JP2777499B2 - 磁気ディスク - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドの浮上と走
行を安定化させることができる磁気ディスクに関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】コンピュータの磁気記録装置などに用い
られている円盤状の磁気ディスクにあっては、磁気ヘッ
ドによって信号の書き込みと読み取りがなされている。
この磁気ヘッドは、磁気ディスクが停止されている時は
磁気ディスク表面に接触し、磁気ディスクが回転される
と磁気ディスク表面に発生する気流の圧力によって浮上
し、この状態で信号の書き取り、読み取りを行なうよう
になっている。

【０００３】そこで、磁気ヘッドの停止状態と浮上走行
状態について説明する。磁気ディスクの起動時におい
て、磁気ヘッドはそれ自身を支持するばね板部材のばね
圧により磁気ディスク表面に押し付けられた状態になっ
ている。この状態から磁気ディスクが回転を開始する
と、磁気ヘッドは回転する磁気ディスクに接触したまま
摺動する。

【０００４】そして、磁気ディスクの回転速度の向上に
伴い、磁気ディスクの表面に生じた気流による揚力が上
昇し、この揚力が磁気ヘッドに対する前記ばね圧に打ち
勝つと、磁気ヘッドは緩やかに磁気ディスク表面から浮
上し、磁気ヘッドの形状とばね圧と磁気ディスクの周速
とにより決定される浮上高さを保ちつつ磁気ディスクに
対して浮上走行する。

【０００５】即ち、磁気ヘッドは磁気ディスクの回転開
始時点から磁気ヘッドの浮上開始時点までは、ばね圧で
押さえ付けられながら磁気ディスク表面を擦り付けるこ
とになる。このため従来、磁気ディスク表面あるいは磁
気ヘッドの媒体対向面が摩耗し、場合によっては摩擦力
が異常に上昇して磁気ディスクの表面破壊（クラッシ
ュ）を起こし、磁気ディスクの記録内容を読み出すこと
ができなくなることがあった。また、磁気ヘッドと磁気
ディスクの摩擦力が異常に上昇して磁気ディスクの回転
トルク以上の値になると、もはや磁気ディスクは回転し
なくなり、磁気記録装置の故障につながることがあっ
た。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このような問題を解決
するために、従来の磁気ディスクでは、磁気ディスク基
板上にテクスチャリングを設けた図１１に示すような構
成からなる磁気ディスクが一般に使用されていた。

【０００７】図１１（ａ）と図１１（ｂ）は、従来の磁
気ディスクの一例を示すもので、この磁気ディスクは、
中央部に透孔１３が形成されたＡｌ、Ａｌ合金あるいは
ガラスなどからなる円盤状の基板１４と、この基板１４
の全面に被膜されたＮｉ−Ｐなどの被覆膜１５とからな
る磁気ディスク基板Ｂが主体となり、磁気ディスク基板
Ｂの被覆膜１５上に、図１１（ｂ）に示す積層膜が形成
されている。

【０００８】Ｎｉ−Ｐ被覆膜１５上に形成される積層膜
の一例として図１１（ｂ）に示す構成を採用することが
できる。図１１（ｂ）において積層膜は、厚さ１５００
Å程度のＣｒ層１６と、Ｃｒ層１６上に形成された厚さ
７００Å程度のＣｏ−Ｎｉ層、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ層等か
らなる磁性層１７と、磁性層１７上に積層された厚さ３
００Å程度のＣからなる保護膜１８と、保護膜１８上に
被膜された潤滑膜１９とから構成されている。また、前
記Ｎｉ−Ｐ等からなる被覆膜１５上には、テクスチャリ
ングが形成されている。このテクスチャリングとは、平
均粗さＲａを約０．００２〜０．１μmとした凹凸溝状
のリングを被覆膜１５上面に同心円状に多数形成したも
のである。よって、テクスチャリングの上に積層された
磁性層１７と保護膜１８の表面には、テクスチャリング
の凹凸溝に合致する形状の凹凸溝が形成される。

【０００９】上記のような構成からなる従来の磁気ディ
スクの基板上に設けられたテクスチャリングは、磁気ヘ
ッドの媒体対向面と磁気ディスクの表面で生じる吸着現
象を低減する効果を有していた。すなわち、磁気ディス
クに接触している状態の磁気ヘッドと磁気ディスク表面
との接触面積を少なくすることで吸着現象を回避してい
る。また、このテクスチャリングは、このような効果の
他に、テクスチャリングの表面に被膜された磁性膜１７
に磁気異方性を与え、再生出力及び分解能に優れた、そ
してＤＣ消去ノイズの少ない磁気ディスクを提供するた
めのものである。ところが、前記のようなテクスチャリ
ングを形成していても場合によっては、磁気ヘッドの磁
気ディスクに対する摩擦力が異常に上昇して、磁気ディ
スクの回転が阻害されるおそれが残っていた。

【００１０】また、テクスチャリングを形成するポリッ
シュ工程において、研摩液を被覆膜１５上に供給しつつ
研摩加工を行なっている場合に、ポリッシュ加工の最終
段階に同心円状ではなく、斜め方向に流れる凹凸溝を形
成してしまうことがあり、このような斜め方向の凹凸溝
が生じると、この凹凸溝に沿って磁気ディスク表面にう
ねりを生じさせてしまうことがあった。

【００１１】従って、本願発明は上記事情に鑑みてなさ
れたもので、磁気ディスクの回転時に磁気ヘッドを速や
かに浮上させることができる磁気ディスクを提供するこ
とを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は前
記課題を解決するために、Ｎｉ−Ｐなどの被覆膜を設け
た円盤状基板の表面と裏面の少なくとも一方にテクスチ
ャリングと多数の微細な凸形状のフォトリソパターンが
形成されて磁気ディスク基板が形成され、この磁気ディ
スク基板の表面と裏面の少なくとも一方にテクスチャリ
ングとフォトリソパターンを覆う磁性膜が被膜され、こ
の磁性膜の上に保護膜が形成されてなるものである。

【００１３】請求項２記載の発明は前記課題を解決する
ために、Ｎｉ−Ｐなどの被覆膜を設けた円盤状基板の表
面にテクスチャリングが形成されてなる磁気ディスク基
板上に磁性膜が被膜され、この磁性膜上に被膜された保
護膜の表面に多数の微細な凸形状のフォトリソパターン
が形成されてなるものである。

【００１４】

【作用】本発明によれば、磁気ディスク基板上のテクス
チャリング上にフォトリソパターンを形成することによ
って、完成した磁気ディスクの表面に突状のパターンが
形成される結果となり、磁気ヘッドが本発明による磁気
ディスクに接触している際に、磁気ディスク状に形成し
た複数のパターンを介して磁気ヘッドを磁気ディスクに
接触させることができる。すると、磁気ヘッドが磁気デ
ィスクに吸着する吸着現象が発生せず、磁気記録特性の
劣化及び磁気記録装置の故障を回避することができる。

【００１５】また、従来の磁気ディスクではテクスチャ
リング形成時にポリッシュの目が完成した磁気ディスク
表面に残り、これが磁気ヘッドと接することによって、
磁気ヘッドの浮上開始に悪影響を与えることがあった
が、本発明による磁気ディスクでは、テクスチャリング
の表面にフォトリソパターンを形成することによって、
残存したポリッシュの目による影響は相殺されて、磁気
ディスク表面の円滑性が保たれ、磁気ヘッドの浮上走行
を円滑に行なうことができる。

【００１６】また、磁気ディスク基板上にテクスチャリ
ングを設け、保護膜表面にフォトリソパターンを設けた
場合には、以下のような効果が期待できる。従来では前
記テクスチャリングは、磁性膜に磁気異方性を与える目
的と磁気ディスクの表面と磁気ヘッドの吸着現象を回避
する２つの目的を達成するために、その深さ、ピッチ等
が設計されていたが、磁気ディスク基板上にテクスチャ
リングを設け、一方磁気ディスクの保護膜上にフォトリ
ソパターンを形成することによって、前記テクスチャリ
ングは磁性膜に磁気異方性を与え、磁気ディスクの磁気
特性を向上する目的のみに必要な、最適な深さ、ピッチ
等の設計をし、磁気ディスクの磁気特性の向上を図ると
ともに、一方では保護膜上に形成されたフォトリソパタ
ーンにより、磁気ディスク表面に凹凸を形成し、磁気デ
ィスクと磁気ヘッドとの接触を点接触として磁気ディス
クと磁気ヘッドの吸着現象を回避することができる。

【００１７】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。図１は本発明構造を採用した磁気ディスク
の一実施例を示すものである。この例の磁気ディスク１
は、金属、ガラスあるいは樹脂製などの円盤状の基板の
表面あるいは表裏両面に磁性膜、保護膜あるいは必要に
応じて複数の中間膜を被膜した構成であって、コンピュ
ータの磁気記録装置などの磁気記録媒体として用いられ
るものである。

【００１８】また、磁気ディスク１の表面側あるいは表
裏両面側には、磁気ヘッド２が、ばね板３により所定の
ばね圧で押し付けられている。この磁気ヘッド２は、ば
ね板３を支持する図示略の駆動装置により接続されてい
て、ばね板３を回転移動あるいは平行移動させること
で、磁気ヘッド２が磁気ディスク１の内周側の所望の位
置から外周側の所望の位置まで移動できるようになって
いる。そして、この実施例の磁気ヘッド２は、図２に示
すように板状のスライダ２ａとこのスライダ２ａの後端
部側（トレーリング側）に形成されたコア部２ｂとコア
部２ｂに巻回された巻線コイル２ｃを具備するもので、
スライダ２ａの先端部側（リーディング側）の底面には
浮上用の傾斜面２ｄが形成されている。

【００１９】また、前記磁気ディスク１の表面と裏面の
少なくとも一方において、磁気ヘッド２の移動領域に
は、ドット状のフォトリソグラフィ技術によって形成さ
れたフォトリソパターン５・・・が、磁気ディスクの表
面に均一に所定間隔で多数形成され、更に後述するテク
スチャリング６によって形成される同心円状の溝６ａが
多数形成されている。このパターン５は、図２に示すよ
うに磁気ディスク１の表面から突出したものである。な
お、磁気ディスク１においては磁性層を表面のみに形成
する片面タイプと磁性層を両方に形成する両面タイプが
あるので、片面タイプのものには表面のみにフォトリソ
パターン５を形成し、両面タイプの場合は表裏両面にフ
ォトリソパターン５を形成することができる。

【００２０】次に前記のように構成されたパターン５を
備えた磁気ディスク１の作用について説明する。図３
は、前記フォトリソパターン５を磁気デイスク１上に形
成した場合、磁気ディスク１の径方向の断面を示してい
る。そして、磁気ディスク２がフォトリソパターン５・
・・の上に当接した状態を２点鎖線で示している。

【００２１】この実施例の磁気ディスク１は、通常の磁
気ディスクと同様にコンピュータの磁気記憶装置用に用
いられるもので、図示略のモータにより定速回転される
ものである。そして、磁気ヘッド２は通常の磁気ヘッド
と同様に磁気ディスク１の停止時に磁気ディスク１の表
面に接触し、磁気ディスク１の回転により浮上走行し、
必要に応じて磁気情報の書き込みと読み出しを行なうも
のである。

【００２２】従って、この実施例の構成では、磁気ヘッ
ド２の底面と磁気ディスク１の表面のフォトリソパター
ン５が接触するので、鏡面どうしの接触ではなくなり、
吸着現象を引き起こすこともなくなる。

【００２３】また、図４〜図６に本発明に係わるフォト
リソパターン５の構成例を示す。まず、図４の第一構成
例では、フォトリソパターン５ａが円柱状に形成されて
いる。図５の第二構成例では、フォトリソパターン５ｂ
が、六角柱状に形成されている。図６の第三構成例で
は、フォトリソパターン５ｃが、円錐台状に形成されて
いる。これらの例のようにフォトリソパターンは種々の
形状のものを採用して良い。

【００２４】次に上記のように構成された磁気ディスク
１の詳細構造の第一構成例について説明する。図７
（ａ）と図７（ｂ）は、磁気ディスク１の詳細構造を示
すもので、この第一構成例の磁気ディスク１ａは、中央
部に透孔１３が形成されたＡｌ、Ａｌ合金あるいはガラ
スなどからなる円盤状の基板１４と、この基板１４の上
面に被膜されたＮｉ−Ｐなどの被覆膜１５とからなる磁
気ディスク基板Ｂが主体となり、磁気ディスク基板Ｂの
被覆膜１５上に図７（ｂ）、図７（ｃ）に示す積層膜が
形成されている。

【００２５】図７（ｂ）及び図７（ｃ）に示す積層膜
は、厚さ千数百Å程度のＣｒ層１６と、Ｃｒ層１６上に
形成された厚さ数百Å程度のＣｏ−Ｎｉ層、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｃｒ層等でなる磁性層１７と磁性層１７上に積層され
た厚さ数百Å程度のＣからなる保護膜１８と、保護膜１
８上に被膜された潤滑膜１９とから構成されている。そ
して、前記Ｎｉ−Ｐ等からなる被覆膜１５上には、テク
スチャリング６が形成されており、さらに前記テクスチ
ャリング上にはフォトリソグラフィ技術を用いたフォト
リソパターン５が設けられている。

【００２６】前記のように構成された第一構成例の磁気
ディスクの製造方法について図８をもとに説明する。磁
気ディスク１を製造するには、Ａｌ、Ａｌ合金ガラスな
どからなる円盤状の基板２０を用意し、この基板２０に
面取加工や表面加工を施した後に表面にＮｉ−Ｐなどの
被覆膜２１をメッキなどの手段により図８（ａ）に示す
ように形成する。

【００２７】次に、被覆膜２１の表面を図８（ｂ）に示
す段階でポリッシュ加工する。そして、その際に図８
（ｃ）に示すように、テクスチャリング６を形成する。
ここで従来、テクスチャリングを形成する場合は目の粗
い研摩剤を使用した後に、平均粒径１μm以下の＃８０
００程度の砥粒で研摩する必要があったが、本発明によ
る磁気ディスクを製造する方法においては、＃８０００
の砥粒を用いた仕上げ研摩のみで、テクスチャリグ６を
形成する。これにより粗い研摩をしなくとも良いのでポ
リッシュの目が残らない。

【００２８】即ち、従来テクスチャリングの形成におけ
る最終工程において、前記磁気ディスク基板上にポリッ
シュの目が残り、これが、完成した磁気ディスクの表面
上にもうねりとして残る結果となって、磁気ディスクと
磁気ヘッドが接する際前記磁気ヘッドの浮上姿勢を悪く
し、磁気記録特性を低下させる要因となったが、本願発
明による磁気ディスクでは、テクスチャリングの上にフ
ォトリソパターンを形成することにより、前記ポリッシ
ュの目による影響を相殺し、磁気ディスク表面の円滑性
を高めて、磁気ヘッドが磁気ディスク上を浮上走行する
際の浮上姿勢を安定化させ磁気記録特性を向上させるこ
とができる。

【００２９】そして、この工程の後においてテクスチャ
リング６の表面に、先に説明した形状のフォトリソパタ
ーン５・・・を均一に多数形成する。

【００３０】続いて、上記のように形成されたパターン
５・・・上に、図８（ｄ）に示すようにＣｒなどからな
る下地膜２３を被覆する。そして前記下地膜２３の上に
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ膜などからなる磁性膜２４をスパツタ
などの手段で図８（ｅ）に示すように被覆し、更に図８
（ｆ）に示すようにカーボンなどからなる保護膜２５を
スパッタなどの手段で被覆し、さらに図８（ｇ）に示す
ようにフッ素系の潤滑剤などからなる潤滑膜２６をディ
ップコート法などにより形成して磁気ディスク１ａを完
成する。

【００３１】従って、前記製造方法において図８（ｂ）
で示すポリッシュ加工後、テクスチャーを施し、その後
にフォトリソパターン５・・・を形成するために、その
上に形成される各膜は順次フォトリソパターン５・・・
上に被覆される結果、磁気デイスク１の表面には、突状
のパターン５’・・・が多数形成される結果となる。

【００３２】なお、前記工程の途中で形成されるテクス
チャリング６はＲａを０．０００５〜０．０２μmとし
た凹凸溝の大きさであり、フォトリソパターン５は、高
さ０．０１〜０．１０μmの大きさであるので、フォト
リソパターン５の形状に影響を与えることない。

【００３３】次に、本発明による磁気ディスク１の詳細
構造における第二構成例について、図９をもとにして説
明する。図９（ａ）と図９（ｂ）は、磁気ディスク１の
詳細構造を示すもので、この磁気ディスクは、中央部に
透孔１３が形成されたＡｌ、Ａｌ合金あるいはガラスな
どからなる円盤状の基板１４と、この基板１４の全面に
被膜されたＮｉ−Ｐなどの被覆膜１５とからなる磁気デ
ィスク基板Ｂが主体となり、磁気ディスク基板Ｂの被覆
膜１５上に、図９（ｂ）及び図９（ｃ）に示す積層膜が
形成されている。

【００３４】図９（ｂ）及び図９（ｃ）に示す被覆膜
は、厚さ千数百Å程度のＣｒ層１６と、Ｃｒ層１６上に
形成された厚さ数百Å程度のＣｏ−Ｎｉ層、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｃｒ層等からなる磁性層１７と磁性層１７上に積層さ
れた厚さ数百Å程度のＣからなる保護膜１８と保護膜１
８上に被膜された潤滑膜１９とから構成されている。そ
して、前記Ｎｉ−Ｐ等からなる被覆膜１５上には、テク
スチャリング６が形成されており、また前記保護膜１８
の表面には、フォトリソグラフィ技術によってフォトリ
ソパターン６が多数均一な間隔で形成されている。

【００３５】前記のように構成された磁気ディスクの製
造方法について図１０を基に説明する。磁気ディスク１
を製造するには、Ａｌ、Ａｌ合金ガラスなどからなる円
盤状の基板２０を用意し、この基板２０に面取加工や表
面加工を施した後に表面にＮｉ−Ｐなどの被覆膜２１を
メッキなどの手段により図１０（ａ）に示すように形成
する。次に、被覆膜２１の表面を図１０（ｂ）に示す段
階でポリッシュ加工する。次いでその上から図１０
（ｃ）に示すようにテクスチャリング６を形成する加工
を施す。そして、上記のように形成されたテクスチャリ
ング６の表面に図１０（ｄ）に示すようにＣｒなどから
なる下地膜２３を被覆する。そして前記下地膜２３の上
にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ膜などからなる磁性膜２４をスパツ
タなどの手段で、図１０（ｅ）に示すように被覆する。

【００３６】更にカーボンなどからなる保護膜２５をス
パッタなどの手段で被覆し、この保護膜２５の表面にフ
ォトリソグラフィ技術を用いて、フォトリソパターン５
を形成する。このフォトリソパターン５は、上述した第
一構成例の記載中に記した方法と同様な工程により形成
される。

【００３７】そして、上記のように形成されたフォトリ
ソパターン５・・・の表面に、フッ素系の潤滑剤などか
らなる潤滑膜２６をディップコート法などにより形成し
て磁気ディスク１ｂを完成する。

【００３８】前記製造方法において、図１０（ｂ）で示
すポリッシュ加工後、テクスチャーを施し、磁性膜２４
を被膜した後の保護膜２５上にフォトリソパターン５を
形成するので、磁気ディスク１ｂの表面には突状のパタ
ーン５’が多数形成される結果となる。

【００３９】そして、従来テクスチャリングの形成にお
ける最終工程において、前記磁気ディスク基板上にポリ
ッシュの目が残り、これが、完成した磁気ディスクの表
面上にも残る結果となって、磁気ディスクと磁気ヘッド
が接する際前記磁気ヘッドの浮上姿勢を悪くし、磁気記
録特性を低下させる要因となったが、本願発明による磁
気ディスクでは、磁気ディスクの保護膜形成後、前記保
護膜上にフォトリソパターンを形成することにより、磁
気ディスク表面の円滑性を高めて、磁気ヘッドが磁気デ
ィスク上を浮上走行する際の浮上姿勢を安定化させ磁気
記録特性を向上させることができる。

【００４０】また、従来では前記テクスチャリング６
は、磁性膜に磁気異方性を与える目的と磁気ディスク１
の表面と磁気ヘッド２の吸着現象を回避する２つの目的
を達成するために、その深さ、ピッチ等が設計されてい
たが、第二構成例における磁気ディスク１ｂは、磁気デ
ィスク基板Ｂ上にテクスチャリング６を設け、一方磁気
ディスク１ｂの保護膜２５上にフォトリゾパターン５を
形成することにより、前記テクスチャリング６は磁性膜
２４に磁気異方性を与え、磁気ディスク１ｂの磁気特性
を向上する目的のみに必要な、最適な深さ、ピッチ等の
設計をし、磁気ディスク１ｂの磁気特性の向上を図ると
ともに、一方では保護膜２５上に形成されたフォトリソ
パターン５・・・により、磁気ディスク１ｂ表面に凹凸
を形成し、磁気ディスク１ｂと磁気ヘッド２との接触を
点接触として磁気ディスク１ｂと磁気ヘッド２の吸着現
象を回避することがてきる。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、磁
気ディスク基板上のテクスチャリング上にフォトリソパ
ターンを形成することによって、完成した磁気ディスク
の表面に突状のパターンが形成される結果となり、磁気
ヘッドが本発明による磁気ディスクに接触している際
に、磁気ディスク状に形成した複数のパターンを介して
磁気ヘッドを磁気ディスクに接触させることができる。
すると、磁気ヘッドが磁気ディスクに吸着する吸着現象
が発生せず、磁気記録特性の劣化及び磁気記録装置の故
障を回避することができる。

【００４２】また、従来の磁気ディスクではテクスチャ
リング形成時にポリッシュの目が完成した磁気ディスク
表面に残り、これが磁気ヘッドと接することによって、
磁気ヘッドの浮上姿勢に悪影響を与え、磁気記録特性の
劣化の要因となったが、本発明による磁気ディスクで
は、テクスチャリングの表面にフォトリソパターンを形
成することによって、磁気ディスク表面の円滑性を高
め、磁気ヘッドの浮上走行を円滑に行なうことができ
る。

【００４３】また、従来では前記テクスチャリング６
は、磁性膜に磁気異方性を与える目的と磁気ディスク１
の表面と磁気ヘッド２の吸着現象を回避する２つの目的
を達成するために、その深さ、ピッチ等が設計されてい
たが、磁気ディスクは、磁気ディスク基板上にテクスチ
ャリングを設け、一方磁気ディスクの保護膜上にフォト
リゾパターンを形成することにより、前記テクスチャリ
ングは磁性膜に磁気異方性を与え、磁気ディスクの磁気
特性を向上する目的のみに必要な、最適な深さ、ピッチ
等の設計をし、磁気ディスクの磁気特性の向上を図ると
ともに、一方では保護膜上に形成されたフォトリソパタ
ーンにより、磁気ディスク表面に凹凸を形成し、磁気デ
ィスクと磁気ヘッドとの接触を点接触として磁気ディス
クと磁気ヘッドの吸着現象を回避することができる。

【００４４】従って、本願発明による磁気ディスクによ
れば、磁気ディスクの表面の円滑性を高めるとともに、
磁気ヘッドとの吸着現象を回避することが可能であり、
磁気記録装置の故障等を回避することができるととも
に、磁気ディスクの磁気特性を向上させることが可能で
ある。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明に係わる磁気ディスクの一実施例
と磁気ヘッドの配置状態を示す平面図である。

【図２】図２は図１に示す磁気ディスクと磁気ヘッドの
配置状態の側面図である。

【図３】図３は本発明に係わる磁気ディスクの一実施例
に磁気ヘッドが静置している状態を示す図である。

【図４】図４は本発明に係わるフォトリソパターンの第
一構成例を示す図である。

【図５】図５は本発明に係わるフォトリソパターンの第
二構成例を示す図である。

【図６】図６は本発明に係わるフォトリソパターンの第
三構成例を示す図である。

【図７】図７（ａ）は本発明における磁気ディスクの第
一構成例に係わる磁気ディスク基板の断面図である。 図７（ｂ）は本発明における磁気ディスクの第一構成例
に係わる磁気ディスク基板上の磁性層を示す図である。 図７（ｃ）は図７（ｂ）の要部拡大図である。

【図８】図８は本発明における磁気ディスクの第一構成
例の磁気ディスクの製造工程を説明するための斜視図で
ある。

【図９】図９（ａ）は本発明における磁気ディスクの第
二構成例に係わる磁気ディスク基板の断面図である。 図９（ｂ）は本発明における磁気ディスクの第二実施例
に係わる磁気ディスク基板上の磁性層を示す図である。 図９（ｃ）は図９（ｂ）の要部拡大図である。

【図１０】図１０は本発明における磁気ディスクの第二
構成例の磁気ディスクの製造工程を説明するための斜視
図である。

【図１１】図１１（ａ）は従来例の磁気ディスク基板の
断面図である。 図１１（ｂ）は従来例の磁気ディスク基板上の磁性層を
示す図である。

【符号の説明】

１ 磁気ディスク ５ フォトリソパターン ６ テクステャリング １４ 基板 １５ 被覆膜 １７ 磁性膜 １８ 保護膜 １９ 潤滑膜 ２０ 基板 ２１ 被覆膜 ２４ 磁性膜 ２５ 保護膜 ２６ 潤滑膜

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 Ｎｉ−Ｐなどの被覆膜を設けた円盤状基
   板の表面と裏面の少なくとも一方にテクスチャリング
   と、多数の微細な凸形状のフォトリソパターンが形成さ
   れて磁気ディスク基板が形成され、この磁気ディスク基
   板の表面と裏面の少なくとも一方にテクスチャリングと
   フォトリソパターンを覆う磁性膜が被膜され、この磁性
   膜上に保護膜が形成されてなることを特徴とする磁気デ
   ィスク。
2. 【請求項２】 Ｎｉ−Ｐなどの被覆膜を設けた円盤状基
   板の表面と裏面の少なくとも一方にテクスチャリングが
   形成されてなる磁気ディスク基板上に磁性膜が被膜さ
   れ、この磁性膜上に被膜された保護膜の表面に、多数の
   微細な凸形状のフォトリソパターンが形成されてなるこ
   とを特徴とする磁気ディスク。