によっ
ては自体公知の方法によってその誘導体に転化すること
ができる。
原料として用いられるポリアルキルオキサジアザスピ
ロデカン類は公知であり、米国特許第4,110,334号明細
書および米国特許第4,107,139号明細書に示された指示
に従って得ることができる。
本発明の化合物は有機ポリマー、例えば以下に挙げた
ものにおいて光安定剤として使用される: 1. モノ−およびジ−オレフィンのポリマー、例えばポ
リエチレン(場合によっては架橋しいていてもよいも
の)、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリ−1−
ブテン、ポリメチル−1−ペンテン、ポリイソプレンま
たはポリブタジエン;およびシクロオレフィンのポリマ
ー、例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー。
2. 1.の所に挙げたポリマーの混合物、例えばポリプロ
ピレンとポリエチレンまたはポリイソブチレンとの混合
物。
3. モノ−およびジ−オレフィン相互または他のビニル
モノマーとのコポリマー、例えばエチレン−プロピレン
−コポリマー、−プロピレン−ブテン−1−コポリマ
ー、プロピレン−イソブチレン−コポリマー、エチレン
−ブテン−1−コポリマー、プロピレン−ブタジエン−
コポリマー、イソブチレン−イソプレン−コポリマー、
エチレン−アルキルアクリレート−コポリマー、エチレ
ン−アルキルメタクリレート−コポリマー、エチレン−
ビニルアセテート−コポリマーまたはエチレン−アクリ
ル酸−コポリマーおよびその塩(イオノマー類)、およ
びエチレンとプロピレンとジエン類、例えばヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネ
ンとのターポリマー。
4. ポリスチレン。
5. スチレンまたはα−メチルスチレンとジエン類また
はアクリロイル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン
−ブタジエン、スチレン−無水マレイン酸、スチレン−
アクリロニトリル、スチレン−エチルメタクリレート、
スチレン−ブタジエン−エチルアクリレート、スチレン
−アクリロニトリル−メチルアクリレートのコポリマ
ー;スチレン−コポリマーと他のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエン−ポリマーまたはエチレン−プロ
ピレン−ジエン−ターポリマーの如き他のポリマーとの
高耐衝撃性混合物;また、スチレンのブロックコポリマ
ー、例えばスチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン
−イソプレン−スチレン、スチレン−エチレン/ブチレ
ン−スチレンまたはスチレン−エチレン/プロピレン−
スチレンのブロックコポリマー。
6. スチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジ
エンにスチレンを、ポリブタジエンにスチレンおよびア
クリロニトリルを、ポリブタジエンにスチレンおよび無
水マレイン酸を、ポリブタジエンにスチレンおよびアル
キルアクリレートまたはアルキルメタクリレートを、エ
チレン−プロピレン−ジエン−ターポリマーにスチレン
およびアクリロニトリルを、ポリアルキルアクリレート
またはポリアルキルメタクリレートにスチレンおよびア
クリロニトリルを、アクリレート−ブタジエンコポリマ
ーにスチレンおよびアクリロニトリルをグラフトしたグ
ラフトコポリマー、およびこれらと5.の所に挙げたコポ
リマーとの混合物、例えばABS、MBS、ASAまたはAESポリ
マーの如き公知のもの。
7. ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化−またはクロロスルホナート化ポリ
エチレン、エピクロロヒドリン−ホモ−および−コポリ
マー、特にハロゲン含有ビニル化合物から製造されるポ
リマー類、例えばポリビニルクロライド、ポリビニリデ
ンクロライド、ポリビニルフルオライドおよびポリビニ
リデンフルオライド;また、それらのコポリマー、例え
ばビニルクロライド−ビニリデンクロライド−、ビニル
クロライド−ビニルアセテート−またはビニリデンクロ
ライド−ビニルアセテート−コポリマー。
8. α,β−不飽和酸およびその誘導体から誘導される
ポリマー、例えばポリアクリレート類およびポリメタク
リレート類、ポリアクリルアミド類およびポリアクリロ
ニトリル類。
9. 8の所に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル−ブタ
ジエン−コポリマー、アクリロニトリル−アルキルアク
リレート−コポリマー、アクリロニトリル−アルコキシ
アクリレート−コポリマー、アクリロニトリル−ビニル
ハロゲン化物−コポリマーまたはアクリロニトリル−ア
ルキルメタクリレート−ブタジエン−ターポリマー。
10. 不飽和アルコールおよびアミンまたはそれのアシ
ル誘導体またはアセタールから誘導されるポリマー、例
えばポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポ
リビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリ
ビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリル
フタレートおよびポリアリルメランミン。
11. 環状エーテル類のホモポリマーおよびコポリマ
ー、例えばポリエチレングリコール類、ポリエチレンオ
キサイド、ポリプロピレンオキサイドまたはそれらとビ
スグリシジルエーテルとのコポリマー。
12. ポリアセタール類、例えばポリオキシメチレンお
よびまた、コモノマー、例えばエチレンオキサイドを含
有するポリオキシメチレン類。
13. ポリフェニレンオキサイドおよびポリフェニレン
スルフィド類。
14. 末端水酸基を持つポリエーテル、ポリエステルお
よびポリブタジエンを一方とし、脂肪族または芳香族ポ
リイソシアネートをもう一方とするポリウレタン類およ
びそれの前駆体(ポリイソシアネート−ポリオール−プ
レポリマー)。
15. ジアミンおよびジカルボン酸からおよび/または
アミノカルボン酸または相応するラクタムから誘導され
るポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド
4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、
ポリアミド11、ポリアミド12、ポリ−2,4,4−トリメチ
ルヘキサメチレン−テレフタルアミド、ポリ−m−フェ
ニレン−イソフタルアミド、およびそれらとポリエーテ
ル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコールまたはポリテトラメチルレン−グリコールとの
コポリマー。
16. ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミ
ド。
17. ジカルボン酸およびジオールからおよび/または
ヒドロキシカルボン酸からまたは相応するラクトンから
誘導されるポリエステル、例えばポリエチレン−テレフ
タレート、ポリブチレン−テレフタレート、ポリ−1,4
−ジメチロールシクロヘキサン−テレフタレート、ポリ
(2,2−ビス(4−ヒドロキシ−フェニル)−プロパ
ン)テレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエートおよ
びまた、末端水酸基を持つポリエチレン、ジアルコール
およびジカルボン酸から誘導されるブロック−ポリエー
テル−エステル。
18. ポリカルボナート。
19. ポリスルホンおよびポリエーテルスルホン。
20. アルデヒドを一方としそしてフェノール類、尿素
またはメラミンをもう一方として誘導される架橋したポ
リマー、例えばフェノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン−ホルムアル
デヒド樹脂。
21. 乾性アルキッド樹脂および非乾性アルキッド樹
脂。
22. 飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
とのコポリエステルおよび架橋剤としてのビニル化合物
から誘導される不飽和ポリエステル樹脂およびまた、そ
れのハロゲン含有難燃変性物。
23. 置換されたアクリルエステルから誘導される架橋
可能なアクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウ
レタン−アクリレートまたはポリエステルアクリレート
から誘導されるアクリル樹脂。
24. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂と架橋したアルキッド樹脂、ポリエス
テル樹脂およびアクリレート樹脂。
25. ポリエポキシドから誘導される架橋したエポキシ
樹脂、例えばビス−グリシジルエーテル類または脂環式
ジエポキシド類から誘導される架橋した樹脂。
26. 天然ポリマー、例えばセルロース、天然ゴム、ゼ
ラチンおよびそれらから化学的に転化された重合体同属
の誘導体、例えばセルロースアセテート類、セルロース
プロピオナート類、およびセルロースブチラート類およ
びセルロースエーテル類、例えばメチルセルロース。
27. 上記ポリマーの混合物、例えばPP/EPDM、ポリアミ
ド6/HPDMまたはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC/A
BS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVD/アクリ
レート、POM/熱可塑性PU、POM/アクリレート、POM/MB
S、PPE/HIPS、PPE/ポリアミド6.6およびコポリマー、PA
/HDPE、PA/PPおよびPA/PPE。
28. 純粋なモノマーまたはモノマー混合物である天然
に産する有機物質および合成有機物質、例えば鉱油、動
物−および植物脂肪、−油および−ワックス、または合
成エステルをベースとする油、脂肪およびワックスまた
はこれらの物質の混合物。
29. 天然−または合成ゴムの水性分散物。
新規の安定剤は一般に有機ポリマー中に慣用の方法に
よって混入する。この混入は例えば、各成分および場合
によっては他の添加物を成形前または−間に溶融物と混
合することによって実施することができる。この混入は
また、溶解したまたは分散した化合物を直接的にポリマ
ーに導入することによってまたはこれらの化合物をポリ
マーの溶液、懸濁物またはエマルジョンと混合し、場合
によっては次いで溶剤を蒸発することによって実施する
こともできる。ポリマーに添加すべき量は、安定化すべ
き物質を基準として1.0重量%以上である。
新規の化合物は、安定化すべきポリマーにこれらの化
合物を2.5〜50、好ましくは5.0〜20重量%の濃度で含む
マスターバッチの状態で添加してもよい。
更に、安定化すべき有機ポリマーは、例えば以下に挙
げる種類の別の酸化防止剤を含有していてもよい: 1. アルキル化モノフェノール類、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、 2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−4−エチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−4−n−ブチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−4−i−ブチルフェノール、 2,6−ジ−シクロペンチル−4−メチルフェノール、 2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチル
フェノール、 2,6−ジ−オクタデシル4−メチルフェノール、 2,4,6−トリ−シクロヘキシルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−4−メエトキシメチルフェノ
ール。
2. アルキル化ハイドロキノン類、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシフェノール、 2,5−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、 2,5−ジ−第三アミル−ハイドロキノン、 2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノー
ル。
3. ヒドロキシレート化チオジフェニルエーテル類、例
えば 2,2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、 2,2′−チオ−ビス−(4−オクチルフェノール)、 4,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−3−メチル
フェノール)、 4,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−2−メチル
フェノール)。
4. アルキリデン−ビスフェノール類、例えば 2,2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル−4−メ
チルフェノール)、 2,2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル−4−エ
チルフェノール)、 2,2′−メチレン−ビス−[4−メチル−6−(α−
メチルシクロヘキシル)−フェノール]、 2,2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6−シクロ
ヘキシルフェノール)、 2,2′−メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチル
フェノール)、 2,2′−メチレン−ビス−(4,6−ジ−第三ブチルフェ
ノール)、 2,2′−エチリデン−ビス−(4,6−ジ−第三ブチルフ
ェノール)、 2,2′−エチリデン−ビス−(6−第三ブチル−4−
イソブチルフェノール)、 2,2′−メチレン−ビス−[6−(α−メチルベンジ
ル)4−ノニルフェノール]、 2,2′−メチレン−ビス−[6−(α,α−ジメチル
ベンジル)−4−ノニルフェノール]、 4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−第三ブチルフェ
ノール)、 4,4′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル−2−メ
チルフェノール)、 1,1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェニル)−ブタン、 2,6−ジ−(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒド
ロキシベンジル)−4−メチルフェノール、 1,1,3−トリス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ
−2−メチルフェニル)−ブタン、 1,1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタ
ン、 ジ−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチル
フェニル)−ジシクロペンタジエン、 ジ−[2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−
5′−メチルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチル
フェニル]−テレフタレート、 エチレングリコール−ビス−[3,3′−ビス(3′−
第三ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)ブチラー
ト]。
5. ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)−2,4,6−トリ−メチルベンゼン、 ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−スルフィド、 イソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル−メルカプトアセテート、 ビス−(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジ
メチルベンジル)−ジチオール−テレフタレート、 1,3,5−トリス−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)−イソシアヌレート、 1,3,5−トリス−(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ
−2,6−ジメチルベンジル)−イソシアヌレート、 ジオクタデシル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル−ホスホナート、 モノ−エチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル−ホスホナートのカルシウム塩。
6. アシルアミノフェノール類、例えば 4−ヒドロキシ−ラウラニリド、 4−ヒドロキシ−ステアラニリド、 2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−s−トリアジ
ン、 オクチル−N−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)−カルバマート。
7. β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)−プロピオン酸と一価−または多価アルコール
類、例えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレ
ン−グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキ
シエチル−イソシアヌレート、ジ−ヒドロキシエチルオ
キサミド等とのエステル。
8. β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチ
ルフェニル)−プロピオン酸と一価または多価アルコー
ル、例えばメタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレ
ン−グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキ
シエチル−イソシアヌレート、ジ−ヒドロキシエチルオ
キサミド等とのエステル。
9. β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)−プロピオン酸のアミド類、例えば N,N′−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)−ヘキサメチレンジアミン、 N,N′−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)−トリメチレンジアミン、 N,N′−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)−ヒドラジン。
更に、安定化すべきポリマーは別の添加物、例えば以
下のものを含有していてもよい: 1. 紫外線吸収剤および光安定剤 1.1 2−(2′−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリ
アゾール類、例えば 5′−メチル−、3′,5′−ジ−第三ブチル−、5′
−第三ブチル−、5′−(1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル)−、5−クロロ−3′,5′−ジ−第三ブチル−、5
−クロロ−3′−第三ブチル−5′−メチル−、3′−
第二ブチル−5′−第三ブチル−、4′−オクトキシ
−、3′,5′−ジ−第三アミル−、3′,5′−ビス−
(α,α−ジメチルベンジル)誘導体。
1.2 2−ヒドロキシベンゾフェノン類、例えば 4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ
−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−
ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−、
2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。
1.3 場合によって置換された安息香酸のエステル、例
えば 4−第三ブチル、フェニル−サルチラート、フェニル
−サルチラート、オクチルフェニル−サルチラート、ジ
ベンゾイルレゾルシノール、ビス−(4−第三ブチルベ
ンゾイル)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノー
ル、2,4−ジ−第三ブチルフェニル−3,5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−ベンゾエート、ヘキサデシル−3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
1.4 アクリレート類、例えば エチル−α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレー
トおよびイソオクチル−α−シアノ−β,β−ジフェニ
ルアクリレート、エチル−α−カルボメトキシ−シンナ
マート、メチル−α−シアノ−β−メチル−p−メトキ
シシナマートおよびブチル−α−シアノ−β−メチル−
p−メトキシシナマート、メチル−α−カルボメトキシ
−p−メトキシシナマートおよびN−(β−カルボメト
キシ−β−シアノ−ビニル)−2−メチル−インドリ
ン。
1.5 ニッケル化合物、例えば 2,2′−チオ−ビス−[4−(1,1,3,3−テトラメチル
−ブチル)−フェノール]のニッケル鎖塩、例えば場合
によっては追加的配位子、例えばn−ブチルアミン、ト
リエタノールアミンまたはN−シクロヘキシル−ジエタ
ノールアミンを持つ1:1−または1:2−錯塩、アルキルニ
ッケル−ジチオカルバマート類、モノアルキル−4−ヒ
ドロキシ−3,5−ジ−第三ブチル−ベンジルホスホナー
ト類のニッケル塩、例えばメチル−またはエチルエステ
ルのそれら、ケトオキシム類のニッケル錯塩、例えば2
−ヒドロキシ−4−メチルフェニル−ウンデシル−ケト
オキシムのそれら、1−フェニル−4−ラウロイル−5
−ヒドロキシピラゾールの、場合によっては追加的配位
子をもつニッケル鎖塩および2−ヒドロキシ−4−アル
コキシベンゾフェノン類のニッケル塩。
1.6 立体障害アミン類、例えば 1.6.1 ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セ
バケート、 ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)セバ
ケート、 ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−グル
タレート、 ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−グ
ルタレート、 ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−スク
シナート、 ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−ス
クシナート、 4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン、 4−ステアリルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピ
ペリジン、 4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン、 4−ステアロイルオキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチル
ピペリジン、 2,2,6,6−テトラメチルピペリジル−ベヘナート、 1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル−ベヘナート、 2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−3,20−ジアザ
ジスピロ[5.1.11.2]−ヘンエイコサン−21−オン、 2,2,3,4,4−ペンタメチル−7−オキサ−3,20−ジア
ザジスピロ[5.1.11.2]−ヘンエイコサン−21−オン、 2,2,4,4−テトラメチル−3−アセチル−7−オキサ
−3,20−ジアザジスピロ−[5.1.11.2]−ヘンエイコサ
ン−21−オン、 2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−3,20−ジアザ
−20−(β−ラウリロキシカルボニルエチル)−21−オ
キソ−ジスピロ−[5.1.11.2]−ヘンエイコサン、 2,2,3,4,4−ペンタメチル−7−オキサ−3,20−ジア
ザ−20−(β−ラウリロキシカルボニルエチル)−21−
オキソ−ジスピロ−[5.1.11.2]−ヘンエイコサン、 2,2,4,4−テトラメチル−3−アセチル−7−オキサ
−3,20−ジアザ−20−(β−ラウリロキシカルボニルエ
チル)−21−オキソ−ジスピロ−[5.1.11.2]−ヘンエ
イコサン、 1,1′3,3′,5,5′−ヘキサヒドロ−2,2′,4,4′,6,
6′−ヘキサアザ−2,2′,6,6′−ビスメタノ−7,8−ジ
オキソ−4,4′−ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4
−ピペリジル)−ビフェニル、 NN′N″N−テトラキス−{2,4−ビス−[N−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−ブチル
アミノ]−1,3,5−トリアジン−6−イル}−4,7−ジア
ザデカン−1,10−ジアミン、 NN′N″N−テトラキス−{2,4−ビス−[N−
(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−ブチ
ルアミノ]−1,3,5−トリアジン−6−イル}−4,7−ジ
アザデカン−1,10−ジアミン、 NN′N″N−テトラキス−{2,4−ビス−[N−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−メトキ
シプロピルアミノ]−1,3,5−トリアジン−6−イル}
−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、 NN′N″N−テトラキス−{2,4−ビス−[N−
(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−メト
キシプロピルアミノ]−1,3,5−トリアジン−6−イ
ル}−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、 ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−n
−ブチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル−マロナート、 トリス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジ
ル)−ニトリロトリアセタート、 テトラキス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、 1,1′−(1,2−エタンジイル)−ビス−(3,3,5,5−
テトラメチル−ピペラジノン)。
1.6.2. ポリ−N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル
−4−ピペリジル)−1,8−ジアザデシレン、 1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシ−ピペリジンとコハク酸との縮合
生成物、 N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)−ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルア
ミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成
物、 N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリ
ジル)−ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,
6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物。
多くの場合、本発明の化合物と1.6.1の所に挙げた化
合物との組合せが特に有利である。
1.7 オキシアミド類、例えば 4,4′−ジ−オクチルオキシ−オキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル
−オキサニリド、 2,2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチル−
オキサニリド、 2−エトキシ−2′−エチル−オキサニリド、 N,N′−ビス−(3−ジメチレンアミノプロピル)−
オキサニリド、 2−エトキシ−5−第三ブチル−2′−エチルオキサ
ニリドおよび これと2−エトキシ−2′−エチル−5,4−ジ−第三
ブチル−オキサミドとの混合物、 オルト−およびパラ−メトキシ置換されたオキサニリ
ドの混合物および−および−エトキシ−二置換され
たオキサニリドの混合物。
2. 金属不活性化剤、例えば N,N′−ジフェニルオキサミド、 N−サリチラル−N′−サリチロイル−ヒドラジン、 N,N′−ビス−サリチロイル−ヒドラジン、 N,N′−ビス−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シフェニルプロピオニル)−ヒドラジン、 3−サリチロイル−アミノ−1,2,3−トリアゾール、 ビス−ベンジリデン−蓚酸−ジヒドラジド。
3. ホスフィット類およびホスホニット類、例えば トリフェニル−ホスフィット、ジフェニル−アルキル
−ホスフィット、フェニル−ジアルキルホスフィット、
トリスノニルフェニル−ホスフィット、トリラウリル−
ホスフィット、トリオクタデシル−ホスフィット、ジス
テアリル−ペンタエリスリチル−ジホスフィット、トリ
ス−(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、
ジイソデシル−ペンタエリスリチル−ジホスフィット、
ビス−(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ペンタエリス
リチル−ジホスフィット、トリステアリル−ソルビチル
−トリスホスフィット、テトラキス−(2,4−ジ−第三
ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレン−ジホスホニ
ット、3,9−ビス−(2,4−ジ−第三ブチルフェノキシ)
−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ
[5,5]−ウンデカン、トリス−(2−第三ブチル−4
−チオ−(2′−メテニル−4′−ヒドロキシ−5′−
第三ブチル)−フェニル−5−メテニル)−フェニル−
ホスフィット。
4. 過酸化物分解剤、例えば β−チオ−ジプロピオン酸のエステル類、例えばラウ
リル−、ステアリル−、ミリスチル−またはトリデシル
−エステル類、メルカプトベンズイミダゾール、2−メ
ルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、アルキル亜鉛−
ジチオカルバマート類、ジオクタデシル−スルフィド、
ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ドデシルメ
ルカプト)−プロピオナート。
5. 基礎的補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミ
ド、トリアリル−シアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン類、ポリアミン類、ポリウレタン類、
高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属
塩、またはフェノラート類、例えばステアリン酸カルシ
ウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、
リシノール酸ナトリウム、パルミチン酸カリウム、アン
モニウム−カテコーラートまたは錫−カテコラート、ア
ルカリ土類金属またはアンモニアの水酸化物および酸化
物、例えばCaO、MgO、ZnO。
6. 核化剤、例えば 4−第三ブチル−安息香酸、アジピン酸、ジフェニル
酢酸、ジベンジリデンソルビトール。
7. フィラーおよび補強剤、例えば 炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物
および−水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。
8. 他の添加物、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、難燃
剤、帯電防止剤、発泡剤。
上記の1〜6の群の内の種々の追加的添加物を、安定
化すべきポリマーに、成形用組成物の全重量を基準とし
て0.1〜10重量%、殊に0.01〜5重量%の量で添加す
る。7および8の群の内の添加物の割合は、成形用組成
物全体を基準として1〜80重量%、殊に10〜50重量%で
ある。
本発明に従って安定化した有機ポリマーは、色々な形
状、例えばフィルム、繊維、テープ状物、形材としてま
たは塗料、接着材または漆喰の為の結合剤として使用す
ることができる。
従来技術の重合体安定剤は、有効であるだけでなく揮
発性、移行抵抗(低い滲出性に等しい)および熱安定性
をも含めた重要な用途上のパラメーターの全部について
の工業的要求を満足していないという欠点を有してい
る。反対に、本発明の新規の安定剤はこれらの要求を十
分に満足している。これらは非常に有効な安定剤であり
且つ、物理的性質を基礎とする欠点を実質的に有してい
ない。
本発明を以下の実施例によって更に詳細に説明する。
実施例1 2,2,7,7,9,9−ヘキサメチル−1−オキサ−3−(2,3−
エポキシプロピル)−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピ
ロ−[4.5]−デカンおよびそれから得られるオリゴマ
ー。
150cm3のトルエンに、引き続いて24.0g(0.1mol)の
2,2,7,7,9,9−ヘキサメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ
−4−オキソ−スピロ−[4.5]−デカン、18.5g(0.2m
ol)のエピクロロヒドリン、5滴のトリカプリルメチル
アンモニア−クロライド[Fluka社のアリクアート(商
標:Aliquat)336]および40gの50%濃度水酸化ナトリウ
ム溶液(NaOH約0.5mol)を添加し、次いでこの反応混合
物を65℃で16時間攪拌する。攪拌機のスイッチを切った
後に、二つの透明な相が生じる。これらを互いに分離す
る。有機相を50cm3の水で三回洗浄し、50gの硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、室温において1gの活性炭と一緒に30分攪
拌しそして濾過する。揮発性成分を減圧下に除く。この
ものは無色の油状物であり、加熱時にエポキシ化合物を
もたらす。この化合物を170℃に3時間加熱し、この条
件のもとで重合して、130〜184℃の融点を持つ無色の固
体樹脂をもたらす。粘度数(トルエンに溶解した1重量
%濃度溶液にて25℃でDIN53,728号に従って測定した)
は0.03であった。
実施例2〜12 実施例1で用いた操作を繰り返す。後記の表に、実験
条件および、各例に関連するモノマー−およびポリマー
物質のデータを示す。第2欄(化合物No.)は明細書の
第11〜13頁に代表的なモノマー原料の表に対応し、これ
らから何れの場合にもポリアルキルジアザスピロデカン
が得られる。
以下の実施例は、新規化合物が従来技術に比較して優
れていることを実証している。
実施例13 100.00重量部のポリプロピレン粉末(MFI230/5:2〜5g
/10分)に、攪拌しながら 0.20重量部のステアリン酸カルシウム、 0.15重量部のグリコール−ビス[3,3−ビス(4′
−ヒドロキシ−3′−第三ブチル−フェニル)−ブタノ
アート]、 0.05重量部のジオクタデシル−ジスルフィド、 65.00重量部のタルク(Lussenac社のOOSタイプ)お
よび 0.50重量部の試験すべき安定剤 より成る混合物(アセトン溶液)を添加する。
溶剤を回転式蒸発器で除き、この混合物を実験室用押
出機(ショート・コンプレッション・ゾーン・スクリュ
ー、スクリュー直径:20mm、長さ:20D、ノズルの縦方向
長さ:30mm、ノズルの直径:2mm、スクリュー速度:125回
転/分)を用いて押出成形する。Windsor射出成形機SP5
0タイプで顆粒を射出成形し、60×60×1mmの板を得る。
T−型試験体をこの板から打ち抜く。
耐加熱老化性は、空気循環式乾燥炉内で、回転皿を備
えた電動式炎中にこの試験体を吊しそして新鮮な空気を
間断なく供給しながらこの試験体を140℃で熱応力に委
ねることによって測定する。
初期の局所的脆化が若干の点で生じるまでの期間を測
定する。この期間は変色した部分、濁った部分、時には
脆い部分の形成によってDIN53,383に従って示される。
結果を第2表に示す。
1):ドイツ特許第2,636,144号明細書に従うチマソル
ブ(Chimasorb:商標)944 実施例14 100.00重量部のポリエチレン粉末(MFI190/2.16:2〜5
g/10分)に、 0.2重量部の試験すべき安定剤 のアセトン溶液を添加する。この混合物を実施例13と同
様に用いて、1mmの厚さの板を製造する。
耐加熱老化性を、乾燥炉中でこの板を100℃での熱応
力に委ねることによって測定した。
4週間後に、板の黄変をASTM D1925−70に従う黄色度
指数によって測定する[ハンターラブ(Hunterlab)比
色計モデルD25 M−2)。
2):試験すべき如何なる安定剤も用いてない 実施例15 100.00重量部のポリエチレン粉末(密度:0.944g/c
m2、MFI190/2.16:0.5g/10分)に、 0.2g重量部の試験すべき安定剤 のアセトン溶液を添加する。この混合物を用いて実施例
13と同様に、1mmの厚さの板を製造する。
耐加熱老化性を、実施例14における如くこの板を処理
しそして実施例14における如く4週間後に黄色度指数を
測定することによって決定する。
実施例16 100.00重量部のポリプロピレン粉末(MFI230/5:2〜5g
/10分)に攪拌しながら 0.10重量部のステアリン酸カルシウム、 0.05重量部のグリコール−ビス[3,3−ビス(4′
−ヒドロキシ−3′−第三ブチル−フェニル)−ブタノ
アート]、 0.10重量部のトリス−(2,4−ジ−第三ブチル−フ
ェニル)−ホスフィットおよび 0.50重量部の試験すべき安定剤 をアセトンに溶解した溶液を添加する。
実施例13におけるのと同様に、この混合物を用いて顆
粒を製造する。この顆粒を用いて実施例13におけるのと
同様に1mmの厚さの板を製造する。
“太陽光照射装置”[ヘリウス・ピー・オー・エッチ
(Heraeus POH)によって製造された太陽光試験(Sunte
st)装置、紫外線フィルター組合せ物“赤外線反射皮膜
を持つ紫外線特殊ガラス”、ブラックパネル温度55℃±
5℃、給湿せず、雨状噴霧せず、32cmの区間を照射す
る]中で試験体を長期間の照射に委ねることによって光
安定性を測定した。
表面が顕著に脆化するまで暴露した試験体を(視覚的
に)評価した。
実施例17 光安定性を、実施例16で製造された板をヘリウス・ピ
ー・オー・エッチ(Heraeus POH)によって製造された
暴露装置[キセノテス(Xenotest)1200]中で試料ホル
ダーを回転させながら照射することによって測定する。
照射強度は、d=1.7mmの特殊フィルターガラスを用い
て調整した。光安定性は、DIN53,387(102分の乾燥段
階、18分の水噴霧段階、ブラックパネル温度45℃、湿度
70%)に従って測定した。試料は、表面が著しく脆化す
るまで暴露させる。
実施例18 光安定性は、実施例16における如く製造した顆粒を実
験室用インフレーション装置で0.1mmの厚さのフィルム
を得る加工をすることによって測定した。このフィルム
からDIN53,455に従って試験体を打ち抜く(形状3、1:3
の比で縮小されている)。
この試験体を、実施例17に記載したのと同じ条件で、
試料ホルダーを回転させながら照射する。照射時間
(時)を測定しそして破断点伸び率を測定した。破断点
伸び率は、引張試験機にて5cm/分の引張速度で測定し
た。
実施例19 100.00重量部のポリプロピレン粉末(MFI230/5:40〜8
0g/10分)に、 0.5 重量部のペンタエリスリチル−テトラキス−3
−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
−プロピオナート、 0.10重量部のトリス−(2,4−ジ−第三ブチル−フ
ェニル)ホスフィットおよび 0.075重量部の試験すべき安定剤 をアセトンに溶解した溶液を添加する。
この混合物を実施例13における如く用いて顆粒を製造
する。
この顆粒を、実験室用インフレーション装置で0.1mm
の厚さのフィルムを製造する為に用いる。このフィルム
から、50×35mmの寸法の試験体を製造しそしてこれを実
施例17に記載したのと同じ条件のもとで、試料ホルダー
を回転させながら照射する。光安定性は、暴露された試
料のカルボニル数 の変化をDIN53,383/2に従う赤外分光器を用いて測定す
ることによって決めた。カルボニル数の著しい増加は、
ポリプロピレンの酸化に対する感受性が比較的に高いこ
と、従って安定性が低いことを示している。
3)ドイツ特許第2,719,131号明細書に従うチヌビン(T
inuvin:商標)622 実施例20 100.00重量部のエチレン−アクリル酸−コポリマー顆
粒[エクソン・ケミカル(Exxon Chemicals)よって販
売されたESCN5110]の表面を、 0.1 重量部のホスタノックス(Hostanox:商標)VP
ZnCS1の商品名で市販されている加工用安定剤および 0.2 重量部の試験すべき安定剤 にてドラム式ミキサー中で被覆する。
次いでこの顆粒を実験式用押出機で押出成形して、平
らなフィルム(厚さ180μm、幅40cm)を得る。このフ
ィルムからDIN53,455に従って試験体を打ち抜く(形状
3、1:3の比で縮小されている)。
この試験体を、実施例17に記載したのと同じ条件で、
試料ホルダーを回転させながら照射する。照射時間
(時)を測定しそして破断点伸び率を測定した。破断点
伸び率は、引張試験機に5cm/分の引張速度で測定した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲルハルト・プフアーレル ドイツ連邦共和国、アウグスブルク、カ ールスバーデル・ストラーセ、27 (72)発明者 ギユンテル・ノウィ ドイツ連邦共和国、アイシユテッテン、 ルイーゼンルー ウエーク、13 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 73/00 C08K 5/00

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式(I) [式中、nは2〜50の整数であり、 Yは式(II)または(III) (式中、指数3または4はジアザスピロデカン系中の環
    位置を示しそして窒素の一つの結合はプロピレン−2−
    オキシ基のCH2と結合している。)で表される一つの基
    であり、 R1、R2およびR3は水素原子であり、 R4はメチル基であり、 R5およびR6は互いに同じでも異なっていてもよく、水素
    原子、炭素原子数1〜30のアルキル基であるかまたは、 R5およびR6はそれらに結合している炭素原子と一緒に成
    って、無置換のまたは炭素原子数1〜4のアルキル基で
    一〜四置換された炭素原子数5〜18のシクロアルキル基
    であり、 R7は水素原子または炭素原子数1〜22のアシル基である
    かまたは R7は、末端モノマー単位の場合に、酸素原子が末端CH2
    基と結合しそしてオキシラン環を形成することはな
    い。] で表される重合体ポリアルキル−1−オキサ−ジアザス
    ピロデカン。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の化合物を合成ポリマーの
    安定化に用いる方法。
  3. 【請求項3】ポリマーがポリオレフィンである請求項2
    に記載の方法。
  4. 【請求項4】ポリマーがハロゲン含有ポリマーである請
    求項2に記載の方法。
  5. 【請求項5】ポリマーがポリアクリレートまたはポリメ
    タクリレートである請求項2に記載の方法。
  6. 【請求項6】ポリマーがポリスチレン−ホモ−またはコ
    ポリマーである請求項2に記載の方法。
  7. 【請求項7】光りの害的作用に対して合成ポリマーを安
    定化する方法において、ポリマーにポリマーを基準とし
    て0.01〜10重量部の請求項1に記載の重合体ポリアルキ
    ル−1−オキサ−ジアザスピロデカンを添加することを
    特徴とする、上記方法。
  8. 【請求項8】請求項1に記載の重合体ポリアルキル−1
    −オキサ−ジアザスピロデカンをポリマーを基準として
    0.01〜10重量部含有する光分解に対して安定化された合
    成ポリマー。
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