JPH05282646A - 浮上型磁気ヘッド装置 - Google Patents
浮上型磁気ヘッド装置Info
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- JPH05282646A JPH05282646A JP10590192A JP10590192A JPH05282646A JP H05282646 A JPH05282646 A JP H05282646A JP 10590192 A JP10590192 A JP 10590192A JP 10590192 A JP10590192 A JP 10590192A JP H05282646 A JPH05282646 A JP H05282646A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 レール加工が施されたスライダーに磁気ヘッ
ド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装置におい
て、スライダーの少なくともレール部表面にＴｉまたは
Ｃｒからなる下地層を介して耐摩耗性保護膜が成膜され
ている。また、上記のような浮上型磁気ヘッド装置にお
いて、スライダーの少なくともレール部表面の中心線平
均粗さＲａが１０ｎｍ以上とされている。さらに、上記
のような浮上型磁気ヘッド装置において、スライダーの
少なくともレール部表面に耐摩耗性保護膜が成膜され、
その中心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以上とされている。 【効果】 磁気ヘッド，スライダーの耐摩耗性が向上さ
れ、接触面間の密着による摩耗及び吸着が低減されるた
めコンタクト・スタート・ストップ耐久性が向上される
ため製品寿命が延び、品質の向上した浮上型磁気ヘッド
装置を得ることができる。
ド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装置におい
て、スライダーの少なくともレール部表面にＴｉまたは
Ｃｒからなる下地層を介して耐摩耗性保護膜が成膜され
ている。また、上記のような浮上型磁気ヘッド装置にお
いて、スライダーの少なくともレール部表面の中心線平
均粗さＲａが１０ｎｍ以上とされている。さらに、上記
のような浮上型磁気ヘッド装置において、スライダーの
少なくともレール部表面に耐摩耗性保護膜が成膜され、
その中心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以上とされている。 【効果】 磁気ヘッド，スライダーの耐摩耗性が向上さ
れ、接触面間の密着による摩耗及び吸着が低減されるた
めコンタクト・スタート・ストップ耐久性が向上される
ため製品寿命が延び、品質の向上した浮上型磁気ヘッド
装置を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ハードディスクドライ
ブ装置等に用いられる浮上型磁気ヘッド装置に係わり、
特に、磁気ディスク表面に対して微小の間隙を持った状
態で情報の記録或いは再生を行い、起動停止時には磁気
ディスク表面に接するコンタクト・スタート・ストップ
型の浮上型磁気ヘッド装置に関するものである。
ブ装置等に用いられる浮上型磁気ヘッド装置に係わり、
特に、磁気ディスク表面に対して微小の間隙を持った状
態で情報の記録或いは再生を行い、起動停止時には磁気
ディスク表面に接するコンタクト・スタート・ストップ
型の浮上型磁気ヘッド装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスクに対して情報の記録或い
は再生を行うハードディスクドライブ装置においては、
磁気ヘッドと磁気ディスク表面の接触による摩耗損傷を
避けるために、起動停止時には磁気ヘッドが磁気ディス
クに接し、情報の記録再生時には高速回転する磁気ディ
スク表面に発生する空気流によって磁気ヘッドを磁気デ
ィスク表面より微小間隙をもって浮上走行させるように
構成した、いわゆるコンタクト・スタート・ストップ型
の浮上型磁気ヘッド装置が用いられている。
は再生を行うハードディスクドライブ装置においては、
磁気ヘッドと磁気ディスク表面の接触による摩耗損傷を
避けるために、起動停止時には磁気ヘッドが磁気ディス
クに接し、情報の記録再生時には高速回転する磁気ディ
スク表面に発生する空気流によって磁気ヘッドを磁気デ
ィスク表面より微小間隙をもって浮上走行させるように
構成した、いわゆるコンタクト・スタート・ストップ型
の浮上型磁気ヘッド装置が用いられている。
【０００３】上記コンタクト・スタート・ストップ型の
浮上型磁気ヘッド装置においては、磁気ディスク表面に
発生する空気流を受ける面であるエア・ベアリング・サ
ーフェスを有するスライダーに磁気ヘッド素子が組み込
まれており、スライダーには支持体が取り付けられてい
る。よって、磁気ヘッド素子の組み込まれたスライダー
は、磁気ディスクの回転が停止している時は磁気ディス
ク表面に接し、磁気ディスクが回転すると、その回転に
よって発生する空気流をエア・ベアリング・サーフェス
に受け浮上し、スライダーに組み込まれた磁気ヘッド素
子は支持体によって磁気ディスク面上を移動し所定の記
録トラックへの情報の記録再生を行う。
浮上型磁気ヘッド装置においては、磁気ディスク表面に
発生する空気流を受ける面であるエア・ベアリング・サ
ーフェスを有するスライダーに磁気ヘッド素子が組み込
まれており、スライダーには支持体が取り付けられてい
る。よって、磁気ヘッド素子の組み込まれたスライダー
は、磁気ディスクの回転が停止している時は磁気ディス
ク表面に接し、磁気ディスクが回転すると、その回転に
よって発生する空気流をエア・ベアリング・サーフェス
に受け浮上し、スライダーに組み込まれた磁気ヘッド素
子は支持体によって磁気ディスク面上を移動し所定の記
録トラックへの情報の記録再生を行う。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、コンタ
クト・スタート・ストップ型の浮上型磁気ヘッド装置に
おいては、磁気ヘッド素子の組み込まれたスライダー
は、起動時或いは停止時には磁気ディスク表面に接して
おり、起動動作直後或いは停止動作直後には磁気ディス
ク表面に摺動することとなる。この時、スライダー表面
及び磁気ディスク表面が非常に平滑な面であるために、
両面間に密着が起こり易く、スライダー表面及び磁気デ
ィスク表面が摩耗し、コンタクト・スタート・ストップ
耐久性は良好ではない。また、これによって、両者の製
品寿命が短くなると共に、摺動によって発生する摩耗粉
がスライダー表面に付着し、スライダーの浮上性能が低
下してしまうといった問題も起こっている。
クト・スタート・ストップ型の浮上型磁気ヘッド装置に
おいては、磁気ヘッド素子の組み込まれたスライダー
は、起動時或いは停止時には磁気ディスク表面に接して
おり、起動動作直後或いは停止動作直後には磁気ディス
ク表面に摺動することとなる。この時、スライダー表面
及び磁気ディスク表面が非常に平滑な面であるために、
両面間に密着が起こり易く、スライダー表面及び磁気デ
ィスク表面が摩耗し、コンタクト・スタート・ストップ
耐久性は良好ではない。また、これによって、両者の製
品寿命が短くなると共に、摺動によって発生する摩耗粉
がスライダー表面に付着し、スライダーの浮上性能が低
下してしまうといった問題も起こっている。
【０００５】そこで、ラッピングテープによって傷を付
ける等の手法により、磁気ディスクに接触する部分のス
ライダー表面に微細な凹凸を与え、適度な表面粗さを有
する面とし、スライダーと磁気ディスクの接触面積を抑
え、上述のような現象を防いでいる。しかしながら、近
年では高密度記録の要求が高まっているため、磁気ヘッ
ドと磁気ディスク間の距離、つまりスライダー浮上距離
を極力小さくすることが必要となってきており、それに
伴って磁気ヘッド，スライダーのサイズも小さくなって
きている。よって、上記のようなサイズの小さいスライ
ダー表面に、上述のようなラッピングテープによって傷
を付ける等の手法により適度な表面粗さを与えることは
困難となってきている。
ける等の手法により、磁気ディスクに接触する部分のス
ライダー表面に微細な凹凸を与え、適度な表面粗さを有
する面とし、スライダーと磁気ディスクの接触面積を抑
え、上述のような現象を防いでいる。しかしながら、近
年では高密度記録の要求が高まっているため、磁気ヘッ
ドと磁気ディスク間の距離、つまりスライダー浮上距離
を極力小さくすることが必要となってきており、それに
伴って磁気ヘッド，スライダーのサイズも小さくなって
きている。よって、上記のようなサイズの小さいスライ
ダー表面に、上述のようなラッピングテープによって傷
を付ける等の手法により適度な表面粗さを与えることは
困難となってきている。
【０００６】そこで、本発明は、かかる実情に鑑みて提
案されたものであって、スライダーと磁気ディスク間の
密着による摩耗及び吸着を低減し、両者の耐摩耗性を向
上し、コンタクト・スタート・ストップ耐久性を向上さ
せ、磁気ヘッド，スライダー及び磁気ディスクの製品寿
命を向上させる浮上型磁気ヘッド装置を提供することを
目的とする。
案されたものであって、スライダーと磁気ディスク間の
密着による摩耗及び吸着を低減し、両者の耐摩耗性を向
上し、コンタクト・スタート・ストップ耐久性を向上さ
せ、磁気ヘッド，スライダー及び磁気ディスクの製品寿
命を向上させる浮上型磁気ヘッド装置を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、レール加工が施されたスライダーに磁
気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装置
において、スライダーの少なくともレール部表面にＴｉ
またはＣｒからなる下地層を介して耐摩耗性保護膜が成
膜されていることを特徴とするものである。
めに、本発明は、レール加工が施されたスライダーに磁
気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装置
において、スライダーの少なくともレール部表面にＴｉ
またはＣｒからなる下地層を介して耐摩耗性保護膜が成
膜されていることを特徴とするものである。
【０００８】また、レール加工が施されたスライダーに
磁気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装
置において、スライダーの少なくともレール部表面の中
心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以上とされていることを特
徴とするものである。
磁気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装
置において、スライダーの少なくともレール部表面の中
心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以上とされていることを特
徴とするものである。
【０００９】さらに、レール加工が施されたスライダー
に磁気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド
装置において、スライダーの少なくともレール部表面に
耐摩耗性保護膜が成膜され、その中心線粗さＲａが１０
ｎｍ以上とされていることを特徴とするものである。
に磁気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド
装置において、スライダーの少なくともレール部表面に
耐摩耗性保護膜が成膜され、その中心線粗さＲａが１０
ｎｍ以上とされていることを特徴とするものである。
【００１０】上述のような浮上型磁気ヘッド装置は、次
のように構成される。すなわち、図１に示されるよう
に、スライダー１はサスペンション２に取り付けられ、
アクチュエーター３に取り付けられている。スライダー
１は、起動時には磁気ディスク４に接しているが、磁気
ディスク４の図中矢印Ｒ1 方向への回転によって発生す
る空気流を受けて浮上し、磁気ディスク４表面より微小
な間隙をもって情報の記録或いは再生を行い、停止時に
は磁気ディスク４上に降下するものである。また、磁気
ディスク４が図中矢印Ｒ1 方向に回転する時、アクチュ
エーター３は図中矢印Ｒ2 方向に回転し、サスペンショ
ン２に取り付けられたスライダー１を磁気ディスク４面
上で図中矢印Ｍのように移動させる。
のように構成される。すなわち、図１に示されるよう
に、スライダー１はサスペンション２に取り付けられ、
アクチュエーター３に取り付けられている。スライダー
１は、起動時には磁気ディスク４に接しているが、磁気
ディスク４の図中矢印Ｒ1 方向への回転によって発生す
る空気流を受けて浮上し、磁気ディスク４表面より微小
な間隙をもって情報の記録或いは再生を行い、停止時に
は磁気ディスク４上に降下するものである。また、磁気
ディスク４が図中矢印Ｒ1 方向に回転する時、アクチュ
エーター３は図中矢印Ｒ2 方向に回転し、サスペンショ
ン２に取り付けられたスライダー１を磁気ディスク４面
上で図中矢印Ｍのように移動させる。
【００１１】次に、図２にスライダー１の拡大図を示
す。図２に示すように、スライダー１の一主面にはレー
ル加工が施され溝部５が形成され、この溝部５の両側に
はスライダーレール６，７が形成されている。さらに、
例えば薄膜磁気ヘッドである磁気ヘッド素子８が一方の
スライダーレール６の磁気ディスク４との対向面６ａと
直交する一側面６ｂに設けられ、磁気ギャップが上記磁
気ディスク４との対向面６ａに臨むようになされてい
る。尚、磁気ヘッド素子８としては、上記の薄膜磁気ヘ
ッドの他、コンポジット型，モノリシック型等の磁気ヘ
ッドが用いられる。従って、起動時或いは停止時におい
ては、上記スライダー１のスライダーレール６，７の対
向面６ａ，７ａが磁気ディスク４表面と接した状態とな
っている。なお、スライダー１を構成する材料として
は、フェライト系，ＣａＴｉＯ3 （チタカリ系），Ａｌ
2 Ｏ3 ・ＴｉＣ（アルチック系）等の材料が用いられ
る。
す。図２に示すように、スライダー１の一主面にはレー
ル加工が施され溝部５が形成され、この溝部５の両側に
はスライダーレール６，７が形成されている。さらに、
例えば薄膜磁気ヘッドである磁気ヘッド素子８が一方の
スライダーレール６の磁気ディスク４との対向面６ａと
直交する一側面６ｂに設けられ、磁気ギャップが上記磁
気ディスク４との対向面６ａに臨むようになされてい
る。尚、磁気ヘッド素子８としては、上記の薄膜磁気ヘ
ッドの他、コンポジット型，モノリシック型等の磁気ヘ
ッドが用いられる。従って、起動時或いは停止時におい
ては、上記スライダー１のスライダーレール６，７の対
向面６ａ，７ａが磁気ディスク４表面と接した状態とな
っている。なお、スライダー１を構成する材料として
は、フェライト系，ＣａＴｉＯ3 （チタカリ系），Ａｌ
2 Ｏ3 ・ＴｉＣ（アルチック系）等の材料が用いられ
る。
【００１２】この時、本発明の浮上型磁気ヘッド装置に
おいては、スライダーの少なくともレール部表面にＴｉ
またはＣｒからなる下地層を介して耐摩耗性保護膜が成
膜されている。上記のＴｉまたはＣｒからなる下地層
は、耐摩耗性保護膜の付着力を向上させるために形成さ
れる。また、耐摩耗性保護膜の材質としては、磁気ディ
スク表面の保護膜として用いられているカーボンの他に
ＺｒＯ2 ，ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等が挙げられ、用いる
磁気ディスクに適したものを使用すれば良い。
おいては、スライダーの少なくともレール部表面にＴｉ
またはＣｒからなる下地層を介して耐摩耗性保護膜が成
膜されている。上記のＴｉまたはＣｒからなる下地層
は、耐摩耗性保護膜の付着力を向上させるために形成さ
れる。また、耐摩耗性保護膜の材質としては、磁気ディ
スク表面の保護膜として用いられているカーボンの他に
ＺｒＯ2 ，ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等が挙げられ、用いる
磁気ディスクに適したものを使用すれば良い。
【００１３】また、上述の耐摩耗性保護膜は、スパッ
タ，蒸着，ＣＶＤ等の手法によって形成されるが、これ
らの手法によって薄膜である耐摩耗性保護膜を形成した
場合、耐摩耗性保護膜を形成する材料の粒子は、初期に
おいて薄膜形成面に付着する際、自らが凝集し島状に集
まり、その後、これらの島間が粒子によって埋められる
ことによって薄膜となり、耐摩耗性保護膜が形成され
る。そこで、本発明の浮上型磁気ヘッド装置において
は、上記の耐摩耗性保護膜の成膜条件を制御することに
よって、スライダーの少なくともレール部表面の中心線
平均粗さＲａが１０ｎｍ以上となるようにする。すなわ
ち、耐摩耗性保護膜を形成する材料の粒子が、初期にお
いて自らが凝集し島状に集まる性質を有するため、図３
に示すように、スライダー１のスライダーレール６，７
の対向面６ａ，７ａに耐摩耗性保護膜９を形成する際
に、成膜条件を制御することによって、耐摩耗性保護膜
９を構成する材料の粒子９ａが、対向面６ａ，７ａに付
着し（図３には６ａのみを示す。）、自らが凝集し島状
に集まった状態となるようにし、対向面６ａ，７ａの中
心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以上となるようにするもの
である。なお、実用的には、スライダーの少なくともレ
ール部表面の中心線平均粗さＲａは５０ｎｍ以下が好ま
しい。
タ，蒸着，ＣＶＤ等の手法によって形成されるが、これ
らの手法によって薄膜である耐摩耗性保護膜を形成した
場合、耐摩耗性保護膜を形成する材料の粒子は、初期に
おいて薄膜形成面に付着する際、自らが凝集し島状に集
まり、その後、これらの島間が粒子によって埋められる
ことによって薄膜となり、耐摩耗性保護膜が形成され
る。そこで、本発明の浮上型磁気ヘッド装置において
は、上記の耐摩耗性保護膜の成膜条件を制御することに
よって、スライダーの少なくともレール部表面の中心線
平均粗さＲａが１０ｎｍ以上となるようにする。すなわ
ち、耐摩耗性保護膜を形成する材料の粒子が、初期にお
いて自らが凝集し島状に集まる性質を有するため、図３
に示すように、スライダー１のスライダーレール６，７
の対向面６ａ，７ａに耐摩耗性保護膜９を形成する際
に、成膜条件を制御することによって、耐摩耗性保護膜
９を構成する材料の粒子９ａが、対向面６ａ，７ａに付
着し（図３には６ａのみを示す。）、自らが凝集し島状
に集まった状態となるようにし、対向面６ａ，７ａの中
心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以上となるようにするもの
である。なお、実用的には、スライダーの少なくともレ
ール部表面の中心線平均粗さＲａは５０ｎｍ以下が好ま
しい。
【００１４】この時のＴｉまたはＣｒからなる下地層と
耐摩耗性保護膜の膜厚であるが、下地層は５〜２０ｎ
ｍ、耐摩耗性保護膜は１０〜３０ｎｍがよく、この範囲
よりも薄いと保護膜としての役割を果たすことが不可能
であり、この範囲よりも厚いと耐摩耗性保護膜を形成す
る材料の粒子の島間が粒子によって埋められ、連続膜が
形成されてしまうため、スライダーのレール部表面に適
度な表面粗さ（中心線平均粗さ１０ｎｍ以上）を与える
ことができない。更に良好な表面粗さを与えるために
は、下地層の膜厚を５〜１０ｎｍ，耐摩耗性保護膜の膜
厚を１０〜２０ｎｍとすることが好ましい。なお、上記
のような耐摩耗性保護膜の成膜は、常温下においても強
固に結合した膜を得ることができる。
耐摩耗性保護膜の膜厚であるが、下地層は５〜２０ｎ
ｍ、耐摩耗性保護膜は１０〜３０ｎｍがよく、この範囲
よりも薄いと保護膜としての役割を果たすことが不可能
であり、この範囲よりも厚いと耐摩耗性保護膜を形成す
る材料の粒子の島間が粒子によって埋められ、連続膜が
形成されてしまうため、スライダーのレール部表面に適
度な表面粗さ（中心線平均粗さ１０ｎｍ以上）を与える
ことができない。更に良好な表面粗さを与えるために
は、下地層の膜厚を５〜１０ｎｍ，耐摩耗性保護膜の膜
厚を１０〜２０ｎｍとすることが好ましい。なお、上記
のような耐摩耗性保護膜の成膜は、常温下においても強
固に結合した膜を得ることができる。
【００１５】
【作用】本発明においては、レール加工が施されたスラ
イダーに磁気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気
ヘッド装置において、スライダーの少なくともレール部
表面にＴｉまたはＣｒからなる下地層を介して耐摩耗性
保護膜が成膜されているため、スライダー及び磁気ディ
スクの耐摩耗性が向上され、スライダーの少なくともレ
ール部表面の中心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以上とされ
ているため、該スライダーと磁気ディスクの接触面積が
表面が平滑なスライダーを用いた場合と比較して小さく
なり、接触面間の密着による摩耗及び吸着が低減され
る。
イダーに磁気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気
ヘッド装置において、スライダーの少なくともレール部
表面にＴｉまたはＣｒからなる下地層を介して耐摩耗性
保護膜が成膜されているため、スライダー及び磁気ディ
スクの耐摩耗性が向上され、スライダーの少なくともレ
ール部表面の中心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以上とされ
ているため、該スライダーと磁気ディスクの接触面積が
表面が平滑なスライダーを用いた場合と比較して小さく
なり、接触面間の密着による摩耗及び吸着が低減され
る。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を適用した浮上型磁気ヘッド装
置について具体的な実験結果に基づいて説明する。
置について具体的な実験結果に基づいて説明する。
【００１７】実験例 １ 本実験例においては、浮上距離０．１μｍのアルマチッ
ク製のマイクロスライダーを使用して実験を行った。ス
ペーシングロスを抑えるために、薄膜磁気ヘッド部に耐
摩耗性保護膜が形成されないよう治具を用いてマスキン
グを行い、スライダーレール面がスパッタ源と対向する
ようにし、真空度が２×１０-5Ｐａとされた真空チャン
バー内でスパッタを行った。この時の印加電圧は７００
Ｗとし、アルゴンガス圧は１Ｐａとした。
ク製のマイクロスライダーを使用して実験を行った。ス
ペーシングロスを抑えるために、薄膜磁気ヘッド部に耐
摩耗性保護膜が形成されないよう治具を用いてマスキン
グを行い、スライダーレール面がスパッタ源と対向する
ようにし、真空度が２×１０-5Ｐａとされた真空チャン
バー内でスパッタを行った。この時の印加電圧は７００
Ｗとし、アルゴンガス圧は１Ｐａとした。
【００１８】上記のようなスパッタ条件下で、マイクロ
スライダーのスライダーレール面上に、下地層としてＣ
ｒ下地層を膜厚５ｎｍ，耐摩耗性保護膜としてカーボン
膜を膜厚２０ｎｍとなるように形成したものを実施例１
とした。次に、マイクロスライダーのスライダーレール
面上に、耐摩耗性保護膜としてカーボン膜のみを膜厚２
０ｎｍとなるように形成したものを実施例２とした。そ
して、マイクロスライダーのスライダーレール面を良く
研磨したものを比較例１とした。
スライダーのスライダーレール面上に、下地層としてＣ
ｒ下地層を膜厚５ｎｍ，耐摩耗性保護膜としてカーボン
膜を膜厚２０ｎｍとなるように形成したものを実施例１
とした。次に、マイクロスライダーのスライダーレール
面上に、耐摩耗性保護膜としてカーボン膜のみを膜厚２
０ｎｍとなるように形成したものを実施例２とした。そ
して、マイクロスライダーのスライダーレール面を良く
研磨したものを比較例１とした。
【００１９】これら実施例１，２、比較例１のスライダ
ーについてコンタクト・スタート・ストップ試験を行っ
た結果を図４，５，６に示す。スライダーレール面に研
磨処理のみを施した比較例１は、図６に示すようにヘッ
ドクラッシュを起こしてしまった。また、スライダーレ
ール面にカーボン膜のみを形成した実施例２において
は、図５に示すようにコンタクト・スタート・ストップ
の回数を重ねても摩擦係数の上昇がゆるやかであり、コ
ンタクト・スタート・ストップ耐久性がかなり改善され
ている。また、スライダーレール面にＣｒ下地層とカー
ボン膜を形成した実施例１においては、図４に示すよう
にコンタクト・スタート・ストップの回数を重ねても摩
擦係数が上昇せず、また値のバラツキもなく、コンタク
ト・スタート・ストップ耐久性が大幅に改善されている
ことがわかった。この実施例１においては、Ｃｒ下地層
が形成されることによってカーボン膜の密着性が向上
し、良好なコンタクト・スタート・ストップ耐久性を得
たものと思われる。
ーについてコンタクト・スタート・ストップ試験を行っ
た結果を図４，５，６に示す。スライダーレール面に研
磨処理のみを施した比較例１は、図６に示すようにヘッ
ドクラッシュを起こしてしまった。また、スライダーレ
ール面にカーボン膜のみを形成した実施例２において
は、図５に示すようにコンタクト・スタート・ストップ
の回数を重ねても摩擦係数の上昇がゆるやかであり、コ
ンタクト・スタート・ストップ耐久性がかなり改善され
ている。また、スライダーレール面にＣｒ下地層とカー
ボン膜を形成した実施例１においては、図４に示すよう
にコンタクト・スタート・ストップの回数を重ねても摩
擦係数が上昇せず、また値のバラツキもなく、コンタク
ト・スタート・ストップ耐久性が大幅に改善されている
ことがわかった。この実施例１においては、Ｃｒ下地層
が形成されることによってカーボン膜の密着性が向上
し、良好なコンタクト・スタート・ストップ耐久性を得
たものと思われる。
【００２０】実験例 ２ 次に、上記の実施例１，２、比較例１のマイクロスライ
ダーのスライダーレール表面を走査型電子顕微鏡によっ
て観察し、併せて表面粗さの測定を行った。実施例１の
マイクロスライダーのスライダーレール表面は微細な表
面突起が均一に多数形成されており、実施例２において
は、表面突起の大きさが実施例１と比較して若干大き
く、比較例１においては、非常に滑らかな面が形成され
ていた。また、実施例１の中心線平均粗さＲａは２０ｎ
ｍであり、実施例２は１３ｎｍ、比較例１は５ｎｍであ
った。
ダーのスライダーレール表面を走査型電子顕微鏡によっ
て観察し、併せて表面粗さの測定を行った。実施例１の
マイクロスライダーのスライダーレール表面は微細な表
面突起が均一に多数形成されており、実施例２において
は、表面突起の大きさが実施例１と比較して若干大き
く、比較例１においては、非常に滑らかな面が形成され
ていた。また、実施例１の中心線平均粗さＲａは２０ｎ
ｍであり、実施例２は１３ｎｍ、比較例１は５ｎｍであ
った。
【００２１】これらの実験例の結果から、スライダーレ
ール表面に形成される耐摩耗性保護膜が１０〜３０ｎｍ
とされる時、スライダーレール表面の中心線平均粗さを
１０ｎｍ以上とすることができ、コンタクト・スタート
・ストップ耐久性の良好なスライダーを得ることができ
ることが確認された。さらには、下地層の膜厚を５〜１
０ｎｍ，耐摩耗性保護膜の膜厚を１０〜２０ｎｍとする
ことによって、コンタクト・スタート・ストップ耐久性
が更に良好なスライダーを得ることができることが確認
された。
ール表面に形成される耐摩耗性保護膜が１０〜３０ｎｍ
とされる時、スライダーレール表面の中心線平均粗さを
１０ｎｍ以上とすることができ、コンタクト・スタート
・ストップ耐久性の良好なスライダーを得ることができ
ることが確認された。さらには、下地層の膜厚を５〜１
０ｎｍ，耐摩耗性保護膜の膜厚を１０〜２０ｎｍとする
ことによって、コンタクト・スタート・ストップ耐久性
が更に良好なスライダーを得ることができることが確認
された。
【００２２】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、レー
ル加工が施されたスライダーに磁気ヘッド素子が組み込
まれてなる浮上型磁気ヘッド装置において、スライダー
の少なくともレール部表面にＴｉまたはＣｒからなる下
地層を介して耐摩耗性保護膜が成膜されているため、耐
摩耗性が向上され、コンタクト・スタート・ストップ耐
久性が向上される。
ル加工が施されたスライダーに磁気ヘッド素子が組み込
まれてなる浮上型磁気ヘッド装置において、スライダー
の少なくともレール部表面にＴｉまたはＣｒからなる下
地層を介して耐摩耗性保護膜が成膜されているため、耐
摩耗性が向上され、コンタクト・スタート・ストップ耐
久性が向上される。
【００２３】また、レール加工が施されたスライダーに
磁気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装
置において、スライダーの少なくともレール部表面の中
心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以上とされているため、該
スライダーと磁気ディスクの接触面積が表面が平滑なス
ライダーを用いた場合と比較して小さくなり、接触面間
の密着による摩耗及び吸着が低減され、コンタクト・ス
タート・ストップ耐久性が向上される。
磁気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装
置において、スライダーの少なくともレール部表面の中
心線平均粗さＲａが１０ｎｍ以上とされているため、該
スライダーと磁気ディスクの接触面積が表面が平滑なス
ライダーを用いた場合と比較して小さくなり、接触面間
の密着による摩耗及び吸着が低減され、コンタクト・ス
タート・ストップ耐久性が向上される。
【００２４】さらに、レール加工が施されたスライダー
に磁気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド
装置において、スライダーの少なくともレール部表面に
耐摩耗性保護膜が成膜され、レール部表面の中心線粗さ
Ｒａが１０ｎｍ以上とされていることため、耐摩耗性が
向上される上、該スライダーと磁気ディスクの接触面積
が表面が平滑なスライダーを用いた場合と比較して小さ
くなり、接触面間の密着による摩耗及び吸着が低減さ
れ、コンタクト・スタート・ストップ耐久性が向上され
る。
に磁気ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド
装置において、スライダーの少なくともレール部表面に
耐摩耗性保護膜が成膜され、レール部表面の中心線粗さ
Ｒａが１０ｎｍ以上とされていることため、耐摩耗性が
向上される上、該スライダーと磁気ディスクの接触面積
が表面が平滑なスライダーを用いた場合と比較して小さ
くなり、接触面間の密着による摩耗及び吸着が低減さ
れ、コンタクト・スタート・ストップ耐久性が向上され
る。
【００２５】また、上記のように、耐摩耗性が向上さ
れ、接着面間の摩耗が低減されることから、磁気ディス
ク，磁気ヘッド，スライダーの製品寿命が延び、品質の
向上された浮上型磁気ヘッド装置を得ることができる。
れ、接着面間の摩耗が低減されることから、磁気ディス
ク，磁気ヘッド，スライダーの製品寿命が延び、品質の
向上された浮上型磁気ヘッド装置を得ることができる。
【図１】浮上型磁気ヘッド装置の構成を示す要部概略斜
視図である。
視図である。
【図２】浮上型磁気ヘッド装置のスライダーを示す要部
拡大斜視図である。
拡大斜視図である。
【図３】本発明を適用した浮上型磁気ヘッド装置のスラ
イダーを示す側面図である。
イダーを示す側面図である。
【図４】本発明を適用した浮上型磁気ヘッド装置のコン
タクト・スタート・ストップ回数と摩擦係数の関係を示
す図である。
タクト・スタート・ストップ回数と摩擦係数の関係を示
す図である。
【図５】本発明を適用した他の浮上型磁気ヘッド装置の
コンタクト・スタート・ストップ回数と摩擦係数の関係
を示す図である。
コンタクト・スタート・ストップ回数と摩擦係数の関係
を示す図である。
【図６】スライダーレールに研磨処理のみを施したスラ
イダーを用いた浮上型磁気ヘッド装置のコンタクト・ス
タート・ストップ回数と摩擦係数の関係を示す図であ
る。
イダーを用いた浮上型磁気ヘッド装置のコンタクト・ス
タート・ストップ回数と摩擦係数の関係を示す図であ
る。
１・・・・スライダー ４・・・・磁気ディスク ５・・・・溝部 ６・・・・スライダーレール ６ａ・・・対向面 ７・・・・スライダーレール ７ａ・・・対向面 ８・・・・磁気ヘッド素子 ９・・・・耐摩耗性保護膜 ９ａ・・・粒子
Claims (3)
- 【請求項１】 レール加工が施されたスライダーに磁気
ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装置に
おいて、 スライダーの少なくともレール部表面にＴｉまたはＣｒ
からなる下地層を介して耐摩耗性保護膜が成膜されてい
ることを特徴とする浮上型磁気ヘッド装置。 - 【請求項２】 レール加工が施されたスライダーに磁気
ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装置に
おいて、 スライダーの少なくともレール部表面の中心線平均粗さ
Ｒａが１０ｎｍ以上とされていることを特徴とする浮上
型磁気ヘッド装置。 - 【請求項３】 レール加工が施されたスライダーに磁気
ヘッド素子が組み込まれてなる浮上型磁気ヘッド装置に
おいて、 スライダーの少なくともレール部表面に耐摩耗性保護膜
が成膜され、その中心線粗さＲａが１０ｎｍ以上とされ
ていることを特徴とする浮上型磁気ヘッド装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10590192A JPH05282646A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 浮上型磁気ヘッド装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10590192A JPH05282646A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 浮上型磁気ヘッド装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05282646A true JPH05282646A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=14419791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10590192A Withdrawn JPH05282646A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 浮上型磁気ヘッド装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05282646A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996019803A1 (en) * | 1994-12-19 | 1996-06-27 | Seagate Technology, Inc. | A partially etched protective overcoat for a disk drive slider |
| WO1998012698A1 (fr) * | 1996-09-20 | 1998-03-26 | Hitachi, Ltd. | Support de disque magnetique, tete magnetique, appareil a disque magnetique les utilisant et procede servant a fabriquer cet appareil |
| US5930077A (en) * | 1993-06-17 | 1999-07-27 | Nec Corporation | Magnetic head for recording and reproducing a signal and comprising a slider provided with a protective film including an intermediate layer and an amorphous hard carbon layer |
| US5991118A (en) * | 1996-03-05 | 1999-11-23 | Fujitsu Limited | Slider for magnetic head and magnetic memory apparatus |
| US6359754B1 (en) * | 1998-07-21 | 2002-03-19 | Seagate Technology Llc | Increased mechanical spacing through localized continuous carbon overcoat |
| US7262938B1 (en) * | 2001-02-16 | 2007-08-28 | Maxtor Corporation | Flying-type disk drive slider with self-blending contact pad |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP10590192A patent/JPH05282646A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5930077A (en) * | 1993-06-17 | 1999-07-27 | Nec Corporation | Magnetic head for recording and reproducing a signal and comprising a slider provided with a protective film including an intermediate layer and an amorphous hard carbon layer |
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| US5985163A (en) * | 1994-12-19 | 1999-11-16 | Seagate Technology, Inc. | Partially etched protective overcoat for a disk drive slider |
| US6014288A (en) * | 1994-12-19 | 2000-01-11 | Seagate Technology, Inc. | Partially etched protective overcoat for a disk drive slider |
| KR100276752B1 (ko) * | 1994-12-19 | 2001-01-15 | 윌리암 엘. 허드슨 | 디스크 드라이브용 헤드 및 그 제조 방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990608 |