JPH02225336A - 磁気ヘッド並びにその製造方法及び磁気記録再生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 未発ＩＩＪＩは、磁気記録再生装置に用いる磁気ヘッド
に係り、特に磁気特性、耐摩耗性、耐久性及び量産性に
優れた磁気ヘッド並びにその製造方法及び磁気記録再生
装置に関する。

〔従来の技術〕

従来の磁気Ｉ＼ラッド、磁気コア材としてフェライトが
用いられていた。該磁気コアの接合には、非磁性であり
、また、フェライトの熱膨張係数と合い、しかも耐候性
、耐摩耗性、強度なども必要とされることから接合温度
が７００℃程度のガラスが使用されていた。一般にガラ
スは、接合温度が高いものほど、熱膨張係数が小さく、
耐候性、耐摩耗性、強度などが優れている。

近年、ＶＴＲなどの磁気記録再生装置の高密度記録化を
図るために、記録媒体の高保持力化、記録テープやディ
スクの高速化などが進められ、磁気ヘッドには磁気コア
材として飽和磁束密度が５ｏｏｏａ以上の高い値を有す
る磁性合金膜が使用されるようになった。このような磁
気ヘッドは、支持基板に形成した磁性合金膜からなる一
対の磁気コアが非磁性ギャップ材を介して互いに突き合
わせ、ガラスで接合した構造となっている。このため、
この磁気ヘッドを製造するにあたり、接合ガラスと支持
基板の熱膨張係数を磁性合金膜のそれに合わせる必要が
ある。この磁性合金膜としては、現在、ＣＯ系非晶質合
金やセンダスト系合金（Ｆｅ−８ｉ−ＡＱ系合金）が特
に注目を集めている。一般にこのような合金は熱膨張係
数がフェライトより大きく、Ｃｏ系非晶質合金で１２０
Ｘ１０−７／℃前後、センダスト系合金で１５０Ｘ１０
−’／”Ｃ０１Ｊ後である。このため、磁気コアの接合
には磁性合金膜の熱膨張係数と同程度のガラスを用いる
必要がある。この熱膨張差が大きいと、磁性合金膜に応
力がかかり、磁気特性が劣化したり、磁性合金膜やガラ
スがはがれてしまう問題が発生する。したがって、フェ
ライトヘッドに用いる接合ガラスは、磁性合金膜を用い
る磁気ヘッドにはもはや使用することはできない。そこ
で、熱膨張係数が大きいＰｂＯを主成分とするｐｂｏ−
Ｂ２０．系ガラスが用いられていた。この系のガラスは
ＰｂＯの含有量が多いほど、熱膨張係数が大きく、シか
も接合温度を５００℃以下と低くできるという特徴があ
る。このため、この系のガラスは磁性合金膜としてＣｏ
系非晶質合金を用いる場合には、この合金を結晶化させ
ることなく接合できるので、特に有効に用いられてきた
。しかし、フェライトヘッドに使用されていた接合ガラ
スと比較すると、機械的性質や耐候性が著しく劣るため
、磁気ヘッドの加工・組立て・洗浄時にクラック、ワレ
、洗浄液による侵食等が発生しやすいという問題があっ
た。これが原因で磁気ヘッドの製造歩留りが低かった。

また、記録テープなどを走行させたときに、ガラス接合
部にキズがつきやすく、更に摩耗しやすいという問題も
あった。これが原因で、記録媒体が磁気ヘッドに付着し
、磁気特性を劣化させた。そこで、これらの問題を解決
するために、特開昭６２−７８１２８号公報及び同６２
−８８１０９号公報に記載のようなガラス組成物や磁気
ヘッドが提案されている。これらの従来の発明には、熱
膨張係数が１００×１０−７ｉ℃以下のＶ２Ｏ５−Ｐ２
Ｏ５−８ｂ２ｏ、系ガラスが用いられている。磁性合金
膜としてセンダスト系合金を用いる場合には、この合金
の耐熱温度が約６５０℃であるので、磁気コアの接合は
、この耐熱温度未満で行う必要がある。この温度以上で
はセンダスト系合金の磁気特性が著しく劣化する。

この点、低温でガラス接合できる１）ｂｏ−Ｂ２０゜系
ガラスは問題はない。しかし、センダンスト系合金は熱
膨張係数が１５０Ｘ１０−７／℃程度と非常に大きいた
め、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ，系ガラスでさえもこれに合わせる
ことは不可能であった。この系のガラスでは、熱膨張を
大きくしてもせいぜい１３０×１０−’／”Ｃ程度であ
る。また、この系のガラスは、熱膨張係数が大きいほど
、接合温度が低くなるが、機械的性質や耐候性がより劣
化するという問題があった。そこで、これらの問題を解
決するために、特開昭６１−１５８８６０号公報に記載
のような接着剤が提案されている。この従来の発明は、
ＰｂＯを主成分とするｐｂｏ−Ｂ２Ｏ５−５ｉＯ，系ガ
ラスにＮ　ａ　Ｏ、やＣａＯを配合することによって、
熱膨張係数をセンダスト系合金のそれに合わせるといっ
たものである。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術は、磁性合金膜を用いた高性能磁気ヘッド
に適した接合ガラスが用いられていないため、磁気ヘッ
ドの磁気特性、耐摩耗性、耐久性、量産性などをそれぞ
れ満足したものでなかった。

特開昭６２−７８１２８号公報及び同６２−８８１０９
号公報に記載された発明では、磁性合金膜と接合ガラス
の熱膨張係数のマツチングが悪いため、磁性合金膜の磁
気特性劣化、及び磁性合金膜または接合ガラスのはがれ
が発生するといった問題があった。また、特開昭６１−
１５８８６０号公報に記載された発明では、磁性合金膜
と接合ガラスの熱膨張係数のマツチングは配慮されてい
るが、接合ガラスの機械的性質や耐候性が劣るため、磁
気ヘッドの加工・組立て・洗浄において、クラック、ワ
レ、洗浄液による侵食等が発生するといった問題があっ
た。しかも、この磁気ヘッドに記録テープなどを走行さ
せたときに、ガラス接合部にキズがつき、更に摩耗する
といった問題もあった。

本発明の目的は磁性合金膜の熱膨張係数に合わせること
ができ、さらに従来のガラスより変形温度が低く、しか
も硬度が高いガラスを磁気コアの接合に用いることによ
って磁気特性、耐摩耗性、耐久性及び量産性の優れた磁
気ヘッド及びその製造方法を提供することにある。

本発明の他の目的は、上記目的を達成するための磁気ヘ
ッド用接合ガラスを提供することにある。

また、上記磁気ヘッドを用いた高性能磁気記録再生装置
を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記ｌ］的を達成するために、本発明は、支持基板及び
この支持基板に設けられた磁性合金膜とを備えた磁気コ
アと、一対の前記磁気コアの間隙をあけて対向する前記
磁性合金膜間に設けられて前記一対の磁気コアを一体化
すると共に熱膨張係数が１．　ＯＯＸ　１０−７／℃を
越える範囲のＰｂＯ−Ｐ２Ｏ，−ｐ、０５系の接合ガラ
スと、を備えた磁気ヘッドである。ここで、接合ガラス
は更に５ｂ２０．。

Ｂ　ｉ２０．、ＢａＯ，ＴＱ２Ｏ５Ｆｅ２Ｏ３，ＴｉＯ
，。

Ｚ　ｎ　Ｏ、Ｃｄ　Ｏ、Ｍ　ｇ○及びＡａ２Ｏ５のうち
少なくとも一種以上の成分を含むものがよい。

また１本発明は、支持基板及びこの支持基板に設けられ
た磁性合金膜とを備えた磁気コアと、対の前記磁気コア
の間隙をあけて対向する荊記磁性合金膜間に設けられて
前記一対の磁気コアを一体化すると共に下記（］）〜（
３）の条件を全て充たす接合ガラスと、を備えた磁気ヘ
ッドである。

（１）接合ガラスの熱膨張係数は、１００ＸｉＯ−７〜
１．６０　ｘ　１０−’／”Ｃの範囲で制御できる。

（２）接合ガラスの変形温度は、５００℃以下である。

（３）接合ガラスのマイクロビッカース硬度Ｈｖは３２
０以上である。

前記条件のうち、条件（２）の変形温度は４．３０℃以
下であり、条件（３）のＨｖは３３０以上であるものが
特によい。

前記磁気ヘッドにおいて、前記磁性合金膜の具体例とし
てはＣｏ系非晶質合金、センダスト系合金、パーマロイ
、アルパーム又はＦｅ−Ｃ系合金であるものが挙げられ
る。また、前記磁性合金膜の熱膨張係数は、１１．ＯＸ
ｌ、Ｏ−’〜１．７０　Ｘ　１０〜７／℃であるものが
挙げられる。

前記磁気ヘッドにおいて、前記支持基板の具体例として
熱膨張係数は１００×１０−７／℃以上であり且つＨｖ
は６００以上であるもの、または非磁性セラミックスで
あるものが挙げられる。

また、本発明は、ｐｂｏ−■、○ｓ　　Ｐ２Ｏ５系のガ
ラスであって、その熱膨張係数は１００×１０−７／℃
を越える範囲のものである磁気ヘッド用接合ガラスであ
る。

また、本発明は下記（１）〜（３）の条件を全て充たす
磁気ヘッド用接合ガラスである。

（１）接合ガラスの熱膨張係数は、１００×１０−’〜
１６０Ｘ１０″″７／℃の範囲で制御できる。

（２）接合ガラスの変形温度は、５００℃以下である。

（３）接合ガラスのマイクロビッカース硬度Ｈ■は３２
０以上である。

前記磁気ヘッド用接合ガラスにおいて、ｐｂｏの含有量
は２５ｗｔ％以上であるもの又は、Ｐ２Ｏ、の含有量は
５５ｗｔ％以下であるものが挙げられる。

また１本発明はｐｂｏを２５〜６５　ｗ　ｔ％、Ｐ２Ｏ
，を１５〜５５ｗｔ％及びＰ２Ｏ，を１５〜５゜ｗｔ％
の範囲で主成分として含む磁気ヘッド用接合ガラスであ
る。ここで、ｐｂｏを３０〜６５ｗｔ％、Ｖ、　Ｏ，を
１５〜５５ｗｔ％及びＰ２Ｏ５を２０〜４０ｗｔ％の範
囲で含むものが特によい。

また、成分として更にＳ　ｂ２Ｏ５、Ｂ　ｉ２Ｏ５及び
ＢａＯのうち少なくとも一種以上を２０ｗｔ％以下含有
するものがよい、また、成分として更にＴＱ２Ｏ５Ｆｅ
１２．、Ｔｉｅ、、ＺｎＯ，ＣａＯ。

ＭｇＯ及びＡｌ１，０．のうち少なくとも一種以上を１
０ｗｔ％以下含有するものがよい。

また、本発明は支持基板にトラック溝を有するギャップ
突き合わせ面を形成する工程と、ギャップ突き合わせ面
に磁性合金膜をスパッタする工程と、磁性合金膜の耐熱
温度以下でトラック溝に請求項９又は１０に記載の接合
ガラスを充填する工程と、不要なガラスと磁性合金膜と
を研磨除去し所定部位を切断して一対の磁気コアブロッ
クを形成する工程と、ギャップ突き合わせ面に非磁性ギ
ャップ材をスパッタする工程と、各ギャップ突き合わせ
面を突き合わせ、磁性合金膜の耐熱温度以下で接合する
工程と、それを磁気ヘッド単位に切断する工程と、を含
む磁気ヘッドの製造方法である。

また、本発明は磁気記録媒体に情報の記録をし又はそれ
から情報を読み取る前記接合ガラスで接合された磁気ヘ
ッドと、磁気ヘッドの邸動部と、磁気ヘッドによる情報
処理を制御する制御部と。

を備えた磁気記録再生装置である。

本発明の磁気ヘッドは、メタルテープや蒸着テープなど
に使用される高保持力記録媒体にも十分に対応でき、し
かも記録テープの相対速度が５．８ｍ／ｓｅｃ以上でも
安定して使用できる高性能磁気ヘッドとしてＶＴＲやＤ
ＡＴなどの磁気記録再生装置に好適に用いられるもので
ある。また、本発明の磁気ヘッドは磁気ディスクを用い
た磁気記録再生装置などにも有効に用いることができる
。

〔作用〕

本発明の磁気ヘッドは、支持基板に磁性合金膜が設けら
れた構造の一対の磁気コアを熱膨張係数１００×１０−
’／”Ｃを越える範囲のｐｂｏ−ｖ、ｏ、−ｐ、ｏ、系
ガラスで接合することによって、磁性合金膜の磁気特性
を劣化させることなく、磁気ヘッドの耐摩耗性、耐久性
及び量産性を向上または改善することができる。

上記ｐｂｏ−ｖ、ｏ、−ｐ、ｏ、系ガラスは熱膨張係数
を１００ｘｌＯ”−’　〜１６０ｘｌＯ″″’／”Ｃの
範囲で自由に制御できるので、磁性合金膜やその支持基
板の熱膨張係数に合わせることができる。このため、磁
性合金膜に応力がかかり、その磁気特性が劣化したり、
磁性合金膜やガラスがはがれてしまう恐れは低くなる。

また、このガラスは変形温度が５００℃以下と低いので
、磁性合金膜に熱的な悪影響を与えることなく、磁気コ
アを接合できる。ガラス接合はガラス組成により異なる
が、変形温度より７０〜１５０℃程度高い温度で行う。

この接合温度が高いと、磁性合金膜の磁気特性が劣化し
、磁気ヘッドに悪影響を及ぼす。さらに、このガラスは
マイクロビッカース硬度Ｈｖが３２０以上と高いので、
記録テープを相対速度５．８ｒｌ／ｓｅｃで磁気ヘッド
に走行させたときに、ガラス接合部にキズがつきにくく
、特に摩耗しやすいという問題は発生しない、その他に
も、このガラスは耐候性や硬度以外の機械的性質に優れ
ているので、磁気ヘッドの加工・組立て・洗浄時にクラ
ンク、ワレ、洗浄液による侵食などが発生しにくい。さ
らに、磁気ヘッドのより高性能化を図るためには、本発
明によるガラスとして熱膨張係数を１００×１０”−’
〜１６０Ｘ１０−７／℃の範囲で自由に制御できしかも
変形温度４３０℃以下及びマイクロビッカース硬度Ｉ−
ｆ　ｖ　３３０以上のｐｂｏ−Ｐ２Ｏ５−ｐ、○、系ガ
ラスを用いた方が良い。変形温度を４３０℃以下にする
ことによって接合温度を５００℃以下にできるので、各
種磁性合金膜に対応できるようになる。また、マイクロ
ビッカース硬度Ｈｖを３３０以上にすることによって、
記録テープの相対速度を５．８ｍ／ｓｅｃ以上にしても
、ガラス接合部は摩耗量が少ない。

本発明によるｐ　ｂ　ｏ−Ｐ２Ｏ，−Ｐ２Ｏ，系ガラス
において、ｐｂｏは熱膨張係数の増大（熱膨張係数の制
御）、高硬度化及び耐候性の向上、Ｐ２Ｏ５は、変形温
度の低下及び加工性の向上、ｐ、ｏ、はガラス安定性の
向上及び高硬度化に貢献する成分である。このガラスは
少なくともＰｂＯの含有量を２５ｗｔ％以上、またはＶ
２Ｏ５の含有量を５５ｗｔ％以下にする必要がある。ｐ
ｂｏが２５ｗｔ％未満またはｖ２Ｏ５が５５ｗｔ％を超
えると、ガラスの熱膨張係数が１００ｘｌＯ−７７’Ｃ
未満となり、しかも良好な耐候性が得られなくなる。好
ましくは、主成分としてＰｂＯ２５〜６５ｗｔ％、Ｖ２
Ｏ，１５〜５５ｗｔ％及びＰ、０，１５〜５０ｗし％の
組成範囲からなるガラスが適している。

ｐｂｏが６５ｗｔ％を超えると、またＶ２Ｏ５が１５ｗ
ｔ％未満では、ガラスがもろくなり、磁気ヘッド用接合
ガラスとして使用しにくくなる。

Ｐ２Ｏ，が１５ｗｔ％未満では加熱によって結晶化を起
こしやすくなり、良好な接着強度が得られない、一方、
５０ｗｔ％を超えると、ガラスの変形温度が上昇するた
め、接合温度が高くなり、磁性合金膜に悪影響を及ぼす
。さらに組成を主成分としてＰｂＯ３０〜６５ｗｔ％、
Ｖ２Ｏ，１５〜５５ｗし％及びＰ、０Ｓ２０〜４０ｗｊ
％に限定することによってより好ましいガラスを作製す
ることができる。すなわち、熱膨張係数を１００〜１６
０×１０−７／℃の範囲で自由に制御でき、しかも変形
温度４３０℃以下及びマイクロビッカース硬度Ｈｖ３３
０以上のガラスを得ることができる。ガラスの化学耐久
性及び機械的性質をより向りさせるため、ガラス成分と
して、さらにｓｂ、ｏ、。

Ｂｉ２Ｏ，及びＢａＯのうち少なくとも一種（以上）を
２０ｗｔ％以下含有することが望ましい。しかし、２０
ｗｔ％を超えるとガラスの変形温度が上昇し、接合温度
が高くなりすぎる。特に、５ｂ２ｏ。

やＢｉ２Ｏ５は２０ｗｔ％を超えると結晶化を起こしや
すくなる。また、熱膨張係数が小さくなりすぎる。

さらに、ガラス成分として、ＴＱ２０．Ｆｅ２Ｏ、、Ｔ
ｉｅ、、ＺｎＯ，ＣｄＯ，ＭｇＯ及びＡＱ。

０、のうち少なくとも一種以上を１０ｗｔ％以下に含有
しても良い、ＴＱ、ＯとＣｄＯはガラスの変形温度の低
下に効果があるが、１０ｗｔ％を超えると結晶化を起こ
しやすくなる。Ｆｅ、０３゜ＺｎＯ，ＭｇＯ及びＡ、Ｑ
２０．はガラスの化学的耐久性及び機械的性質に効果が
あるが、１０ｗｔ％を超えると上記同様に結晶化を起こ
しやすくなり、しかも熱膨張係数が減少する。

本発明の磁気ヘッドには、上記接合ガラスを用いるので
磁性合金膜としてＣＯ系非晶質合金またはセンダスト系
合金が有効に用いられる。これらの合金は磁気ヘッドに
使用するにあたり、フェライトより熱的性質が劣るが、
飽和磁束密度が８０００Ｇ以上とフェライトより著しく
大きいため、磁気ヘッドの高性能化を図ることができる
。また、磁性合金膜を非磁性絶縁体膜を介し多層化する
ことによって、より高性能を図ることもできる。その他
の磁性合金膜として、パーマロイ、アルパーム、Ｆｅ−
Ｃ系合金などを用いても良い。さらに、本発明の磁気ヘ
ッドには、磁性合成膜を形成する支持基板として、熱膨
張係数１００×１０”−’／“Ｃ以上及びマイクロピン
カース硬度Ｈｖ　６００以上の材料を用いるため、磁性
合金膜の熱膨張係数に合わせることができ、しかも記録
テープなどを走行させたときの摩耗量が少ない。さらに
、好ましくは非磁性セラミックスであることが望まれる
。

非磁性であることによって、磁気ヘッドは高周波領域に
おける磁気特性の劣化が発生しないため。

広帯域において良好な記録再生特性を示す磁気ヘッドが
得られる。

したがって、本発明の磁気ヘッドはメタルテープや装着
テープなどに使用される高保持力記録媒体に対しても十
分な記録ができ、しかも磁気ヘッドと記録テープとの相
対速度を大きくしても長時間安定して使用できるので、
ＶＴＲなどの磁気記録再生装置の高密度記録化を著しく
図ることができる。

現在のＶ　ＨＳ　−Ｖ　Ｔ　Ｒのテープ相対速度は５．
８ｍ／ｓｅｃであるが、将来、ＶＴＲは高密度記録化を
より図るためにさらに相対速度が高速化される０本発明
の磁気ヘッドは５　、８　ｍ　／ｓｅｃ以上の速度でも
十分に対応できる。

〔実施例〕

本発明を実施例により説明する。

第１図に代表的な磁気ヘッドの斜視図を示す。

１．１′は磁性合金膜、２，２′はこの磁性合金膜を形
成するための支持基板、３，３′は磁気コアを接合に用
いるガラスである。４，４′は接合ガラスが磁性合金膜
を侵食しないようにするための反応防止膜である。５は
ギャップ突き合わせ部で、非磁性絶縁体膜を介し、作動
ギャップを形成している。６はコイル巻線窓である。

上記磁性合金膜１，１′は、好ましくは第２図に示すよ
うに非磁性絶縁体１１１１２０，２１，２２゜２０’、
２１’、２２’を介し、多層化した方が良い。

次に第１図で示した磁気ヘッドの製造方法について説明
する。第３図に示すように、支持基板２にコイル巻線窓
用の溝７とトラック溝８を設け、ギャップ突き合わせ面
を形成する０次に第４図に示すように、ギャップ突き合
わせ面に磁性合金膜１及び反応防止膜４をスパッタし、
この磁性合金膜の耐熱温度以下でトラック溝８に接合ガ
ラス３を充填する。この磁性合金膜は先に述べたように
、単層ではな（、非磁性Ｍ縁体膜を介し、多層化させた
方が良い。次に第５図に示すように、不要なガラスと磁
性合金膜を研磨し除去することによって、コイル巻線窓
用の溝７と所要のトラック幅ｔをギャップ突き合わせ面
に形成し、−点鎖線Ａで切断し、一対の磁気コアブロッ
ク９，１０をｔＪ造する。これらの磁気コアブロックの
ギャップ突き合わせ面にそれぞれ非磁性ギャップ材１１
を所定量スパッタし、第６図に示すように突き合わせ。

磁性合金膜の耐熱温度以下で接合した。次に。

点鎖線Ｂ及びＢ′で順次切断し、第１図で示した磁気ヘ
ッドを製造する。

実施例に用いた磁性合金膜を第１表に示す。これからも
わかるようにＧｏ系非晶質合金及びセンダスト系合金は
フェライトの飽和磁束密度である４、　ＯＯＯ〜５００
０Ｇに比べ、２倍以上の飽和磁束密度をもつので、磁気
ヘッドの高性能化に与える影響は多大である。しかし、
フェライトより熱膨張係数が大きいので、支持基板や接
合ガラスはその熱膨張係数にある程度合わせる必要があ
る。

また、フェライトより耐熱温度が低いため、磁気コアの
接合は、この耐熱温度以下で行う必要がある。

実施例に用いた支持基板を第２表に示す、支持基板は磁
気ヘッドの耐摩耗性の点でマイクロビッカース硬度Ｈｖ
が少なくとも６００は必要である。

さらに、支持基板はこれに形成される磁性合金膜の熱膨
張係数にある程度合わせる必要があったので、第１表に
示した磁性合金膜ＡのＣｏ系非晶質合金Ｃｏ＠ｓ−Ｎ　
ｂ１３　　Ｚ　ｒ４には、第２表ａ〜ｃの支持基板を用
いた。また、磁性合金膜Ｂのセンダスト系台金Ｆ８□−
８ｉ、−ＡＱ７には、第２表Ｃ及びｄの支持基板を用い
た。

高飽和磁束密度を有する磁性合金膜からなる磁気コアノ
接合ガラストして、ｐｂｏ−ｖ、ｏ、−ｐ、ｏ。

系ガラスを検討した。この代表的なガラスの組成と特性
を第３〜６表に示す。これらのガラスの製造方法は、ガ
ラス原料を所定量配合し、電気炉中で１０５０℃で２時
間溶融させ、所定の受は具に流し込みガラスブロックを
得た。また、比較のため従来ガラスの組成と特性を第７
表に示す、なお、各ガラスの特性は以下の測定方法によ
って求めた。

（１）熱膨張係数及び変形温度 ５φＸ３０ｍの円柱に加工したガラスを測定試料として
、熱膨張計を用いて、空気中、昇温速度５℃／麿ｉｎで
測定した。

（２）マイクロビッカース硬度Ｈｖ 圧子荷重１００ｇｆ及び荷重時間１５ｓｅｃの条件で測
定した。

（３）耐水性 一辺が５１１ｆｌの立方体に加工したガラス片を７０℃
の蒸留水４０ｃｃに２時間浸したときの重量減少率で評
価した。

従来ガラスは第７表かられかるように、ＰｂＯ−Ｂ、○
□を基本系とするガラスであり、熱膨張係数が大きいガ
ラスはど、変形温度及び硬度が低く。

しかも耐水性が悪い傾向を示す。第７表のＮ（Ｌ（６２
）〜（６４）のガラスは硬度などの機械的性質及び耐水
性などの化学的性質を向上させるために、Ｓ　ｉ　Ｏ，
やＡＱ２０３を含有している。しかし、このような酸化
物は熱膨張係数を小さくするという問題がある。Ｔｆｉ
在、多種多様の低温接合ガラスとして、実用化されてい
るガラスは、同＆（６２）〜（６４）のようなＰ　ｂ　
Ｏ−Ｂ２Ｏ５−Ｓ　ｉ　Ｏ。

ＡＱ２０□系ガラスである。しかし、このようなガラス
においても、磁性合金膜を用いた磁気コアの接合ガラス
としては、硬度が小さく、しかも耐水性が悪い、しかも
、熱膨張係数の範囲が各種磁性合金膜のその範囲に適合
していない、このため、磁気ヘッドの量産性、耐久性、
信頼性などの点で問題があった。ＰｂＯ−Ｂ、０３の２
元系ガラスでは、第７表の＆（６５）のガラスのように
、熱膨張係数を大きくしようとしても、せいぜい１３０
×１０””／”Ｃ程度である。このようなガラスの熱膨
張係数をより上昇させるためには、第７表のＮｏ（６６
）〜（６９）のガラスのように、重金Ｒ酸化物やアルカ
リ金属酸化物などを含む必要がある。

しかし、硬度がより低くなり、しかも耐水性が著しく悪
いので、磁気コアの結合には用いることはできない。し
たがって、従来ガラスでは、磁性合金膜からなる磁気コ
アの接合ガラスとしては適していない。

次に、本発明によ７）　Ｐ　ｂ　ｏ−Ｖ２Ｏ５−ｐ、ｏ
ｆ系ガラスについて説明する。この３元系のガラスは第
３表かられかるように、Ｐｂｏの含有量が２５ｗｔ％未
満及びＶ２Ｏ，の含有量が５５ｗｔ％を超えるガラスＮ
ｃｉ　１では熱膨張係数がｌ　ＯＯＸ　１０−″７／℃
未満と小さく、シかも耐水性が悪いという問題がある。

また、Ｖ２Ｏ，の含有量が１５ｗｔ％未満及びＰｂＯの
含有量が６５ｗｔ％を超えるガラスＮα９ではガラスが
もろくなり、加工性に劣るという問題がある。さらに、
Ｐ２Ｏ，の含有量が１５ｗｔ％未満のガラスＮｃｉ　１
０及び１７は加熱によって結晶化を起こすため、良好な
流動性が得られず、接着強度が小さいという問題がある
。一方、ｐ　２．　ｏ　、の含有量が５０ｗｔ％を超え
るガラス勤１６及び２３では、変形温度が５００’Ｃを
超えるため、接合温度が高くなりすぎるという問題があ
る。第３表のその他のガラスは、ＰｂＯ２５〜６５ｗｔ
％、７２０５１５〜５５ｗｔ％及びＰ２Ｏ。

１５〜５０ｗｔ％の組成範囲に属し、上記のような問題
はなく、第７表の従来ガラスに比較しても、熱膨張特性
、変形温度、硬度及び耐水性が非常に優れている。また
、硬度以外の機械的性質も優れていた。

次に、上記組成範囲に属すガラスの特性について説明す
る。第７〜９図はガラス組成と特性の関係を示したもの
である。プロット点近傍に記した数字は第３表のガラス
にαである。第７図では、ｐ、ｏ、の含有量を一定とし
、Ｐｂｏの量ＸとＶ２Ｏ，の含有量の影響を調べた。そ
の結果、ＰｂＯを増加させ、Ｖ２Ｏ，を減少させると、
熱膨張係数、変形温度及び硬度が増加することがねがっ
た。前記量Ｘが２５〜６５ｗｔ％の範囲では。

熱膨張係数が１００〜１６０ｘｌＯ−７／℃１ｉ形温度
が３２０〜４３０℃及びマイクロビッカース硬度Ｈｖが
３２０〜３７０の範囲で変化する。また耐水性は第３表
かられかるように良好な結果が得られている。第８図で
は、Ｐｂｏの含有量を一定とし、■２０．とＰ２Ｏ，の
含有量の影響を調べた。

その結果、Ｐ２Ｏ，の量ｙを増加させ、Ｖ２Ｏ５を減少
させると、熱膨張係数の変化はほとんど認められないが
、変形温度及び硬度が上昇することがわかった。前記量
ｙが１５〜５０ｗｔ％の範囲では、熱膨張係数は約１１
０×１０−’／”Ｃと一定であり、変形温度が３１０〜
５００℃及びマイクロビッカース硬度Ｈｖが３２０〜４
３０の範囲で変化する。

また、耐水性は第３表かられかるように良好な結果が得
られている。第９図では、Ｖ２Ｏ，の含有量を一定とし
、、ｐｂｏとＰ２Ｏ３の含有量の影響を調べた。その結
果、ｐｂｏのｊｔｚを増加させ、Ｐ２Ｏ、を減少させる
と、熱膨張係数は増加し、変形温度及び硬度が低くなる
ことがわがった。前記量２が２５〜５５ｗｔ％の範囲で
は、熱膨張係数が１００〜１−５０　Ｘ　１０″″７／
℃、変形温度が４．６０〜３４０℃及びマイクロビッカ
ース硬度Ｈｖが４２０〜３３０の範囲で変化する。また
、耐水性は第３表かられかるように、良好な結果が得ら
れている。

以上より、各ガラス成分の主な働きは、ＰｂＯが熱膨張
係数の制御、Ｖ２Ｏ５が変形温度の低下及びＰ２Ｏ５が
硬度の上昇に効果があることがわかる。

したがって、ＰｂＯ２５〜６５ｗｔ％、■２０５１５〜
５５ｗｔ％及びＰ２Ｏ５１５〜５０　ｗ　ｔ％の組成範
囲にあるガラスは、熱膨張係数を１００〜１５０Ｘ１０
″″７７℃の範囲で自由に制御でき、しかも変形温度５
００℃以下及びマイクロビッカース硬度Ｈｖ　３２０以
上という従来ガラスより優れた特性をもつので、磁性合
金膜からなる磁気コアの接合に適している。さらに、ガ
ラス組成をＰｂＯ３０〜６５ｗｔ％、Ｖ、０５１５〜５
５ｗ＋、％及びＰ２Ｏ，２０〜４０ｗｔ％に限定すると
、第３表のＨａ　３〜８　、１２〜１４及び１９〜２１
のように、熱膨張係数を上記同様に制御することができ
るとともに、変形温度を４３０℃以下と低くでき、しか
もマイクロビッカース硬度Ｈｖを３３０以上と大きくで
きるので、より磁気コアの接合ガラスとして有効である
。

第４表のガラスはｐｂｏ−ｖ２ｏ、−ｐ２ｏ、の３元系
をもとに、さらに成分として５ｂ２０３、Ｂｉ２Ｏ，ま
たはＢａＯを加えたものである。これらの酸化物を加え
ると、第４表から明らかなように硬度及び耐水性がより
向上するという特徴がある。しかし、これらの含有量が
２０ｗｔ：％を超えると、Ｎａ２５，３１及び３４のガ
ラスのように変形温度が上昇したり、結晶化を起こすと
いう問題がある。このため、第４表のその他のガラスの
ようにＳ　ｂ２０．、　Ｂ　ｉ、○、及びＢａＯのうち
一種以上を２０ｗｔ％以下の含有量にする必要がある。

第５表及び第６表のガラスはｐｂｏ−ｖ、ｏｓ−Ｐ２Ｏ
，の３元系をもとに、さらに成分としてＴＱ２０．Ｃｄ
Ｏ，Ｆｅ２Ｏ，、Ｔｉｅ、、ＺｎＯ。

ＭＫＯまたはＡＱ、０３を加えたものである。また、Ｈ
ａ　４３　、４４　、４８　、５０及び５１のガラスに
は上記成分のｓｂ、ｏ３を含む、ＴＱ、ＯやＣｄＯを含
むガラスＮα３９〜４２．４５〜４７及び４９は、これ
らの成分を含まないガラスより変形温度が低く、しかも
熱膨張係数が若干大きいという特徴がある。しかし、Ｔ
Ｑ、○やＣｄＯの含有量が１０ｗｔ％を超えると、Ｎα
３９や４５のガラスのように、結晶化を起こし、さらに
耐水性も悪くなるという問題がある。この耐水性を向上
させるために、Ｎａ　４３　、４４　、４８　、５０及
び５１のガラスのように、ｓｂ、ｏ３をさらに加えた。

この結果、耐水性は第９表に示したガラスと同程度のも
のとなった。Ｆｅ２Ｏ５、’ｒｉｏ、、ＺｎＯ，ＭｇＯ
及びＡ１１２０、を含むガラスＮｃｉ５２〜６１は、こ
れらの成分を加えることによって、硬度及び耐水性が向
上している。しかし、これらの含有量が１．、　Ｏｗ　
ｔ％を超えると、＆５３．５５，５７．５９及び６１の
ガラスのように、結晶化を起こし、しかも熱膨張係数が
小さくなるという問題がある。このため、Ｔ　Ｑ　、　
Ｏ、Ｃｄ　Ｏ、Ｆ　ｅ　２０３　、　Ｔ　ｉ　Ｏ２，Ｚ
　ｎ　Ｏ。

ＭｇＯ及びＡｌ２Ｏ５の含有量は１０ｗし％以下にする
必要がある。

第１表の磁性合金膜、第２表の支持基板及び第３〜７表
中の代表的な接合ガラスを用いて、第１図に示した磁気
ヘッドを作製し評価した。

〈実施例１〉 磁性合金膜として、Ｇｏ系非晶質合金であるＣ　ｏ、３
−　Ｎ　ｂｌ、　−Ｚ　ｒ４を、その支持基板としてＭ
　ｎ　−Ｚ　ｎ系フェライトを用いた。接合ガラスには
、磁性合金膜の耐熱温度、及び磁性合金膜と支持基板の
熱膨張係数を考慮し、第３〜７表中から適当なものを選
んだ。これらの材料を用いて第１図の磁気ヘッドを作製
した。その３ｆ価結果を第８表に示す。ここで、接合温
度は磁気ヘッドを作製する際のガラス充填及びガラス接
合するための温度である。この温度はガラスが１０’ｐ
ｏｉｓｅ程度の粘度を示す温度であり、使用するガラス
によって異なる。ヘッド製造歩留りは磁気ヘッドを作製
する際の加工及び組立ての歩留りである。ヘッドチップ
強度は得られた磁気ヘッドチップがどの程度の荷重によ
り破壊するかを測定したものである。

テープ摺動試験（摩耗特性）は得られた磁気ヘッドをＶ
ＴＲのシリンダーに取り付け、メタルテープを相対速度
３．７５ｍ／ｓｅｃ、５．８ｍ／ｓｅｃ及び］、、　１
．　ｍ　／　ｓｅｅで３００時間走行させ、磁気ヘッド
のテープ摺動面をａｍすることによって、ガラス接合部
のへこみやキズの付き具合い、さらに記録媒体の付着具
合いから耐摩耗性や耐久性を判断した。

従来ガラスＩＱ（６２）〜（６４）を磁気コアの接合に
用いた場合には、これらの熱膨張係数がＣ。

、３−Ｎｂ、、−Ｚｒ４非晶質合金及びＭ　ｎ　−Ｚ　
ｎ系フェライトのそれとある程度合っているので、６６
〜７８％のヘッド製造歩留りが得られた。しかし、これ
らのガラスは機械的性質に劣るので、良好なベツドチッ
プ強度が得られず信頼性に欠ける。

テープ摺動試験では、テープの相対速度が３．７５ｍ／
ｓｅｃのときには良好な結果が得られたが。

５　、８　ｍ　／ｓｅｃ及びｌ１ｍ／ｓｅｃのときには
、ガラス接合部のへこみが大きく、しかもテープの摺動
キズがついていた。さらに、接合ガラスと磁性合金膜の
境には記録媒体が付着していた。記録媒体が磁気ヘッド
に付着すると、磁気ヘッドの磁気特性を劣化させる。

従来ガラスＮｏ（６５）及び（６６）を接合ガラスに用
いた場合には、ヘッド製造歩留り及びベツドチップ強度
が著しく低い。これは、Ｎａ（６５）及び（６６）のガ
ラスの熱膨張係数がＣｏ、、−Ｎｂ□、−Ｚｒ４非晶質
合金やＭ　ｎ　−Ｚ　ｎ系フェライトより大きく、しか
もこれらの機械的性質及び耐水性が劣るために、クラッ
ク、カケ及び洗浄液による侵食が多発したことが原因で
ある。また、テープ摺動試験では、Ｎｕ（６２）〜（６
４）のガラスを用いた場合よりガラス接合部の摩耗量が
大きく、磁気ヘッドの信頼性に著しく欠ける。

以上より、従来ガラス＆（６２）〜（６６）を用いた磁
気ヘッドは満足のいくものでなかった。これら比較例に
対し、実施例ではＣＯ□３　　ｕｂ、。

Ｚｒ、非晶質合金やＭ　ｎ　−Ｚ　ｎ系フェライトの熱
膨張係数にある程度合うガラスＮａ２，３，４゜２８及
び５を用いた場合には、機械的性質や耐水性が優れてい
るのでヘッド製造歩留り、ベツドチップ強度及びテープ
摺動試験において良好な結果が得られた。また、磁気特
性の劣化も確認されなかった。しかし、Ｎａ　２のガラ
スではマイクロビッカース硬度Ｈｖが３２０と他のガラ
スより低いため、１１　ｍ　／　ｓｅｃのテープ相対速
度では、ガラス接合部の摩耗量が大きかった。Ｎα３の
ガラスのマイクロビッカース硬度Ｈｖが３３０であるこ
とから、マイクロビッカース硬度Ｉ（ｖが３３０以上で
あれば、ｌ１ｍ／ｓｅｃのテープ相対速度においても良
好な摩耗特性が得られることがわかった。

方、＆６及び４２のガラスでは、熱膨張係数が大きいた
め、ガラス接合部に引張り応力がかかり。

ガラスとしては、破壊しやすい状態にあったので、ヘッ
ド製造歩留り及びヘッドチップ強度は、上記実施例のガ
ラスよりは低かった。テープ摺動試験においては、Ｎｃ
　６及び４２のガラスは硬度が高いためにテープの相対
速度が１．１　ｍ　／　ｓｅｃであっても、Ｎａ２のガ
ラスのように１Ｍ耗の点では問題はなかった。したがっ
て、特にＮ＋１３．４．２８及ば５のガラスを用いた磁
気ヘッドは磁気特性、耐摩耗性、耐久性及び量産性に優
れている。また、このような磁気ヘッドは、ＶＴＲなど
の磁気記録再生装置の高性能化に多大な効果をもたらす
。

〈実施例２〉 磁性合金膜として、　Ｃｏｌ１．−Ｎｂ、３−Ｚｒ、非
晶質合金を、その支持基板としてＭ　ｇ　Ｏ−Ｎ　ｉ　
Ｏ系セラミックスを用いて第１図の磁気ヘッドを作製し
た。磁気コアの接合に用いたガラス及び磁気ヘッドの評
価結果を第９表に示す。接合ガラスにはＣＯｓ３Ｎ　ｂ
　１３　　Ｚ　ｒ　４非晶質合金が結晶化を起こさない
温度範囲で作業できるものを選んだ。

なお、評価法は実施例１と同様である。

従来ガラス＆（６２）〜（６６）を用いた比較例の磁気
ヘッドは、ヘッド製造歩留り、ヘッドチップ強度及びテ
ープ摺動試験において満足のいくものではなかった。こ
れらに対し、実施例の磁気ヘッドはＮｏ　５０のガラス
を用いた磁気ヘッド以外は良好な結果が得られた。また
、磁気特性の劣化は認められなかった。特に、ＮＱｌ、
２，３８．４７及び４４のガラスを用いた磁気ヘッドに
おいては、第９表から明らかなように、優れた結果が得
られている。これは＆１２，３８，４．７及び４４のガ
ラスがＣｏ、ｆｆＮ　ｂｌ、　　’ｌ、　ｒ４非晶質合
金やＭｇ０−Ｎ　ｉ　Ｏ系セラミックスの熱膨張係に近
く、しかも機械的性質及び耐水性に優れているためであ
る。

さらに、これらの磁気ヘッドは、支持基板として、非磁
性材であるＭ　ｇ　Ｏ−Ｎ　ｉ　Ｏ系セラミックスを用
いているため、高周波記録再生特性が実施例１の磁気ヘ
ッドより優れていた。Ｎａ　５０のガラスを用いた磁気
ヘッドはこのガラスの熱膨張係数がＧｏ、３−Ｎｂ１３
−Ｚ　ｒ４非晶質合金やＭｇ０−Ｎ　ｉ　Ｏ系セラミッ
クスのそれらより大きいために、ヘッド製造歩留り及び
ヘッドチップ強度が実施例の他の磁気ヘッドより低い。

また、Ｎα３７のガラスを用いた磁気ヘッドは、ガラス
の熱膨張係数がＭ　ｇ　Ｏ−Ｎ　ｉ　Ｏ系セラミックス
に対し小さすぎるため、ヘッド製造歩留り及びヘッドチ
ップ強度が若干低い、Ｎｎ４０のガラスを用いた場合に
は、このガラスのマイクロビッカース硬度Ｈｖが３２０
と他の実施例のガラスより低いため、１１ｍ／５ｆ３Ｑ
のテープ相対速度ではガラス接合部の摩耗量が大きかっ
た。その他の実施例のガラスはマイクロビッカース硬度
Ｈｖが３３０以上と高い。

以上より、Ｎｎ１２，３８．４７及び４４のガラスを用
いた磁気ヘッドは磁気特性、耐摩耗性、耐久性及び量産
性に優れているので、ＶＴＲなどの磁気記録再生装置の
高性能化に多大な効果をもたらす。

〈実施例３〉 磁性合金膜として、ＣＯｓ：ｌ−Ｎ　ｂ、、−Ｚ　ｒ、
非晶質合金をその支持基板としてＭ　ｎ　Ｏ−Ｎ　ｉ　
Ｏ系セラミックスを用いて第１図の磁気ヘッドを作製し
た。磁気コアの接合に用いたガラス及び磁気ヘッドの評
価結果を第１０表に示す。接合ガラスにはＣｏ、、−Ｎ
ｂ、、−Ｚ　ｒ’、非晶質合金が結晶化を起こさない温
度範囲で作業できるものを選んだ。

なお、評価法は実施例１と同様である。

従来ガラスＮｃｉ（６３）〜（６７）を用いた比較例の
磁気ヘッドは、ヘッド製造歩留り、ヘッドチップ強度及
びテープ摺動試験において満足のいくものではなかった
。これらに対し、実施例の磁気ヘッドは良好な結果が得
られた。また、磁気特性の劣化は認められなかった。特
に、Ｎａ２７，３８及び４８のガラスを用いた磁気ヘッ
ドにおいては、第１０表から明らかなように、優れた結
果が得られている。これは、Ｎα２７，３８及び４８の
ガラスがＧｏ、、、−Ｎｂ□、−Ｚｒ４非晶質合金やＭ
　ｎ　０−Ｎｉ０系セラミツクスの熱膨張係数に近く、
しかも機械的性質及び耐水性に優れているためである。

さらに、これらの磁気ヘッドは、支持基板として非磁性
材であるＭ　ｎ　Ｏ−Ｎ　ｉＯ系セラミックスを用いて
いるため、実施例２の磁気ヘッドと同様に高周波記録画
性特性が実施例１の磁気ヘッドより優れていた。Ｎａ２
４．．５６及び４２を用いた磁気ヘッドはこれらのガラ
スの熱膨張係数がＧｏ、１ｉ−Ｎｂ、、−Ｚｒ４非晶質
合金やＭ　ｎ　Ｏ−ＮｉＯ系セラミックスのそれらに少
し合わないので、ヘッド製造歩留り及びヘッドチップ強
度が若干低い、また、＆４９のガラスを用いた磁気ヘッ
ドは、ガラスの硬度などの機械的性質が若干力るので、
Ｎｎ２７，２８，３８及び４８のガラスを用いた磁気ヘ
ッドのような特性が得られなかった。

以上より、Ｎ１１２７．３８及び４８のガラスを用いた
磁気ヘッドは磁気特性、耐摩耗性、耐久性及び量産性に
優れているので、ＶＴＲなどの磁気記録再生装置の高性
能化に多大な効果をもたらす。

〈実施例４〉 磁性合金膜として、センダスト系合金であるＦ　ｅ　Ｂ
　４　　Ｓ　ｘ　ｇ　　Ａ　Ｑ　７を、その支持基板と
してＭ、　ｎ　Ｏ−Ｎ　ｉ　Ｏ系セラミックスを用いて
、第１図の磁気ヘッドを作製した、磁気コアの接合に用
いたガラス及び磁気ヘッドの評価結果を第１１表に示す
。なお、評価法は実施例１と同様である。

従来ガラスＮＱ（６５）〜（６９）を用いた比較例の磁
気ヘッドは、ヘッド製造歩留り及びヘッドチップ強度が
著しく低く、しかもガラス接合部が非常に摩耗しやすい
ため、高性能磁気記録再生装置には使用できない、これ
らに対し、第１１表から明らかなように実施例の磁気ヘ
ッドは良好な結果が得られた。特に、Ｎα１９，６及び
３０のガラスを用いた磁気ヘッドにおいては、優れた結
果が得られている。これらはＮｎ１９，６及び３０のガ
ラスの熱膨張係数がＭｎ○−ＮｉＯ系セラミックスのそ
れに近いことが原因である。さらに、これらの磁気ヘッ
ドの磁気特性には劣化が認められず、しかも、高周波領
域において記録再生特性が優れていた。しかし、Ｎｎ１
３及び２０のガラスを用いた磁気ヘッドには、Ｆｅ、、
−５ｉｇ−Ａｆｉ７合金の熱膨張係数に対し、Ｎα１３
及び２０のガラスの熱膨張係数が小さすぎるため、磁気
特性の劣化が生じた。Ｎｃｉ７及び８のガラスを用いた
磁気ヘッドは、磁気特性の劣化は認められなかったが、
Ｎα７及び８のガラスの熱膨張係がＭ　ｎ　Ｏ−Ｎ　ｉ
　Ｏ系セラミックスのそれより大きいため、ヘッド製造
歩留りがその他の実施例の磁気ヘッドより低い。

以上より、Ｎ（１１９，６及び３０のガラスを用いた磁
気ヘッドは磁気特性、耐摩耗性、耐久性及び量産性に優
れているので、ＶＴＲなどの磁気記録再生装置の高性能
化に多大な効果をもたらす。

〈実施例５〉 磁性合金膜としてＦ　ｅ＠４　　Ｓ　ｌ、　　Ａ　Ｑ７
合金を、その支持基板としてＴｉＯ２−ＮｉＯ−ＣａＯ
系セラミックスを用いて、第１図の磁気ヘッドを作製し
た。磁気コアの接合に用いたガラス及び磁気ヘッドの評
価結果を第１２表に示す。なお、評価法は実施例１と同
様である。

従来ガラスＮα（６５）〜（６７）を用いた比較例の磁
気ヘッドは、ヘッド製造歩留り及びヘッドチップ強度が
著しく低く、しかもガラス接合部が非常に摩耗しやすい
ため、高性能磁気記録再生装置には使用できない。これ
らに対し、第１２表から明らかなように、実施例の磁気
ヘッドは良好な結果が得られた。特にＮｏ、２９．３０
及び５１のガラスを用いた磁気ヘッドにおいては、優れ
た結果が得られている。これは、Ｎα２９，３０及び５
１のガラスの熱膨張係数がＴｉｅ２−ＮｉＯ−ＣａＯ系
セラミックスのそれに近いことが原因である。

さらに、これらの磁気ヘッドの磁気特性には劣化が認め
られず、しかも高周波領域で良好な記録再生特性を示し
た。しかし、Ｎａ３６及び２０のガラスを用いた磁気ヘ
ッドには、このガラスの熱膨張係数がＦｅ、１４−８ｉ
、−Ａｊ２．合金のそれより小さすぎるために、磁気特
性の劣化が生じた。Ｎα１８及び４１のガラスを用いた
磁気ヘッドは磁気特性の劣化は認められなかったが、こ
れらのガラスの熱膨張係数がＴｉｅ、−ＮｉＯ−ＣａＯ
系セラミックスのそれより大きいため、ヘッド製造歩留
り及びヘッドチップ強度がその他の実施例の磁気ヘッド
より低い。

以上より、Ｎｎ２９，３０及び５１のガラスを用いた磁
気ヘッドは磁気特性、耐摩耗性、耐久性及び量産性に優
れているので、ＶＴＲなどの磁気記録再生装置の高性能
化に多大な効果をもたらす。

尚、第１０図は前記磁気ヘッドを備えたＶＴＲの概略構
成図を示す、磁気ヘッドであるビデオヘッド１１は、そ
れにより収集した情報を処理する色信号処理部１２及び
輝度信号処理部１３等から成る制御部と接続され、情報
記録媒体であるカセット１４の記録テープ１５との間で
情報を読み出し、再生、及び記録できるようになってい
る。またビデオヘッド１１はモータ１６及びモータ駆動
部１７を含む駆動部に接続されている。

〔発明の効果〕

本発明によれば、支持基板に形成した磁性合金膜からな
る一対の磁気コアを熱膨張係数が１００×１０−７／℃
以上ノｐｂｏ−ｖ、○ｓ　　Ｐ２Ｏ５系ガラスで接合す
ることによって、磁性合金膜の磁気特性を劣化させるこ
となく、耐摩耗性、耐久性及び量産性に優れた高性能磁
気ヘッドを提供することができる。この系のガラスは熱
膨張係数を１００〜１．６０Ｘ１０−７／”Ｃの範囲で
自由に制御できるので、高飽和に磁束密度の各種磁性合
金膜の熱膨張係数に合わせることができる。しかも、こ
の系のガラスは変形温度が５００℃以下と低いので磁性
合金膜へ熱的悪影響を与えずに接合することができる。

特に変形温度が４３０℃以下のガラスが上記磁気ヘッド
には有効である。さらにこの系のガラスはマイクロビッ
カース硬度Ｈｖが３２０以上と高いので、磁気コアのガ
ラス接合部の′ｆＪｊ摩耗性を向上させることができる
。特にマイクロビッカース硬度Ｈｖが３３０以上のガラ
スが上記磁気ヘッドには有効である。また、この系のガ
ラスは、硬度以外の機械的性質や耐水性にも優れている
ので、上記磁気ヘッドの信頼性を改善させることができ
る。この系のガラスは、好ましくは成分としてさらに、
Ｓ　ｂ２０３．Ｂ　ｉ２０．。

Ｂａｄ、Ｔ”Ｑ２０．Ｆｅ２Ｏ５、Ｔｉｅ□、ＺｎＯ。

ＣｃｌＯ，ＭｇＯ及びＡｇ２Ｏ，のうち少なくとも一種
以上を含むことによって、機械的性質や射水性などをよ
り向上させることができ、上記磁気ヘッドの高性能化に
より効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの斜視図
、第２図は第１図の磁気ヘッドのテープ摺動面、第３〜
６図は第１図の磁気ヘットの製造方法における各工程の
説明図である。第７〜９図ｆｔ、Ｐ　ｂｏ−Ｖ２Ｏ，−
Ｐ２Ｏ５系ガラスの組成と特性の関係を示した図、第１
０図はＶＴＲの概略構成図である。 １．１′・・・磁性合金膜、２．２′　・支持基板、３
．３′　・・接合ガラス、４．４’　・・・反応防＋＋
７．１唖、５・　ギャップ突き合わせ部、６・・・コイ
ル巻線窓、２０．２０’　　、２１．２１’　　、２２
．２２’　　・・・非磁性絶縁体膜、７・・コイル巻線
窓用溝。 ８・・・トラック溝、９，１０・・磁気コアブロック。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、支持基板及びこの支持基板に設けられた磁性合金膜
   とを備えた磁気コアと、一対の前記磁気コアの間隙をあ
   けて対向する前記磁性合金膜間に設けられて前記一対の
   磁気コアを一体化すると共に熱膨張係数が１００×１０
   ＾−＾７／℃を越える範囲のＰｂＯ−Ｖ＿２Ｏ＿５−Ｐ
   ＿２Ｏ＿５系の接合ガラスと、を備えた磁気ヘッド。 ２、請求項１において接合ガラスは更にＳｂ＿２Ｏ＿３
   、Ｂｉ＿２Ｏ＿３、ＢａＯ、Ｔｌ＿２Ｏ、Ｆｅ＿２Ｏ＿
   ３、ＴｉＯ＿２、ＺｎＯ、ＣｄＯ、ＭｇＯ及びＡｌ＿２
   Ｏ＿３のうち少なくとも一種以上の成分を含む磁気ヘッ
   ド。 ３、支持基板及びこの支持基板に設けられた磁性合金膜
   とを備えた磁気コアと、一対の前記磁気コアの間隙をあ
   けて対向する前記磁性合金膜間に設けられて前記一対の
   磁気コアを一体化すると共に下記（１）〜（３）の条件
   を全て充たす接合ガラスと、を備えた磁気ヘッド。 （１）接合ガラスの熱膨張係数は、１００×１０＾−＾
   ７〜１６０×１０＾−＾７／℃の範囲で制御できる。 （２）接合ガラスの変形温度は、５００℃以下である。 （３）接合ガラスのマイクロビッカース硬度Ｈｖは３２
   ０以上である。 ４、ＰｂＯ−Ｖ＿２Ｏ＿５−Ｐ＿２Ｏ＿５系のガラスで
   あって、その熱膨張係数は１００×１０＾−＾７／℃を
   越える範囲のものである磁気ヘッド用接合ガラス。 ５、下記（１）〜（３）の条件を全て充たす磁気ヘッド
   用接合ガラス。 （１）接合ガラスの熱膨張係数は、１００×１０＾−＾
   ７〜１６０×１０＾−＾７／℃の範囲で制御できる。 （２）接合ガラスの変形温度は、５００℃以下である。 （３）接合ガラスのマイクロビッカース硬度Ｈｖは３２
   ０以上である。 ６、ＰｂＯを２５〜６５ｗｔ％、Ｖ＿２Ｏ＿５を１５〜
   ５５ｗｔ％及びＰ＿２Ｏ＿５を１５〜５０ｗｔ％の範囲
   で主成分として含む磁気ヘッド用接合ガラス。 ７、請求項６において、成分として更にＳｂ＿２Ｏ＿３
   、Ｂｉ＿２Ｏ＿３及びＢａＯのうち少なくとも一種以上
   を２０ｗｔ％以下含有し、又はＴｌ＿２Ｏ、Ｆｅ＿２Ｏ
   ＿３、ＴｉＯ＿２、ＺｎＯ、ＣｄＯ、ＭｇＯ及びＡｌ＿
   ２Ｏ＿３のうち少なくとも一種以上を１０ｗｔ％以下含
   有する磁気ヘッド用接合ガラス。 ８、支持基板にトラック溝を有するギャップ突き合わせ
   面を形成する工程と、ギャップ突き合わせ面に磁性合金
   膜をスパッタする工程と、磁性合金膜の耐熱温度以下で
   トラック溝に請求項９又は１０に記載の接合ガラスを充
   填する工程と、不要なガラスと磁性合金膜とを研磨除去
   し所定部位を切断して一対の磁気コアブロックを形成す
   る工程と、ギャップ突き合わせ面に非磁性ギャップ材を
   スパッタする工程と、各ギャップ突き合わせ面を突き合
   わせ、磁性合金膜の耐熱温度以下で接合する工程と、そ
   れを磁気ヘッド単位に切断する工程と、を含む磁気ヘッ
   ドの製造方法。 ９、支持基板及びこの支持基板に設けられた磁性合金膜
   とを備えた磁気コアと、一対の前記磁気コアの間隙をあ
   けて対向する前記磁性合金膜間に設けられて前記一対の
   磁気コアを一体化すると共に熱膨張係数が１００×１０
   ＾−＾７／℃を越える範囲のＰｂＯ−Ｖ＿２Ｏ＿５−Ｐ
   ＿２Ｏ＿５系の接合ガラスと、を備えた磁気ヘッドと、
   該磁気ヘッドの駆動部と、磁気ヘッドによる情報記録媒
   体との間の情報処理を制御する制御部と、を備えた磁気
   記録再生装置。 １０、支持基板及びこの支持基板に設けられた磁性合金
   膜とを備えた磁気コアと、一対の前記磁気コアの間隙を
   あけて対向する前記磁性合金膜間に設けられて前記一対
   の磁気コアを一体化すると共に下記（１）〜（３） （１）接合ガラスの熱膨張係数は、１００×１０＾−＾
   ７〜１６０×１０＾−＾７／℃の範囲で制御できる。 （２）接合ガラスの変形温度は、５００℃以下である。 （３）接合ガラスのマイクロビッカース硬度Ｈｖは３２
   ０以上である。 の条件を全て充たす接合ガラスと、を備えた磁気ヘッド
   と、該磁気ヘッドの駆動部と、磁気ヘッドによる情報記
   録媒体との間の情報処理を制御する制御部と、を備えた
   磁気記録再生装置。 １１、請求項９又は１０において、磁気ヘッドと情報記
   録媒体とが接触し、その相対速度が５．８ｍ／ｓｅｃ以
   上である磁気記録再生装置。