JP2770806B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はコンピュータ等の周
辺記憶装置に用いられる磁気記録媒体に関し、特に高記
録密度化を実現した磁気ディスク等の磁気記録媒体に関
する。
辺記憶装置に用いられる磁気記録媒体に関し、特に高記
録密度化を実現した磁気ディスク等の磁気記録媒体に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報記憶ファイルの分野において
は、高記録密度化の要求が高められており、基板上に磁
気記録層を有する磁気記録媒体、特に磁気記録媒体を円
盤状に形成した磁気ディスク装置が多用されている。こ
の種の磁気ディスクでは、記録密度を高めるためには情
報を読み書きする磁気ヘッドと、情報を保持している磁
気記録層の表面との間隔、すなわちスペーシングを小さ
くすることが必要である。このスペーシングを小さくす
ることにより、磁気ディスクの円周方向に記憶された情
報の列であるトラックの記憶密度、すなわち１トラック
当たり及び単位長さ当たりの記憶密度である線記憶密度
を増加させることが可能となり、さらに半径方向の記憶
密度、すなわち単位長さ当たりのトラック数であるトラ
ック密度を増加させることが可能とされる。
は、高記録密度化の要求が高められており、基板上に磁
気記録層を有する磁気記録媒体、特に磁気記録媒体を円
盤状に形成した磁気ディスク装置が多用されている。こ
の種の磁気ディスクでは、記録密度を高めるためには情
報を読み書きする磁気ヘッドと、情報を保持している磁
気記録層の表面との間隔、すなわちスペーシングを小さ
くすることが必要である。このスペーシングを小さくす
ることにより、磁気ディスクの円周方向に記憶された情
報の列であるトラックの記憶密度、すなわち１トラック
当たり及び単位長さ当たりの記憶密度である線記憶密度
を増加させることが可能となり、さらに半径方向の記憶
密度、すなわち単位長さ当たりのトラック数であるトラ
ック密度を増加させることが可能とされる。
【０００３】このようなスペーシングを小さくするため
には、磁気記録層の表面を平坦化することが必要であ
り、従来の磁気ディスク、特に固い基板を用いたハード
磁気ディスクにおいては、基板にガラスやニッケル−燐
合金めっきを被覆したアルミニウム合金基板を用いるこ
とが提案されている。例えば、特開平２−２４７８２１
号公報では、ガラスセラミック基板を用いており、その
主結晶相をシート状珪酸及び鎖状珪酸塩からなる群より
選ばれたミクロ構造を有するものが提案されている。あ
るいは、特開平３−４５６８７号公報では、所要の線膨
張係数を有する非晶性樹脂にフィラーを添加した樹脂で
基板を形成し、その表面に磁気記録層を形成したものが
提案されている。
には、磁気記録層の表面を平坦化することが必要であ
り、従来の磁気ディスク、特に固い基板を用いたハード
磁気ディスクにおいては、基板にガラスやニッケル−燐
合金めっきを被覆したアルミニウム合金基板を用いるこ
とが提案されている。例えば、特開平２−２４７８２１
号公報では、ガラスセラミック基板を用いており、その
主結晶相をシート状珪酸及び鎖状珪酸塩からなる群より
選ばれたミクロ構造を有するものが提案されている。あ
るいは、特開平３−４５６８７号公報では、所要の線膨
張係数を有する非晶性樹脂にフィラーを添加した樹脂で
基板を形成し、その表面に磁気記録層を形成したものが
提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の磁気ディスク基板は、１０ｎｍ以下の微小スペーシ
ングには用いることができないのが実情である。これは
基板の磁気記録層の表面に対していかに精密な研磨を行
っても、原子レベルの突起を除去することができないた
めである。したがって、基板として人工的に結晶化した
素材、或いは非晶質の素材を成形したものを用いている
限り前記した問題を解消することはできず、微小スペー
シングに対応できる平坦性に優れた磁気記録媒体を得る
ことはできない。
来の磁気ディスク基板は、１０ｎｍ以下の微小スペーシ
ングには用いることができないのが実情である。これは
基板の磁気記録層の表面に対していかに精密な研磨を行
っても、原子レベルの突起を除去することができないた
めである。したがって、基板として人工的に結晶化した
素材、或いは非晶質の素材を成形したものを用いている
限り前記した問題を解消することはできず、微小スペー
シングに対応できる平坦性に優れた磁気記録媒体を得る
ことはできない。
【０００５】本発明の目的は、平坦性が極めて高く、微
小なスペーシングを実現することが可能な磁気記録媒体
を提供することにある。
小なスペーシングを実現することが可能な磁気記録媒体
を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、基板の平坦化された表面上に磁気記録層を有し、か
つこの基板の表面をマイカのへき開面で構成したことを
特徴とする。例えば、本発明においては、磁気記録媒体
の基板をマイカ板で形成し、このマイカ板のへき開面に
磁性薄膜を形成する。あるいは、基板をガラス基板、ア
ルミニウム合金基板等の機械的な強度の高い基板で形成
し、この基板の表面にマイカ板を一体化し、このマイカ
板のへき開面に磁性薄膜を形成する。また、本発明にお
ける磁気記録媒体としては磁気ディスクが好適である。
は、基板の平坦化された表面上に磁気記録層を有し、か
つこの基板の表面をマイカのへき開面で構成したことを
特徴とする。例えば、本発明においては、磁気記録媒体
の基板をマイカ板で形成し、このマイカ板のへき開面に
磁性薄膜を形成する。あるいは、基板をガラス基板、ア
ルミニウム合金基板等の機械的な強度の高い基板で形成
し、この基板の表面にマイカ板を一体化し、このマイカ
板のへき開面に磁性薄膜を形成する。また、本発明にお
ける磁気記録媒体としては磁気ディスクが好適である。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は本発明を磁気ディスクに適
用した第１実施形態の断面図であり、図２はその要部の
拡大組成を示す模式的な断面図である。この種の磁気デ
ィスク１は、例えば固定ディスクに適用される場合に
は、図３に示すように、回転駆動装置２に固定的に取着
されて高速回転されるように構成され、この磁気ディス
ク１の表面に接して磁気ヘッド３が配置される。この磁
気ヘッド３はアーム４の先端に固定されており、このア
ーム４の基端は走査装置５に取着され、磁気ヘッド３が
磁気ディスク１の半径方向に円弧移動されるように構成
される。
用した第１実施形態の断面図であり、図２はその要部の
拡大組成を示す模式的な断面図である。この種の磁気デ
ィスク１は、例えば固定ディスクに適用される場合に
は、図３に示すように、回転駆動装置２に固定的に取着
されて高速回転されるように構成され、この磁気ディス
ク１の表面に接して磁気ヘッド３が配置される。この磁
気ヘッド３はアーム４の先端に固定されており、このア
ーム４の基端は走査装置５に取着され、磁気ヘッド３が
磁気ディスク１の半径方向に円弧移動されるように構成
される。
【０００８】前記磁気ディスク１は、図１に示すよう
に、マイカ基板１１を円板状に形成してこれをディスク
基板とし、かつこのマイカ基板１１の表面をへき開して
へき開面をその記録用表面として形成している。そし
て、図２に示すように、このへき開面の上に磁気記録層
１２を形成している。この磁気記録層１２はマイカ基板
１１の表面に磁性薄膜１３を形成し、その上に保護膜１
４を形成する。また、保護膜１４の上には磁気ヘッドと
の滑りを良好にするための潤滑剤１５が被覆される。図
２から判るように、マイカは、酸素（Ｏ）、珪素（Ｓ
ｉ）、水酸基（ＯＨ）、アルミニウム（Ａｌ）からなる
層同士がカリウムイオン（Ｋ+ ）で弱く結合された組成
とされているため、このカリウムイオン（Ｋ+ ）の結合
を解放することでへき開面を形成し易い。また、そのへ
き開面は原子レベルで平滑なものとされている。
に、マイカ基板１１を円板状に形成してこれをディスク
基板とし、かつこのマイカ基板１１の表面をへき開して
へき開面をその記録用表面として形成している。そし
て、図２に示すように、このへき開面の上に磁気記録層
１２を形成している。この磁気記録層１２はマイカ基板
１１の表面に磁性薄膜１３を形成し、その上に保護膜１
４を形成する。また、保護膜１４の上には磁気ヘッドと
の滑りを良好にするための潤滑剤１５が被覆される。図
２から判るように、マイカは、酸素（Ｏ）、珪素（Ｓ
ｉ）、水酸基（ＯＨ）、アルミニウム（Ａｌ）からなる
層同士がカリウムイオン（Ｋ+ ）で弱く結合された組成
とされているため、このカリウムイオン（Ｋ+ ）の結合
を解放することでへき開面を形成し易い。また、そのへ
き開面は原子レベルで平滑なものとされている。
【０００９】したがって、このマイカ基板１１のへき開
面上に形成される磁性薄膜１３および保護膜１４の表面
も原子レベルで平滑なものとされる。これにより、この
第１実施形態の磁気ディスクでは、磁気記録層１２の表
面が原子レベルで平滑化されているため、その平坦性が
極めて高く、微小なスペーシングを実現することが可能
となり、高密度の記録が可能とされる。因みに、この実
施形態では、磁気ヘッド３と磁性薄膜１３との間隔を１
０ｎｍ程度の原子レベルに小さくし、かつディスク全面
にわたり突起のない平面が得られることが確認された。
面上に形成される磁性薄膜１３および保護膜１４の表面
も原子レベルで平滑なものとされる。これにより、この
第１実施形態の磁気ディスクでは、磁気記録層１２の表
面が原子レベルで平滑化されているため、その平坦性が
極めて高く、微小なスペーシングを実現することが可能
となり、高密度の記録が可能とされる。因みに、この実
施形態では、磁気ヘッド３と磁性薄膜１３との間隔を１
０ｎｍ程度の原子レベルに小さくし、かつディスク全面
にわたり突起のない平面が得られることが確認された。
【００１０】図４は本発明の第２の実施形態の断面図で
あり、図５はその要部を拡大した組成を示す模式的な断
面図である。この実施形態では、従来の磁気ディスクの
基板と同様にガラスやアルミニウム合金基板、或いはニ
ッケル−リン合金めっきを被覆したアルミニウム合金基
板からなる円板をベース２０とし、その表面にマイカ基
板２１を貼りつけてディスク基板を形成している。そし
て、このマイカ基板２１の表面をへき開してへき開面を
形成し、その上に磁性薄膜２３および保護膜２４を形成
し、さらにその表面に潤滑剤２５を被覆して磁気記録層
２２を形成している。
あり、図５はその要部を拡大した組成を示す模式的な断
面図である。この実施形態では、従来の磁気ディスクの
基板と同様にガラスやアルミニウム合金基板、或いはニ
ッケル−リン合金めっきを被覆したアルミニウム合金基
板からなる円板をベース２０とし、その表面にマイカ基
板２１を貼りつけてディスク基板を形成している。そし
て、このマイカ基板２１の表面をへき開してへき開面を
形成し、その上に磁性薄膜２３および保護膜２４を形成
し、さらにその表面に潤滑剤２５を被覆して磁気記録層
２２を形成している。
【００１１】したがって、この第２の実施形態において
も、マイカ基板２１のへき開面が原子レベルで平滑化さ
れるため、その上に形成される磁性薄膜２３および保護
膜２４の表面も原子レベルで平滑なものとされる。これ
により、前記第１実施形態の磁気ディスクと同様に、磁
気ディスクの磁気記録用の表面の平坦性が極めて高く、
微小なスペーシングを実現することが可能となり、高密
度の記録が可能とされる。なお、この実施形態では、マ
イカ基板２１と一体にアルミニウム合金等からなるベー
ス２０が設けられているために、磁気ディスクの機械的
な強度を高める上では有効となる。また、磁気ヘッド３
と磁性薄膜２３との間隔を１０ｎｍ程度の原子レベルに
小さくし、かつディスク全面にわたり突起のない平面が
得られることは第１実施形態と同じである。
も、マイカ基板２１のへき開面が原子レベルで平滑化さ
れるため、その上に形成される磁性薄膜２３および保護
膜２４の表面も原子レベルで平滑なものとされる。これ
により、前記第１実施形態の磁気ディスクと同様に、磁
気ディスクの磁気記録用の表面の平坦性が極めて高く、
微小なスペーシングを実現することが可能となり、高密
度の記録が可能とされる。なお、この実施形態では、マ
イカ基板２１と一体にアルミニウム合金等からなるベー
ス２０が設けられているために、磁気ディスクの機械的
な強度を高める上では有効となる。また、磁気ヘッド３
と磁性薄膜２３との間隔を１０ｎｍ程度の原子レベルに
小さくし、かつディスク全面にわたり突起のない平面が
得られることは第１実施形態と同じである。
【００１２】
【実施例】厚さ１．１ｍｍのマイカ板を直径１．０イン
チの円板に切断加工したのちマイカの両面の０．１ｍｍ
を剥がしてへき開面を露出させて磁気ディスク基板を作
製した。次に、磁気ディスク基板の表面にＣｏＰｔＣｒ
合金薄膜を磁性薄膜として２０ｎｍの厚さでスパッタリ
ングにより被覆し、さらにその上に保護膜としてカーボ
ンを５ｎｍの厚さで被覆し、さらにその上にパーフロロ
ポリエーテルからなる潤滑剤を２ｎｍの厚さで被覆して
第１の磁気ディスクを作製した。
チの円板に切断加工したのちマイカの両面の０．１ｍｍ
を剥がしてへき開面を露出させて磁気ディスク基板を作
製した。次に、磁気ディスク基板の表面にＣｏＰｔＣｒ
合金薄膜を磁性薄膜として２０ｎｍの厚さでスパッタリ
ングにより被覆し、さらにその上に保護膜としてカーボ
ンを５ｎｍの厚さで被覆し、さらにその上にパーフロロ
ポリエーテルからなる潤滑剤を２ｎｍの厚さで被覆して
第１の磁気ディスクを作製した。
【００１３】また、基板として直径１．０インチのガラ
ス基板の上にマイカ板を接着したのち、マイカの両面の
０．１ｍｍを剥がしてへき開面を露出して磁気ディスク
基板を作製し、さらに磁気ディスク基板表面にＣｏＰｔ
Ｃｒ合金薄膜を磁性薄膜として２０ｎｍの厚さでスパッ
タリングにより被覆し、さらにその上に保護膜としてカ
ーボンを５ｎｍの厚さで被覆して第２の磁気ディスクを
作製した。
ス基板の上にマイカ板を接着したのち、マイカの両面の
０．１ｍｍを剥がしてへき開面を露出して磁気ディスク
基板を作製し、さらに磁気ディスク基板表面にＣｏＰｔ
Ｃｒ合金薄膜を磁性薄膜として２０ｎｍの厚さでスパッ
タリングにより被覆し、さらにその上に保護膜としてカ
ーボンを５ｎｍの厚さで被覆して第２の磁気ディスクを
作製した。
【００１４】さらに、アルミニウム合金基板を用い、こ
の上にマイカ板を接着し、このマイカを利用してその表
面に前記第２の磁気ディスクと同様に磁性薄膜、保護膜
を形成して第３の磁気ディスクを形成した。同様に、ニ
ッケル−リン合金をめっきで被覆したアルミニウム合金
基板を用い、その上にマイカ板を接着し、このマイカ上
に第２の磁気ディスクと同様に磁性薄膜、保護膜を形成
して第４の磁気ディスクを作製した。さらに、第５の磁
気ディスクとしてカーボン基板にマイカ板を接着して第
２の磁気ディスクと同様に磁性薄膜、保護膜を形成した
もの、第６の磁気ディスクとしてアルマイト被覆アルミ
ニウム合金基板にマイカ板を接着して第２の磁気ディス
クと同様に磁性薄膜、保護膜を形成したものをそれぞれ
作製した。
の上にマイカ板を接着し、このマイカを利用してその表
面に前記第２の磁気ディスクと同様に磁性薄膜、保護膜
を形成して第３の磁気ディスクを形成した。同様に、ニ
ッケル−リン合金をめっきで被覆したアルミニウム合金
基板を用い、その上にマイカ板を接着し、このマイカ上
に第２の磁気ディスクと同様に磁性薄膜、保護膜を形成
して第４の磁気ディスクを作製した。さらに、第５の磁
気ディスクとしてカーボン基板にマイカ板を接着して第
２の磁気ディスクと同様に磁性薄膜、保護膜を形成した
もの、第６の磁気ディスクとしてアルマイト被覆アルミ
ニウム合金基板にマイカ板を接着して第２の磁気ディス
クと同様に磁性薄膜、保護膜を形成したものをそれぞれ
作製した。
【００１５】一方、比較磁気ディスクとして、従来のガ
ラスを用いた磁気ディスク基板の表面を研磨して平坦化
し、このガラス基板の表面に磁性薄膜、保護膜、潤滑剤
を前記各実施形態と同様に作製した。
ラスを用いた磁気ディスク基板の表面を研磨して平坦化
し、このガラス基板の表面に磁性薄膜、保護膜、潤滑剤
を前記各実施形態と同様に作製した。
【００１６】そして、これら第１から第６の磁気ディス
クと、比較磁気ディスクをアコースティックエミッショ
ン（ＡＥ）センサをとりつけた磁気ヘッドを浮上させて
接触が始まる浮上量を測定したところ、第１ないし第６
の磁気ディスクは全て１ｎｍの浮上量でも磁気ディスク
の表面に対する接触が検知されなかった。これに対し、
比較磁気ディスクでは、２０ｎｍで接触が検知された。
クと、比較磁気ディスクをアコースティックエミッショ
ン（ＡＥ）センサをとりつけた磁気ヘッドを浮上させて
接触が始まる浮上量を測定したところ、第１ないし第６
の磁気ディスクは全て１ｎｍの浮上量でも磁気ディスク
の表面に対する接触が検知されなかった。これに対し、
比較磁気ディスクでは、２０ｎｍで接触が検知された。
【００１７】また、前記各磁気ディスクを真空中で回転
させ、磁気ヘッドを接触させて磁気ヘッドの磁気ディス
ク表面からの跳躍量を光干渉計で調べたところ、第１な
いし第６の磁気ディスクにおける磁気ヘッドの跳躍量は
０．２ｎｍ程度であったが、比較磁気ディスクにおける
磁気ヘッドの跳躍量は３０ｎｍに達した。この磁気ヘッ
ドの跳躍量は磁気ディスクの表面の凹凸が原因とされる
ため、跳躍量が少ない第１ないし第６の磁気ディスクの
平坦性が比較磁気ディスクよりも優れていることが確認
された。
させ、磁気ヘッドを接触させて磁気ヘッドの磁気ディス
ク表面からの跳躍量を光干渉計で調べたところ、第１な
いし第６の磁気ディスクにおける磁気ヘッドの跳躍量は
０．２ｎｍ程度であったが、比較磁気ディスクにおける
磁気ヘッドの跳躍量は３０ｎｍに達した。この磁気ヘッ
ドの跳躍量は磁気ディスクの表面の凹凸が原因とされる
ため、跳躍量が少ない第１ないし第６の磁気ディスクの
平坦性が比較磁気ディスクよりも優れていることが確認
された。
【００１８】ここで、本発明はマイカのへき開面を磁気
記録媒体の磁気記録用表面として構成し、この表面上に
磁気記録層を形成したものであれば、前記したベースと
しての素材や、磁性薄膜、保護膜、潤滑剤の素材は前記
実施形態のものに限定されるものではない。また、磁気
ヘッドの種類や構成についても特に限定されるものでは
なく、公知の材料や構成のものが特別な制限なく用いる
ことができる。
記録媒体の磁気記録用表面として構成し、この表面上に
磁気記録層を形成したものであれば、前記したベースと
しての素材や、磁性薄膜、保護膜、潤滑剤の素材は前記
実施形態のものに限定されるものではない。また、磁気
ヘッドの種類や構成についても特に限定されるものでは
なく、公知の材料や構成のものが特別な制限なく用いる
ことができる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、磁気記録
媒体の基板をマイカ板、または機械的な強度の高い基板
に一体化されたマイカ板で構成し、このマイカ板のへき
開面を表面として構成し、その上に磁性薄膜等の磁気記
録層を形成しているので、マイカのへき開面は原子レベ
ルで平滑なものとされているため、このへき開面上に形
成される磁気記録層の表面も原子レベルで平滑なものに
でき、その平坦性が極めて高く、微小なスペーシングを
実現することが可能となり、高密度の記録が可能な磁気
記録媒体を得ることができる。
媒体の基板をマイカ板、または機械的な強度の高い基板
に一体化されたマイカ板で構成し、このマイカ板のへき
開面を表面として構成し、その上に磁性薄膜等の磁気記
録層を形成しているので、マイカのへき開面は原子レベ
ルで平滑なものとされているため、このへき開面上に形
成される磁気記録層の表面も原子レベルで平滑なものに
でき、その平坦性が極めて高く、微小なスペーシングを
実現することが可能となり、高密度の記録が可能な磁気
記録媒体を得ることができる。
【図１】本発明の第１の実施形態の全体構成の断面図で
ある。
ある。
【図２】図１の要部を拡大してその組成構造を示す模式
的な断面図である。
的な断面図である。
【図３】本発明にかかる磁気ディスクが適用される磁気
ヘッド装置の概略構成図である。
ヘッド装置の概略構成図である。
【図４】本発明の第２の実施形態の全体構成の断面図で
ある。
ある。
【図５】図４の要部を拡大してその組成構造を示す模式
的な断面図である。
的な断面図である。
１ 磁気ディスク ２ 回転駆動装置 ３ 磁気ヘッド ４ アーム １１ マイカ基板 １２ 磁気記録層 １３ 磁性薄膜 １４ 保護膜 １５ 潤滑剤 ２０ ベース ２１ マイカ基板 ２２ 磁気記録層 ２３ 磁性薄膜 ２４ 保護膜 ２５ 潤滑剤
Claims (4)
- 【請求項１】 基板の平坦化された表面上に磁気記録層
を有する磁気記録媒体において、前記基板の表面をマイ
カのへき開面で構成したことを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項２】 磁気記録媒体の基板をマイカ基板で形成
し、このマイカ基板のへき開面に磁性薄膜を形成してな
る請求項１の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 磁気記録媒体の基板をガラス基板、アル
ミニウム合金基板等の機械的な強度の高い基板で形成
し、この基板の表面にマイカ基板を一体化し、このマイ
カ基板のへき開面に磁性薄膜を形成してなる請求項１の
磁気記録媒体。 - 【請求項４】 磁気記録媒体が磁気ディスクである請求
項１ないし３のいずれかの磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7324263A JP2770806B2 (ja) | 1995-12-13 | 1995-12-13 | 磁気記録媒体 |
| US08/763,213 US5945189A (en) | 1995-12-13 | 1996-12-10 | Magnetic recording medium including mica substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7324263A JP2770806B2 (ja) | 1995-12-13 | 1995-12-13 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09161255A JPH09161255A (ja) | 1997-06-20 |
| JP2770806B2 true JP2770806B2 (ja) | 1998-07-02 |
Family
ID=18163861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7324263A Expired - Fee Related JP2770806B2 (ja) | 1995-12-13 | 1995-12-13 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5945189A (ja) |
| JP (1) | JP2770806B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4530734A (en) * | 1983-01-17 | 1985-07-23 | Klima Walter F | Low energy ion etching |
| US4803577A (en) * | 1985-06-12 | 1989-02-07 | Tdk Corporation | Vertical magnetic recording system using rigid disk |
| DE3789518T2 (de) * | 1986-01-31 | 1994-10-27 | Toray Industries | Verbundfolie und antistatische Verbundfolie. |
| EP0263512B1 (en) * | 1986-10-09 | 1994-06-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass substrate for a magnetic disc and process for its production |
| US4971932B1 (en) * | 1989-02-24 | 1995-01-03 | Corning Glass Works | Magnetic memory storage devices |
| US5605565A (en) * | 1992-01-23 | 1997-02-25 | Surface Technology, Inc. | Process for attaining metallized articles |
-
1995
- 1995-12-13 JP JP7324263A patent/JP2770806B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-12-10 US US08/763,213 patent/US5945189A/en not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| ＭＡＴ．ＲＥＳ．ＳＯＣ．ＳＹＭＰ．ＰＲＯＤ．ＶＯＬ．１３８，１９８９，ＰＰ．３５０−３５１ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5945189A (en) | 1999-08-31 |
| JPH09161255A (ja) | 1997-06-20 |
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Legal Events
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