JPH07182628A - 磁気ヘッド、磁気記憶装置および磁気ディスク記憶装置 - Google Patents
磁気ヘッド、磁気記憶装置および磁気ディスク記憶装置Info
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- JPH07182628A JPH07182628A JP32166493A JP32166493A JPH07182628A JP H07182628 A JPH07182628 A JP H07182628A JP 32166493 A JP32166493 A JP 32166493A JP 32166493 A JP32166493 A JP 32166493A JP H07182628 A JPH07182628 A JP H07182628A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面にカーボン薄膜を形成した磁気ヘッドに
おいて、基板価格を低減すること、および従来必要であ
った接着膜を不要とし、記録再生磁極と磁気記録媒体と
の間隔を低減すると共に、磁気ヘッド製造工程を簡素化
すること。 【構成】 磁気ヘッド基板４０を、ガラス材料とする、
あるいはＳｉ、ＳｉＯ2、ＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4等あるいは
それらの混合物としてその磁気記録媒体対向面（浮上面
２０）にカーボン薄膜２００を直接形成する。 【効果】 ガラス材料は密度が低くヘッドが軽量化され
ると共に安価となる。また、カーボン薄膜と磁気ヘッド
基板との接着力が向上し、接着膜が不要とり、記録再生
磁極と磁気記録媒体との間隔が低減され、高密度化が可
能となると共に、製造工程が簡素化される。
おいて、基板価格を低減すること、および従来必要であ
った接着膜を不要とし、記録再生磁極と磁気記録媒体と
の間隔を低減すると共に、磁気ヘッド製造工程を簡素化
すること。 【構成】 磁気ヘッド基板４０を、ガラス材料とする、
あるいはＳｉ、ＳｉＯ2、ＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4等あるいは
それらの混合物としてその磁気記録媒体対向面（浮上面
２０）にカーボン薄膜２００を直接形成する。 【効果】 ガラス材料は密度が低くヘッドが軽量化され
ると共に安価となる。また、カーボン薄膜と磁気ヘッド
基板との接着力が向上し、接着膜が不要とり、記録再生
磁極と磁気記録媒体との間隔が低減され、高密度化が可
能となると共に、製造工程が簡素化される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッド、磁気記憶装
置および磁気ディスク記憶装置に係り、特に磁気ヘッド
の磁気記録媒体対向面に耐摩耗性のカーボン保護膜を有
するものに好適な磁気ヘッド、磁気記憶装置および磁気
ディスク記憶装置に関する。
置および磁気ディスク記憶装置に係り、特に磁気ヘッド
の磁気記録媒体対向面に耐摩耗性のカーボン保護膜を有
するものに好適な磁気ヘッド、磁気記憶装置および磁気
ディスク記憶装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記憶装置においては、情報の記録密
度を高め、小形で大容量の記憶が可能な装置が求められ
ている。このためには、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間
隔を狭めることが、磁気記録の原理から要求される。し
かし、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間隔を狭めると、両
者が接触摺動しどちらか一方あるいは両方が摩耗する可
能性が高まるため、両者の耐摩耗性を向上することが装
置の動作信頼性を向上するために重要な課題となってい
る。このため、最近の磁気記憶装置では、潤滑剤を記録
媒体表面に塗布する等の磁気記録媒体側の改良に加え
て、磁気ヘッドの基板に耐摩耗性の材料が広く用いられ
ている。この耐摩耗性材料としては、アルミナ・チタン
カーバイド等のセラミックス材料が一般的である。
度を高め、小形で大容量の記憶が可能な装置が求められ
ている。このためには、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間
隔を狭めることが、磁気記録の原理から要求される。し
かし、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間隔を狭めると、両
者が接触摺動しどちらか一方あるいは両方が摩耗する可
能性が高まるため、両者の耐摩耗性を向上することが装
置の動作信頼性を向上するために重要な課題となってい
る。このため、最近の磁気記憶装置では、潤滑剤を記録
媒体表面に塗布する等の磁気記録媒体側の改良に加え
て、磁気ヘッドの基板に耐摩耗性の材料が広く用いられ
ている。この耐摩耗性材料としては、アルミナ・チタン
カーバイド等のセラミックス材料が一般的である。
【０００３】また、これらの磁気ヘッドの磁気記録媒体
対向面上に硬質の耐摩耗性薄膜を形成し、その耐摩耗性
をさらに向上することが行われている。この耐摩耗性薄
膜として磁気ディスク記憶装置用磁気ヘッドに非晶質硬
質カーボン薄膜をスパッタ法により形成することが、特
開平４−２７６３６７号公報記載の「保護被膜を有する
磁気ヘッドスライダおよびその製造方法」に開示されて
いる。その製造方法によれば、アルミナ・チタンカーバ
イドからなる磁気ヘッド基板上に薄膜技術により記録再
生磁極を形成し、外形を概略形成した後、磁気ヘッド浮
上面にＳｉ膜を形成し接着膜とし、しかる後に非晶質硬
質カーボン薄膜を形成している。
対向面上に硬質の耐摩耗性薄膜を形成し、その耐摩耗性
をさらに向上することが行われている。この耐摩耗性薄
膜として磁気ディスク記憶装置用磁気ヘッドに非晶質硬
質カーボン薄膜をスパッタ法により形成することが、特
開平４−２７６３６７号公報記載の「保護被膜を有する
磁気ヘッドスライダおよびその製造方法」に開示されて
いる。その製造方法によれば、アルミナ・チタンカーバ
イドからなる磁気ヘッド基板上に薄膜技術により記録再
生磁極を形成し、外形を概略形成した後、磁気ヘッド浮
上面にＳｉ膜を形成し接着膜とし、しかる後に非晶質硬
質カーボン薄膜を形成している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
本発明が解決しようとする課題は、まず第１に、アルミ
ナ・チタンカーバイド等の耐摩耗性セラミックス基板材
料は密度が４０００ｋｇ／ｍ3 以上と大きくさらに価格
が高い点、および第２として、磁気ヘッドの記録媒体対
向面に耐摩耗性向上膜を形成する場合に、従来は非晶質
硬質カーボン薄膜に加えて接着膜も形成する必要がある
ため、記録再生磁極と磁気ディスクとの間隔が接着膜の
膜厚だけ広がり高記録密度化に妨げとなると共に、接着
膜形成工程が必要であるという点である。
本発明が解決しようとする課題は、まず第１に、アルミ
ナ・チタンカーバイド等の耐摩耗性セラミックス基板材
料は密度が４０００ｋｇ／ｍ3 以上と大きくさらに価格
が高い点、および第２として、磁気ヘッドの記録媒体対
向面に耐摩耗性向上膜を形成する場合に、従来は非晶質
硬質カーボン薄膜に加えて接着膜も形成する必要がある
ため、記録再生磁極と磁気ディスクとの間隔が接着膜の
膜厚だけ広がり高記録密度化に妨げとなると共に、接着
膜形成工程が必要であるという点である。
【０００５】本発明は上記課題を解決するためになさ
れ、表面にカーボン薄膜を形成した磁気ヘッドにおい
て、基板価格を低減すること、および従来必要であった
接着膜を不要とし、記録再生磁極と磁気記録媒体との間
隔を低減すると共に、磁気ヘッド製造工程の簡素化され
た磁気ヘッド、磁気記憶装置および磁気ディスク記憶装
置を提供することを目的とする。
れ、表面にカーボン薄膜を形成した磁気ヘッドにおい
て、基板価格を低減すること、および従来必要であった
接着膜を不要とし、記録再生磁極と磁気記録媒体との間
隔を低減すると共に、磁気ヘッド製造工程の簡素化され
た磁気ヘッド、磁気記憶装置および磁気ディスク記憶装
置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、磁気記録媒体と磁気ヘッドの相対的移動に
より情報を記録再生する磁気ヘッドで、磁気ヘッドの磁
気記録媒体対向面に非晶質硬質カーボン保護膜を有する
ものにおいて、前記磁気ヘッドの基板が、Ｓｉを含有す
る物質の１つあるいは混合物であることを特徴とするも
のである。
に本発明は、磁気記録媒体と磁気ヘッドの相対的移動に
より情報を記録再生する磁気ヘッドで、磁気ヘッドの磁
気記録媒体対向面に非晶質硬質カーボン保護膜を有する
ものにおいて、前記磁気ヘッドの基板が、Ｓｉを含有す
る物質の１つあるいは混合物であることを特徴とするも
のである。
【０００７】
【作用】上記構成によれば、磁気ヘッドの基板として、
ガラス系の材料を使用することにより上記第１の課題
を、また、カーボン薄膜との接着性の良い、Ｓｉ、Ｓｉ
Ｏ2、ＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4、ガラス等のＳｉ系の物質ある
いはその混合物を用いることによって、磁気ヘッド基板
上の接着用薄膜を不要とすることにより上記第２の課題
を解決することができる。
ガラス系の材料を使用することにより上記第１の課題
を、また、カーボン薄膜との接着性の良い、Ｓｉ、Ｓｉ
Ｏ2、ＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4、ガラス等のＳｉ系の物質ある
いはその混合物を用いることによって、磁気ヘッド基板
上の接着用薄膜を不要とすることにより上記第２の課題
を解決することができる。
【０００８】すなわち、従来の磁気ヘッドでは、基板が
そのまま磁気記録媒体と摩擦摺動する可能性があったた
め、耐摩耗性の基板を使用する必要があったが、本発明
者らは、カーボン薄膜を磁気記録媒体対向面に形成した
場合、下地基板の特性の影響を受けないことを実験的に
明らかにし、従来使用できなかった耐摩耗性の低いガラ
ス系材料の使用を可能とした。
そのまま磁気記録媒体と摩擦摺動する可能性があったた
め、耐摩耗性の基板を使用する必要があったが、本発明
者らは、カーボン薄膜を磁気記録媒体対向面に形成した
場合、下地基板の特性の影響を受けないことを実験的に
明らかにし、従来使用できなかった耐摩耗性の低いガラ
ス系材料の使用を可能とした。
【０００９】また、非晶質硬質カーボン膜を基板上にス
パッタ法により形成する場合、基板材料がＡｌ2Ｏ3等の
酸化物セラミックスの場合には、薄膜と基板との接着力
が低く非晶質硬質カーボン薄膜は剥離してしまい、実用
的な薄膜が形成できない。このため、現在磁気ディスク
記憶装置用磁気ヘッドの基板として主に用いられている
アルミナ・チタンカーバイド基板上に非晶質硬質カーボ
ン薄膜を形成する場合にはＳｉ膜を接着膜として基板上
に形成する必要がある。しかし、Ｓｉ、ＳｉＯ2、Ｓｉ
Ｃ、Ｓｉ3Ｎ4、ガラス等のＳｉ系の物質を基板とした場
合には、基板と非晶質硬質カーボン薄膜との接着力が高
く、非晶質硬質カーボン薄膜が剥離しないことが知られ
ている。この事実を応用し、本発明では磁気ヘッドの基
板を従来のアルミナ・チタンカーバイド等の酸化物セラ
ミックスから、Ｓｉ、ＳｉＯ2、ＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4等の
Ｓｉを含有する物質の１つあるいは混合物とすることに
より、磁気ヘッド基板と非晶質硬質カーボン薄膜との接
着力を増加させ、基板表面に接着用の薄膜形成を不要と
する。
パッタ法により形成する場合、基板材料がＡｌ2Ｏ3等の
酸化物セラミックスの場合には、薄膜と基板との接着力
が低く非晶質硬質カーボン薄膜は剥離してしまい、実用
的な薄膜が形成できない。このため、現在磁気ディスク
記憶装置用磁気ヘッドの基板として主に用いられている
アルミナ・チタンカーバイド基板上に非晶質硬質カーボ
ン薄膜を形成する場合にはＳｉ膜を接着膜として基板上
に形成する必要がある。しかし、Ｓｉ、ＳｉＯ2、Ｓｉ
Ｃ、Ｓｉ3Ｎ4、ガラス等のＳｉ系の物質を基板とした場
合には、基板と非晶質硬質カーボン薄膜との接着力が高
く、非晶質硬質カーボン薄膜が剥離しないことが知られ
ている。この事実を応用し、本発明では磁気ヘッドの基
板を従来のアルミナ・チタンカーバイド等の酸化物セラ
ミックスから、Ｓｉ、ＳｉＯ2、ＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4等の
Ｓｉを含有する物質の１つあるいは混合物とすることに
より、磁気ヘッド基板と非晶質硬質カーボン薄膜との接
着力を増加させ、基板表面に接着用の薄膜形成を不要と
する。
【００１０】
【実施例】以下、本発明を、磁気ディスク記憶装置用磁
気ヘッドに適用した実施例について、具体的に説明す
る。図１に、本発明を応用した磁気ディスク記憶装置用
磁気ヘッドの第１の実施例を示す。本実施例の磁気ヘッ
ド１０の磁気ディスク対向面には、従来と同様、内周側
および外周側に全く同じ形状の２本のテーパ・フラット
型の浮上面２０を持っている。これらテーパ・フラット
型の浮上面２０のそれぞれの流出側側面には、上部側及
び下部側の薄膜磁気ヘッド磁極３０ａ、３０ｂが形成さ
れており、その一方が実際に情報の記録再生に使用され
る。
気ヘッドに適用した実施例について、具体的に説明す
る。図１に、本発明を応用した磁気ディスク記憶装置用
磁気ヘッドの第１の実施例を示す。本実施例の磁気ヘッ
ド１０の磁気ディスク対向面には、従来と同様、内周側
および外周側に全く同じ形状の２本のテーパ・フラット
型の浮上面２０を持っている。これらテーパ・フラット
型の浮上面２０のそれぞれの流出側側面には、上部側及
び下部側の薄膜磁気ヘッド磁極３０ａ、３０ｂが形成さ
れており、その一方が実際に情報の記録再生に使用され
る。
【００１１】本実施例では、磁気ヘッドの基板４０には
石英ガラスを用い、浮上面２０の流出側側面上に、下地
膜５０としてアルミナ膜を形成し、しかる後下部磁極３
０ｂ、ギャップ規制膜６０、下部絶縁膜７０、記録再生
巻線８０、上部絶縁膜９０、上部磁極３０ａ、を通常の
薄膜磁気ヘッド製造工程に従って形成し、さらにその表
面にさらにアルミナ膜を磁極保護膜１００として形成
し、しかる後基板を所定の個別の磁気ヘッド寸法に従っ
て切断研磨し、浮上面２０を研磨により形成した後、浮
上面２０側から、スパッタ成膜法により非晶質硬質カー
ボン薄膜２００を形成している。このように、本実施例
では磁気ヘッド基板と非晶質硬質カーボン薄膜との接着
性が良いため、非晶質硬質カーボン薄膜２００は石英ガ
ラス基板４０上に直接形成されている。
石英ガラスを用い、浮上面２０の流出側側面上に、下地
膜５０としてアルミナ膜を形成し、しかる後下部磁極３
０ｂ、ギャップ規制膜６０、下部絶縁膜７０、記録再生
巻線８０、上部絶縁膜９０、上部磁極３０ａ、を通常の
薄膜磁気ヘッド製造工程に従って形成し、さらにその表
面にさらにアルミナ膜を磁極保護膜１００として形成
し、しかる後基板を所定の個別の磁気ヘッド寸法に従っ
て切断研磨し、浮上面２０を研磨により形成した後、浮
上面２０側から、スパッタ成膜法により非晶質硬質カー
ボン薄膜２００を形成している。このように、本実施例
では磁気ヘッド基板と非晶質硬質カーボン薄膜との接着
性が良いため、非晶質硬質カーボン薄膜２００は石英ガ
ラス基板４０上に直接形成されている。
【００１２】本実施例の磁気ヘッドの耐摩耗性を従来例
と比較するため、下記のような試料を作成し、表面にカ
ーボン保護膜を有する円周方向テクスチャー付き薄膜磁
気ディスク上で、摩耗試験を行った。試料には、石英ガ
ラスあるいはサファイア・ブロックの一面を球面に反対
面を平面に研磨し、ブロックの球面側を本実施例の構成
としたもの、比較例として非晶質硬質カーボン薄膜を形
成しない場合、および従来例としてＳｉ薄膜を接着膜と
してその上に非晶質硬質カーボン薄膜を形成したものを
用いた。摩耗試験は、薄膜磁気ディスクに上記試料を
０.５ｇｆ の力で加圧して行い、頂点から２５ｎｍの摩
耗までの摩擦距離を測定した。
と比較するため、下記のような試料を作成し、表面にカ
ーボン保護膜を有する円周方向テクスチャー付き薄膜磁
気ディスク上で、摩耗試験を行った。試料には、石英ガ
ラスあるいはサファイア・ブロックの一面を球面に反対
面を平面に研磨し、ブロックの球面側を本実施例の構成
としたもの、比較例として非晶質硬質カーボン薄膜を形
成しない場合、および従来例としてＳｉ薄膜を接着膜と
してその上に非晶質硬質カーボン薄膜を形成したものを
用いた。摩耗試験は、薄膜磁気ディスクに上記試料を
０.５ｇｆ の力で加圧して行い、頂点から２５ｎｍの摩
耗までの摩擦距離を測定した。
【００１３】比較例１の石英ガラス単体の場合の摩擦距
離を１として、図２にその結果を示す。本発明の実施例
は、比較例１の石英ガラスを基準とするとその８.９ 倍
の耐摩耗性があり、非晶質硬質カーボン薄膜の形成によ
り耐摩耗性が向上したことがわかる。これに対し、比較
例１の石英ガラスを基準とすると、比較例２のサファイ
アの対摩耗性は０.７〜１.５倍の範囲にあり、石英ガラ
スと同等である。一方、比較例３の石英ガラスを基板と
しＳｉ薄膜を接着膜として形成した上に非晶質硬質カー
ボン薄膜を形成した場合、および比較例４のサファイア
を基板としＳｉ薄膜を接着膜として形成した上に非晶質
硬質カーボン薄膜を形成した場合には、それぞれ比較例
１の石英ガラスの場合の８.９倍、５.９倍の耐摩耗性を
示している。また、比較例５として示したサファイア基
板上に直接非晶質硬質カーボン薄膜の形成を試みた場合
には、接着力が不十分なため非晶質硬質カーボン膜が剥
離してしまい、摩耗試験を行うことができなかった。
離を１として、図２にその結果を示す。本発明の実施例
は、比較例１の石英ガラスを基準とするとその８.９ 倍
の耐摩耗性があり、非晶質硬質カーボン薄膜の形成によ
り耐摩耗性が向上したことがわかる。これに対し、比較
例１の石英ガラスを基準とすると、比較例２のサファイ
アの対摩耗性は０.７〜１.５倍の範囲にあり、石英ガラ
スと同等である。一方、比較例３の石英ガラスを基板と
しＳｉ薄膜を接着膜として形成した上に非晶質硬質カー
ボン薄膜を形成した場合、および比較例４のサファイア
を基板としＳｉ薄膜を接着膜として形成した上に非晶質
硬質カーボン薄膜を形成した場合には、それぞれ比較例
１の石英ガラスの場合の８.９倍、５.９倍の耐摩耗性を
示している。また、比較例５として示したサファイア基
板上に直接非晶質硬質カーボン薄膜の形成を試みた場合
には、接着力が不十分なため非晶質硬質カーボン膜が剥
離してしまい、摩耗試験を行うことができなかった。
【００１４】この結果から、本実施例の構成により、比
較例３として示したＳｉを接着膜として非晶質硬質カー
ボン薄膜を形成した従来法の場合と同様の耐摩耗性が得
られていることがわかる。このことは、本発明を用いる
ことにより従来の接着膜を用いる場合と同等の耐摩耗性
を得られ、接着膜の形成工程を不要とするとともに、接
着膜が不要であることから磁気ヘッド保護膜全体として
の厚さを接着膜の厚さだけ薄くすることにより磁気ヘッ
ド磁極と磁気記録媒体の間隔を短縮することが可能であ
ることを示している。
較例３として示したＳｉを接着膜として非晶質硬質カー
ボン薄膜を形成した従来法の場合と同様の耐摩耗性が得
られていることがわかる。このことは、本発明を用いる
ことにより従来の接着膜を用いる場合と同等の耐摩耗性
を得られ、接着膜の形成工程を不要とするとともに、接
着膜が不要であることから磁気ヘッド保護膜全体として
の厚さを接着膜の厚さだけ薄くすることにより磁気ヘッ
ド磁極と磁気記録媒体の間隔を短縮することが可能であ
ることを示している。
【００１５】次に、本発明を適用した磁気ディスク用磁
気ヘッドの第２の実施例を説明する。本実施例において
も、磁気ヘッドの基板には石英ガラスを用いている。そ
して、その浮上面２０の流出側側面上に、ＳｉＯ2 から
なる磁極下地膜５０を形成し、しかる後下部磁極３０
ｂ、ギャップ規制膜６０、下部絶縁膜７０、記録再生巻
線８０、上部絶縁膜９０、上部磁極３０ａを、第１の実
施例と同様に通常の薄膜磁気ヘッド製造工程に従って形
成し、さらにその表面にＳｉＯ2 を磁極保護膜１００と
して形成し、しかる後基板を所定の個別の磁気ヘッド寸
法に従って切断研磨し、浮上面２０を研磨により形成し
た後、浮上面２０側から非晶質硬質カーボン薄膜２００
を形成している。これにより、本実施例では第１の実施
例でアルミナ薄膜であった磁極下地膜５０および磁極保
護膜９０がともにＳｉＯ2 膜となり、第１の実施例に比
較して磁極下地膜５０および磁極保護膜１００と非晶質
硬質カーボン薄膜２００とがより強固に接着するように
なり、全体としての信頼性がさらに向上した。
気ヘッドの第２の実施例を説明する。本実施例において
も、磁気ヘッドの基板には石英ガラスを用いている。そ
して、その浮上面２０の流出側側面上に、ＳｉＯ2 から
なる磁極下地膜５０を形成し、しかる後下部磁極３０
ｂ、ギャップ規制膜６０、下部絶縁膜７０、記録再生巻
線８０、上部絶縁膜９０、上部磁極３０ａを、第１の実
施例と同様に通常の薄膜磁気ヘッド製造工程に従って形
成し、さらにその表面にＳｉＯ2 を磁極保護膜１００と
して形成し、しかる後基板を所定の個別の磁気ヘッド寸
法に従って切断研磨し、浮上面２０を研磨により形成し
た後、浮上面２０側から非晶質硬質カーボン薄膜２００
を形成している。これにより、本実施例では第１の実施
例でアルミナ薄膜であった磁極下地膜５０および磁極保
護膜９０がともにＳｉＯ2 膜となり、第１の実施例に比
較して磁極下地膜５０および磁極保護膜１００と非晶質
硬質カーボン薄膜２００とがより強固に接着するように
なり、全体としての信頼性がさらに向上した。
【００１６】以上の実施例では、基板の材料として石英
ガラスを用いたが、基板の材料はこれに限るものではな
く、本発明の作用の項で説明したように、Ｓｉ、ＳｉＯ
2 、ＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4 等のＳｉ系の物質あるいはその
混合物さらにＳｉＯ2を含むたとえば米コーニング社の
７０５９ガラス等の各種材料を基板とした場合にも本発
明の効果が得られる。
ガラスを用いたが、基板の材料はこれに限るものではな
く、本発明の作用の項で説明したように、Ｓｉ、ＳｉＯ
2 、ＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4 等のＳｉ系の物質あるいはその
混合物さらにＳｉＯ2を含むたとえば米コーニング社の
７０５９ガラス等の各種材料を基板とした場合にも本発
明の効果が得られる。
【００１７】特に、各種ガラスを用いると、基板の熱膨
張係数が広範囲の値から選択可能となり、磁性膜の特性
との関連で適当なものが選択できるため記録再生特性が
向上できると共に、ガラス材料は密度が２５００ｋｇ／
ｍ3 以下のものが可能であり、従来のアルミナ・チタン
カーバイト等より小さいことから磁気ヘッドの重量が低
減可能であるため、磁気ヘッドの磁気ディスクへの追従
性が向上し記録再生が安定になり、さらに基板材料が安
価であり磁気ヘッドの価格を低減できる、利点がある。
張係数が広範囲の値から選択可能となり、磁性膜の特性
との関連で適当なものが選択できるため記録再生特性が
向上できると共に、ガラス材料は密度が２５００ｋｇ／
ｍ3 以下のものが可能であり、従来のアルミナ・チタン
カーバイト等より小さいことから磁気ヘッドの重量が低
減可能であるため、磁気ヘッドの磁気ディスクへの追従
性が向上し記録再生が安定になり、さらに基板材料が安
価であり磁気ヘッドの価格を低減できる、利点がある。
【００１８】また、基板として石英ガラス等のガラス材
料を用いたときには、ガラス材料がボイドを含まず、非
常に平滑に研磨可能なことから、磁極下地膜５０の厚さ
は従来の約１０μｍの必要が無くなり、１μｍ以下、特
に基板材料の磁極３０に対する腐食性が問題とならない
ときには磁極下地膜５０の厚さを０とすることができ
る。これにより、アルミナ・チタンカーバイド等の複合
材料を基板としていたときに、基板のボイド／凹凸を埋
めさらにその表面の平滑化のために必要であった、十分
な厚さの下地薄膜の形成およびその表面平滑化加工の２
つの工程を不要とすることができ、基板加工工程が簡略
化され、最終的に磁気ヘッドの価格を低減することがで
きる。
料を用いたときには、ガラス材料がボイドを含まず、非
常に平滑に研磨可能なことから、磁極下地膜５０の厚さ
は従来の約１０μｍの必要が無くなり、１μｍ以下、特
に基板材料の磁極３０に対する腐食性が問題とならない
ときには磁極下地膜５０の厚さを０とすることができ
る。これにより、アルミナ・チタンカーバイド等の複合
材料を基板としていたときに、基板のボイド／凹凸を埋
めさらにその表面の平滑化のために必要であった、十分
な厚さの下地薄膜の形成およびその表面平滑化加工の２
つの工程を不要とすることができ、基板加工工程が簡略
化され、最終的に磁気ヘッドの価格を低減することがで
きる。
【００１９】
【発明の効果】以上要するに、本発明を用いることによ
り、磁気ヘッドの磁気記録媒体対向面に非晶質硬質カー
ボン薄膜を形成する場合に必要であった接着層が不要と
なり、実際に記録再生を行う記録再生磁極を磁気記録媒
体により近く設置することが可能となり磁気記録密度が
向上できると共に、従来必要であった接着層形成工程が
不要となり磁気ヘッド製造工程が簡易となるため従来と
比較し安価に磁気ヘッドが製造可能となり、高記録密度
の磁気記憶装置、磁気ディスク記憶装置を安価に製造す
ることができる。
り、磁気ヘッドの磁気記録媒体対向面に非晶質硬質カー
ボン薄膜を形成する場合に必要であった接着層が不要と
なり、実際に記録再生を行う記録再生磁極を磁気記録媒
体により近く設置することが可能となり磁気記録密度が
向上できると共に、従来必要であった接着層形成工程が
不要となり磁気ヘッド製造工程が簡易となるため従来と
比較し安価に磁気ヘッドが製造可能となり、高記録密度
の磁気記憶装置、磁気ディスク記憶装置を安価に製造す
ることができる。
【図１】本発明の一実施例の磁気ディスク記憶装置用磁
気ヘッドを示す図である。
気ヘッドを示す図である。
【図２】本発明の効果を比較する図である。
１０ 磁気ヘッド ２０ 浮上面 ３０ａ、３０ｂ 薄膜磁気ヘッド磁極 ４０ 磁気ヘッド基板 ５０ 磁極下地膜 ６０ ギャップ規制膜 ７０ 下部絶縁膜 ８０ 記録再生巻線 ９０ 上部絶縁膜 １００ 磁極保護膜 ２００ 非晶質硬質カーボン薄膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 萬行 恵美 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 濱川 佳弘 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (8)
- 【請求項１】 磁気記録媒体と磁気ヘッドの相対的移動
により情報を記録再生する磁気ヘッドで、磁気ヘッドの
磁気記録媒体対向面に非晶質硬質カーボン保護膜を有す
るものにおいて、 前記磁気ヘッドの基板が、Ｓｉを含有する物質の１つあ
るいは混合物であることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 請求項１記載の磁気ヘッドにおいて、 前記物質は、Ｓｉ、ＳｉＯ2、ＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4、ガラ
ス等であることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項３】 請求項１または２記載の磁気ヘッドにお
いて、 前記カーボン保護膜を基板の少なくとも磁気記録媒体対
向面に直接形成したことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項４】 請求項１、２または３記載の磁気ヘッド
において、 前記基板上に磁気記録再生用の磁極部分が薄膜プロセス
により形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項５】 請求項４記載の磁気ヘッドにおいて、 前記磁極部分の下地薄膜あるいは／および磁極保護膜
が、ＳｉＯ2膜であることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項６】 請求項４または５記載の磁気ヘッドにお
いて、 前記磁極部分の下地薄膜が０ないし１μｍの厚さである
ことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項７】 請求項１ないし６のうちいずれかに記載
の磁気ヘッドを用いることを特徴とする、磁気記憶装
置。 - 【請求項８】 請求項１ないし６のうちいずれかに記載
の磁気ヘッドを用いることを特徴とする、磁気ディスク
記憶装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32166493A JPH07182628A (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 磁気ヘッド、磁気記憶装置および磁気ディスク記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32166493A JPH07182628A (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 磁気ヘッド、磁気記憶装置および磁気ディスク記憶装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07182628A true JPH07182628A (ja) | 1995-07-21 |
Family
ID=18135035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32166493A Pending JPH07182628A (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 磁気ヘッド、磁気記憶装置および磁気ディスク記憶装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07182628A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000004534A1 (en) * | 1998-07-13 | 2000-01-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a thin-film magnetic head |
| FR2834375A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-04 | Commissariat Energie Atomique | Tete magnetique integree pour l'enregistrement magnetique et procede de fabrication de cette tete magnetique |
| US7154710B2 (en) | 2003-02-19 | 2006-12-26 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider |
-
1993
- 1993-12-21 JP JP32166493A patent/JPH07182628A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000004534A1 (en) * | 1998-07-13 | 2000-01-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a thin-film magnetic head |
| FR2834375A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-04 | Commissariat Energie Atomique | Tete magnetique integree pour l'enregistrement magnetique et procede de fabrication de cette tete magnetique |
| WO2003056548A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-10 | Commissariat A L'energie Atomique | Tete magnetique integree pour l'enregistrement magnetique et procede de fabrication de cette tete magnetique |
| US7154710B2 (en) | 2003-02-19 | 2006-12-26 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider |
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