JP2621358B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JP2621358B2 JP2621358B2 JP14005388A JP14005388A JP2621358B2 JP 2621358 B2 JP2621358 B2 JP 2621358B2 JP 14005388 A JP14005388 A JP 14005388A JP 14005388 A JP14005388 A JP 14005388A JP 2621358 B2 JP2621358 B2 JP 2621358B2
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- Japan
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- film
- thin film
- disk
- substrate
- magnetic
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 垂直磁気記録方式に使用して好適な磁気記録媒体に関
し、 良好なコンタクトスタートストップ（CCS）特性と、
耐久性に優れた記録媒体を得ることを目的とし、 基板上に結晶粒が析出した状態の金属薄膜を形成し、
その上に軟磁性薄膜と垂直磁性薄膜の二層膜を形成して
構成する。
し、 良好なコンタクトスタートストップ（CCS）特性と、
耐久性に優れた記録媒体を得ることを目的とし、 基板上に結晶粒が析出した状態の金属薄膜を形成し、
その上に軟磁性薄膜と垂直磁性薄膜の二層膜を形成して
構成する。
この発明は垂直磁気記録方式に使用して好適な磁気記
録媒体に関し、さらに詳細には良好なCCS特性と、耐久
性に優れた記録媒体構造の提供に関する。
録媒体に関し、さらに詳細には良好なCCS特性と、耐久
性に優れた記録媒体構造の提供に関する。
磁気記録装置、特に磁気ディスク装置は、磁気ディス
クの起動停止時には磁気ヘッドがディスク面に接触して
おり、定常運転中はディスク回転に伴って生ずる空気流
により磁気ヘッドが浮上走行し、その状態で記録再生を
行う。このような駆動方式をコンタクトスタートストッ
プ方式（CCS方式）と呼ぶ。
クの起動停止時には磁気ヘッドがディスク面に接触して
おり、定常運転中はディスク回転に伴って生ずる空気流
により磁気ヘッドが浮上走行し、その状態で記録再生を
行う。このような駆動方式をコンタクトスタートストッ
プ方式（CCS方式）と呼ぶ。
このCCS方式は、簡単な方法ではあるが、磁気ディス
クが回転を始めてから、磁気ヘッドがディスク上に浮上
するまでに比較的高速でディスク面と接触しながら走行
するため、ヘッド−ディスク間で大きな摩擦摩耗が生じ
やすい。
クが回転を始めてから、磁気ヘッドがディスク上に浮上
するまでに比較的高速でディスク面と接触しながら走行
するため、ヘッド−ディスク間で大きな摩擦摩耗が生じ
やすい。
このヘッド−ディスク間の摩擦摩耗を低減するため
に、磁気ディスクの記録層上に保護膜および潤滑膜が形
成されるわけであるが、潤滑膜が厚すぎると余分な潤滑
剤中に磁気ヘッドが吸着されるという不都合が生じる。
またディスク表面が平滑であるほど、低摩擦、低摩耗を
両立させる潤滑膜の膜厚範囲は狭くなり、最適膜厚を均
一に安定に得ることが非常に困難となる。
に、磁気ディスクの記録層上に保護膜および潤滑膜が形
成されるわけであるが、潤滑膜が厚すぎると余分な潤滑
剤中に磁気ヘッドが吸着されるという不都合が生じる。
またディスク表面が平滑であるほど、低摩擦、低摩耗を
両立させる潤滑膜の膜厚範囲は狭くなり、最適膜厚を均
一に安定に得ることが非常に困難となる。
このことからヘッド吸着のないCSS動作と耐摩耗性に
優れた記録媒体構造の開発が待望されている。
優れた記録媒体構造の開発が待望されている。
このような要求に沿って開発された従来の垂直磁気記
録媒体を第２図に示す。
録媒体を第２図に示す。
この記録媒体は垂直二層膜ディスクとも呼ばれてお
り、表面を機械研磨で粗したディスク基板11上に、裏打
ち層とも呼ぶ軟磁性薄膜12および垂直磁性薄膜であるCo
−Cr膜13を積層し、さらにその上に磁気ヘッドの接触走
行や衝突による破壊（ヘッドクラッシュ）から媒体を保
護するための保護膜14と潤滑膜15とを形成している。
り、表面を機械研磨で粗したディスク基板11上に、裏打
ち層とも呼ぶ軟磁性薄膜12および垂直磁性薄膜であるCo
−Cr膜13を積層し、さらにその上に磁気ヘッドの接触走
行や衝突による破壊（ヘッドクラッシュ）から媒体を保
護するための保護膜14と潤滑膜15とを形成している。
ここでディスク基板11の表面を粗面とした理由は、潤
滑膜が多少厚くても、ヘッド吸着を防ぎ、低摩擦、低磨
耗を得るためである。この基板表面の粗面化には、ディ
スク基板を回転させながら適度な研磨砥粒を用いて表面
を削る手法（以下テクスチャリング法と呼ぶことにす
る）を採用しており、それによると基板の周方向に沿っ
た細い多数の溝が形成される。
滑膜が多少厚くても、ヘッド吸着を防ぎ、低摩擦、低磨
耗を得るためである。この基板表面の粗面化には、ディ
スク基板を回転させながら適度な研磨砥粒を用いて表面
を削る手法（以下テクスチャリング法と呼ぶことにす
る）を採用しており、それによると基板の周方向に沿っ
た細い多数の溝が形成される。
前記したテクスチャリング法は、簡便な表面粗し手法
ではあるが、表面粗さ、溝のピッチ等を精密に所望の値
に管理することが難しく、特にガラスなどによる硬質な
ディスク基板においては表面粗さのばらつきが大きくな
りやすい。
ではあるが、表面粗さ、溝のピッチ等を精密に所望の値
に管理することが難しく、特にガラスなどによる硬質な
ディスク基板においては表面粗さのばらつきが大きくな
りやすい。
そのため、ヘッド吸収性やディスク耐久性にばらつき
が発生しやすいという課題がある。
が発生しやすいという課題がある。
またテクスチャリング法による円周方向に沿った基板
の溝形成は、水平記録方式ではその上の磁性薄膜に磁気
異方性を与え、記録再生特性の向上に寄与する効果があ
るが、垂直記録方式の場合むしろ、磁性薄膜の垂直異方
性を弱め記録再生特性を低下させる方向に働くという問
題もある。
の溝形成は、水平記録方式ではその上の磁性薄膜に磁気
異方性を与え、記録再生特性の向上に寄与する効果があ
るが、垂直記録方式の場合むしろ、磁性薄膜の垂直異方
性を弱め記録再生特性を低下させる方向に働くという問
題もある。
この発明は、以上のような従来の状況から、テクスチ
ャリングに法に代わる手段にて基板の表面粗しを行い、
基板の種類を問わず所望の表面粗さを有し、耐久性に優
れた垂直二層膜媒体を提供することを目的とする。
ャリングに法に代わる手段にて基板の表面粗しを行い、
基板の種類を問わず所望の表面粗さを有し、耐久性に優
れた垂直二層膜媒体を提供することを目的とする。
上記目的を達成するためのこの発明は、第１図に示す
ように、基板21上に、結晶粒が析出した状態の金属薄膜
22を形成し、その上に軟磁性薄膜12と垂直磁性薄膜13の
二層膜を形成した構造を採用している。
ように、基板21上に、結晶粒が析出した状態の金属薄膜
22を形成し、その上に軟磁性薄膜12と垂直磁性薄膜13の
二層膜を形成した構造を採用している。
一般に金属薄膜はスパッタリングや蒸着により成膜さ
れるが、成膜時の基板温度や、成膜後の加熱により、結
晶粒が析出する。結晶粒の大きさと表面粗さとは大きな
相関があり、結晶粒の大きさが変われば表面粗さも変化
する。この結晶粒の大きさは金属の種類，成膜時の温
度，膜厚，成膜後の温度により容易にコントロールする
ことができるため、表面粗さも同様に任意のものを得る
ことができる。
れるが、成膜時の基板温度や、成膜後の加熱により、結
晶粒が析出する。結晶粒の大きさと表面粗さとは大きな
相関があり、結晶粒の大きさが変われば表面粗さも変化
する。この結晶粒の大きさは金属の種類，成膜時の温
度，膜厚，成膜後の温度により容易にコントロールする
ことができるため、表面粗さも同様に任意のものを得る
ことができる。
この発明ではそのような金属薄膜の性質に着目し、そ
れを利用し基板上に結晶粒が析出した金属薄膜を形成し
ておき、軟磁性薄膜をこの上に積層する。こうすると軟
磁性薄膜の表面には、不揃いな結晶粒の凸凹な表面状態
に対応した凹凸が形成される。この表面凹凸は、以後に
順次形成される垂直磁性薄膜、保護膜および潤滑膜の表
面にも同様に発生する。
れを利用し基板上に結晶粒が析出した金属薄膜を形成し
ておき、軟磁性薄膜をこの上に積層する。こうすると軟
磁性薄膜の表面には、不揃いな結晶粒の凸凹な表面状態
に対応した凹凸が形成される。この表面凹凸は、以後に
順次形成される垂直磁性薄膜、保護膜および潤滑膜の表
面にも同様に発生する。
かくして垂直記録媒体の表面は粗面化し、磁気ヘッド
との接触面積を低減することによりヘッド吸着をなく
し、また低摩擦、低摩耗により耐久性を大幅に向上す
る。
との接触面積を低減することによりヘッド吸着をなく
し、また低摩擦、低摩耗により耐久性を大幅に向上す
る。
以下この発明の好ましい実施例につき図面を参照して
詳細に説明する。なお前記第２図と同等部分には同一符
号を記すものとする。
詳細に説明する。なお前記第２図と同等部分には同一符
号を記すものとする。
第１図は一実施例に係る垂直二層膜ディスクの断面図
を示し、ディスク基板21は表面が平滑（表面粗さRmax＝
10nm）に研磨されたガラス基板を用いる。
を示し、ディスク基板21は表面が平滑（表面粗さRmax＝
10nm）に研磨されたガラス基板を用いる。
このガラス基板21上に、Al,Al−Cu,Al−Cu−Siなどの
Al合金を基板温度200℃で0.1μｍの厚さにスパッタリン
グ形成する。このように成膜すると結晶粒が成長し、表
面粗さ25〜30nmを有するAl等の金属薄膜22がガラス基板
21上に形成される。
Al合金を基板温度200℃で0.1μｍの厚さにスパッタリン
グ形成する。このように成膜すると結晶粒が成長し、表
面粗さ25〜30nmを有するAl等の金属薄膜22がガラス基板
21上に形成される。
この金属薄膜22の粗面上に、軟磁性薄膜12として厚さ
２〜３μｍのNiFe合金膜、垂直磁性薄膜13として厚さ約
0.2μｍのCo−Cr膜を、それぞれスパッタリング法によ
り順次形成し積層する。
２〜３μｍのNiFe合金膜、垂直磁性薄膜13として厚さ約
0.2μｍのCo−Cr膜を、それぞれスパッタリング法によ
り順次形成し積層する。
さらにその上に、保護膜14として厚さ0.02〜0.03μｍ
のカーボン膜をスパッタリング法により形成し、潤滑膜
15としてパーフロロポリエーテルを塗布し、これにより
磁気ディスクが完成する。
のカーボン膜をスパッタリング法により形成し、潤滑膜
15としてパーフロロポリエーテルを塗布し、これにより
磁気ディスクが完成する。
この完成したディスクの表面（最上層）には、前述し
たように凹凸が形成される。
たように凹凸が形成される。
以上説明したようにこの発明によれば、所望の表面粗
さを持つ基板構造を容易に精度良く得ることができるの
で、ヘッド吸着のない低摩擦の良好な摺動特性を有し、
かつ耐久性に優れた垂直二層膜媒体を提供することがで
きる。
さを持つ基板構造を容易に精度良く得ることができるの
で、ヘッド吸着のない低摩擦の良好な摺動特性を有し、
かつ耐久性に優れた垂直二層膜媒体を提供することがで
きる。
第１図は、この発明に係る磁気記録媒体の一実施例を示
す断面図、 第２図は、従来の垂直磁気記録媒体を示す断面図であ
る。 図において、 11,21はディスク基板、 12は軟磁性薄膜、 13は垂直磁性薄膜、 14は保護膜、 15は潤滑膜、 22は金属薄膜をそれぞれ示す。
す断面図、 第２図は、従来の垂直磁気記録媒体を示す断面図であ
る。 図において、 11,21はディスク基板、 12は軟磁性薄膜、 13は垂直磁性薄膜、 14は保護膜、 15は潤滑膜、 22は金属薄膜をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【請求項１】基板（21）上に、結晶粒が析出した状態の
金属薄膜（22）を形成し、 その上に軟磁性薄膜（21）と垂直磁性薄膜（13）の二層
膜を形成してなる ことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14005388A JP2621358B2 (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14005388A JP2621358B2 (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01307915A JPH01307915A (ja) | 1989-12-12 |
| JP2621358B2 true JP2621358B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=15259892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14005388A Expired - Lifetime JP2621358B2 (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2621358B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2730318B2 (ja) * | 1991-04-26 | 1998-03-25 | 日本ビクター株式会社 | ガラス磁気ディスクの製造方法 |
-
1988
- 1988-06-06 JP JP14005388A patent/JP2621358B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01307915A (ja) | 1989-12-12 |
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