JPH05274639A - 非磁性基板材および浮上式磁気ヘッド - Google Patents
非磁性基板材および浮上式磁気ヘッドInfo
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- JPH05274639A JPH05274639A JP4223683A JP22368392A JPH05274639A JP H05274639 A JPH05274639 A JP H05274639A JP 4223683 A JP4223683 A JP 4223683A JP 22368392 A JP22368392 A JP 22368392A JP H05274639 A JPH05274639 A JP H05274639A
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- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 小型、高密度記録の磁気ディスク装置に使用
される浮上式磁気ヘッドのＣＳＳ特性を向上する。 【構成】 ｗｔ％で、ＴｉＯ2：４５〜６０％、Ｂａ
Ｏ：５〜２０％、ＣａＯ：２０〜３５％の組成物に、Ａ
ｌ2Ｏ3：０．５〜３％含有し、更に、ＺｎＯ、または、
ＳｎＯ2の少なくとも何れか一方を３〜１６％（ただ
し、ＺｎＯ＋ＳｎＯ2≦１６％）含有する非磁性基板材
とその非磁性基板材でスライダ−１２を構成した浮上式
磁気ヘッド１１。
される浮上式磁気ヘッドのＣＳＳ特性を向上する。 【構成】 ｗｔ％で、ＴｉＯ2：４５〜６０％、Ｂａ
Ｏ：５〜２０％、ＣａＯ：２０〜３５％の組成物に、Ａ
ｌ2Ｏ3：０．５〜３％含有し、更に、ＺｎＯ、または、
ＳｎＯ2の少なくとも何れか一方を３〜１６％（ただ
し、ＺｎＯ＋ＳｎＯ2≦１６％）含有する非磁性基板材
とその非磁性基板材でスライダ−１２を構成した浮上式
磁気ヘッド１１。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高周波、高密度記録の
磁気ディスク装置に使用される、浮上式磁気ヘッドのス
ライダ−に使用される非磁性基板材、及び、それを用い
た浮上式コンポジット型磁気ヘッド(以下、「コンポジッ
ト型ヘッド」と記すことがある。)と浮上式薄膜磁気ヘ
ッド(以下、「薄膜ヘッド」と記すことがある。)に関す
る。
磁気ディスク装置に使用される、浮上式磁気ヘッドのス
ライダ−に使用される非磁性基板材、及び、それを用い
た浮上式コンポジット型磁気ヘッド(以下、「コンポジッ
ト型ヘッド」と記すことがある。)と浮上式薄膜磁気ヘ
ッド(以下、「薄膜ヘッド」と記すことがある。)に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】３.５インチや２.５インチ以下の高密
度、小型磁気ディスク装置に使用される浮上式磁気ヘッ
ドには、図１に示す現在主流のコンポジット型と、更に
高密度化が進むにつれて増加する傾向にある図２に示す
薄膜型とがある。図１において、１１はコンポジット型
の浮上式磁気ヘッド、１２はセラミックス等の非磁性材
料で構成したスライダ−である。磁気ヘッドコア１３は
エアベアリング１６に形成されたスリット１４にモ−ル
ドガラス１５により固定保持されている。図４は磁気ヘ
ッドコア３１を示す斜視図である。その磁気ヘッドコア
は一対のコア片３２，３３の磁気ギャップ３７の対向面
に軟磁性合金薄膜３５，３７がスパッタリング等により
成膜され、ガラス３４により接合補強されている。上記
磁気ヘッドコアには通常熱膨張係数が１１０×１０-7／
℃前後のＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトが用いられるが、
磁気ヘッドコアをスライダ−のスリットに組み込んでガ
ラスで固定する際に、スライダ−と磁気ヘッドコアの熱
膨張係数に大きな差があるとガラスにクラックが発生し
やすくなる。そのために、磁気ヘッドコアとスライダ−
の熱膨張係数を近似させる必要がある。こうしたコンポ
ジット型のスライダ−に適する非磁性基板の一つに、先
に本発明者等が特開平２−２４３５６２号公報に開示し
たＴｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物に、Ａｌ2Ｏ3，
ＮｉＯ，ＳｒＯ，ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉ
ｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2のうちの少なくとも１種以上を含有さ
せた非磁性基板材がある。 この非磁性基板材は、熱膨
張係数も１１５×１０-7／℃前後でＭｎ−Ｚｎフェライ
トに近く、Ａｌ2Ｏ3等の添加物により結晶粒が微細化さ
れ結晶粒間の空孔も少なく、均一化され、加工性が良く
チッピングの発生の少ない、優れた非磁性基板材であ
る。図２は薄膜型磁気ヘッドの一例を示す斜視図であ
る。２０は磁気ヘッドであり、２１はエアベアリング、
２２は電磁変換部、２３はスライダ−である。電磁変換
部は、通常非磁性のスライダ−端面にＡｌ2Ｏ3膜を形成
しその上に、リソグラフィ薄膜技術により、アモルファ
ス等の薄膜が成膜される。このために製作上、使用上か
ら熱膨張係数を適正な関係にする必要があり、スライダ
−材にはアルミナ・炭化チタン（ＡＴＣ）を主原料にし
た基板材料が一般的に用いられている。
度、小型磁気ディスク装置に使用される浮上式磁気ヘッ
ドには、図１に示す現在主流のコンポジット型と、更に
高密度化が進むにつれて増加する傾向にある図２に示す
薄膜型とがある。図１において、１１はコンポジット型
の浮上式磁気ヘッド、１２はセラミックス等の非磁性材
料で構成したスライダ−である。磁気ヘッドコア１３は
エアベアリング１６に形成されたスリット１４にモ−ル
ドガラス１５により固定保持されている。図４は磁気ヘ
ッドコア３１を示す斜視図である。その磁気ヘッドコア
は一対のコア片３２，３３の磁気ギャップ３７の対向面
に軟磁性合金薄膜３５，３７がスパッタリング等により
成膜され、ガラス３４により接合補強されている。上記
磁気ヘッドコアには通常熱膨張係数が１１０×１０-7／
℃前後のＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライトが用いられるが、
磁気ヘッドコアをスライダ−のスリットに組み込んでガ
ラスで固定する際に、スライダ−と磁気ヘッドコアの熱
膨張係数に大きな差があるとガラスにクラックが発生し
やすくなる。そのために、磁気ヘッドコアとスライダ−
の熱膨張係数を近似させる必要がある。こうしたコンポ
ジット型のスライダ−に適する非磁性基板の一つに、先
に本発明者等が特開平２−２４３５６２号公報に開示し
たＴｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物に、Ａｌ2Ｏ3，
ＮｉＯ，ＳｒＯ，ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉ
ｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2のうちの少なくとも１種以上を含有さ
せた非磁性基板材がある。 この非磁性基板材は、熱膨
張係数も１１５×１０-7／℃前後でＭｎ−Ｚｎフェライ
トに近く、Ａｌ2Ｏ3等の添加物により結晶粒が微細化さ
れ結晶粒間の空孔も少なく、均一化され、加工性が良く
チッピングの発生の少ない、優れた非磁性基板材であ
る。図２は薄膜型磁気ヘッドの一例を示す斜視図であ
る。２０は磁気ヘッドであり、２１はエアベアリング、
２２は電磁変換部、２３はスライダ−である。電磁変換
部は、通常非磁性のスライダ−端面にＡｌ2Ｏ3膜を形成
しその上に、リソグラフィ薄膜技術により、アモルファ
ス等の薄膜が成膜される。このために製作上、使用上か
ら熱膨張係数を適正な関係にする必要があり、スライダ
−材にはアルミナ・炭化チタン（ＡＴＣ）を主原料にし
た基板材料が一般的に用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】磁気ディスク装置にお
いては、近年の高密度記録化に対応するために、磁気記
録媒体としてのハードディスクは、メッキ法、スパッタ
法を使用して、磁性体をディスク基板に密着させたハー
ドディスクが使用されている。上記のメッキ法及びスパ
ッタ法で作られたディスク表面は、従来の塗布型のもの
に比べて面精度がよく仕上げられており、かつ潤滑材を
オーバーコートしているため、従来あまり問題となって
いなかったヘッドとディスク面とで生じるスティッキン
グ現象が問題となってきている。つまり、磁気記録媒体
との対向面の面精度が高くなると、静止しているディス
クの表面とヘッドのディスク対向面とが粘着（スティッ
ク）するという現象が現われる。そして、このヘッドと
ディスク間の粘着力が過度に強くなると、ディスクを回
転させるモ−タのトルクを越えてしまい装置が動作しに
くくなる。また、同時にＣＳＳ（コンタクト．スター
ト．エンド．ストップ）動作に対する寿命が短くなる。
特に、浮上高さが０．１μｍ以下が要求される小型磁気
ディスクではより大きな問題となってきている。
いては、近年の高密度記録化に対応するために、磁気記
録媒体としてのハードディスクは、メッキ法、スパッタ
法を使用して、磁性体をディスク基板に密着させたハー
ドディスクが使用されている。上記のメッキ法及びスパ
ッタ法で作られたディスク表面は、従来の塗布型のもの
に比べて面精度がよく仕上げられており、かつ潤滑材を
オーバーコートしているため、従来あまり問題となって
いなかったヘッドとディスク面とで生じるスティッキン
グ現象が問題となってきている。つまり、磁気記録媒体
との対向面の面精度が高くなると、静止しているディス
クの表面とヘッドのディスク対向面とが粘着（スティッ
ク）するという現象が現われる。そして、このヘッドと
ディスク間の粘着力が過度に強くなると、ディスクを回
転させるモ−タのトルクを越えてしまい装置が動作しに
くくなる。また、同時にＣＳＳ（コンタクト．スター
ト．エンド．ストップ）動作に対する寿命が短くなる。
特に、浮上高さが０．１μｍ以下が要求される小型磁気
ディスクではより大きな問題となってきている。
【０００４】このＣＳＳ特性の向上の為に磁気ディスク
の面からも種々検討がなされており、磁気ディスクはテ
クスチャ−と呼ばれる加工がされる。このティクスチャ
−は図３にＨＩＰＯＳＳ（触針式微細形状測定器）で測
定したディスク半径方向の粗さ曲線を示すように、ディ
スク基板上に、平均面粗さ１０ｎｍ前後で、山と谷のピ
ッチが１００〜２００ｎｍの無数の凹凸付けをする加工
であり、その後Ｃｒ等の下地膜を成膜し、その上にスパ
ッタリング等によりＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ等の金属磁性薄膜
を形成し、更にカ−ボン等の保護膜を付けたものが一般
的に使用されるようになってきた。このテクスチャ−に
よる凹凸により、磁気ヘッドのエアベアリング面との接
触面積を小さくし、粘着力を適正なものにすることがで
きる。一方、コンポジット型ヘッドのスライダ−に用い
られるＴｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物に、Ａｌ2Ｏ
3，ＮｉＯ，ＳｒＯ，ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，
Ｉｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2うちの少なくとも１種以上を含有す
る非磁性基板材は、熱膨張係数や加工性等はスライダ−
に適した材料である。しかしながら、ビッカ−ス硬度が
８５０Kg/mm2前後とテクスチャ−加工されたディスクに
対しては硬度が高く、磁気ヘッドが浮上、着陸時に保護
膜と摺動して、テクスチャ−加工によるディスクの凹凸
の凸部を局部的に損耗し易い。また、薄膜ヘッドのスラ
イダ−を構成する基板に用いられるアルミナ・炭化チタ
ンは炭化チタンが活性であるため、記録媒体であるディ
スクの潤滑材と問題が生じたり、ビッカ−ス硬度が２，
０００Kg／mm2程度と更に硬いために、ＴｉＯ2−ＢａＯ
−ＣａＯ系非磁性基板材以上にディスクとの相性の面で
問題があり、加工性においても問題がある材料である。
の面からも種々検討がなされており、磁気ディスクはテ
クスチャ−と呼ばれる加工がされる。このティクスチャ
−は図３にＨＩＰＯＳＳ（触針式微細形状測定器）で測
定したディスク半径方向の粗さ曲線を示すように、ディ
スク基板上に、平均面粗さ１０ｎｍ前後で、山と谷のピ
ッチが１００〜２００ｎｍの無数の凹凸付けをする加工
であり、その後Ｃｒ等の下地膜を成膜し、その上にスパ
ッタリング等によりＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ等の金属磁性薄膜
を形成し、更にカ−ボン等の保護膜を付けたものが一般
的に使用されるようになってきた。このテクスチャ−に
よる凹凸により、磁気ヘッドのエアベアリング面との接
触面積を小さくし、粘着力を適正なものにすることがで
きる。一方、コンポジット型ヘッドのスライダ−に用い
られるＴｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物に、Ａｌ2Ｏ
3，ＮｉＯ，ＳｒＯ，ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，
Ｉｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2うちの少なくとも１種以上を含有す
る非磁性基板材は、熱膨張係数や加工性等はスライダ−
に適した材料である。しかしながら、ビッカ−ス硬度が
８５０Kg/mm2前後とテクスチャ−加工されたディスクに
対しては硬度が高く、磁気ヘッドが浮上、着陸時に保護
膜と摺動して、テクスチャ−加工によるディスクの凹凸
の凸部を局部的に損耗し易い。また、薄膜ヘッドのスラ
イダ−を構成する基板に用いられるアルミナ・炭化チタ
ンは炭化チタンが活性であるため、記録媒体であるディ
スクの潤滑材と問題が生じたり、ビッカ−ス硬度が２，
０００Kg／mm2程度と更に硬いために、ＴｉＯ2−ＢａＯ
−ＣａＯ系非磁性基板材以上にディスクとの相性の面で
問題があり、加工性においても問題がある材料である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は先に開示し
たＴｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物に対する添加物
を更に検討し、従来の加工性、熱膨張特性に優れた非磁
性基板材の特性を損なうこと無く、硬度をより適正のも
のとすることにより、特にテクスチャ−加工された磁気
デイスクとの間でのＣＳＳ特性に優れた浮上式磁気ヘッ
ドとそのスライダ−を構成する非磁性基板材とを提供す
るものである。本発明の非磁性基板材は、ｗｔ％で、Ｔ
ｉＯ2：４５〜６０％、ＢａＯ：５〜２０％、ＣａＯ：
２０〜３５％の組成物に、Ａｌ2Ｏ3：０．５〜３％含有
し、更に、ＺｎＯまたはＳｎＯ2の少なくとも一方を３
〜１６％(ただし、ＺｎＯ＋ＳｎＯ2≦１６％)含有させ
て、ビッカ−ス硬度を適度な８００Kg/mm2以下にして、
スライダ−として用いたときのＣＳＳ特性を向上させた
ものである。更に、その非磁性基板にＮｉＯ，ＳｒＯ，
ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2う
ちの少なくとも１種以上を、ｗｔ％で０．０１〜６％含
有させたものも、スライダ−として良好なＣＳＳ特性を
示す。このような非磁性基板材でスライダ−構成した浮
上式の薄膜ヘッドやコンポジット型ヘッドは、特に小
型、高密度で磁気ヘッドの浮上高さが０．１μｍ以下が
要求される磁気ディスク装置に適したものとなる。本発
明のＴｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物は、ｗｔ％で
ＴｉＯ2：４５〜６０％、ＣａＯ：２０〜３５％の範囲
外では焼結性が不安定になり、また、ＢａＯが５％未満
では加工性が悪くなり、２０％を越えると焼結性が不安
定になるので、それぞれ前記の範囲とした。特に添加物
のＡｌ2Ｏ3はＴｉＯ2，ＢａＯ，ＣａＯと化合物を作っ
て結晶粒を微細化し、粒子間の空孔を少なくして非磁性
基板材を均質化するのに効果があるが重量％で０．５％
未満ではその効果がなく、３％を越えるとＣＳＳ特性が
悪くなるため適切でない。ＺｎＯまたはＳｎＯ2は焼結
性向上のＡｌ2Ｏ3の補助添加物であり、また、硬度を適
度なものにするために添加含有させるが、３％未満では
その効果がなく、１６％を越えると焼結性が悪くなり粒
子間の空孔が増すため適切でない。ＮｉＯ，ＳｒＯ，Ｍ
ｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2等も
焼結性向上、熱膨張係数の適正化に効果があるが、Ａｌ
2Ｏ3との含有率との関係から、０．０１％未満ではその
効果がなく６％を越えると焼結性が悪くなるため好まし
くない。また、Ａｌ2Ｏ3等の添加物の合計はＴｉＯ2−
ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物の硬度、熱膨張係数、焼結性
等の特性を維持するために２２％を越えないのが望まし
い。
たＴｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物に対する添加物
を更に検討し、従来の加工性、熱膨張特性に優れた非磁
性基板材の特性を損なうこと無く、硬度をより適正のも
のとすることにより、特にテクスチャ−加工された磁気
デイスクとの間でのＣＳＳ特性に優れた浮上式磁気ヘッ
ドとそのスライダ−を構成する非磁性基板材とを提供す
るものである。本発明の非磁性基板材は、ｗｔ％で、Ｔ
ｉＯ2：４５〜６０％、ＢａＯ：５〜２０％、ＣａＯ：
２０〜３５％の組成物に、Ａｌ2Ｏ3：０．５〜３％含有
し、更に、ＺｎＯまたはＳｎＯ2の少なくとも一方を３
〜１６％(ただし、ＺｎＯ＋ＳｎＯ2≦１６％)含有させ
て、ビッカ−ス硬度を適度な８００Kg/mm2以下にして、
スライダ−として用いたときのＣＳＳ特性を向上させた
ものである。更に、その非磁性基板にＮｉＯ，ＳｒＯ，
ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2う
ちの少なくとも１種以上を、ｗｔ％で０．０１〜６％含
有させたものも、スライダ−として良好なＣＳＳ特性を
示す。このような非磁性基板材でスライダ−構成した浮
上式の薄膜ヘッドやコンポジット型ヘッドは、特に小
型、高密度で磁気ヘッドの浮上高さが０．１μｍ以下が
要求される磁気ディスク装置に適したものとなる。本発
明のＴｉＯ2−ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物は、ｗｔ％で
ＴｉＯ2：４５〜６０％、ＣａＯ：２０〜３５％の範囲
外では焼結性が不安定になり、また、ＢａＯが５％未満
では加工性が悪くなり、２０％を越えると焼結性が不安
定になるので、それぞれ前記の範囲とした。特に添加物
のＡｌ2Ｏ3はＴｉＯ2，ＢａＯ，ＣａＯと化合物を作っ
て結晶粒を微細化し、粒子間の空孔を少なくして非磁性
基板材を均質化するのに効果があるが重量％で０．５％
未満ではその効果がなく、３％を越えるとＣＳＳ特性が
悪くなるため適切でない。ＺｎＯまたはＳｎＯ2は焼結
性向上のＡｌ2Ｏ3の補助添加物であり、また、硬度を適
度なものにするために添加含有させるが、３％未満では
その効果がなく、１６％を越えると焼結性が悪くなり粒
子間の空孔が増すため適切でない。ＮｉＯ，ＳｒＯ，Ｍ
ｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉｎ2Ｏ3，ＺｒＯ2等も
焼結性向上、熱膨張係数の適正化に効果があるが、Ａｌ
2Ｏ3との含有率との関係から、０．０１％未満ではその
効果がなく６％を越えると焼結性が悪くなるため好まし
くない。また、Ａｌ2Ｏ3等の添加物の合計はＴｉＯ2−
ＢａＯ−ＣａＯ系の組成物の硬度、熱膨張係数、焼結性
等の特性を維持するために２２％を越えないのが望まし
い。
【０００６】
【作用】本発明の非磁性基板材は結晶粒が微細化され空
孔率も小さく均質化されているので、加工時のチッピン
グの発生も少ない。また、スライダ−として磁気ディス
クと摺動する際の粒子の脱落も少なく、硬度も適正な硬
さであり、磁気ディスクのテクスチャ−加工された凹凸
の凹部や凸部を局部的に損傷すること少ない。
孔率も小さく均質化されているので、加工時のチッピン
グの発生も少ない。また、スライダ−として磁気ディス
クと摺動する際の粒子の脱落も少なく、硬度も適正な硬
さであり、磁気ディスクのテクスチャ−加工された凹凸
の凹部や凸部を局部的に損傷すること少ない。
【０００７】
（実施例１）以下、実施例を参照しながら本発明につい
てさらに説明する。主成分の原料のＴｉＯ2，ＢａＯ，
ＣａＯにＡｌ2Ｏ3，ＺｎＯ，ＳｎＯ2，ＮｉＯ，Ｓｒ
Ｏ，ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉｎ2Ｏ3，Ｚｒ
Ｏ2を添加含有して湿式混合を行ない、１，０００〜
１，２００℃の温度で仮焼した。ついで、この仮焼した
ものを湿式で微粉砕した後、造粒し６０×３０×１３
（ｍｍ）の寸法に成形した。次に、この成形体を１，２
３０〜１，３００℃の温度で焼成し、これを熱間静水圧
プレスした後に大気中で熱処理をして非磁性基板材を得
た。主成分の組成と添加物の含有量と硬度の関係を表１
に示す。
てさらに説明する。主成分の原料のＴｉＯ2，ＢａＯ，
ＣａＯにＡｌ2Ｏ3，ＺｎＯ，ＳｎＯ2，ＮｉＯ，Ｓｒ
Ｏ，ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉｎ2Ｏ3，Ｚｒ
Ｏ2を添加含有して湿式混合を行ない、１，０００〜
１，２００℃の温度で仮焼した。ついで、この仮焼した
ものを湿式で微粉砕した後、造粒し６０×３０×１３
（ｍｍ）の寸法に成形した。次に、この成形体を１，２
３０〜１，３００℃の温度で焼成し、これを熱間静水圧
プレスした後に大気中で熱処理をして非磁性基板材を得
た。主成分の組成と添加物の含有量と硬度の関係を表１
に示す。
【表１】 表１より本発明の非磁性基板材は硬度が望ましい８００
Kg/mm2以下であり、ＣＳＳ特性の良好なスライダ−の基
板材に適していることが判る。比較例の非磁性基板材
は、ＺｎＯ2、または、ＳｎＯ2が３％以下のために、Ｚ
ｒＯ2等を含んでいても８００kg/mm2以下には硬度は下
がらない。
Kg/mm2以下であり、ＣＳＳ特性の良好なスライダ−の基
板材に適していることが判る。比較例の非磁性基板材
は、ＺｎＯ2、または、ＳｎＯ2が３％以下のために、Ｚ
ｒＯ2等を含んでいても８００kg/mm2以下には硬度は下
がらない。
【０００８】（実施例２）実施例１で用いた非磁性基板
を加工してスライダ−を製作した。次に厚さ２μｍのＦ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ系金属磁性膜を、凹断面形状と平板状の
一対のＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライト基板の磁気ギャップ
対向面上に形成した。この凹断面形状と平板状のＭｎ−
Ｚｎ単結晶フェライト基板のギャップ予定部にＳｉＯ2
をスパッタにより成膜した。この後、基板同士をガラス
（ＰｂＯ-ＳｉＯ2-Ａｌ2Ｏ3-Ｂ2Ｏ3-ＢａＯ-Ｎａ2Ｏ
系）で溶着した。次いで、この溶着体を切断して、ラッ
プし、トラック幅を規制する切欠き加工を行い、図４に
示す磁気ヘッドコアとした。この磁気ヘッドコアを先に
製作したスライダ−のスリットに装着し、モ−ルドガラ
ス（ＰｂＯ−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3系）を用い、
５３０℃で固着後、記録媒体対向面等の仕上げ加工を行
ない、図１に示す高さ０．６５mm、長さ３mm幅２．５mm
のコンポジット型の浮上式磁気ヘッドを作製した。この
ようにして作製した浮上式磁気ヘッドを用いてＣＳＳ特
性試験を行なった。ＣＳＳ特性試験は、デイスクは３．
５インチハ−ドディスク（基板：アルミニウム、下地：
Ｃｒ、磁性膜：Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａスパッタ膜）、周速
９．４ｍ／ｓｅｃの条件でおこなった。評価は静止した
磁気ディスク上に磁気ヘッドをジンバルで約９．５ｇ−
ｆの力で押しつけておき、磁気ディスク回転を開始する
のに要する力（トルク）を測定して、これを摩擦係数に
換算しておこなった。摩擦係数は、１．０以下、より好
ましくは０．７以下が望ましい。図６は本発明の非磁性
基板材と従来の非磁性基板材をスライダ−に用いた浮上
式磁気ヘッドのＣＳＳ特性の比較を示す図である。本発
明の非磁性基板材の実施例２，５，７でスライダ−を構
成した浮上式磁気ヘッドＡ，Ｂ，Ｃはいずれも、ＣＳＳ
回数が５０，０００回を越えてもその摩擦係数は０．７
以下である。しかし、本発明外の比較例１，２，３の非
磁性基板材を用いた浮上式磁気ヘッドａ，ｂ，ｃ，は５
０，０００回で好ましい範囲の０．７を越えてしまい、
特にビッカ-ス硬度が９３０(kg/mm2)と高い非磁性基板
材３を用いたａは２０，０００回で０．７をこえてしま
う。ｃは硬度が９０５の非磁性基板材をもちいたもので
あるが、約４０，０００回での摩擦係数は１．５以上と
なり、本発明の非磁性基板材はＣＳＳ特性を向上するこ
とが明白である。図５は本発明のコンポジット型の浮上
式磁気ヘッドに用いられる積層型の磁気ヘッドコア４１
を示す斜視図である。軟磁性合金薄膜と絶縁膜との積層
膜４４が非磁性基板４３，４３’で挾持されたコア半体
と、同様に構成されたコア半体と積層方向にギャップ規
制膜４５を介して接合され、ガラス４６で補強されてい
る。この積層型の磁気ヘッドコアを用いたコンポジット
型の浮上式磁気ヘッドや、薄膜ヘッドに関しても、本発
明の非磁性基板材をスライダ−に使用して、同様の特性
試験を行なったが良好な結果が得られた。
を加工してスライダ−を製作した。次に厚さ２μｍのＦ
ｅ−Ａｌ−Ｓｉ系金属磁性膜を、凹断面形状と平板状の
一対のＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライト基板の磁気ギャップ
対向面上に形成した。この凹断面形状と平板状のＭｎ−
Ｚｎ単結晶フェライト基板のギャップ予定部にＳｉＯ2
をスパッタにより成膜した。この後、基板同士をガラス
（ＰｂＯ-ＳｉＯ2-Ａｌ2Ｏ3-Ｂ2Ｏ3-ＢａＯ-Ｎａ2Ｏ
系）で溶着した。次いで、この溶着体を切断して、ラッ
プし、トラック幅を規制する切欠き加工を行い、図４に
示す磁気ヘッドコアとした。この磁気ヘッドコアを先に
製作したスライダ−のスリットに装着し、モ−ルドガラ
ス（ＰｂＯ−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3系）を用い、
５３０℃で固着後、記録媒体対向面等の仕上げ加工を行
ない、図１に示す高さ０．６５mm、長さ３mm幅２．５mm
のコンポジット型の浮上式磁気ヘッドを作製した。この
ようにして作製した浮上式磁気ヘッドを用いてＣＳＳ特
性試験を行なった。ＣＳＳ特性試験は、デイスクは３．
５インチハ−ドディスク（基板：アルミニウム、下地：
Ｃｒ、磁性膜：Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａスパッタ膜）、周速
９．４ｍ／ｓｅｃの条件でおこなった。評価は静止した
磁気ディスク上に磁気ヘッドをジンバルで約９．５ｇ−
ｆの力で押しつけておき、磁気ディスク回転を開始する
のに要する力（トルク）を測定して、これを摩擦係数に
換算しておこなった。摩擦係数は、１．０以下、より好
ましくは０．７以下が望ましい。図６は本発明の非磁性
基板材と従来の非磁性基板材をスライダ−に用いた浮上
式磁気ヘッドのＣＳＳ特性の比較を示す図である。本発
明の非磁性基板材の実施例２，５，７でスライダ−を構
成した浮上式磁気ヘッドＡ，Ｂ，Ｃはいずれも、ＣＳＳ
回数が５０，０００回を越えてもその摩擦係数は０．７
以下である。しかし、本発明外の比較例１，２，３の非
磁性基板材を用いた浮上式磁気ヘッドａ，ｂ，ｃ，は５
０，０００回で好ましい範囲の０．７を越えてしまい、
特にビッカ-ス硬度が９３０(kg/mm2)と高い非磁性基板
材３を用いたａは２０，０００回で０．７をこえてしま
う。ｃは硬度が９０５の非磁性基板材をもちいたもので
あるが、約４０，０００回での摩擦係数は１．５以上と
なり、本発明の非磁性基板材はＣＳＳ特性を向上するこ
とが明白である。図５は本発明のコンポジット型の浮上
式磁気ヘッドに用いられる積層型の磁気ヘッドコア４１
を示す斜視図である。軟磁性合金薄膜と絶縁膜との積層
膜４４が非磁性基板４３，４３’で挾持されたコア半体
と、同様に構成されたコア半体と積層方向にギャップ規
制膜４５を介して接合され、ガラス４６で補強されてい
る。この積層型の磁気ヘッドコアを用いたコンポジット
型の浮上式磁気ヘッドや、薄膜ヘッドに関しても、本発
明の非磁性基板材をスライダ−に使用して、同様の特性
試験を行なったが良好な結果が得られた。
【０００９】
【発明の効果】本発明によれば、特に、小型高密度記録
の磁気ディスク装置に用いられる、低浮上の磁気ヘッド
のＣＳＳ特性を改善し、誤動作が少なくなり信頼性を向
上することができる。
の磁気ディスク装置に用いられる、低浮上の磁気ヘッド
のＣＳＳ特性を改善し、誤動作が少なくなり信頼性を向
上することができる。
【図１】本発明の非磁性基板材でスライダ−を構成した
コンポジット型の浮上式磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。
コンポジット型の浮上式磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。
【図２】本発明の非磁性基板材でスライダ−を構成した
薄膜型の浮上式磁気ヘッドを示す斜視図である。
薄膜型の浮上式磁気ヘッドを示す斜視図である。
【図３】ＨＩＰＯＳＳ（触針式微細形状測定器）で測定
したディスク半径方向の粗さ曲線を示す図である。
したディスク半径方向の粗さ曲線を示す図である。
【図４】本発明のコンポジット型浮上式磁気ヘッドに用
いる磁気ヘッドコアを示す斜視図である。
いる磁気ヘッドコアを示す斜視図である。
【図５】本発明のコンポジット型浮上式磁気ヘッドに用
いる積層型の磁気ヘッドコアを示す斜視図である。
いる積層型の磁気ヘッドコアを示す斜視図である。
【図６】本発明の浮上式磁気ヘッドと比較例の浮上式磁
気ヘッドのＣＳＳ特性の比較を示す図である。
気ヘッドのＣＳＳ特性の比較を示す図である。
１１ コンポジット型浮上式磁気ヘッド １２ スライダ− １３ 磁気ヘッドコア １４ スリット １５ モ−ルドガラス １６ エアベアリング ２０ 薄膜型磁気ヘッド ２１ エアベアリング ２２ 電磁変換部 ２３ スライダ− ２４ 傾斜部 ３１ 磁気ヘッドコア ３２ コア片 ３３ コア片 ３４ 補強ガラス ３５ 軟磁性合金薄膜 ３６ 軟磁性合金薄膜 ３７ 磁気ギャップ
Claims (4)
- 【請求項１】 ｗｔ％で、ＴｉＯ2：４５〜６０％、Ｂ
ａＯ：５〜２０％、ＣａＯ：２０〜３５％の組成物に、
Ａｌ2Ｏ3：０．５〜３％含有し、 更に、ＺｎＯ、または、ＳｎＯ2の少なくとも何れか一
方を３〜１６％（ただし、ＺｎＯ＋ＳｎＯ2≦１６％）
含有する非磁性基板材。 - 【請求項２】 請求項１記載の非磁性基板材は、更にＮ
ｉＯ，ＳｒＯ，ＭｇＯ，Ｙ2Ｏ3，ＷＯ，ＭｏＯ3，Ｉｎ2
Ｏ3，ＺｒＯ2うちの少なくとも１種以上を、ｗｔ％で
０．０１〜６％(ただし、その合計が６％以下)含有する
非磁性基板材。 - 【請求項３】 請求項１または２記載の非磁性基板材を
スライダ−に用いた浮上式コンポジット型磁気ヘッド。 - 【請求項４】 請求項１または２記載の非磁性基板材を
スライダ−に用いた浮上式薄膜磁気ヘッド。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1268392 | 1992-01-28 | ||
| JP4-12683 | 1992-01-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05274639A true JPH05274639A (ja) | 1993-10-22 |
Family
ID=11812177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4223683A Pending JPH05274639A (ja) | 1992-01-28 | 1992-08-24 | 非磁性基板材および浮上式磁気ヘッド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5296312A (ja) |
| JP (1) | JPH05274639A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3089530B2 (ja) * | 1994-06-28 | 2000-09-18 | ソニー株式会社 | 磁気ヘッド用非磁性材料及びそれを用いた磁気ヘッド |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6021940B2 (ja) * | 1980-12-08 | 1985-05-30 | 日立金属株式会社 | 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス |
| JPS57198578A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Material for magnetic head and slider |
| JPS59213672A (ja) * | 1983-12-19 | 1984-12-03 | 日立金属株式会社 | 磁気ヘツド用非磁性セラミツクス |
| US4689270A (en) * | 1984-07-20 | 1987-08-25 | W. C. Heraeus Gmbh | Composite substrate for printed circuits and printed circuit-substrate combination |
| DE3685230D1 (de) * | 1985-02-15 | 1992-06-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetkopf. |
| JPH07108811B2 (ja) * | 1989-03-17 | 1995-11-22 | 日立金属株式会社 | 磁気ヘッド用非磁性セラミックス材料 |
| US4959330A (en) * | 1989-06-20 | 1990-09-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Crystallizable glass and thick film compositions thereof |
| DE69027394T2 (de) * | 1989-10-18 | 1997-02-06 | Tdk Corp | Keramischer Mehrschicht-Chipkondensator und Verfahren zu seiner Herstellung |
-
1992
- 1992-08-24 JP JP4223683A patent/JPH05274639A/ja active Pending
- 1992-12-29 US US07/997,921 patent/US5296312A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5296312A (en) | 1994-03-22 |
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