JPH03109235A - ガラスおよび磁気ヘッド - Google Patents

ガラスおよび磁気ヘッド

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Publication number
JPH03109235A
JPH03109235A JP24768489A JP24768489A JPH03109235A JP H03109235 A JPH03109235 A JP H03109235A JP 24768489 A JP24768489 A JP 24768489A JP 24768489 A JP24768489 A JP 24768489A JP H03109235 A JPH03109235 A JP H03109235A
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JP
Japan
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glass
weight
magnetic head
gap
magnetic
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Application number
JP24768489A
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English (en)
Inventor
Koujirou Ogami
公二郎 屋上
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Publication of JPH03109235A publication Critical patent/JPH03109235A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/24Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、ガラスと、フロッピーディスク、ハードディ
スク、各種磁気テープ等の磁気記録媒体用の磁気ヘッド
とに関する。
〈従来の技術〉 第4図に示されるように、一対のフェライト製コア1.
2をギャップ50を介して接合し、補強ガラス30によ
り溶着一体化した磁気ヘッドが知られている。
また、第5図に示されるように、一対のフェライト製コ
ア1.2をギャップ50を介して接合したコアブロック
60を、スライダー8にシールガラス70により封着し
、固定したコンポジットタイプの磁気ヘッドが知られて
いる。
このような磁気ヘッドの作製は、その接合・封止さらに
は溶着にガラスを用いる。
これらのガラスは、接合する他の部材と熱膨張のマツチ
ングがとれていることが必要である。 そして、接合す
る部材の材質にもよるが、例えば相手がMn−Znフェ
ライトであれば、一般に90〜110 X 10−’d
eg−’の熱膨張係数を有することが必要である。
また、ガラス溶着を2度以上行う場合、2法治着以後に
使用するガラスは1次溶着によって形成されたヘッドギ
ャップ部が、2法治着以後の溶着、例えばコンポジット
ヘッドにおけるシールガラス70の溶着の際に動かない
ような粘性特性を有することが必要である。
すなわち、2法治着以後に使用するガラスは、その目的
上、低融点ガラスが使われる。 例えは、コンポジット
ヘッドのシールガラスでは、Twが400〜600℃程
度である。 なお、Twとは、ガラスの粘度が1O4p
oiseとなる温度であり、通常、作業温度と呼ばれる
。 また、組成としては、高鉛ガラスが一般に使用され
ているり このような低融点ガラスは、補強ガラス30としても使
用され、場合によっては、低融点ガラスをギャップ形成
材として、ギャップ50の中に流し込んで使用する場合
もある。
いずれの場合も、上記熱特性の他に、磁気ヘッドとして
の信頼性を高めるため、優れた化学的耐久性が要求され
る。
特に、大きい面積でガラス部が露出する場合、例えばコ
ンポジットヘッドのガラス・シール部にはより一層優れ
た化学的耐久性が要求される。
〈発明が解決しようとする課題〉 ところで一般的に用いられている鉛ガラス等の低融点ガ
ラスは、上記熱特性を保ち、かつ化学的耐久性を高めよ
うとする組成操作を行うと、ガラス化する組成範囲が狭
くなる傾向があり、また失透する場合が多い。
加えて、ガラス化しても、ガラス安定性が低くなる傾向
があり、磁気ヘッド用ガラスとじては使用困難となる場
合が多い。
つまり、従来知られている低融点ガラスによりギャップ
を形成したり、一対のフェライト製コアl、2を溶着し
たり、あるいはスライダー8にコアブロック60を固定
封着しても、耐久性、特に化学的耐久性が不十分である
このため、磁気ヘッド保存中や使用中に、補強ガラス3
0の変色や腐食等が生じ、また、コンポジットタイプの
磁気ヘッドでは、シールガラス70の表面の風化、腐食
等により、フロント面に凹部が生じるなどし、磁気ヘッ
ドの信頼性が低下する。 加えて、風化や腐食等によっ
て生じた異物が、磁気記録媒体に付着したり、記録され
ているデータに悪影響をおよぼす。
また、フェライト製コア1.2のギャップ部対向面に磁
性合金薄膜を有するメタル・イン・ギャップ(MIG)
型の磁気ヘッドの場合は、磁性合金薄膜と、補強ガラス
3oとの溶着熱処理の際の反応で、界面部のガラスが還
元され易い。
このため磁性合金薄膜と、補強ガラス30との界面部に
ガラス中の金属成分が析出し易く、そのため界面での剥
離が生じたり、磁気ヘッドの外観不良の問題が生じたり
する。
本発明の目的は、特に磁気ヘッド用に用いたとき、所定
の熱的特性を有し、かつ耐久性、特に化学的耐久性に優
れ、ガラス化範囲が広く、ガラス安定性が高く、しかも
MIG型磁気ヘッドの製造の際、磁性合金薄膜との反応
により還元されないガラスと、このようなガラスを用い
た信頼性の高い磁気ヘッドとを提供することにある。
く課題を解決するための手段〉 このような目的は、下記の本発明(1)〜(6)によっ
て達成される。
(1) T e Ozを0.5〜40重量%含み、かつ
60重量%以下のSiO□、30重量%以下のB、O,
および50重量%以下のG e Ozから選ばれる1種
以上を13重量%以上、’rI2i o、pbo、Bi
g O3、CdOおよびBaOから選ばれる1種以上を
17〜86.5重量%含有することを特徴とするガラス
(2)一対のフェライト製コアをギャップを介して突き
合わせ、補強ガラスにより溶着一体化した磁気ヘッドで
あって、 前記補強ガラスが、上記(1)に記載のガラスであるこ
とを特徴とする磁気ヘッド。
(3)前記ギャップに請求項1に記載のガラスを用いた
上記(2)に記載の磁気ヘッド。
(4)前記一対のフェライト製コア間のギャップ部に磁
性合金薄膜を形成した上記(2)または(3)に記載の
磁気ヘッド。
(5)一対のフェライト製コアをギャップを介して突き
合わせたコアブロックを、スライダーにシールガラスに
より固定封着した磁気ヘッドであって、 前記シールガラスが、上記(1)に記載のガラスである
ことを特徴とする磁気ヘッド。
(6)一対のフェライト製コアのギャップ部に磁性合金
薄膜が形成され、請求項1に記載のガラスにより溶着一
体化したコアブロックを、スライダーに固定封着した上
記(5)に記載の磁気ヘッド。
〈作用〉 本発明では、原料として所定量のT e Omを用いる
。 ただし、T e 02をガラスネットワーク形成の
主成分としては使用していない。
このため広い範囲でガラス化することができ、ガラスの
安定性も向上する。
そして、磁気ヘッドのギャップ用のガラスや補強ガラス
やシールガラスに適した熱膨張係数や粘度等の熱的特性
を維持したまま、耐久性、特に化学的耐久性が向上する
また、ギャップや補強部にこのようなガラスを用いた本
発明の磁気ヘッドは、そのガラス部の化学的耐久性が優
れていることにより、磁気ヘッドとしての信頼性を高め
ることができる。
加えて、MIG型の磁気ヘッドの溶着に用いても、磁性
合金薄膜との反応により還元されることなく、良好な接
着を行うことができる。
これにより、補強ガラスとの界面近傍での剥離を防止で
き、高い接着強度を有するMIG型磁気ヘッドが実現す
る。
このため歩留りや量産性が向上する。
また、シールガラスに、このようなガラスを用いた本発
明のコンポジットタイプの磁気ヘッドでは、シールガラ
ス表面の変色や風化や腐食や侵食等を防止でき、信頼性
の高い磁気ヘッドが実現する。
さらに、ガラス安定性の向上により、いかなる溶着条件
・状態のものでも、表面失透等の不安定さを現出させる
ことなく溶着を行うことができ、歩留りや量産性を向上
させることができる。
なお、従来もTeO□を含有するガラスは知られている
しかし、従来公知のガラスには、TeO7が40重量%
超含有され、必ずしも含有量にはよらないがTeO□が
ガラスネットワークの主成分として使用されている場合
がほとんどである。 あるいは、TeO□の含有量が本
発明と同程度でも他の成分が本発明とは全く異なる組成
である。
一方、Teの形で含まれるガラスとしては、例えば赤外
線透過用のガラス等として使用されているカルコゲンガ
ラスが知られている。
これらは何れも熱膨張係数や粘度等の熱的特性が、磁気
ヘッド用ガラスとは異なるため磁気ヘッドに使用するこ
とは困難である。 さらに化学的耐久性も不十分である
このように本発明のガラス組成と、本発明による効果は
従来全(知られていなかった。
〈発明の具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。
本発明の特に磁気ヘッド用として好適なガラスには、T
 e Ozを0.5〜40重量%、好ましくは5〜20
重量%含有する。
前記範囲未満では、ガラスの安定性、化学的耐久性およ
び耐還元性の向上といったT e O2の効果がでない
また、前記範囲をこえるとTe0gがガラスネットワー
ク形成の主成分として働き始めるため、逆に上記特徴を
失うこととなる。
そして、60重量%以下のSiO2,30重量%以下の
B、O,および50重量%以下のGeO□から選ばれる
1〜3種のネットワーク形成物質を合計で13重量%以
上含有する。
前記範囲未満では、ガラス化が困難である。
ただしあまり大きすぎると、上記のTera導入の効果
がなくなってくる。 また、例えば磁気ヘッド用のガラ
スとして必要な熱特性を得られな(なる。
このため、特にS i 02B 20 zおよびG e
 Oxの合計が13〜50重量%程度であることが好ま
しい。
このうち、特に磁気ヘッドに好適なものとしては、前記
ネットワード形成物質のうちSiO□および/またはB
t O,を必須成分として含有するものが好ましい。
このような場合、SiO□を必須成分として含むときに
は、その含有量は0.5〜50重量%、特に2〜30重
量%程度が好ましい。
また、B2O3を必須成分として含むときには、その含
有量は0.5〜30重量%、特に0.5〜20重量%程
度が好ましい。
さらに、本発明のガラスには、Ta2O。
PbO,Bia O,、CdOおよびBaOがら選ばれ
る1〜5種の修飾成分を合計で17〜86.5重量%含
有する。
前記範囲をこえるとガラス化が困難である。
また前記範囲未満では必要な熱特性を得られなくなる。
このような場合、前記修飾成分の1〜5種いずれを含有
するものであってもよいが、特に磁気ヘッドに好適なも
のとしては、PbOを必須成分として含み、pboを1
7.5〜86.5重量%、より好ましくは35〜86.
5重量%程度含有するものが好ましい。
この池水発明のガラスには、Aβ201ZnO1L a
 a Os 、 N a 20、K2O、Rb * O
%Ca 01Fe、0.  Mn01NiO1Coo、
Crz O,MgO5L i x 05SrO1P z
 Os  T 102ZrOz 、Asa Oaおよび
S b 20 a等から選ばれる1種以上を合計で46
重量%以下、より好ましくは26重量%、以下含有して
いてもよい。
前記範囲をこえると、必要な熱特性を得られな(なる。
 また、本発明の効果が得られない傾向にある。
本発明のガラスの製造は例えば下記のように行えばよい
T e O2等の原料を所定の組成に配合し、大気中で
十分に溶融した後、冷却する。
この場合、本発明の特徴は、原料としてT e O2を
用い、T e 02の形でガラス成分を構成することで
ある。
このようにして得られる本発明のガラスの作業温度Tw
は、400〜900℃程度、熱膨張係数は、100〜3
00℃にて90〜120×10−’deg−’程度テア
ル。
そして本発明のガラスを磁気ヘッドに使用する場合は、
ギャップ用のガラス、補強ガラスおよびシールガラス等
のそれぞれに応じ、適合した熱膨張係数や作業温度Tw
や粘度等の熱的特性を適宜選択すればよい。
また、本発明のガラスは、磁気ヘッド以外にもICパッ
ケージ等の各種電子部品にも用いることができる。 こ
の場合も磁気ヘッドと同様に熱的特性が適合し、優れた
化学的耐久性を有する製品が実現する。
次に、本発明のガラスを、磁気ヘッドの補強ガラスと、
シールガラスに用いる場合を例にとり、本発明の磁気ヘ
ッドと共に説明する。
第1図および第2図には本発明の好適実施例であるMI
G型の磁気ヘッドが示される。
第1図に示される磁気ヘッドは、ギャップ部対向面に、
磁性合金薄膜4が形成されている第1コア1と、第2コ
ア2とを有し、両コアがギャップ5を介して接合され、
補強ガラス3により溶着一体化されている。
また、第2図に示される磁気ヘッドは磁性合金薄膜4を
第1コアl、第2コア2の双方のギャップ部対向面に形
成したタイプのものである。
本発明において、コア1.2はフェライトから構成され
る。
用いるフェライトに特に制限はないが、Mn−Znフェ
ライトまたはNi−Znフェライトを、目的に応じて用
いることが好ましい。
Mn−Znフェライトとしては、Fe20s50〜60
モル%程度、Zn08〜25モル%程度、残部が実質的
にMnOのものが好適である。
また、Ni−Znフェライトは特に高周波領域において
侵れた特性を示すものであり、好ましい組成としては、
F e z Osが30〜60モル%、NiOが15〜
50モル%、ZnOが5〜40モル%程度のものである
コアl、2の直流での飽和磁束密度は、好ましくは3,
000〜6,0OOGとする。 飽和磁束密度が上記範
囲未満であると、インピーダンスが低(なるため再生感
度が低下する他、このような飽和磁束密度の組成では、
キュリー温度が低くなるため熱的安定性が低下してしま
う。 上記範囲を超えると、磁歪が増加して磁気ヘッド
としての特性が悪化したり、着磁し易くなる。
コアl、2の周波数500 kHzでの初透磁率はl、
000〜2.000あ6いは3.oo。
〜6,000程度、保磁力は0.30e以下であること
が好ましい。
なお、フェライト製コア1.2の100〜300℃での
熱膨張係数は90〜150×10−’deg−’程度で
ある。
磁性合金薄膜4は、記録時に密度の高い磁束を発生させ
、高い保磁力を有する磁気記録媒体に有効な記録を行な
うために設けられる。
本発明において、磁性合金薄膜4は、FeおよびStを
含有する磁性合金から構成される。
この合金は、ガラス溶着時の熱に対して安定である。
磁性合金薄膜4の直流での飽和磁束密度は、好ましくは
9.000〜14,0OOG、より好ましくは9.oo
o〜11.oooGとする。 飽和磁束密度が上記範囲
未満であると密度の高い磁束を発生することができず、
高保磁力の磁気記録媒体への記録が困難となり、また、
高密度記録にも不適当となる。 上記範囲を超えると、
磁歪が大幅に増加して透磁率が著しく低下し、また、保
磁力が数エルステッド以上に達するため残留磁化が存在
するようになり、記録減磁、S/N劣化、記録電流の増
大が生じてしまう。
また、周波数500 kHzでの初透磁率は500〜3
,000、特にり、000〜3.000程度、保磁力は
1.OOe以下、より好ましくは0.50e以下、特に
好ましくは0.20e以下であることが好ましい。
このよ、うな磁性合金としては、Fe−Al2−3i系
合金(センダスト)Fe−Ga−Si系合金(SOFM
AX)あるいはFe−Si合金が好ましい。
Fe−Aβ−Si系合金としては、センダストの他、A
42〜6重量%、Si6〜12重量%で残部Feである
ものが好ましい。
Fe−Ga−3i系合金としては、SOFMAXの他、
Ga5〜15重量%、Si7〜20重量%、残部Feで
あるものが好ましい。
Fe−Si合金としては、Si0.5〜10重量%で残
部Feであるものが好ましく、特に、Si1〜6重量%
で残部Feであるものが好ましい。
これらには、Cr等の添加元素が3重量%程度以下含有
されていてもよい。
磁性合金薄膜4の膜厚は、好ましくは0,2〜5u、さ
らに好ましくは0.5〜3戸である。
膜厚が上記範囲未満であると、磁性合金薄膜全体の体積
が不足して飽和し易くなり、上記のような作用を十分に
果たすことが困難となる。
また、上記範囲を超えると、磁性合金薄膜の摩耗が大き
くなる他、渦電流損失が増大してしまう。
このような磁性合金薄膜4を有することにより、本発明
の磁気ヘッドは保磁力900Qe以上、特に900〜1
,5000eの磁気記録媒体に対し有効な記録を行なう
ことができる。
コア1、コア2および磁性合金薄膜4の飽和磁束密度が
上記範囲内であれば、磁気ヘッドとして高い分解能が得
られる。 また、オーバーライド特性も一30dB以下
の良好な値が得られる。
フェライトコアと磁性合金薄膜4間には、溶着を行う際
の磁性合金薄膜4とフェライトコア相互の反応を防止し
、さらに界面の密着力を向上するため、非晶質ガラスの
下地膜を形成することが好ましい。
なお、下地膜は図示されていない。
下地膜には、酸化ケイ素、特にSiO□含有量80重量
%以下の非晶質ガラスを用いることが好ましい。
この場合、Si Oz含有量が80重量%をこえる非晶
質ガラスでは、十分な効果は得られない。 なお、結晶
質ガラスは、密着力が低いため、本発明には適さない。
用いる非晶質ガラスの作業温度Twは650℃以上であ
ることが好ましい。 このようなときには、薄膜化して
も溶融せず、600℃以上の温度で熱圧着しながらガラ
ス溶着できるので、きわめて強固な接合溶着−磁化を行
うことができる。
本発明では特に、作業温度Twが650〜i ooo℃
、より好ましくは700−1000℃のガラスが好まし
い。
作業温度Twが高いときには、コアを溶着したのち、ス
ライダーに2次溶着することもでき、後述するコンポジ
ットタイプの場合に有用である。
このようなTwを有するガラスとしては、Twの値によ
り次の2つの系に分けられる。
すなわち、Twが650〜800℃未満の場合は、鉛−
シリカ系のガラス、Twが800℃以上、好ましくは8
00〜1300℃、より好ましくは800〜1100℃
の場合は、シリカ−アルカリ系のガラスを用いる。
各々の系のガラス組成は、以下の値のものが好ましい。
鉛−シリカ系のガラスでは、S 10 xを20〜45
重量%、pboを40〜65重量%、アルカリ金属酸化
物(例えばN a z Oおよび/またはK * o 
)を5〜10重量%含有するものが好ましい。
特に前記組成に加え、Aρ2O3および/またはB2O
3を5重量%以下、より好ましくは0.5〜5重量%含
有するものが好適である。
また、ZnOを5重量%以下、As5esを0.3重量
%以下、特に0.1〜0.3重量%、Bi2O3TAx
 OおよびT e Ozから。
選ばれる1種以上を20重量%以下含有していてもよい
シリカ−アルカリ系では、SiO□を50〜80重量%
、アルカリ金属酸化物(例えばN a 20および/ま
たはに20)を15〜25重量%含有するものが好まし
い。
特に前記組成に加え、As5esを0.5重量%以下、
より好ましくは0.1〜0.5重量%、pbo、Ba0
%ZnO1Cab。
Tl220、Team 、Bis Os 、AQm O
sおよびB、03から選ばれる1種以上を15重量%以
下、より好ましくは0.5〜15重量%含有するものが
好適である。
非晶質ガラスの下地膜の膜厚は、500Å以下、好まし
くは50〜500人、特に好ましくは50〜200人で
あることが好ましい。
膜厚が500Å以下であれば、記録・再生にはほとんど
影響がない。 そして、このような下地膜を形成するこ
とにより、擬似ギャップの発生を防止し、良好な記録・
再生特性を得ることができる。
下地膜を形成する場合は、前述したコア1.2のギャッ
プ部対向面には、いわゆるアジマスを付けないことが好
ましい。 アジマスは擬似ギャップによる障害防止のた
めに付けられるものであるが、下地膜により擬似ギャッ
プの発生そのものを防止できるからである。 そして、
アジマスを付与するための困難な工程をな(すことによ
り、生産性を向上することができる。
この場合、アジマスは、周知のように、フロント面側か
ら見た場合、記録・再生ギャップのトラック幅方向と、
擬似ギャップの発生する部分との角度を傾斜させて、方
位角を意図的に付けた構造である。
例えば、記録・再生ギャップのトラック幅方向と、擬似
ギャップ発生部分とを非平行にしたり、擬似ギャップ発
生部分をジグザグ状や波状の形状にして粗面化したりし
たアジマス構造がある。
従って、コア1.2のギャップ部対向面、磁性合金薄膜
4およびギャップトラック幅方向は、平行であって、互
いに±0.2@以内の交叉角しかもたないことが好まし
い。 従って、製造上はきわめて有利となる。
なお、このような角度は、光学顕微鏡にて観察して測定
できる。
また、コアl、2のギャップ部対向面は、鏡面研磨等に
より平滑化し、通常、表面粗さは凹凸の差がQ、Q57
m以下となっていることが好ましい。 このような平滑
化により非晶質ガラス下地膜等が形成され易くなるとい
う効果も生じる。
前記のような非晶質ガラスの下地膜や磁性合金薄膜4は
、スパッタ法、蒸着法、CVD法等の公知の各種気相成
膜法により形成されることが好ましく、特にスパッタ法
により形成されることが好ましい。
ギャップ5は、非磁性材質から形成される。
特に、ギャップ5には、接着強度を高めるためガラスを
用いることが好ましい。 この場合、ギャップ5には例
えば、前記の非晶質ガラス下地膜と同一あるいは同系の
ガラスを用いればよい。
また、ギャップ5は、前記のガラスのみで形成されてい
てもよいが、ギャップ形成速度を高めるため、図示のよ
うにギャップ51とギャップ53との2層で形成される
ことが好ましい。
この場合、ギャップ51には酸化ケイ素、特にS i 
O2を用い、ギャップ53には前記の非晶質ガラス下地
膜と同一あるいは同系のガラスを用いる。
なお、後述する補強ガラス3が、ギャップ両サイドに流
れ込むタイプの磁気ヘッドの場合は、ギャップ5を酸化
ケイ素のみで形成してもよい。
ギャップ5の形成には制限はないが、特にスパッタ法を
用いることが好ましい。
また、ギャップ5あるいはギャップ53を本発明のガラ
スで形成してもよい。
そしてギャップ長や要求される精度にもよるが、摺動面
のギャップ両端部に補強ガラス3が埋まっているタイプ
の場合は、後述する補強ガラス3にもギャップに用いた
ガラスを使用し、一体形成することができる。
この場合は、溶融したガラスを磁気ヘッドの裏面側から
流し込んで一体同時形成すればよい。
ギャップ長は、好ましくは0.2〜2.0μ、より好ま
しくは0.2〜1.0−1さらに好ましくは0.2〜0
.6鱗程度が好ましい。 この範囲であれば、高密度記
録が良好に行なえる。
本発明の磁気ヘッドは、第1コア1と、第2コア2とが
ギャップ5を介して接合−磁化されているものである。
コアの接合は、ギャップ53のガラスにより熱圧着する
と同時に補強ガラス3を流し込むことにより行う。
補強ガラス3には、本発明のガラスを用いる。 この場
合、例えば、MIGタイプの磁気ヘッド用としては、特
に下記に示される組成と熱特性のガラスが好ましい。
1滅 TeO2:5〜15重量% S i Oa、B2O,およびG e O2から選ばれ
る1〜3種の合計が13〜30重量%、特に!9i0a
および/またはB、O,が17〜28重量% この場合5iO−:O〜30重量% B、O,:0〜10重量% GeO□:0〜lO重量% Cd01T氾20、PbO%B i 20 sおよびB
aOから選ばれる1〜5種の合計が50〜70重量% この場合CdO: O〜20重量% Tβ20:0〜20重量% PbO: 35〜60重量% Bigot:0〜20重量に BaO:0〜5重量% なお、上記組成にはさらに、Aβ、0゜ZnO,La1
n   Nag 01K20、Rb、0、CaO1F 
e z Oa  M n 01NiO1Coo、Cr 
x Os   M g OlL i m 01SrO1
P2ss  Ti1tZrOi 、Ass Oxおよび
5baOs等から選ばれる1種以上を合計で46重量%
以下、より好ましくは26重量%以下含有していてもよ
い。
組1目Lユ 作業温度Tw:500〜700℃ 熱的膨張係数(100〜300℃): 95〜l O9X I O−’deg−’この場合、溶
着温度は、500〜700℃程度である。 そして、溶
着に際しては、溶着温度を作業温度Tw近辺とし、通常
の方法により行う、 このように本発明では、所定の組
成を有するガラスを用いるため、磁性合金薄膜4との過
剰反応が防止され、しかも優れた化学的耐久性が得られ
る。
以上では、MIG型の磁気ヘッドを例に挙げ説明したが
、本発明の磁気ヘッドはこれに限定されるものではない
。 例えば、磁性合金薄膜4のない磁気ヘッドや、1対
のフェライト製コア1,2の少なくとも一方のコアに、
コアより飽和磁束密度の低い磁性合金薄膜を形成した、
いわゆるデュアル・ギャップ・レングス(DGL)型の
磁気ヘッド、さらにはフェライト製コアより飽和磁束密
度の高い磁性合金薄膜4と、磁束密度の低い磁性合金薄
膜とを形成したいわゆるエンハンスト・デュアル・ギャ
ップ・レングス(EDG)型の磁気ヘッドであってもよ
い。
これらの場合も前述したMIG型磁気ヘッドと同様優れ
た化学的耐久性が得られ、DGL型やEDG型の磁気ヘ
ッドの場合は、加えて、高い接着強度が得られる。
第3図には、本発明の磁気ヘッドの好適実施例であるM
IG型のコンポジットタイプの磁気ヘッドの1例が示さ
れる。
コアブロック6は、例えば第1図あるいは第2図に示さ
れる前述の磁気ヘッドと同様に構成される。 なお、図
示例のコアブロック6は、MIG型磁気ヘッド用である
が1本発明はこれに限定されるものではなく、例えば磁
性合金薄膜4のないものや、DGL型用さらにはEDG
型用であってもよい。
そして、このコアブロック6をスライダー8のコアブロ
ック挿入用切り欠き部に挿入し、磁気ヘッド封着用のシ
ールガラス7にて両者を接合・封着(2吹溜着)し、巻
線9を巻回して磁気ヘッドとされる。
スライダー8は、チタン酸カリウム、チタン酸カルシウ
ム、チタン酸ストロンチウム等の非磁性セラミックス等
が用いられる。 なお、このような非磁性セラミックス
の100〜300℃での熱膨張係数は90〜120Xl
O−’de(’程度である。
シールガラス7には、本発明のガラスを用いる。 この
場合特に下記に示される組成と熱的特性のガラスが好ま
しい。
1滅 Te202 =5〜15重量% S i Oz、B2O3およびGe O2から選ばれる
1〜3種の合計が13〜30重量%、特にS i O*
および/またはB z O3が13〜21重量% この場合SiO,:O〜30重量% BzOm:0〜30重量% GeO2:0〜10重量% CdO,Tg20、PbO,Bt20gおよびBaOか
ら選ばれる1〜5種の合計が60〜86.5重量% この場合CdO:O〜20重量% Tβ30:0〜20重量% PbO:50〜86.5重量% BiaOz:O〜20重量% Banjo〜10重量% なお、上記組成にはさらに、Ag2O。
Z n O、L a Os   N a x OlK 
z O。
Rb、01CaO1F e x Os  M n 01
NiO1Cod、Crx Oa   MgO1Lit 
o、SrO,pg os  Ti1tZrOa 、As
s Osおよびsb、o、等から選ばれる1種以上を合
計で46重量%以下、より好ましくは26重量%以下含
有していてもよい。
然ヱ目り牲 作業温度Tw:420〜620℃ 熱膨張係数(100〜300℃): 90〜1 1  Qx  1 0−’deg−’この場
合、2吹溜着温度は420〜600℃程度である。
そして、2吹溜着に際しては、溶着温度を作業温度Tw
近辺とし、通常の方法により行う。
ところで、コンポジットタイプの磁気ヘッドは、コアブ
ロック6の周囲がシールガラス7によって覆われている
。 このため、コアブロック6の補強ガラス3には、本
発明のガラスを用いるまでもな(、優れた化学的耐久性
を有する磁気ヘッドが実現する。
ただし、MIG型、DGL型、さらにはEDG型のコン
ポジットタイプの磁気ヘッドの場合は、磁性合金薄膜と
の過剰反応を防止するため、補強ガラス3にも本発明の
ガラスを用いることが好ましい。
また、例えば特願平1−147081号に記載されてい
る磁気ヘッド用溶着ガラス等を用いてもよい。
なお、磁性合金薄膜のないコアブロック6の補強ガラス
3に、本発明のガラスを使用することはもちろん可能で
ある。
本発明の磁気ヘッドは、必要に応じスライダーと一体化
され、組立てられヘッドアセンブリーとされる。
そして、いわゆるラミネートタイプやバルク。
タイプ等のトンネルイレーズ型あるいはイレーズヘッド
を有しないリードライト型などのオーバーライド記録を
行なうフロッピーヘッド、モノリシックタイプや前述し
たコンポジットタイプの浮上型の計算機用ヘッド、回転
型のVTR用ヘッドやR−DAT用ヘッドなどの各種磁
気ヘッドとして用いられる。
また前記の本発明の磁気ヘッドを用いて、公知の種々の
方式のオーバーライド記録を行なうことができる。
〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。
実施例1 第1図に示されるように、ギャップ部対向面に磁性合金
薄膜4が形成されている第1コア1と、第2コア2とを
ギャップ5を介して接合−体化し、第3図に示されるM
IG型のコンポジットタイプの磁気ヘッド用のコアブロ
ック6を製造した。
コア1.2の材質はMn−Znフェライトとし、直流で
の飽和磁束密度は5000G、周波数500 kHzで
の初透磁率は3000、保磁力はO,lOeであった。
 また、100〜300℃での熱膨張係数は、125〜
135x10−’deg−’であった。
磁性合金薄膜4には、F e ass 1 +oAβg
(重量%)を用い、直流での飽和磁束密度は11000
G、周波数500 kHzでの初透磁率は2800、保
磁力は0.15であった。 なお、成膜はスパッタ法に
より行ない、膜厚は2.0戸とした。
ギャップ51にはSiO□を用い、スパッタにより形成
し、その膜厚は0.4−とした。
ギャップ53には、 35SiO2−2AQz 0−−1.5Ba O−−4
N a −05、5K * O−48P b O−4Z
nO(重量%)の組成を有し1作業部度Twが780℃
のガラスを用いた。
なお、ギャップ53はスパッタにより形成。
し、その膜厚は0.2−とした。
補強ガラス3の組成、100〜300℃での熱膨張係数
α1゜。−3゜。、作業温度Twおよび溶着温度は表1
に示されるとおりである。
なお、コイルターン数は20x2ターンとした。
このようにして、本発明用のコアブロックAと、比較用
のコアブロックBとを製造した。 なお、コアブロック
に対しても磁気ヘッドと同様、下記の試験を行った。
次に、コアブロック6をチタン酸カルシウムスライダー
8にシールガラス7により固定・封着(2吹溜着)した
チタン酸カルシウムスライダー8の100〜300℃で
の熱膨張係数α、。。−8゜。は105〜115 x 
10−’deg−’であった。
また、シールガラス7の組成、100〜300℃での熱
膨張係数αtoo−x。。、作業温度Twおよび2吹溜
着温度は表2に示されるとおりである。
このようにして、本発明の磁気ヘッドサンプルNo、1
−1.2−1および3−1と、比較サンプルNo、1−
2.2−2および3−2とを製造した。
なお、本発明の磁気ヘッドサンプルNo。
1−1〜3−1の補強ガラスやシールガラスに用いた本
発明のガラスには、原料としてT e O*を用い、T
 e O2の形でガラス成分を構成した。
各サンプルやコアブロックにつき下記の試験を行った。
1)熱特性への影響の評価 ガラスの熱特性を100〜300℃間の平均熱膨張係数
α1゜o−zooと、作業温度Twとで、代表させ、そ
の値の変化が比較用サンプルに用いたT e Oz置換
前のガラスに対して5%未満であれば変化なしとする。
2)安定性の評価 ガラスの粘度がlO4〜10 ’poiseとなる温度
で大気中で約60分間保持したときのガラス表面におけ
る失透状態をみる。
なお、粘性測定中に失透するものは、失透傾向が極めて
大きいということであり、上記評価は不要である。
3)耐還元性の評価 補強ガラス3の溶着後に、ガラスと磁性合金薄膜の界面
近傍における金属結晶の析出状態を電子顕微鏡にて観察
する。
評価基準は下記のとおりである。
O・・・金属結晶の析出なし △・・・サブミクロン径の金属結晶が析出×・・・17
J径以上の金属結晶が析出4)接着強度の評価 評価基準は下記のとおりである。
0・・・100個加工して完成品95個以上O・・・1
00個加工して完成品50個以上95個未満 △・・・100個加工して完成品5個以上501固未満 ×・・・100個加工して完成品5個未満5)化学的耐
久性の評価 サンプルに対し、耐湿試験および耐水試験を行い、鏡面
研磨されたシールガラス表面、補強ガラス表面の変色度
合で評価する。
この場合、耐湿試験の条件は60℃、95%RHであり
、時間はサンプルによってそれぞれ定める。
耐水試験は、室温のイオン交換水中に所定時間浸漬させ
て行う。
なお、時間は表中に示されるとおりである。
また、耐水試験後のフロント面ないし摺動面におけるシ
ールガラス、補強ガラスのへこみ量を求める。
この場合、へこみ量すなわち耐水試験前後におけるガラ
ス面の段差は、WYKOにて測定して求められ、平均値
で表わされる。
これらの結果は表1および表2に示されると゛おりであ
る。
表1.2により本発明の効果が明らかである。
なお、補強ガラスやシールガラスのネットワーク形成物
質として、sio! 、B20sおよびG e Ozを
用いたヘッドサンプルや5iOz 、Bz Osおよび
G e O*をそれぞれ単独で用いたヘッドサンプルを
製造し、同様の試験を行ったところ同等の結果が得られ
た。
実施例2 実施例1と同様に、ギャップ部対向面に磁性合金薄膜4
が形成されている第1コア1と、第2コア2とをギャッ
プ5を介して接合−磁化して第1図に示されるMIG型
のモノリシックタイプの磁気ヘッドサンプルNo、4−
1.5−1および6−1と、比較サンプルNo、4−2
.5−2および6−2とを製造した。
補強ガラス3の組成、α1゜。−5ao % Twおよ
び溶着温度は表3に示されるとおりである。
各サンプルにつき実施例1と同様の試験を行った。 結
果は表3に示されるとおりである。
表3により本発明の効果が明らかである。
なお、補強ガラスやシールガラスのネットワーク形成物
質として、S I O2、B 203およびG e O
2を用いたヘッドサンプルやS I Oa 、Bz O
xおよびG e Ozをそれぞれ単独で用いたヘッドサ
ンプルを製造し、同様の試験を行ったところ同等の結果
が得られた。
また、同様にMIG型のフロッピーヘッドを製造し、試
験を行ったところ実施例2と同等の結果が得られた。
なお、サンプルNo、 5−1. No、 6−1の補
強ガラスをギャップに用いてフェライト製コアを接合し
たところ良好な接着力を示した。
〈発明の効果〉 本発明のガラスは、広い組成範囲でガラス化することが
でき、ガラス安定性も高い。
そして、特に磁気ヘッドのギャップ用のガラスや補強ガ
ラスやシールガラスに適した熱膨張係数や粘度等の熱的
特性と、優れた耐久性、特に化学的耐久性とを得ること
ができる。
このため、磁気ヘッドを加工、使用、保存する環境中で
、ガラスの変色や変質等の化学的変化が防止され、磁気
ヘッドの信頼性が向上する。
加えて、MIG型の磁気ヘッドの溶着ガラスとして使用
すれば、磁性合金薄膜との過剰反応を防止できる。
これにより、磁性合金薄膜と、溶着ガラスとの界面近傍
での剥離を防止できる。 このため、高い接着強度を有
し、外観不良のないMIG型磁気ヘッドが実現する。 
そして、歩留りや量産性が向上する。
またシールガラスにこのようなガラスを用いた本発明の
コンポジットタイプの磁気ヘッドでは、溶着時に表面失
透等の異常を生ずることな(、シールガラスの風化や腐
食や侵食や変色等を防止できる。
このため平滑なフロント面を有し、信頼性が高い磁気ヘ
ッドが実現する。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、本発明の磁気ヘッドの1例を示
す部分断面図である。 第3図は、本発明のコンポジットタイプの磁気ヘッドの
1例を示す斜視図である。 第4図は、従来の磁気ヘッドを示す部分断面図である。 第5図は、従来のコンポジットタイプの磁気ヘッドを示
す斜視図である。 符号の説明 1・・・第1コア 2・・・第2コア 3.30・・・補強ガラス 4・・・磁性合金薄膜 5.50.51.53・・・ギャップ 6.60・・・コアブロック 7.70・・・磁気ヘッド到着用シールガラス8・・・
スライダー 9・・・巻線 1m”IG FIG・2 へ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)TeO_2を0.5〜40重量%含み、かつ60
    重量%以下のSiO_2、30重量%以下のB_2O_
    3および50重量%以下のGeO_2から選ばれる1種
    以上を13重量%以上、 Tl_2O、PbO、Bi_2O_3、CdOおよびB
    aOから選ばれる1種以上を17〜86.5重量%含有
    することを特徴とするガラス。
  2. (2)一対のフェライト製コアをギャップを介して突き
    合わせ、補強ガラスにより溶着一体化した磁気ヘッドで
    あって、 前記補強ガラスが、請求項1に記載のガラスであること
    を特徴とする磁気ヘッド。
  3. (3)前記ギャップに請求項1に記載のガラスを用いた
    請求項2に記載の磁気ヘッド。
  4. (4)前記一対のフェライト製コア間のギャップ部に磁
    性合金薄膜を形成した請求項2または3に記載の磁気ヘ
    ッド。
  5. (5)一対のフェライト製コアをギャップを介して突き
    合わせたコアブロックを、スライダーにシールガラスに
    より固定封着した磁気ヘッドであって、 前記シールガラスが、請求項1に記載のガラスであるこ
    とを特徴とする磁気ヘッド。
  6. (6)一対のフェライト製コアのギャップ部に磁性合金
    薄膜が形成され、請求項1に記載のガラスにより溶着一
    体化したコアブロックを、スライダーに固定封着した請
    求項5に記載の磁気ヘッド。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03218943A (ja) * 1989-11-28 1991-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 封着ガラス
US6468935B1 (en) 1999-11-30 2002-10-22 Kabushiki Kaisha Ohara Optical glass
CN103956198A (zh) * 2014-04-22 2014-07-30 宁波广博纳米新材料股份有限公司 一种晶体硅太阳能电池用正面银浆

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