JPH0312338A - 磁気ヘッド用溶着ガラスおよび磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、磁気ヘッド用の溶着ガラスと、フロッピーデ
ィスク、ハードディスク、各種磁気テープ等の磁気記録
媒体用のメタル・イン・ギャップ（ＭＩＧ）型の磁気ヘ
ッド、特にＭＩＧ型の浮上型磁気ヘッドとに関する。

〈従来の技術〉 第４図に示されるような、フェライト製の第１および第
２コア１．２の少なくとも一方のギャップ部対向面にコ
ア１．２よりも飽和磁束密度の高いセンダスト等の磁性
合金薄膜４を宵するＭＩＧ型磁気ヘッドが知られている
。

この磁気ヘッドでは、磁性合金薄膜４から強力な磁束を
磁気記録媒体に印加できるため、高い保磁力を有する媒
体に有効な記録が行える。

また、磁気ヘッドは、その接着耐久性を向上させるため
、通常図示のように溶着ガラス３０により溶着一体止さ
れ、補強される。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、ＭＩＧ型磁電磁気ヘッド合、磁性合金薄膜４と
、溶着ガラス３０とが溶着熱処理の際過剰に反応し、界
面部のガラスが還元される。

このため磁性合金薄膜４と、溶着ガラス３０との界面近
傍で剥離が生じる。

さらに、溶着ガラスの還元により、界面部にガラス中の
金属成分が析出し、磁気ヘッドの外観不良の問題も生じ
る。

また、従来使用される溶着ガラス３０は、化学的耐久性
も不十分である。

このため、磁性合金薄膜４を有していない通常の磁気ヘ
ッドに使用する場合であっても、ヘッド加工中やヘッド
使用中あるいは保存中に、溶着ガラス３０の変色等が生
じ、十分な補強効果が得られない。

本発明の目的は、優れた化学耐久性を有し、ＭＩＧ型磁
電磁気ヘッドにＭＩＧ型の浮上型磁気ヘッドを製造する
際、磁性合金薄膜と過剰反応しない磁気ヘッド用溶着ガ
ラスと、金属の析出等による外観的問題がなく、加工歩
留が高く、化学耐久性や信頼性の高いＭＩＧ型磁電磁気
ヘッド提供することにある。

く課題を解決するための手段〉 このような目的は下記の（１）〜（３）の本発明によっ
て達成される。

（１）　Ｓ　１０２を１５〜３０重量％、ＰｂＯを３０
〜７０重量％、Ｂ　ｉ　−Ｏａを５〜２５重量％、Ａ　
１２　ａ　Ｏ−を０．５〜４重量％、Ｂ２０．を１〜１
０重量％およびアルカリ金属酸化物を２．５〜８重量％
含有し、ＺｎＯ含有量が０であるか、２重量％以下であ
ることを特徴とする磁気ヘッド用溶着ガラス。

（２）一対のフェライト製のコア間のギャップ部に磁性
合金薄膜を形成し、この一対のコアを上記（１）に記載
の溶着ガラスにて溶着一体止したことを特徴とする磁気
ヘッド。

（３）浮上型磁気ヘッドである上記（２）に記載の磁気
ヘッド。

く作用〉 本発明の溶着ガラスは、所定の組成を有する。

このような組成のガラスは、化学耐久性に優れ、溶着の
際センダスト等の磁性合金薄膜と過剰反応しない。

従って、このような溶着ガラスで溶着一体止されろ本発
明のＭＩＧ型磁電磁気ヘッド磁性合金薄膜と、溶着ガラ
スとの界面にガラス中の金属成分の析出がない。

このため、磁性合金薄膜と、溶着ガラスの界面で剥離が
生じることがな（、また、磁気ヘッドの外観不良の発生
も防止することができる。

そして、高い接着強度を有するギャップ部を持つＭＩＧ
型磁電磁気ヘッドることができる。

さらに、本発明の磁気ヘッドは、ヘッド加工中や、ヘッ
ド使用中や、ヘッド保存中に溶着ガラスの変質等の化学
的変化がほとんど生じない。

従って加工歩留、耐久性、信頼性の高い磁気ヘッドが得
られる。

〈具体的構成〉 以下本発明の具体的構成を詳細に説明する。

本発明のＭＩＧ型磁電磁気ヘッド適実施例を、第１図お
よび第２図に示す。

第１図に示される磁気ヘッドは、ギャップ部対向面に、
磁性合金薄膜４が形成されている第１コア１と、第２コ
ア２とを有し、両コアがギャップ５を介して接合され、
溶着ガラス３により溶着一体止されている。

また、第２図に示される磁気ヘッドは磁性合金薄膜４を
第１コア１、第２コア２の双方のギャップ部対向面に形
成したタイプのものである。

本発明において、コア１．２はフェライトから構成され
る。

用いるフェライトに特に制限はないが、Ｍｎ−Ｚｎフェ
ライトまたはＮ　１−Ｚｎフェライトを、目的に応じて
用いることが好ましい。

Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライトとしては、Ｆ　ａ　ｘ　０
２５０〜６０モル％程度、Ｚｎ０８〜２５モル％程度、
残部が実質的にＭｎＯのものが好適である。

また、Ｎ　１−Ｚｎフェライトは特に高周波領域におい
て優れた特性を示すものであり、好ましい組成としては
、Ｆ　ｅ　ｘ　Ｏｓが３０〜６０モル％、ＮｉＯが１５
〜５０モル％、ＺｎＯが５〜４０モル％程度のものであ
る。

コアｌ、２の直流での飽和磁束密度は、好ましくは３，
０００〜６．○ＯＯＧとする。　飽和磁束密度が上記範
囲未満であると、インピーダンスが低くなるため再生感
度が低下する他、このような飽和磁束密度の組成では、
キエリー温度が低くなるため熱的安定性が低下してしま
う。　上記範囲を超えると、磁歪が増加して磁気ヘッド
としての特性が悪化したり、着磁し易（なる。

コア１．２の周波数５００　ｋＨｚでの初透磁率はｉ、
ｏｏｏ〜２，０００あるいは３，０００〜６，０００程
度、保磁力は０．３０ｅ以下であることが好ましい。

磁性合金薄膜４は、記録時に密度の高い磁束を発生させ
、高い保磁力を有する磁気記録媒体に有効な記録を行な
うために設けられる。

本発明において、磁性合金薄膜４は、ＦｅおよびＳｉを
含有する磁性合金から構成される。

この合金は、ガラス溶着時の熱に対して安定である。

磁性合金薄膜４の直流での飽和磁束密度は、好ましくは
９，０００〜１４，０ＯＯＧ、より好ましくは９，００
０〜１１，０ＯＯＧとする。　飽和磁束密度が上記範囲
未満であると密度の高い磁束を発生することができず、
高保磁力の磁気記録媒体への記録が困難となり、また、
高密度記録にも不適当となる。　上記範囲を超えると、
磁歪が大幅に増加して透磁率が著しく低下し、また、保
磁力が数エルステッド以上に達するため残留磁化が存在
するようになり、記録減磁、Ｓ／Ｎ劣化、記録電流の増
大が生じてしまう。

また、周波数５００　ｋＨｚでの初透磁率は・５００〜
３，０００、特にｌ、０００〜３．０００程度、保磁力
は１．ｏＯｅ以下、より好ましくは０．５０ｅ以下、特
に好ましくは０．２０ｅ以下であることが好ましい。

このような磁性合金としては、Ｆｅ−Ａβ−Ｓｉ系合金
（センダスト）、Ｆｅ−Ｇａ−５ｔ系合金（ＳＯＦＭＡ
Ｘ）あるいはＦｅ−Ｓｉ合金が好ましい。

Ｆｅ−Ａ℃＝Ｓｉ系合金としては、センダストの他、Ａ
４２２〜６重量％、Ｓｉ６〜１２重量％で残部Ｆｅであ
るものが好ましい。

Ｆｅ−Ｇａ−５Ｌ系合金としては、ＳＯＦＭＡＸの他、
Ｇａ５〜１５重量％、Ｓｉ７〜２０重量％、残部Ｆｅで
あるものが好ましい。

Ｆｅ−３Ｌ合金としては、Ｓｉ０．５〜１０重量％で残
部Ｆｅであるものが好ましく、特に、Ｓｉ１〜６重量％
で残部Ｆｅであるものが好ましい。

これらには、Ｃｒ等の添加元素が３重量％程度以下含有
されていてもよい。

磁性合金薄膜４の膜厚は、好ましくは０．　２〜５−１
さらに好ましくは０．５〜３−である。

膜厚が上記範囲未満であると、磁性合金薄膜全体の体積
が不足して飽和し易くなり、上記のような作用を十分に
果たすことが困難となる。

また、上記範囲を超えると、磁性合金薄膜の摩耗が太き
（なる他、渦電流損失が増大してしまう。

このような磁性合金薄膜４を有することにより、本発明
の磁気ヘッドは保磁力９０００ｅ以上、特に９００〜１
，５０００ｅの磁気記録媒体に対し有効な記録を行なう
ことができる。

コア１、コア２および磁性合金薄膜４の飽和磁束密度が
上記範囲内であれば、磁気ヘッドとして高い分解能が得
られる。　また、オーバーライド特性も一３０ｄＢ以下
の良好な値が得られる。

フェライトコアと磁性合金薄膜４間には、溶着を行う際
の磁性合金薄膜４とフェライトコア相互の反応を防止し
、さらに界面の密着力を向上するため、非晶質ガラスの
下地膜を形成することが好ましい。

なお、下地膜は図示されていない。

下地膜には、酸化ケイ素、特に５ｉＯ−含有量８０重量
％以下の非晶質ガラスを用いることが好ましい。

この場合、５ｉＯｉ含有量が８０重量％をこえる非晶質
ガラスでは、十分な効果は得られない。　なお、結晶質
ガラスは、密着力が低いため、本発明には適さない。

用いる非晶質ガラスの作業温度Ｔｗは６５０℃以上であ
ることが好ましい。　このようなときには、薄膜化して
も、溶融せず６００℃以上の温度で熱圧着しながらガラ
ス溶着できるので、きわめて強固な接合溶着一体止を行
うことができる。

なお、作業温度Ｔｗとは、周知のようにガラスの粘度が
１０’ポアズとなる温度をいう。

本発明では特に、作業温度Ｔｗが６５０〜１０００℃、
より好ましくは７００〜１０００℃のガラスが好ましい
。

作業温度Ｔｗが高いときには、コアを溶着したのち、ス
ライダに２次溶着することもでき、後述するコンポジッ
トタイプの場合に有用である。

このようなＴｗを有するガラスとしては、Ｔｗの値によ
り次の２つの系に分けられる。

すなわち、Ｔｗが６５０〜８００℃未満の場合は、鉛−
シリカ系のガラス、Ｔｗが８００℃以上、好ましくは８
００〜１３００℃、より好ましくは８００〜１１００℃
の場合は、シリカ−アルカリ系のガラスを用いる。

各々の系のガラス組成は、以下の値のものが好ましい。

鉛−シリカ系のガラスでは、ＳｉＯ２を２０〜４５重量
％、ｐｂｏを４０〜６５重量％、アルカリ金属酸化物（
例えばＮａｚＯおよび／またはＫ　２０　）を５〜１０
重量％含有するものが好ましい。

特に前記組成に加え、Ａ　４２Ｏ３および／またはＢ２
０．を５重量％以下、より好ましくは０．５〜５重量％
含有するものが好適である。

また、ＺｎＯを５重量％以下、Ａ　ｓ　２０　ｍを０．
３重量％以下、特に０．１〜０．３重量％、Ｂｉｚ　Ｏ
ｓ　、ＴＡｘ　ＯおよびＴ　ｅ　Ｏｚから選ばれる１種
以上を２０重量％以下含有していてもよい。

シリカ−アルカリ系では、Ｓ　ｉ　Ｏ２を５０〜８０重
量％、アルカリ金属酸化物（例えばＮ　ａ　２０および
／またはに２０）を１５〜２５重量％含有するものが好
ましい。

特に前記組成に加え、ＡＳＷ　０３を０．５重量％以下
、より好ましくは０．１〜０．５重量％、ＰｂＯ，Ｂａ
ｄ、ＺｎＯ，ＣａＯ１Ｔｊ２．０１Ｔｅｒａ　、　Ｂ　
ｉｚ　Ｏｓ　、　Ａｊ２ｔ　０３およびＢ２Ｏ３から選
ばれる１種以上を１５重量％以下、より好ましくは０．
５〜１５重量％含有するものが好適である。

非晶質ガラスの下地膜の膜厚は、５００Å以下、好まし
くは５０〜５００人、特に好ましくは５０〜２００人で
あることが好ましい。

膜厚が５００Å以下であれば、記録・再生にはほとんど
影響がない。　そして、このような下地膜を形成するこ
とにより、擬似ギャップの発生を防止し、良好な記録・
再生特性を得ることができる。

下地膜を形成する場合は、前述したコア１．２のギャッ
プ部対向面には、いわゆるアジマスを付けないことが好
ましい。　アジマスは擬似ギャップによる障害防止のた
めに付けられるものであるが、下地膜により擬似ギャッ
プの発生そのものを防止できるからである。　そして、
アジマスを付与するための困難な工程をなくすことによ
り、生産性を向上することができる。

この場合、アジマスは、周知のように、フロント面側か
ら見た場合、記録・再生ギャップのトラック幅方向と、
擬似ギャップの発生する部分との角度を傾斜させて、方
位角を意図的に付けた構造である。

例えば、記録・再生ギャップのトラック幅方向と、擬似
ギャップ発生部分とを非平行にしたり、擬似ギャップ発
生部分をジグザグ状や波状の形状にして粗面化したりし
たアジマス構造がある。

従って、コア１．２のギャップ部対向面、磁性合金薄膜
４およびギャップトラック幅方向は、平行であって、互
いに±０．２°以内の交叉角しかもたないことが好まし
い。　従って、製造上はきわめて有利となる。

なお、このような角度は、光学顕微鏡にて観察して測定
できる。

また、コア１．２のギャップ部対向面は、鏡面研磨等に
より平滑化し、通常、表面粗さは凹凸の差が０１０５−
以下となっていることが好ましい、　このような平滑化
により非晶質ガラス下地膜等が形成され易くなるという
効果も生じる。

前記のような非晶質ガラスの下地膜や磁性合金薄膜４は
、スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法等の公知の各種気相成
膜法により形成されることが好ましく、特にスパッタ法
により形成されることが好ましい。

ギャップ５は、非磁性材質から形成される。

特に、ギャップ５には、接着強度を高めるためガラスを
用いることが好ましい。　この場合、ギャップ５には前
記の非晶質ガラス下地膜と同一あるいは同系のガラスを
用いる。

また、ギャップ５は、前記のガラスのみで形成されてい
てもよいが、ギャップ形成速度を高めるため、図示のよ
うにギャップ５１とギャップ５３との２層で形成される
ことが好ましい。

この場合、ギャップ５１には酸化ケイ素、特にＳ　ｉ　
Ｏｔを用い、ギャップ５３には前記の非晶質ガラス下地
膜と同一あるいは同系のガラスを用いる。

なお、後述する溶着ガラス３が、ギャップ両サイドに流
れ込むタイプの磁気ヘッドの場合は、ギャップ５を酸化
ケイ素のみで形成してもよい。

ギャップ５の形成には制限はないが、特にスパッタ法を
用いることが好ましい。

ギャップ長は、好ましくは０．２〜２．０戸、より好ま
しくは０．２〜１．０鱗、さらに好ましくは０．２〜０
，６戸程度が好ましい。

この範囲であれば、高密度記録が良好に行なえる。

本発明の磁気ヘッドは、第１コア１と、第２コア２とが
ギャップ５を介して接合一体止されているものである。

コアの接合は、ギャップ５３のガラスにより熱圧着する
と同時に溶着ガラス３を流し込むことにより行う。

溶着ガラス３には、Ｓ　ｉ　Ｏ２，Ｐ　ｂ　０１Ｂｔｉ
ｏｓ、Ａβ２０３．Ｂ、０．およびアルカリ金属酸化物
を含有するガラスを用いろ。

５ｉＯ＝の含有量は、１５〜３０重量％、好ましくは２
０〜３０重量％である。

前記範囲未満では、ガラス化が困難であり、あるいは、
ガラスの作業温度Ｔｗが低すぎる。

前記範囲をこえるとガラスの作業温度Ｔｗが高すぎ、磁
性合金薄膜４の磁気特性を劣化させてしまう。

ＰｂＯの含有量は、３０〜７０重量％、好ましくは４０
〜６０重量％である。

前記範囲未満ではガラスの作業温度Ｔｗが高すぎ、しか
も熱膨張係数が小さすぎる。　例えば、ガラスの熱膨張
係数が、９０Ｘ１０−’ｄｅｇ−’程度以下となる。

前記範囲をこえるとガラスの作業温度Ｔｗが低すぎ、し
かも熱膨張係数が大きすぎる。　例えば、ガラスの熱膨
張係数が、１２０×１０ｄｅｇ−’程度以上となる。

Ｂｉ２Ｏ３の含有量は、５〜２５重量％、好ましくは１
０〜１５重量％である。

前記範囲未満では化学的耐久性向上の効果がなく、前記
範囲をこえると失透傾向が生じてくる。

Ａｆｉｔ　Ｏ３の含有量は、０．５〜４重量％、好まし
くは１〜３重量％である。

前記範囲未満ではガラス安定化の効果か弱（、前記範囲
をこえるとガラスの作業温度Ｔｗが高すぎる。

Ｂ２Ｏ５の含有量は、１〜１０重量％、好ましくは１〜
５重量％である。

前記範囲未満ではガラス化が困難であり、しかもガラス
安定化の効果が弱く、前記範囲をこえると化学的耐久性
が劣化する。

アルカリ金属酸化物の含有量は、２．５〜８重量％、好
ましくは３〜７重量％である。

前記範囲未満ではガラスの熱膨張係数が小さすぎ、しか
もガラス化が困難である。

前記範囲をこえるとガラスの熱膨張係数が大きすぎ、し
かも化学的耐久性が劣化する。

アルカリ金属酸化物としては、例えば Ｎ　ａ　ｘ　Ｏおよび／またはに、Ｏが好適である。

この場合、Ｎ　ａ　２０が１〜４重量％、特に１．５〜
３重量％、Ｋ、Ｏが１〜６．５重量％、特に１〜４重量
％であることが好ましい。

また、ＺｎＯは、Ｂｉ２０ｉと併用するとガラスの還元
性が増大するので、ＺｎＯが含有されないことが好まし
いが、必要に応じ少量の添加は許容される。　ただし添
加量は２重量％以下、好ましくは１重量％以下である。

さらに、前記組成には、Ｔ　ｅ　Ｏ２を３０重量％以下
、ＡＳ２０ａを０．５重量％以下、Ｒｂ　ｔ　Ｏを５重
量％以下、ＢａＯを１０重量％以下含有していてもよい
。

前記の組成を有するガラスの作業温度Ｔｗは６００〜７
００℃程度である。　そして、溶着温度５５０〜７５０
℃程度にて、強固に溶着を行うことができる。

本発明では、特に作業温度Ｔｗ６７０〜６９０℃のガラ
スを用い、溶着温度６８０〜６９０℃にて溶着を行うこ
とが好ましい。

この場合本発明では、前記の組成を有する溶着ガラス３
を用いるため、磁性合金薄膜４との過剰反応を防止する
ことができ、さらに優れた化学耐久性が得られる。

なお、溶着に際しては、溶着温度を作業温度Ｔｗ近辺と
し、通常の方法により行う。

第３図には、本発明のＭＩＧ型磁気ヘッドの好適実施例
であるコンポジットタイプの磁気ヘッドの１例が示され
る。

コアブロック６は、第１図あるいは第２図に示される前
述の磁気ヘッドと同様に構成され、前記本発明の溶着ガ
ラスにて溶着一体止される。　そして、このコアブロッ
ク６をスライダー８のコアブロック挿入用切り欠き部に
挿入し、磁気ヘッド用封着ガラス７にて両者を接合・封
着し、巻線９を巻回して磁気ヘッドとされる。

封着ガラス７には、通常、鉛ケイ酸ガラスもしくは鉛ホ
ウ酸ガラスを用いるが、本発明では作業温度Ｔｗが４３
０〜６００℃程度のガラスにより、溶着温度４００〜５
５０℃程度で２次溶着を行うことができる。　このため
信頼性の高い磁気ヘッドを得ることができる。

本発明の磁気ヘッドは、必要に応じスライダーと一体化
され、組立てられヘッドアセンブリーとされる。

そして、いわゆるラミネートタイプやバルクタイプ等の
トンネルイレーズ型あるいはイレーズヘッドを有しない
リードライト型などのオーバーライド記録を行なうフロ
ッピーヘッド、モノリシックタイプや前述したコンポジ
ットタイプの浮上型の計算機用ヘッド、回転型のＶＴＲ
用ヘッドやＲ−ＤＡＴ用ヘッドなどの各種磁気ヘッドと
して用いられる。

また前記の本発明の磁気ヘッドを用いて、公知の種々の
方式のオーバーライド記録を行なうことができる。

なお、本発明においては、第１コア１、第２コア２の一
方のコアに前述した磁性合金薄膜４を形成し、他方のコ
アにはコアより飽和磁束密度の低い磁性合金薄膜を形成
したいわゆるＥＤＧ型の磁気ヘッドとすることができる
。

この場合も、ＭＩＧ型磁気ヘッドと同様の効果を得るこ
とができる。

また、コアより飽和磁束密度の低い磁性合金薄膜のみを
形成したいわゆるＤＧＬ型の磁気ヘッドや磁性合金薄膜
を有さない通常の磁気ヘッドの場合も優れた化学耐久性
や信頼性が得られる。

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。

実施例１ 第１図に示されるように、ギャップ部対向面に磁性合金
薄膜４が形成されている第１コア１と、第２コア２とを
ギャップ５を介して接合−体化し、ＭＩＧ型磁気ヘッド
を製造した。

コア１．２の材質はＭｎ−Ｚｎフェライトとし、直流で
の飽和磁束密度は５０００Ｇ、周波数５００　ｋＨｚで
の初透磁率は３０００、保磁力は０．１０ｅであった。

磁性合金薄膜４には、Ｆ　ｅ　ａｓｓ　ｉ　＋ｏＡ　２
　ｓ（重量％）を用い、直流での飽和磁束密度は１１０
００Ｇ、周波数５００　ｋＨｚでの初透磁率は２８００
、保磁力は０．１５であった。　なお、成膜はスパッタ
法により行ない、膜厚は２．０−とした。

ギャップ５１にはＳｉ　Ｏ２を用い、スパッタにより形
成し、その膜厚は０．４μｓとした。

ギャップ５３には、３５Ｓｉ０２ ２Ａｆｉ＊　０−−１．５Ｂ２０３−４Ｎａ、　Ｏ−５
，５に、０−４８ＰｂＯ−４ＺｎＯ（重量％）の組成を
有し、作業温度Ｔｗが７８０℃のガラスを用いた。

なお、ギャップ５３はスパッタにより形成し、その膜厚
は０．２μｓとした。

溶着ガラス３の組成、作業温度Ｔｗ、溶着温度は表１に
示されるとおりである。

この場合、本発明のサンプルＮｏ、１〜Ｎ０８３のほか
、比較サンプルＮｏ、４〜Ｎｏ、６も製造した。

なお、コイルターン数は２０×２ターンとした。

各サンプルにつき下記の試験を行った。

（溶着ガラスの反応性試験） 判定基準は以下のとおりである。

Ｑ：　１００個加工して完成品９５個以上○：１００個
加工して完成品５０個以上９５個未満 △：１００個加工して完成品５個以上 ５０個未満 ｘ二１００個加工して完成品５個未満 また、完成したサンプルの溶着ガラス３と、磁性合金薄
膜４の界面近傍を電子顕微鏡で観察する。

（溶着ガラスの化学耐久試験） 完成したサンプルを室温のイオン交換水に９６時間つけ
、溶着ガラス３の表面を金属顕微鏡で観察する。

これらの結果は表１に示されるとおりである。

なお、比較サンプルＮ０１４〜Ｎ０１６の溶着ガラス３
と磁性合金薄膜４の界面に析出した結晶なＳＥＭ−ＥＤ
Ｓにより調べたところ、溶着ガラス中の金属成分である
ことが確認された。

実施例２ 実施例１のサンプルＮｏ、１〜Ｎｏ、３の第１コア１と
、磁性合金薄膜４の間に非晶質ガラスの下地膜を形成し
たＭＩＧ型磁気ヘッドサンプルＮｏ、７〜Ｎｏ、９を製
造した。

非晶質ガラス下地膜には、ギャップ５３と同様のガラス
を用い、スパッタにより形成し１、その膜厚は１００人
とした。

そして、その他の諸条件はサンプルＮ０１１〜Ｎ０９３
と同様とした。

これらの磁気ヘッドサンプルに対し、実施例１と同様の
試験を行ったところ、歩留がさらに向上したうえ、実施
例１と同様の結果が得られた。

また、周波数２５０　ｋＨｚの信号を記録し、主パルス
に対する擬似パルスの比率を測定したところ５％未満の
良好な結果が得られた。

なお、下地膜のない比較サンプルＮ００４〜Ｎｏ、６の
擬似パルス比率は、１５％程度であった。

〈発明の効果〉 本発明の磁気ヘッド用溶着ガラスは、化学耐久性に優れ
る。

また、このような溶着ガラスで溶着一体止される本発明
のＭＩＧ型磁気ヘッドでは、溶着を行う際に、磁性合金
薄膜との反応によりガラスが還元されて生じる金属成分
の析出を防止することができる。

このため、強固なギャップ部を有し、しかも外観不良の
ない優れた品質を有する磁気ヘッドが得られる。

そして、特に高い機械的強度を要求されるコンポジット
タイプ等の浮上型磁気ヘッドの場合には、優れた耐久性
が得られる。

さらに、本発明の磁気ヘッドでは、ヘッドを加工、使用
、保存する場合の環境中で、溶着ガラスの変質等の化学
的変化を防止することができる。

従って、加工歩留が高く、耐久性や信頼性の高い磁気ヘ
ッドが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、本発明のＭＩＧ型磁気ヘッドの
１例を示す部分断面図である。 第３図は、本発明のＭＩＧ型のコンポジットタイプの磁
気ヘッドの１例を示す斜視図である。 第４図は、従来のＭＩＧ型磁気ヘッドを示す部分断面図
である。 符号の説明 １・・・第１コア ２・・・第２コア ３．３０・・・溶着ガラス ４・・・磁性合金薄膜 ５．５１．５３・・・ギャップ ６・・・コアブロック ７・・・磁気ヘッド封着用ガラス ８・・・スライダー ９・・・巻線

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）ＳｉＯ＿２を１５〜３０重量％、ＰｂＯを３０〜
   ７０重量％、Ｂｉ＿２Ｏ＿３を５〜２５重量％、Ａｌ＿
   ２Ｏ＿３を０．５〜４重量％、Ｂ＿２Ｏ＿３を１〜１０
   重量％およびアルカリ金属酸化物を２．５〜８重量％含
   有し、ＺｎＯ含有量が０であるか、２重量％以下である
   ことを特徴とする磁気ヘッド用溶着ガラス。
2. （２）一対のフェライト製のコア間のギャップ部に磁性
   合金薄膜を形成し、この一対のコアを請求項１に記載の
   溶着ガラスにて溶着一体化したことを特徴とする磁気ヘ
   ッド。
3. （３）浮上型磁気ヘッドである請求項２に記載の磁気ヘ
   ッド。