JP2628962B2

JP2628962B2 - 磁気ヘッド及びそれを用いた磁気記録再生装置

Info

Publication number: JP2628962B2
Application number: JP23458192A
Authority: JP
Inventors: 滑川　　孝; 内藤　　孝; 康之有川
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1992-09-02
Filing date: 1992-09-02
Publication date: 1997-07-09
Anticipated expiration: 2012-07-09
Also published as: JPH0684127A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録再生装置の磁
気ヘッドに係り、特に耐摩耗性、耐傷付き性等に優れた
磁気ヘッドの接合ガラス及びそれを用いた磁気ヘッドに
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の磁気ヘッドは、磁気コアにフェラ
イト単体が用いられ、その接合には接合温度が７００〜
８００℃のＳｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃系、ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃系ガラ
スが使用されていた。

【０００３】近年、磁気記録の高密度化を図るために、
記録媒体の高保磁力化、記録再生周波数の広帯域化、記
録テープや記録ディスクの高速化が進められている。し
かし、従来のフェライトヘッドでは、上記の要求を満足
させることができなくなってきた。このため、磁気コア
にフェライトより飽和磁束密度が高いアモルファス合金
の磁性膜が注目されるようになった。該磁性膜の飽和磁
束密度は従来のフェライトの２倍以上で、こうした磁性
膜を磁気ヘッドに用いることにより高密度記録が期待で
きる。

【０００４】しかし、アモルファス合金の磁性膜は、フ
ェライトに比べると耐熱性が低いため、ヘッド接合ガラ
スとして従来のフェライトヘッド用のガラスでは問題が
ある。そこで、特開昭５７−１７９９２６号公報に記載
されるように、低温接合が可能なＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃系ガラ
スのような鉛を主成分とする酸化物系ガラスが検討され
ている。

【０００５】また、本発明者等は特開昭６１−１１１９
３５号、特開昭６２−８８１０９号及び特開平２−２２
５３３６号公報に記載されているバナジウム元素を主成
分としたガラスを用いた磁気ヘッドを先に提案した。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】これら従来技術のうち
特開昭５７−１７９９２６号公報に記載の鉛元素を主成
分とする酸化物系ガラスは、硬度や強度等の機械的性質
について十分に配慮されていないため、機械加工時にチ
ッピングなどが生じ易く、磁気ヘッドの製造歩留りを低
下させると云う問題がある。また、耐水性，耐湿性等の
化学的安定性についても十分に配慮されておらず、信頼
性に優れた磁気ヘッドが得られにくい。

【０００７】また、特開昭６１−１１１９３５号公報に
記載のバナジウム酸化物を主成分としたガラスにアルカ
リ金属酸化物を添加したガラスは、転移温度が低く、流
動性に優れているが、機械的強度及び耐水性に問題があ
った。

【０００８】特開昭６２−８８１０９号公報に記載の磁
気ヘッドは、機械的性質、化学的安定性及び磁性膜への
侵食を改良したバナジウム元素を主成分の一つとする酸
化物系ガラスを用いて磁気コアを接合したものであるが
機械的性質が不十分であった。

【０００９】特開平２−２２５３３６号公報記載の磁気
ヘッドは、マイクロビッカース硬度Ｈｖ３２０以上のガ
ラスで接合して耐摩耗性等の機械的性質の信頼性を向上
させたものである。

【００１０】これらのガラス中でアモルファス磁性膜の
磁気特性が劣化する結晶化温度の５００℃以下で作業で
きるガラス、即ち、ガラス転移温度が３４０℃（変形温
度の３８０℃に相当）以下のガラスでは、そのマイクロ
ビッカース硬度は最大でＨｖ３５５が示されている。

【００１１】しかし、アモルファス磁気ヘッドに用いる
接合ガラスの硬度のＨｖ３５５という値は、従来のＰｂ
Ｏ−Ｂ₂Ｏ₃ガラスの凡そ３００に比べれば格段に優れて
いるが、磁気テープがヘッドのテープ摺動面を高速で走
行するため、接合部ガラスが摩耗し易く、かつ、テープ
にも傷が付き易くなり、磁気ヘッドの記録特性を損なう
等のヘッド接合ガラスとして十分とは云いがたい。

【００１２】本発明の目的は、耐摩耗性、耐傷つき性、
磁気特性等に優れた磁気ヘッド及びそれを用いた磁気記
録装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】前記課題を達成する本発
明の要旨は次のとおりである。

【００１４】（１）支持基板上に形成された高飽和磁束
密度を有する磁性膜からなる一対の磁気コアが接合ガラ
スにより接合された磁気ヘッドであって、前記接合ガラ
スがバナジウム、リン、アンチモン、鉛及びアルカリ金
属を含む酸化物系ガラスであり、かつ、該ガラスのマイ
クロビッカース硬度Ｈｖが３６０以上であることを特徴
とする磁気ヘッド。

【００１５】（２）前記接合ガラスが、タリウム、テル
ル、バリウムまたはビスマスの少なくとも一種を含む磁
気ヘッド。

【００１６】（３）高飽和磁束密度を有するアモルファ
ス合金磁性膜からなる一対の磁気コアがマイクロビッカ
ース硬度Ｈｖ３６０以上の酸化物系ガラスにより接合さ
れ一体化された磁気ヘッドと、該磁気ヘッドの駆動部と
情報記録媒体との間の情報処理を行う制御部を備えた磁
気記録再生装置であって、前記酸化物系ガラスがバナジ
ウム、リン、アンチモン、鉛及びアルカリ金属を含むガ
ラスからなることを特徴とする磁気記録再生装置。

【００１７】前記接合ガラスは、転移温度が３４０℃以
下でマイクロビッカース硬度Ｈｖ３６０〜４００が得ら
れ、高硬度化が可能となり磁気ヘッドの耐摩耗性を向上
することができる。

【００１８】上記接合ガラスを用いた磁気ヘッドの磁性
膜としては、高飽和磁束密度を有するアモルファス合金
磁性膜が有効である。

【００１９】また、本発明のアモルファス合金磁性膜の
磁気コアからなる磁気ヘッドにおいては、磁気ヘッドの
テープ摺動幅を５０〜７０μｍと小さくし、また、高硬
度化に伴う機械的強度向上により磁気ヘッドのギャップ
深さを１３〜１７μｍとすることができる。前記磁気ヘ
ッドは情報記録媒体と５.８ｍ／秒以上の相対速度で摺
動させることができる。

【００２０】前記ガラスの主成分としてバナジウム、リ
ン、アンチモン、鉛及びアルカリ金属元素は、それぞれ
Ｖ₂Ｏ₅、Ｐ₂Ｏ₅、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＰｂＯ及びアルカリ金属酸
化物に換算して重量でＶ₂Ｏ₅が４５〜５７％、Ｐ₂Ｏ₅が
１７〜２５％、Ｓｂ₂Ｏ₃が４〜２０％、ＰｂＯが２〜２
０％及びアルカリ金属酸化物が１〜５％のガラスであ
る。

【００２１】さらに、アルカリ金属元素としてナトリウ
ム金属元素が好ましく、Ｎａ₂Ｏに換算して１〜５重量
％である。

【００２２】前記接合ガラスを構成しているＶ₂Ｏ₅を４
５〜５７重量％としたのは、４５重量％未満では転移温
度が高くなり、５７重量％を超えるとガラスが結晶化を
起こすためである。Ｐ₂Ｏ₅を１７〜２５重量％としたの
は１７重量％未満では結晶化を起こし、２５重量％を超
えると転移温度が高くなるためである。Ｓｂ₂Ｏ₃を４〜
２０重量％としたのは、４重量％未満では耐水性が悪
く、硬度小となり、２０重量％を超えると結晶化を起こ
すためである。ＰｂＯを２〜２０重量％としたのは２重
量％未満では耐水性が悪くなり、２０重量％を超えると
ガラスが脆くなり機械加工が困難になるためである。ア
ルカリ金属酸化物を１〜５重量％としたのは１重量％未
満では硬度小となり、５重量％を超えると耐水性が悪
く、また結晶化するためである。

【００２３】さらにまた、タリウム、テルル、バリウム
及びビスマスの一種以上を含むことが好ましく、これら
の含有量はそれぞれの酸化物に換算して、重量でＴｌ₂
Ｏが１〜１０％、ＴｅＯ₂が１〜１０％、ＢａＯが１〜
１０％及びＢｉ₂Ｏ₃が１〜１０％の範囲である。

【００２４】上記酸化物の添加量をそれぞれ１〜１０重
量％としたのは１０重量％を超えるとＴｌ₂Ｏ、ＢａＯ
は結晶化を起こし、ＴｅＯ₂、Ｂｉ₂Ｏ₃はガラス転移温
度を高くするためである。

【００２５】上記接合ガラスのマイクロビッカース硬度
をＨｖ３６０以上、好ましくは３６０〜４００としたの
はＨｖ３６０未満では硬度依存度が大きくガラスの摩耗
量が増大する。Ｈｖ４００を超えるとガラス転移温度が
高くなり、高飽和磁束密度を有する磁性膜、特にアモル
ファス合金磁性膜の耐熱温度以下での接合がむずがしく
なる恐れがある。

【００２６】また、接合ガラスをＨｖ３６０以上とする
ことによりガラスの強度の向上により、アモルファス合
金磁性膜からなる磁気コア間の接着強度が大きくなり、
磁気ヘッドのテープ摺動幅及びギャップ深さを小さくと
することが可能となる。なお、テープ摺動幅を５０μｍ
未満ではガラス接合部が少なくなり磁気コア間で剥がれ
易くなり、７０μｍを超えるとヘッドのテープタッチが
悪くなり高密度記録が困難になる。ギャップ深さは１３
〜１７μｍが好ましく、１３μｍ未満ではガラス接合部
が少なくなって磁気コア間で剥がれ易くなり、１７μｍ
を超えると磁気記録再生が不十分となり磁気特性が劣化
するためである。

【００２７】本発明の磁気ヘッドを用いることにより、
メタルテープ、蒸着テープ等の高保磁力記録媒体に対し
て十分記録が可能となり、テープとの相対速度を高速化
しても長時間安定して使用できるためＶＴＲなどの磁気
記録再生装置の高密度記録が可能となる。

【００２８】また、将来ＶＴＲの高密度記録がさらに進
み、相対速度の高速化が予想されるが、本発明の磁気ヘ
ッドは相対速度５.８ｍ／秒以上のとすることができる
ので、こうした点でも十分に対応することができる。

【００２９】本発明の磁気ヘッドは記録媒体としてテー
プ以外に磁気ディスクを用いた磁気記録再生装置にも使
用することができる。また、本発明で用いた接合ガラス
は、磁気ヘッド以外の電子部品等の接合にも使用するこ
とができる。

【００３０】

【作用】高密度記録化に伴なう磁気テープとの相対速度
の高速化が要求される高性能磁気ヘッドとして、バナジ
ウム元素を主成分とした酸化物系ガラスに、アルカリ金
属酸化物、特にナトリウム元素を添加した接合ガラスは
高硬度であることから高信頼性の磁気ヘッドを得ること
ができた。

【００３１】上記接合ガラスのバナジウムは、ガラスの
転移点の低温化及び機械加工性の向上を、アンチモン及
び鉛は耐水性，耐候性の向上を、そしてナトリウムは転
移温度の低温化及び機械的強度を向上する作用を有す
る。さらに、このガラスにタリウム、テルル、バリウム
及びビスマスの少なくとも一種を添加することにより、
より低い転移温度と高硬度を与え、高信頼性の磁気ヘッ
ドの作製を容易にするものである。

【００３２】

【実施例】本発明を実施例により説明する。

【００３３】図１に本発明の対象となるアモルファス合
金を磁性膜とした磁気ヘッドの一実施例を模式斜視図を
示す。また、図２〜図５に上記磁気ヘッドの製造工程の
説明図を示す。

【００３４】図２に示すように、フェライト支持基板１
にトラック溝５とコイル巻線溝６を設ける。その後、図
３のように高飽和磁束密度を有するアモルファス合金磁
性膜２をスパッタにより形成し、その面上にアモルファ
ス合金磁性膜の耐熱温度以下で接合できる接合ガラス３
を載せて充填する。

【００３５】次に、図４に示すように、磁性膜のトラッ
ク幅ｔを形成するため余分なガラスと磁性膜を削り落
し、その研削面を平滑にした後、Ａ−Ａに沿って切断し
てＣコア７、Ｉコア８に分離した後、ギャップ材をスパ
ッタする。

【００３６】次に、図５に示すように、Ｃコア７とＩコ
ア８のギャップ材４のスパッタ面を合わせ、ガラス充填
と同条件でガラス接合し、得られたブロックよりＢ−Ｂ
及びＢ’−Ｂ’に沿って切断して図１に示す磁気ヘッド
を得る。

【００３７】次に、上記の磁気ヘッドの接合ガラス３の
製法について説明する。まず、ガラスを構成するＶ
₂Ｏ₅、Ｐ₂Ｏ₅、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＰｂＯ、Ｎａ₂Ｏの各酸化物
を所定量秤量，配合した後、よく混合してアルミナるつ
ぼに入れ、電気炉中で１０００〜１１００℃、１〜２時
間加熱溶融する。溶融したガラスを予め３００℃に予備
加熱した黒鉛鋳型に流し込みガラスブロックを作製す
る。その後、転移温度以上の温度で再加熱した後、徐冷
して歪取りを行い、前記充填用のガラス板などの所定形
状に加工する。

【００３８】〔実施例１〕表１に、本実施例で用いた磁
気ヘッド用接合ガラスＮｏ.Ａ１〜Ａ１５の組成及び特
性を示したものである。また、表２は比較のため従来ガ
ラスＮｏ.Ｂ１〜Ｂ８を示す。Ｂ１〜Ｂ６はＶ₂Ｏ₅を主
成分とするガラス、Ｂ７〜Ｂ８はＰｂＯを主成分とする
ガラスを示す。

【００３９】また、各ガラスの特性は次のようにして求
めた。

【００４０】ガラスの転移温度は、熱膨張測定時の熱膨
張曲線において、ガラスの膨張率が低膨張域から高膨張
域へ変化する曲線を外挿して求めた温度である。

【００４１】熱膨張係数は、直径５ｍｍ×長さ３０ｍｍ
のガラス棒を測定試料とし、熱膨張計を用いて、大気中
で昇温速度５℃／分で昇温し、５０℃から転移温度より
３０℃低い温度までの範囲内で求めた。

【００４２】マイクロビッカース硬度Ｈｖは，圧子荷重
１００ｇｆ、加重時間１５秒の条件で測定した。

【００４３】耐水性は一辺が５ｍｍの立方体のガラス片
を７０℃の蒸留水４０ｍｌに２時間浸漬後のガラス表面
の変化及び重量減少率をもって評価した。ガラス表面の
変化（目視）及び重量変化が認められない場合は○、重
量減少が認められないが、ガラス表面に水による浸食が
観察された場合は△、両方とも認められる場合は×でラ
ンク付けした。

【００４４】

【表１】

【００４５】

【表２】

【００４６】表２のＢ１〜Ｂ８に示されるように、アモ
ルファス合金磁性膜、例えばＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ磁性膜の
結晶化温度５００℃以下で作業できるガラス、即ち、ガ
ラス転移温度が３４０℃以下であるＶ₂Ｏ₅を主成分とし
たガラスのマイクロビッカース硬度は、同じガラス転移
温度３４０℃以下のＰｂＯを主成分としたガラスに比べ
硬度、耐水性に優れているものが最大Ｈｖ３５０程度で
あった。Ｂ６のＶ₂Ｏ₅を主成分とした従来ガラスは、転
移温度が３４０℃で硬度がＨｖ３５５を示すが、ＰｂＯ
を多量に含むためにガラス自体が脆く、機械加工が困難
である。

【００４７】これに対して、Ａ１〜Ａ４はＶ₂Ｏ₅、Ｐ₂
Ｏ₅、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＰｂＯ及びＮａ₂Ｏ（またはＬｉ₂Ｏ）
からなる５元系の接合ガラスであるが、いずれのガラス
もアルカリ金属酸化物を添加したガラスの転移温度は３
４０℃以下、マイクロビッカース硬度Ｈｖ３６０以上を
示し、耐水性についても良好な結果を示している。

【００４８】Ａ１〜Ａ４ガラスに示されるように、従来
のＶ₂Ｏ₅を主成分としたガラスＢ１〜Ｂ６にアルカリ金
属酸化物を添加した結果、ガラス転移温度を維持しなが
ら、マイクロビッカース硬度を高くすることができた。

【００４９】さらにまた、Ａ５〜Ａ１０に示すように、
Ｔｌ₂Ｏを添加した６元系ガラス、及びＢｉ₂Ｏ₃、Ｂａ
Ｏ、ＴｅＯ₂を添加したＡ１１〜Ａ１５においても、Ｎ
ａ₂Ｏを含むことによりガラス転移温度及びマイクロビ
ッカース硬度ともにＡ１〜Ａ４の５元系ガラスと同様に
優れた結果が得られた。

【００５０】こうした表１のＡ１〜Ａ１５に示す接合ガ
ラスを用いることによりアモルファス磁性膜磁気ヘッド
に適用することにより耐摩耗性の優れたものを得ること
ができる。

【００５１】〔実施例２〕表１に示した接合ガラスＡ
２、Ａ７及びＡ１１と、表２のＢ５及びＢ８とを用い、
図２〜図５に示す磁気ヘッド製造工程に従って図１に示
す構造のアモルファス合金磁性膜の磁気ヘッドを作製し
た。

【００５２】表３にそれぞれのガラスで接合したアモル
ファス合金磁性膜磁気ヘッドの機械的性質を示す。な
お、アモルファス合金磁性膜の耐熱温度である結晶化温
度が５００℃のＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ膜を選んだ。表中の機
械加工性を示すヘッドチップ加工歩留りは、ヘッドチッ
プ加工により得られた全ヘッドチップ数に対して、加工
によるチッピング及びガラスのカケ、クラックが生じた
不良ヘッドチップ数を除いた割合を示す。また、ヘッド
チップ強度は、最終的に得られた磁気ヘッドチップが、
どの程度の荷重により破壊するかを見るため、チップの
片方のコアを固定し、他の一方のコアをバネ秤で引張り
上げた時の最大荷重を示したものである。

【００５３】

【表３】

【００５４】ヘッドチップ加工歩留りは、Ａ２、Ａ７、
Ａ１１のガラスを適用した磁気ヘッドは全て９５％以上
であったが、従来のＶ₂Ｏ₅を主成分としたＢ５ガラスは
８５％、ＰｂＯを主成分としたＢ８ガラスは７５％であ
った。また、ヘッドチップ強度もＡ２、Ａ７、Ａ１１ガ
ラスを用いたチップが格段に優れていることが分かる。

【００５５】〔実施例３〕次に、ヘッドの磁気特性向上
に影響を及ぼすヘッドチップ幅及びギャップ深さについ
て検討した。一般に磁気ヘッドのテープへの記録再生の
磁気特性は、ヘッドとテープの接触状態（テープタッ
チ）に大きく依存し、テープタッチが良好な程、磁気特
性が優れていることが知られている。従って、磁気ヘッ
ドのテープ摺動面のチップ幅及びギャップ深さを、極力
小さくすることが磁気特性向上につながる。

【００５６】そこで接合ガラスとしてＡ７とＢ５を選ん
だ。まず、テープ摺動面のチップ幅低減については、ギ
ャップ深さ８ｍｍＶＴＲヘッドで実施されている１７μ
ｍとしたヘッドを用い、チップ幅を７０，６０，５０及
び４０μｍについて検討した。また、ギャップ深さも１
７，１５，１３及び１１μｍとした。

【００５７】その評価法は、チップ切断加工及びテープ
摺動時に接合ガラスにカケ、ワレがなく、また８ｍｍＶ
ＴＲのテープ相対速度３.８ｍ／秒でテープを摺動させ
た時のテープタッチ不良に基づく磁気特性の劣化がない
ものは○、そうでないものは×とした。表４にこれらの
検討結果を示す。

【００５８】

【表４】

【００５９】チップ幅の低減化については、従来のＢ５
ガラスは７０μｍまで加工可能で、テープ摺動時にも異
常は認められなかったが、６０μｍ以下では加工時にガ
ラス部にクラックが生じた。一方、Ａ７ガラスは５０μ
ｍまで小さくしても加工並びにテープ摺動時にガラス部
に異常は認められなかった。

【００６０】ギャップ深さの低減化では、Ｂ５ガラスは
ギャップ深さ１７μｍまでは加工可能であったが、１５
μｍ以下では、加工時にガラス部にクラックやガラス剥
離などが生じた。一方、Ａ７ガラスは１３μｍでも加工
可能で、また、ガラス部に異常は認められず優れてい
た。

【００６１】こ上記の結果、本発明の磁気ヘッドは、テ
ープ摺動幅５０〜７０μｍ、ギャップ深さ１３〜１７μ
ｍと小さくでき、それによってヘッドのテープタッチが
改善され、良好な磁気記録再生が可能となった。

【００６２】〔実施例４〕次にＡ２、Ａ７、Ａ１１ガラ
スと、比較のためＢ５及びＢ８ガラスで接合したアモル
ファス合金磁性膜磁気ヘッドとテープとの耐摺動性を検
討した。テープ摺動試験評価は、ヘッドチップ幅を７０
μｍ（８ｍｍＶＴＲ）と５０μｍの２種を選び、それぞ
れのヘッドチップをＶＴＲのシリンダーに取付け高保磁
力磁気テープを相対速度３.８ｍ／秒（８ｍｍＶＴ
Ｒ）、５.８ｍ／秒（ＶＨＳ−ＶＴＲ）及び５１.８ｍ／
秒（ハイビジョンＶＴＲ）で２００時間走行させた時の
ヘッドチップガラス接合部の凹凸と傷付き状態から評価
した。良好なものには○、そうでないものは×とした。

【００６３】まず、ヘッドチップ幅を７０μｍとした時
の摺動試験結果を表５に示す。従来のＢ８ガラスを適用
したヘッドチップは相対速度３.８ｍ／秒、Ｂ５ガラス
を適用したヘッドチップは相対速度５.８ｍ／秒までは
ある程度満足できるものゝ、５１.８ｍ／秒ではガラス
の硬度不十分なためヘッドチップのテープ摺動面のガラ
スが、フェライト、アモルファス合金部に比べて摩耗が
大きく、テープ摺動面が偏摩耗を起こして、十分なテー
プタッチができず満足する磁気特性が得られなかった。

【００６４】一方、Ａ２、Ａ７、Ａ１１ガラス適用ヘッ
ドは、５１.８ｍ／秒の高速度においてもガラス部の摩
耗は少なく、テープ摺動面の偏摩耗も起こさずテープタ
ッチがよいので満足すべき磁気特性が得られた。

【００６５】

【表５】

【００６６】次に、ヘッドチップ幅を５０μｍとした時
の摺動試験結果を表６に示す。Ｂ８ガラスを適用したヘ
ッドチップは、ヘッドチップ幅が５０μｍでは機械加工
時にガラス部にワレやクラックが発生し、チップ加工が
できなかった。Ｂ５ガラスを適用したヘッドチップは、
相対速度３.８ｍ／秒まではある程度満足できるものゝ
５.８ｍ／秒以上ではヘッドチップのテープ摺動面ガラ
スがフェライト、アモルファス合金部に比べ摩耗が大き
く、テープ摺動面が偏摩耗を起こし、十分なテープタッ
チが得られず満足する磁気特性が得られない。

【００６７】一方、Ａ２、Ａ７、Ａ１１ガラス適用ヘッ
ドはチップ幅が５０μｍでも５１.８ｍ／秒の高速の相
対速度でガラス部の摩耗は少なく、テープ摺動面の偏摩
耗を起こさないためにテープタッチがよく満足すべき磁
気特性を得ることができた。

【００６８】

【表６】

【００６９】図６はヘッドチップ（３×３×０.２ｍ
ｍ）を作製し、接合ガラスのマイクロビッカース硬度Ｈ
ｖとヘッドチップの摩耗量との関係を示すグラフであ
る。相対速度３.８ｍ／秒でＶＴＲ用テープを１００回
摺動させたときの摩耗量の変化を示す。Ｈｖ３６０以上
になると、摩耗量はほとんど差がなくなることが分か
る。

【００７０】アモルファス磁気ヘッドの接合ガラスとし
て前記マイクロビッカース硬度Ｈｖ３６０〜４００を有
するガラスを用いることにより、ヘッドチップ幅を７０
〜５０μｍの加工が可能となり、相対速度５.８ｍ／秒
以上の高速でも十分満足できる摺動性の優れた磁気ヘッ
ドを得ることができる。

【００７１】以上の実施例から本発明の磁気ヘッドは、
量産性、耐摩耗性、耐候性及び磁気特性に優れている。

【００７２】なお、図７は本発明の磁気ヘッドを備えた
ＶＴＲの構成図である。磁気ヘッドであるビデオヘッド
９で収集した情報を処理する色信号処理部１０及び輝度
信号処理部１１等から成る制御部と接続され、情報記録
するテープ１３との間で情報の読出し（再生）及び書込
み（記録）を行う。また、ビデオヘッド９はモータ１４
及びモータ駆動部１５を含む駆動部に接続され高速で回
転される。

【００７３】

【発明の効果】本発明のバナジウム、リン、アンチモ
ン、鉛及びアルカリ金属の酸化物系高硬度ガラスを用い
て接合した磁気ヘッドは、量産性、耐摩耗性、耐候性及
び磁気特性に優れており、ＶＴＲ等の磁気記録再生装置
の性能及び信頼性を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例で用いた磁気ヘッドの模式斜視図であ
る。

【図２】実施例で用いた磁気ヘッドの基板製造工程の説
明図である。

【図３】図２の基板接合面に接合ガラスを充填する製造
工程の説明図である。

【図４】図３の接合ガラスを充填した基板のカットの製
造工程の説明図である。

【図５】カットした部品材料を組合せ最終カットの製造
工程の説明図である。

【図６】接合ガラスの硬度Ｈｖとヘッドチップの摩耗量
との関係を示すグラフである。

【図７】ＶＴＲの構成を示す構成図である。

【符号の説明】

１,１’…支持基板、２,２’…磁性膜、３,３’…接合
ガラス、４…ギャップ材、５…トラック溝、６…コイル
巻線溝、７…Ｃコア、８…Ｉコア、９…ビデオヘッド、
１０…色信号処理部、１１…輝度信号処理部、１２…カ
セット、１３…テープ、１４…モータ、１５…モータ駆
動部。

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】支持基板上に形成された高飽和磁束密度
を有する磁性膜からなる一対の磁気コアが接合ガラスに
より接合された磁気ヘッドであって、前記接合ガラスが
バナジウム、リン、アンチモン、鉛及びアルカリ金属を
含む酸化物系ガラスであり、かつ、該ガラスのマイクロ
ビッカース硬度Ｈｖが３６０以上であることを特徴とす
る磁気ヘッド。
【請求項２】前記接合ガラスに含まれるアルカリ金属
がナトリウムである請求項１に記載の磁気ヘッド。
【請求項３】前記接合ガラスが、タリウム、テルル、
バリウムまたはビスマスの少なくとも一種を含む請求項
１または２に記載の磁気ヘッド。
【請求項４】磁性膜がアモルファス合金膜である請求
項１，２または３に記載の磁気ヘッド。
【請求項５】前記接合ガラスが、バナジウム、リン、
アンチモン、鉛及びアルカリ金属を含む酸化物系ガラス
において、Ｖ₂Ｏ₅、Ｐ₂Ｏ₅、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＰｂＯ及びアル
カリ金属酸化物に換算しそれぞれが重量でＶ₂Ｏ₅が４５
〜５７％、Ｐ₂Ｏ₅が１７〜２５％、Ｓｂ₂Ｏ₃が４〜２０
％、ＰｂＯが２〜２０％及びアルカリ金属酸化物が１〜
５％である請求項１〜４のいずれかに記載の磁気ヘッ
ド。
【請求項６】前記アルカリ金属酸化物がＮａ₂Ｏに換
算し１〜５重量％である請求項５に記載の磁気ヘッド。
【請求項７】前記接合ガラスがタリウム、テルル、バ
リウムまたはビスマスの少なくとも一種を含み、その含
有量は酸化物に換算して重量でＴｌ₂Ｏが１〜１０％、
ＴｅＯ₂が１〜１０％、ＢａＯが１〜１０％及びＢｉ₂Ｏ
₃が１〜１０％である請求項５または６に記載の磁気ヘ
ッド。
【請求項８】高飽和磁束密度を有するアモルファス合
金磁性膜からなる一対の磁気コアがマイクロビッカース
硬度Ｈｖ３６０以上の酸化物系ガラスにより接合され一
体化された磁気ヘッドと、該磁気ヘッドの駆動部と情報
記録媒体との間の情報処理を行う制御部を備えた磁気記
録再生装置であって、前記酸化物系ガラスがバナジウ
ム、リン、アンチモン、鉛及びアルカリ金属を含むガラ
スからなることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項９】前記磁気ヘッドのテープ摺動幅５０〜７
０μｍであり情報記録媒体との相対速度５.８ｍ／秒以
上で摺動される請求項８に記載の磁気記録再生装置。