JP2001023110A

JP2001023110A - コンポジット型磁気ヘッド用封着ガラス組成物

Info

Publication number: JP2001023110A
Application number: JP11189915A
Authority: JP
Inventors: Katsuyoshi Furusawa; 克佳古澤
Original assignee: Sumitomo Special Metals Co Ltd
Current assignee: Proterial Ltd
Priority date: 1999-07-05
Filing date: 1999-07-05
Publication date: 2001-01-26

Abstract

(57)【要約】【課題】組立工程でギャップ内合金と封着ガラスが反
応することを抑制する。【解決手段】磁気コアと、非磁性材料から形成された
スライダと、磁気コアをスライダに結合する封着ガラス
とを備えたコンポジット型磁気ヘッドアセンブリであ
る。磁気コアのギャップ内には軟磁性合金薄膜が設けら
れており、封着ガラスは、その合金薄膜と接触し、か
つ、３〜９ｗｔ％のＳｉＯ₂、６０〜７０ｗｔ％のＰｂ
Ｏ、３〜９ｗｔ％のＢ₂Ｏ₃、３〜９ｗｔ％のＡｌ₂Ｏ₃、
５〜１５ｗｔ％のＢｉ₂Ｏ₃、０〜３ｗｔ％のＣｕＯ、お
よび３〜９ｗｔ％のＴｅ₂Ｏを含有している。封着ガラ
スには、更に０．５ｗｔ％以上４ｗｔ％未満のＦｅ₂Ｏ₃
が添加されており、その結果、封着ガラスとギャップ内
合金薄膜との間で相互反応が生じにくく、実効トラック
幅の減少が抑制される。また、洗浄工程でガラスが浸食
されにくい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、コンポジット型磁
気ヘッドアセンブリ、および当該磁気ヘッドアセンブリ
を備えた磁気記録媒体駆動装置、ならびに磁気ヘッドア
センブリ内で磁気コアを非磁性スライダに封着するため
のガラス組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＦＤＤ（フロッピ・ディスク・ドライ
ブ）やＨＤＤ（ハード・ディスク・ドライブ）等の磁気
ディスク駆動装置では、情報またはデータが磁気ディス
クの表面の磁気記録層に記録され、また、磁気記録層か
ら再生される。通常、情報はディスク表面上のデータト
ラック内に磁化方向の反転という形態で記録される。磁
気ディスクへの情報の記録と磁気ディスクからの情報の
再生は、スライダ上に搭載された磁気トランスドューサ
によって実行される。この磁気トランスドューサとスラ
イダの組み合わせによって「磁気ヘッドアセンブリ」が
構成される。

【０００３】スライダは、典型的には、磁気ディスクの
表面に対向する２本のサイドレールを有しており、これ
らのサイドレールが形成されている面は「エア・ベアリ
ング面（ＡＢＳ）」と称されることがある。ヘッドサス
ペンションによって磁気ヘッドアセンブリのサイドレー
ルが磁気ディスク表面を軽く押す状態で磁気ディスクを
高速で回転させると、磁気ディスク表面にできる空気の
層がスライダのエア・ベアリング面直下に入り込み、磁
気ヘッドアセンブリを僅かに持ち上げることになる。こ
うして、磁気ヘッドアセンブリは磁気ディスクの表面近
くを「飛行」するようにして記録／再生動作を行うこと
ができる。このため、このタイプの磁気ヘッドアセンブ
リは、「非接触型磁気ヘッド」とも称されている。

【０００４】コンポジット型のヘッドアセンブリにおい
ては、磁気トランスドューサが非磁性体のスライダまた
はハウジングに取り付けられて使用される。磁気トラン
スドューサは磁気コアとコイルとから構成される。磁気
コアは、通常、直線状に延びた「Ｉ型コア部分」と「角
張ったＣ型コア部分」とを製造工程段階で組み合わせた
ものであり、中央に穴のあいた矩形リング形状を有して
いる。磁気コアは、封着ガラス（bonding glass）など
によってスライダに固着される。封着のために用いられ
るガラスの組成は、磁気コアやスライダの熱膨張係数に
適合するようにして決定される。スライダの材料として
ＣａＴｉＯ₃等のセラミックスを用いる場合、従来か
ら、ＳｉＯ₂、ＰｂＯ、Ｂ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｂｉ₂Ｏ₃、
ＣｕＯ、およびＴｅ₂Ｏを含有する低融点ガラス組成物
が使用されている。この種のガラス組成物は、例えば特
開平５−４８３６号公報に開示されている。

【０００５】磁気コアのうち、記録媒体の表面に対向す
る側（すなわちトラック側）においては、「Ｉ型コア部
分」と「Ｃ型コア部分」との間にギャップが設けられ
る。このギャップ内において、「Ｉ型コア部分」の表面
と「Ｃ型コア部分」の表面とが対向し、その間で漏れ磁
界を形成することができる。近年、ギャップ内の上記対
向面の一方または両方に磁性合金薄膜を堆積した構成が
広く用いられている。この構成はＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−
Ｉｎ−Ｇａｐ）構造と呼ばれており、ＭＩＧ構造を有す
る磁気ヘッドは「ＭＩＧヘッド」と称されている。ギャ
ップ内の対向面上に形成される磁性合金薄膜として、従
来は、センダスト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ）膜などが用いら
れていた。センダスト膜は、１Ｔ程度の飽和磁束密度
（Ｂｓ）と０．５Ｏｅ程度の保磁力（Ｈｃ）とを示して
いたが、最近、これを更に向上させた磁性合金材料の開
発が積極的に進められている。中でも、Ｆｅ−Ｔａ−Ｎ
系合金薄膜は、１．５Ｔ程度の飽和磁束密度と０．３Ｏ
ｅ程度の保磁力とを示し、ギャップ内の合金膜材料とし
て有望である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】スライダと磁気コアの
トラック側部分とは、上述のような低融点ガラス組成物
によって固着される。このようなガラスは、組立工程に
おいて、磁気コアとスライダとの間の空隙近傍で軟化温
度以上に加熱され、溶融する。溶融したガラスは上記空
隙を埋めた後、冷却によって固化され、それによって磁
気コアとスライダとを結合する。

【０００７】ガラスを溶融するする際、ギャップ内の磁
性合金薄膜も加熱されるため、融点の低いガラスを用い
て封着のための熱処理温度をできるだけ低くすることが
好ましい。しかしながら、ガラスを軟化させるための加
熱処理時、ギャップ内の磁性合金薄膜とガラスとの間で
相互反応が生じてしまうことは避けられず、このような
相互反応がガラス組成物を磁性合金薄膜中に拡散させ、
磁性合金薄膜の磁気特性を部分的に劣化させてしまうこ
とがわかっている。

【０００８】このような相互反応・拡散の生じやすさ
は、封着に用いるガラス組成物やギャップ内合金の種類
によっても大きく異なると考えられる。本発明者の実験
では、ＳｉＯ₂、ＰｂＯ、Ｂ₂Ｏ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｂｉ
₂Ｏ₃、ＣｕＯ、およびＴｅ₂Ｏを含有する公知のガラス
組成物を封着に用いた場合、Ｆｅ−Ｔａ−Ｎ系合金薄膜
との間で顕著な化学反応が生じた。このような反応を抑
制しないかぎり、大容量記録に適した高性能磁気ヘッド
アセンブリを提供することは困難である。

【０００９】上記課題の他に、磁気ディスクが駆動装置
から取り外し可能な「リムーバブル型メディア」の場
合、磁気ディスクが大気中のダストを取りこみやすく、
その結果、記録／再生のエラーを招きやすいという問題
もある。この問題は、記憶密度の向上に伴って重要にな
ってきている。

【００１０】本発明はかかる諸点に鑑みてなされたもの
であり、その主な目的は、ＭＩＧコンポジット型磁気ヘ
ッドアセンブリの製造に適した熱膨張係数および低い融
点を有しながら、ギャップ内の磁性合金膜と反応しにく
いガラス組成物を提供することにある。

【００１１】また、本発明の他の目的は、上記ガラス組
成物を用いて組み立てたＭＩＧコンポジット型磁気ヘッ
ドアセンブリを提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明によるコンポジッ
ト型磁気ヘッドアセンブリは、磁気コアと、非磁性材料
から形成されたスライダと、前記磁気コアを前記スライ
ダに結合する封着ガラスとを備えたコンポジット型磁気
ヘッドアセンブリであって、前記磁気コアのギャップ内
には軟磁性合金薄膜が設けられており、前記封着ガラス
は、前記合金薄膜と接触し、かつ、３〜９ｗｔ％のＳｉ
Ｏ₂、６０〜７０ｗｔ％のＰｂＯ、３〜９ｗｔ％のＢ₂Ｏ
₃、３〜９ｗｔ％のＡｌ₂Ｏ₃、５〜１５ｗｔ％のＢｉ₂Ｏ
₃、および３〜９ｗｔ％のＴｅ₂Ｏを含有し、前記封着ガ
ラスには０．５ｗｔ％以上４ｗｔ％未満のＦｅ₂Ｏ₃が添
加されていることを特徴する。

【００１３】前記封着ガラスには３ｗｔ％以下のＣｕＯ
が添加されていてもよい。

【００１４】前記封着ガラスの熱膨張係数は、５０〜２
５０℃において８５〜１２０×１０ ⁷／℃の範囲内にあ
ることが好ましい。

【００１５】取り外し可能な磁気記録媒体に対して情報
を記録し、または前記記録媒体から情報を読み出すこと
が好ましい。

【００１６】本発明によるコンポジット型磁気ヘッドア
センブリの製造方法は、ギャップ内に軟磁性合金薄膜が
設けられた磁気コア、および非磁性材料から形成された
スライダを用意する工程と、３〜９ｗｔ％のＳｉＯ₂、
６０〜７０ｗｔ％のＰｂＯ、３〜９ｗｔ％のＢ₂Ｏ₃、３
〜９ｗｔ％のＡｌ₂Ｏ₃、５〜１５ｗｔ％のＢｉ₂Ｏ₃、お
よび３〜９ｗｔ％のＴｅ₂Ｏを含有し、０．５ｗｔ％以
上４ｗｔ％未満のＦｅ₂Ｏ₃が添加されている封着ガラス
で、前記磁気コアを前記スライダに固定する工程とを包
含する。

【００１７】本発明による磁気記録媒体駆動装置は、上
記何れかに記載のコンポジット型磁気ヘッドアセンブリ
と、取り外し可能な磁気記録媒体を回転させる駆動手段
とを備えている。

【００１８】本発明によるコンポジット型磁気ヘッド封
着用ガラス組成物は、３〜９ｗｔ％のＳｉＯ₂、６０〜
７０ｗｔ％のＰｂＯ、３〜９ｗｔ％のＢ₂Ｏ₃、３〜９ｗ
ｔ％のＡｌ₂Ｏ₃、５〜１５ｗｔ％のＢｉ₂Ｏ₃、および３
〜９ｗｔ％のＴｅ₂Ｏを含有するコンポジット型磁気ヘ
ッド封着用ガラス組成物であって、前記封着ガラスには
０．５ｗｔ％以上４ｗｔ％未満のＦｅ₂Ｏ₃が添加されて
いることを特徴する。

【００１９】３ｗｔ％以下のＣｕＯが添加されていても
よい。

【００２０】前記封着ガラスの熱膨張係数は、５０〜２
５０℃において８５〜１２０×１０ ⁷／℃の範囲内にあ
ることが好ましい。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施形態を説明する。

【００２２】図１は、ＭＩＧコンポジット型磁気ヘッド
アセンブリの斜視図である。この磁気ヘッドアセンブリ
は、非磁性材料から形成されたスライダ（ハウジング）
１０と、スライダ１０に固定された磁気コア２０とを備
えている。

【００２３】スライダ１０は、例えば、熱膨張係数が１
１０〜１２０×１０^-7／℃のＣａＴｉＯ₃等のセラミッ
クスから形成されており、エア・ベアリング面側（トラ
ック側）に一対のサイドレール１１を有している。スラ
イダ１０には、エア・ベアリング面に垂直なスロット１
２が設けられており、そのスロット１２内に磁気コア２
０が挿入されている。サイドレール１１の幅は、典型的
には、０．２５〜０．３５ｍｍ、その長さは１．５〜
２．５ｍｍである。２つのサイドレール１１の間隔は、
典型的には、０．７５〜０．８５ｍｍである。

【００２４】磁気コア２０は、例えば、熱膨張係数が１
１０〜１２０×１０^-7／℃のＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライ
トから形成される。磁気コア２０のＩ型コア部分には導
線２１が巻かれてコイルが形成されている。磁気コア２
０のトラック側には、ギャップ２２が形成されている。
トラック幅に対応するギャップ２２の幅は、例えば、
０．２〜０．３μｍである。

【００２５】図２は、スライダ１０に固定された状態の
コア２０およびその近傍の断面を示している。図２に示
されるように、本実施形態では、磁気コア２０のうちト
ラック側に近い部分が封着ガラス３０によってスライダ
１０に固着されている。一方、磁気コア２０のうちトラ
ックの反対側に位置する部分は樹脂４０によってスライ
ダ１０に固着されている。磁気コア２０のトラック側に
おける幅は、トラック幅を規定する。図示されている例
では、磁気コア２０のトラック側における幅が他の部分
における幅よりも狭く加工されている。

【００２６】封着ガラス３０の材料としては、その熱膨
張率が上記のスライダ１０やコア２０の熱膨張率に近く
なるように、３〜９ｗｔ％のＳｉＯ₂、６０〜７０ｗｔ
％のＰｂＯ、３〜９ｗｔ％のＢ₂Ｏ₃、３〜９ｗｔ％のＡ
ｌ₂Ｏ₃、５〜１５ｗｔ％のＢｉ₂Ｏ₃、０〜３ｗｔ％のＣ
ｕＯ、および３〜９ｗｔ％のＴｅ₂Ｏを含有するガラス
組成物が用いられる。このガラス組成物の熱膨張係数
は、５０〜２５０℃において８５〜１２０×１０⁷／℃
の範囲内に設定されている。本発明によるガラス組成物
に特徴的な点は、０．５ｗｔ％以上４ｗｔ％未満のＦｅ
₂Ｏ₃が添加されていることにある。Ｆｅ₂Ｏ₃の添加によ
って得られる効果については、のちに詳述する。

【００２７】次に、図３のフローチャートを参照しなが
ら、上記磁気ヘッドアセンブリの製造方法を説明する。

【００２８】まず、フェライトコアの製造工程（ステッ
プＳ１〜Ｓ６）を説明する。

【００２９】ステップＳ１において、Ｍｎ−Ｚｎ単結晶
フェライト素材を加工し、Ｉ型コア部分およびＣ型コア
部分を形成する。ステップＳ２で、各コア部分の表面の
うち、磁気ギャップを挟んで対向する面にＦｅ−Ｔａ−
Ｎ系合金薄膜を堆積した後、ステップＳ３で、他のＧａ
ｐ膜を形成する。これらの膜の好ましい堆積方法は、例
えばスパッタ法である。次に、ステップＳ４で、Ｉ型コ
ア部分とＣ型コア部分とをガラス融着によって連結し、
フェライト製の矩形ブロックを形成する。ステップＳ５
で、矩形ブロックの表面のうち磁気記録媒体のトラック
に対向する面を加工して、トラック面を形成する。その
後、ステップＳ６にて、フェライト製矩形ブロックをス
ライスし、複数枚のフェライトコア２０を切り出す。

【００３０】次に、図４に示すように、コア２０を別途
作製したスライダ（ハウジング）１０のスロット１２に
挿入して配置する（ステップＳ７）。このとき、コア２
０の下部をスライダ１０に対して仮止めする。なお、コ
ア２０およびスライダ１０の製造方法は上述のものに限
定されず、その形状も図示されるものに限定されない。

【００３１】次に、図４に示すようにして、コア２０の
上方に棒状の封着ガラス（長さ：約２ｍｍ、直径：約
０．２ｍｍ）３０を置く（ステップＳ８）。その後、ス
テップＳ９にて、棒状ガラス３０を窒素雰囲気で４００
〜５００℃程度の温度にまで加熱し、その状態で３０〜
６０分間程度保持して軟化させる。すると、溶融したガ
ラス３０は、図５に示されるように、コア２０とスライ
ダ１０との隙間を埋める。ガラス３０は冷却によって固
化し、スライダ１０とコア２０とが固着される。

【００３２】封着ガラス３０として従来のガラス組成物
を用いる場合、封着ガラス３０を加熱し、軟化させてい
るとき、ギャップ２２内のＦｅ−Ｔａ−Ｎ合金と封着ガ
ラス３０との間で相互反応が進行する。この相互反応が
進行した状態を観察すると、図６（ａ）に示すように、
ギャップ２２内の合金膜端部（反応部分）の磁気特性が
劣化するため（磁気劣化層２３の形成）、ギャップ２２
の実効的な幅（「実効トラック幅」に対応）が設計値ｔ
よりも減少してしまう。しかし、本実施形態のガラス組
成物を用いると、図６（ｂ）に示すように、合金膜の端
部の磁気特性が劣化せず、実効トラック幅の減少を抑制
することができる。これは、ガラスにＦｅ₂Ｏ₃を添加す
ることによってＦｅを含有する軟質磁性合金とガラスと
の反応が生じにくくなることに起因すると考えられる。

【００３３】このように本実施形態によれば、Ｆｅ−Ｔ
ａ−Ｎ系合金等のギャップ内合金と封着ガラス３０との
反応が抑制される結果、磁気コア２０のギャップ２２内
に設けられた合金薄膜が封着ガラス３０によって侵され
るという問題を解決できる。

【００３４】ガラス封着工程が終了した後、図５に示す
ように、コア２０の下部とスライダ１０との間を樹脂４
０によって固着する。その後、固化したガラス３０の不
要部分をラッピング工程で削り取る（ステップＳ１
０）。ラッピング工程の後、図３のフローチャートに示
されるように、洗浄工程、研磨（ポリッシング）工程、
および洗浄工程の各工程（ステップＳ１１〜１３）を繰
り返して行い、コア２０およびその近傍のトラック側面
を平坦化する。研磨工程および洗浄工程の繰り返し数は
１〜５回程度である。こうして、コア２０およびその近
傍に対する加工処理が終了すると、コアアッシィが完成
する（ステップＳ１４）。このコアアッシィに導線を巻
いてコイルを形成すると、図１に示すような磁気ヘッド
アセンブリが完成する。磁気ヘッドアセンブリは、磁気
記録媒体を回転させる駆動機構や他の公知部品とともに
組み立てられて、磁気記録媒体駆動装置を構成する。

【００３５】なお、ヘッドアセンブリの製造段階で行う
上記の各洗浄工程では、何れもアルカリ洗浄とアルコー
ル洗浄とを行うため、従来のガラス組成物を用いると、
ガラス３０の表面がアルカリによって浸食され、コア２
０の表面とガラス３０の表面との間に段差が形成される
ことがわかった。図７（ａ）は、研磨工程および洗浄工
程を繰り返した結果、ガラス３０の表面がエッチングさ
れ、コア２０の両側に段差（溝）が形成された構造を示
している。このような段差がコア２０の両側に形成され
ると、研磨工程の最終段階でコア２０の上端エッジが丸
くなり、実効トラック幅が狭くなるおそれがある。ま
た、実際の使用時に、コア２０の両側に形成された溝に
ダストが付着すると、記録／再生エラーの発生確率が著
しく増大する。しかしながら、本発明による封着ガラス
３０を用いると、Ｆｅ₂Ｏ₃添加によってガラスの浸食が
抑制されるため、図７（ｂ）に示すように、段差または
溝がほとんど形成されず、コアおよびその近傍の平坦性
が確保される。従来、図７（ａ）に示す溝の存在は大き
な問題ではなかったかもしれないが、今後、記録密度が
向上して行くに伴い、段差の少ない平坦な表面構造が必
須になってくる。

【００３６】以下、本発明の実施例を説明する。

【００３７】（実施例１）表１に示す量のＦｅ₂Ｏ₃を添
加した４種類の封着ガラス（サンプルＡ、Ｂ、Ｃおよび
Ｄ）を用いて、複数のＭＩＧコンポジット型磁気ヘッド
アセンブリを試作した。Ｆｅ₂Ｏ₃以外については、４種
類のガラスとも前述の組成を有している。

【００３８】試作した磁気ヘッドアセンブリについて、
そのヘッド特性、および、ガラスとＦｅ−Ｔａ−Ｎ合金
との反応状況を評価した。評価結果を表２に示す。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【表２】

【００４１】ヘッド特性として評価した項目は、再生時
のＳ／Ｎ比（ｄＢ）と再生出力（ｍＶ）である。Ｓ／Ｎ
比および再生出力の規格値としては、例えば、それぞ
れ、−２５ｄＢ以下および１５０ｍＶ以上などの数値が
与えられる。この場合、ガラスＢおよびＣを用いたヘッ
ドアセンブリが両規格を満足する。ここで、Ｓ／Ｎ比
は、ガラスに含まれるＦｅ₂Ｏ₃が多くなるにつれて低下
する傾向がある。これは、Ｆｅ₂Ｏ₃添加量の増加がガラ
スを磁性体化するためと考えられる。一方、再生出力
は、Ｆｅ₂Ｏ₃添加量の増加によって増大する。これは、
Ｆｅ₂Ｏ₃が多くなるほど、ガラスとギャップ内合金との
間の反応が抑制されるためである。ガラスとギャップ内
合金との間で反応が進行すると、ギャップ内合金の端部
（反応部分）の磁気特性が劣化するため（磁気劣化層の
形成）、ギャップ内合金の実効的な幅（「実効トラック
幅」に対応）が減少する（図６（ａ）参照）。実効トラ
ック幅の減少は、再生出力を低下させてしまうが、本発
明によれば、Ｆｅ₂Ｏ₃の添加が上記反応を抑制するた
め、実効トラック幅の減少を抑制し、再生出力低下を防
止できる。

【００４２】（実施例２）実施例１で作製した磁気ヘッ
ドアセンブリについて、磁気コアのギャップ部段差を測
定した。測定は、非接触型形状測定器（ＷＹＫＯ）を用
いて行った。測定結果を図８（ａ）および（ｂ）ならび
に図９（ａ）および（ｂ）に示す。図８（ａ）および
（ｂ）は、Ｆｅ₂Ｏ₃を添加していないガラスを用いた場
合の表面段差を示している。これに対して、図９（ａ）
および（ｂ）は、１ｗｔ％のＦｅ₂Ｏ₃を添加したガラス
を用いた場合の表面段差を示している。

【００４３】図８（ｂ）からわかるように、Ｆｅ₂Ｏ₃を
添加していないガラスは５０ｎｍ以上の深さまで封着ガ
ラスがエッチングされており、幅５０μｍ程度の溝がコ
ア２０の両側に形成されている。このような溝が存在す
ると、大気中に浮遊するダストなどが付着しやすい。溝
にダストが取り込まれると、情報の記録・再生時に磁気
記録媒体の表面に損傷を与える危険性がある。

【００４４】一方、Ｆｅ₂Ｏ₃を添加したガラスの場合、
図９（ａ）および（ｂ）からわかるように、ガラスのエ
ッチング深さは１０ｎｍ以下であり、実質的に表面の平
坦性が確保されている。

【００４５】以上の実施例および本発明者による他の実
験から、Ｆｅ₂Ｏ₃の添加量を０．５ｗｔ％以上にすれ
ば、ギャップ合金と封着ガラスとの間の反応抑制効果が
得られることがわかった。ただし、過度のＦｅ₂Ｏ₃添加
は、ガラスを結晶化させやすくし、また、ガラス自体に
磁性を帯びさせるため、Ｆｅ₂Ｏ₃添加量の上限は３ｗｔ
％にすることが好ましく、Ｓ／Ｎ比を重視する場合は、
Ｆｅ₂Ｏ₃添加量の上限を２ｗｔ％にすることが更に好ま
しい。

【００４６】一方、ギャップ内合金とガラスとの反応を
確実に抑制し、しかもヘッド特性を高く維持するという
観点からは、Ｆｅ₂Ｏ₃添加量の下限を１．０ｗｔ％とす
ることが好ましい。

【００４７】Ｓ／Ｎ比の多少の低下を許容しつつ、大き
な再生出力を得るために、３ｗｔ％を超えるＦｅ₂Ｏ₃を
添加してもよい場合がある。ただし、その場合でも、Ｆ
ｅ₂Ｏ₃添加量は４ｗｔ％未満にすることが好ましい。

【００４８】なお、ガラス組成物へのＣｕＯの添加は、
ガラス中での異相の析出が抑制されるため好ましいと言
えるが、ＣｕＯの添加は本発明にとって不可欠ではな
い。

【００４９】

【発明の効果】本発明によれば、ギャップ内の合金と封
着ガラスとの反応が抑制されるため、実効トラック幅の
減少が防止され、高い再生出力を達成することができ
る。また、組立工程中に洗浄によって封着ガラスが浸食
するという問題が生じないため、コア上面部分の平坦性
が維持され、ダストの取り込みなどの問題を避けること
ができる。従って、例えば１００メガバイト以上の大容
量ＦＤ等のリムーバブルメディアに対して、本発明は特
に顕著な効果を発揮し得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるＭＩＧコンポジット型磁気ヘッド
アセンブリの実施形態の斜視図である。

【図２】図１のスライダの一部および磁気コアの断面図
である。

【図３】図１の磁気ヘッドアセンブリの製造プロセスを
示すフローチャートである。

【図４】溶融前の封着ガラスの配置を示す斜視図であ
る。

【図５】溶融後の封着ガラスを示す斜視図である。

【図６】（ａ）は、実効トラック幅が減少したヘッドの
上面図であり、（ｂ）は実効トラック幅が減少していな
いヘッドの上面図である。

【図７】（ａ）は、研磨工程および洗浄工程を繰り返し
た結果、封着ガラスの表面がエッチングされ、コアの両
側に段差（溝）が形成された構造の断面図であり、
（ｂ）は、そのような溝が形成されていない構造の断面
図である。

【図８】（ａ）および（ｂ）は、サンプルＡの磁気ヘッ
ドアセンブリについて、磁気コアのギャップ部分の段差
を示すグラフである。

【図９】（ａ）および（ｂ）は、サンプルＢの磁気ヘッ
ドアセンブリについて、磁気コアのギャップ部分の段差
を示す図である。

【符号の説明】

１０スライダ（ハウジング）１１サイドレール１２スロット２０磁気コア２２ギャップ（Ｇａｐ）３０封着ガラス４０樹脂

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4G062 AA08 AA09 AA15 BB04 DA03 DB03 DC03 DD01 DE01 DF06 EA01 EA10 EB01 EC01 ED01 EE01 EF01 EG01 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA03 GA04 GB01 GC01 GD03 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH12 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM09 MM10 NN32 PP01 5D093 AC08 FA21 HB15 HC20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気コアと、非磁性材料から形成された
スライダと、前記磁気コアを前記スライダに結合する封
着ガラスとを備えたコンポジット型磁気ヘッドアセンブ
リであって、前記磁気コアのギャップ内には軟磁性合金薄膜が設けら
れており、前記封着ガラスは、前記合金薄膜と接触し、かつ、３〜
９ｗｔ％のＳｉＯ₂、６０〜７０ｗｔ％のＰｂＯ、３〜
９ｗｔ％のＢ₂Ｏ₃、３〜９ｗｔ％のＡｌ₂Ｏ₃、５〜１５
ｗｔ％のＢｉ₂Ｏ₃、および３〜９ｗｔ％のＴｅ₂Ｏを含
有し、前記封着ガラスには０．５ｗｔ％以上４ｗｔ％未満のＦ
ｅ₂Ｏ₃が添加されていることを特徴するコンポジット型
磁気ヘッドアセンブリ。
【請求項２】前記封着ガラスに３ｗｔ％以下のＣｕＯ
が添加されていることを特徴とする請求項１に記載のコ
ンポジット型磁気ヘッドアセンブリ。
【請求項３】前記封着ガラスの熱膨張係数は、５０〜
２５０℃において８５〜１２０×１０⁷／℃の範囲内に
あることを特徴とする請求項１または２に記載のコンポ
ジット型磁気ヘッドアセンブリ。
【請求項４】取り外し可能な磁気記録媒体に対して情
報を記録し、または前記記録媒体から情報を読み出すこ
とを特徴とする請求項１から３の何れかひとつに記載の
コンポジット型磁気ヘッドアセンブリ。
【請求項５】ギャップ内に軟磁性合金薄膜が設けられ
た磁気コア、および非磁性材料から形成されたスライダ
を用意する工程と、３〜９ｗｔ％のＳｉＯ₂、６０〜７０ｗｔ％のＰｂＯ、
３〜９ｗｔ％のＢ₂Ｏ₃、３〜９ｗｔ％のＡｌ₂Ｏ₃、５〜
１５ｗｔ％のＢｉ₂Ｏ₃、および３〜９ｗｔ％のＴｅ₂Ｏ
を含有し、０．５ｗｔ％以上４ｗｔ％未満のＦｅ₂Ｏ₃が
添加されている封着ガラスで、前記磁気コアを前記スラ
イダに固定する工程と、を包含するコンポジット型磁気
ヘッドアセンブリの製造方法。
【請求項６】請求項１から３の何れかに記載のコンポ
ジット型磁気ヘッドアセンブリと、取り外し可能な磁気記録媒体を回転させる駆動手段と、
を備えた磁気記録媒体駆動装置。
【請求項７】３〜９ｗｔ％のＳｉＯ₂、６０〜７０ｗ
ｔ％のＰｂＯ、３〜９ｗｔ％のＢ₂Ｏ₃、３〜９ｗｔ％の
Ａｌ₂Ｏ₃、５〜１５ｗｔ％のＢｉ₂Ｏ₃、および３〜９ｗ
ｔ％のＴｅ₂Ｏを含有するコンポジット型磁気ヘッド封
着用ガラス組成物であって、前記封着ガラスには０．５ｗｔ％以上４ｗｔ％未満のＦ
ｅ₂Ｏ₃が添加されていることを特徴するコンポジット型
磁気ヘッド封着用ガラス組成物。
【請求項８】３ｗｔ％以下のＣｕＯが添加されている
ことを特徴とする請求項７に記載のコンポジット磁気ヘ
ッド封着用ガラス組成物。
【請求項９】前記封着ガラスの熱膨張係数は、５０〜
２５０℃において８５〜１２０×１０⁷／℃の範囲内に
あることを特徴とする請求項７または８に記載のコンポ
ジット型磁気ヘッド封着用ガラス組成物。