JPH0554374A - 磁気デイスク - Google Patents
磁気デイスクInfo
- Publication number
- JPH0554374A JPH0554374A JP24270091A JP24270091A JPH0554374A JP H0554374 A JPH0554374 A JP H0554374A JP 24270091 A JP24270091 A JP 24270091A JP 24270091 A JP24270091 A JP 24270091A JP H0554374 A JPH0554374 A JP H0554374A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- lubricant
- magnetic
- css
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ディスク装置の高密度化に対応し、ＣＳ
Ｓに対して吸着力、摩擦力の増加しない磁気ディスクを
実現する。 【構成】 磁気ディスクにおいて、表面の粗さをＲｐ＝
１７〜３７ｎｍ，潤滑剤の膜厚をｔ＝３〜７ｎｍに作製
する。
Ｓに対して吸着力、摩擦力の増加しない磁気ディスクを
実現する。 【構成】 磁気ディスクにおいて、表面の粗さをＲｐ＝
１７〜３７ｎｍ，潤滑剤の膜厚をｔ＝３〜７ｎｍに作製
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置に搭
載される磁気ディスクに関するものである。
載される磁気ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置は主に磁気ディスクと
磁気ヘッドで構成されている。図４にその概念図を示
す。図において1 は基板に形成された磁気記録媒体に情
報が記録される磁気ディスク、2 は磁気ディスク1 に情
報を書き込んだり、読みだしたりする磁気ヘッド、3 は
磁気ヘッド2 を磁気ディスク1 に押し付けるサスペンシ
ョンである。
磁気ヘッドで構成されている。図４にその概念図を示
す。図において1 は基板に形成された磁気記録媒体に情
報が記録される磁気ディスク、2 は磁気ディスク1 に情
報を書き込んだり、読みだしたりする磁気ヘッド、3 は
磁気ヘッド2 を磁気ディスク1 に押し付けるサスペンシ
ョンである。
【０００３】磁気ディスク装置を使用しないときは、磁
気ヘッド2 はサスペンション3 により磁気ディスク1 上
に押し付けられている。そのためディスク始動（回動）
時には磁気ヘッドは磁気ディスク表面を擦りながら浮上
する。同様に停止時には擦りながら着陸する。この動作
をコンタクトスタートストップ（ＣＳＳ）と言う。
気ヘッド2 はサスペンション3 により磁気ディスク1 上
に押し付けられている。そのためディスク始動（回動）
時には磁気ヘッドは磁気ディスク表面を擦りながら浮上
する。同様に停止時には擦りながら着陸する。この動作
をコンタクトスタートストップ（ＣＳＳ）と言う。
【０００４】前記磁気ディスク装置は、上記したように
停止時には磁気ディスクと磁気ヘッドは接触している。
このため平面同士が接触すると強い吸着力が生じ、この
吸着力が磁気ディスクを回転させるトルクよりも大きい
と磁気ディスク装置は使用できなくなる。また磁気ディ
スクと磁気ヘッドはＣＳＳにより装置の始動時と停止時
には擦れるため、擦れるときの摩擦力が大きいと安定に
磁気ディスクを回転できない。吸着力、摩擦力は面同士
の接触面積に比例するため接触面積低減の為、磁気ディ
スク表面には凹凸のテクスチャーを形成する。しかし、
装置起動時、停止時の磁気ディスクと磁気ヘッドの擦れ
により、テクスチャーが摩耗すると、平坦化されたこと
により接触面積が増加し吸着力、摩擦力が上昇する。こ
の摩耗を防ぐために磁気ディスク表面には潤滑剤を塗布
する。図６にこの概念図を示す。図に於て12はテクスチ
ャーによる凹凸11は潤滑剤である。
停止時には磁気ディスクと磁気ヘッドは接触している。
このため平面同士が接触すると強い吸着力が生じ、この
吸着力が磁気ディスクを回転させるトルクよりも大きい
と磁気ディスク装置は使用できなくなる。また磁気ディ
スクと磁気ヘッドはＣＳＳにより装置の始動時と停止時
には擦れるため、擦れるときの摩擦力が大きいと安定に
磁気ディスクを回転できない。吸着力、摩擦力は面同士
の接触面積に比例するため接触面積低減の為、磁気ディ
スク表面には凹凸のテクスチャーを形成する。しかし、
装置起動時、停止時の磁気ディスクと磁気ヘッドの擦れ
により、テクスチャーが摩耗すると、平坦化されたこと
により接触面積が増加し吸着力、摩擦力が上昇する。こ
の摩耗を防ぐために磁気ディスク表面には潤滑剤を塗布
する。図６にこの概念図を示す。図に於て12はテクスチ
ャーによる凹凸11は潤滑剤である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
磁気ディスクでは磁気ヘッドの浮上する高さが、テクス
チャーの粗さに対して十分大きかった。しかし、記録密
度を高くするためには磁気ヘッドの浮上高さを低くしな
ければならない。そのためにはテクスチャー粗さを小さ
くする必要があるが、粗さが小さいと接触面積の増加か
ら吸着力、摩擦力は上昇し潤滑剤もこれを助長する方向
に働く。
磁気ディスクでは磁気ヘッドの浮上する高さが、テクス
チャーの粗さに対して十分大きかった。しかし、記録密
度を高くするためには磁気ヘッドの浮上高さを低くしな
ければならない。そのためにはテクスチャー粗さを小さ
くする必要があるが、粗さが小さいと接触面積の増加か
ら吸着力、摩擦力は上昇し潤滑剤もこれを助長する方向
に働く。
【０００６】以上のような理由により、磁気ディスクの
高密度化に対して良好なＣＳＳ性能を持つ磁気ディスク
の作成が難しかった。
高密度化に対して良好なＣＳＳ性能を持つ磁気ディスク
の作成が難しかった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の様な課題を解決す
るために、本発明では従来別々にコントロールしていた
表面の粗さと潤滑剤の膜厚を表面粗さＲｐを１７ｎｍ以
上３７ｎｍ以下かつ潤滑剤膜厚ｔを３ｎｍ以上７ｎｍ以
下とするものである。
るために、本発明では従来別々にコントロールしていた
表面の粗さと潤滑剤の膜厚を表面粗さＲｐを１７ｎｍ以
上３７ｎｍ以下かつ潤滑剤膜厚ｔを３ｎｍ以上７ｎｍ以
下とするものである。
【０００８】
【作用】磁気ディスクの表面粗さをＲｐ＝１７〜３７ｎ
ｍかつ潤滑剤厚をｔ＝３〜７ｎｍの範囲としたことによ
り吸着を防ぎ、ＣＳＳによる摩擦力の増加を少なくする
ことができる。
ｍかつ潤滑剤厚をｔ＝３〜７ｎｍの範囲としたことによ
り吸着を防ぎ、ＣＳＳによる摩擦力の増加を少なくする
ことができる。
【０００９】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。図１はＣＳＳによる磁気ディスク1 と磁気ヘ
ッド参照2 の摩擦力と吸着力の変化を測定する装置の概
略図である。本実施例による磁気ディスク1 は、次のよ
うにＣＳＳ特性を測定した。磁気ディスク1 を停止状態
化ら３６００ｒｐｍの速度で回転させ停止させるまでを
ＣＳＳ１サイクルとし、０回〜１３０００回時の摩擦
力、吸着力を測定した。摩擦力はＣＳＳ後に磁気ディス
ク1 を１ｒｐｍで回転させ、磁気ヘッド2 取り付け部に
設けた歪ゲージ4 で測定した。吸着力はＣＳＳ後に１分
間磁気ディスク1 を静止させ、１ｒｐｍで回転させよう
とするときに磁気ヘッド2 にかかる力を歪ゲージ4 で測
定した。磁気ディスク表面のＲｐは触針式粗さ計（ラン
クテーラーホブソン株式会社製：タリサーフ）で測定し
た。潤滑剤膜厚は赤外線の吸収より求めた。ここでＲｐ
は表面粗さの平均値から最高山頂までの値である。ここ
で図５は、本発明の一実施例による磁気ディスクの断面
図である。図に於て、まず例えばＡｌ合金等からなる適
当な厚さの基板5 の上に厚さ１５μｍ程度のＮｉ−Ｐ層
6 をメッキ等の手段によって形成し、そのＮｉ−Ｐ層6
の上面を研磨等の機械的方法により適度に荒して、テク
スチャー7 を形成する。このテクスチャー7の上に厚さ
１μｍ程度のＣｒ下地層8 を形成し、その上に厚さが
０．７μｍ程度の磁性膜9 を形成する。この磁性膜9と
してはＣｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金等の薄膜
を使用するとよい。その磁性膜9 の上に厚さ０．３μｍ
程度のＣ（カーボン）からなる保護膜10、さらに潤滑剤
11を形成する。
説明する。図１はＣＳＳによる磁気ディスク1 と磁気ヘ
ッド参照2 の摩擦力と吸着力の変化を測定する装置の概
略図である。本実施例による磁気ディスク1 は、次のよ
うにＣＳＳ特性を測定した。磁気ディスク1 を停止状態
化ら３６００ｒｐｍの速度で回転させ停止させるまでを
ＣＳＳ１サイクルとし、０回〜１３０００回時の摩擦
力、吸着力を測定した。摩擦力はＣＳＳ後に磁気ディス
ク1 を１ｒｐｍで回転させ、磁気ヘッド2 取り付け部に
設けた歪ゲージ4 で測定した。吸着力はＣＳＳ後に１分
間磁気ディスク1 を静止させ、１ｒｐｍで回転させよう
とするときに磁気ヘッド2 にかかる力を歪ゲージ4 で測
定した。磁気ディスク表面のＲｐは触針式粗さ計（ラン
クテーラーホブソン株式会社製：タリサーフ）で測定し
た。潤滑剤膜厚は赤外線の吸収より求めた。ここでＲｐ
は表面粗さの平均値から最高山頂までの値である。ここ
で図５は、本発明の一実施例による磁気ディスクの断面
図である。図に於て、まず例えばＡｌ合金等からなる適
当な厚さの基板5 の上に厚さ１５μｍ程度のＮｉ−Ｐ層
6 をメッキ等の手段によって形成し、そのＮｉ−Ｐ層6
の上面を研磨等の機械的方法により適度に荒して、テク
スチャー7 を形成する。このテクスチャー7の上に厚さ
１μｍ程度のＣｒ下地層8 を形成し、その上に厚さが
０．７μｍ程度の磁性膜9 を形成する。この磁性膜9と
してはＣｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金等の薄膜
を使用するとよい。その磁性膜9 の上に厚さ０．３μｍ
程度のＣ（カーボン）からなる保護膜10、さらに潤滑剤
11を形成する。
【００１０】図２は本発明の実施例により作製した磁気
ディスクのＣＳＳによる摩擦力の変化を示すグラフであ
る。図において、縦軸は、ＣＳＳ時における最大摩擦力
を示し、単位はｇ重である。また、横軸はＣＳＳの回数
を示し、単位は千回である。図中□印は、表面粗さＲｐ
＝３７ｎｍ，潤滑剤膜厚ｔ＝２ｎｍのものであり、＋印
はＲｐ＝２７ｎｍ，ｔ＝５ｎｍ、◇印はＲｐ＝１７ｎ
ｍ，ｔ＝３ｎｍである。図２から明らかなように本発明
による磁気ディスクが、１３０００回のＣＳＳを行った
後でも、摩擦力が約２．５〜８ｇ重と摩擦力の増加の少
ない良好な特性を示していることがわかる。
ディスクのＣＳＳによる摩擦力の変化を示すグラフであ
る。図において、縦軸は、ＣＳＳ時における最大摩擦力
を示し、単位はｇ重である。また、横軸はＣＳＳの回数
を示し、単位は千回である。図中□印は、表面粗さＲｐ
＝３７ｎｍ，潤滑剤膜厚ｔ＝２ｎｍのものであり、＋印
はＲｐ＝２７ｎｍ，ｔ＝５ｎｍ、◇印はＲｐ＝１７ｎ
ｍ，ｔ＝３ｎｍである。図２から明らかなように本発明
による磁気ディスクが、１３０００回のＣＳＳを行った
後でも、摩擦力が約２．５〜８ｇ重と摩擦力の増加の少
ない良好な特性を示していることがわかる。
【００１１】図３に本発明の実施例の範囲外（従来例）
で作製した磁気ディスクのＣＳＳによる摩擦力の変化を
示す。この領域で作製した磁気ディスクではＲｐが小さ
いため磁気ディスクと磁気ヘッドとの接触面積が大きく
初期の摩擦力も大きい。また、はじめの潤滑剤膜厚が薄
いものは容易にＣＳＳで前記潤滑剤10が除去されてしま
い、摩耗の進行による摩擦力の増加も大きい。逆に潤滑
剤膜10が厚いものは、吸着力の増加の影響により、摩擦
力が増大している。このため、図３から明らかなよう
に、従来例で作製した磁気ディスクは１３０００回のＣ
ＳＳを行うと、最大摩擦力が１５ｇ重以上と大きくなっ
ている。
で作製した磁気ディスクのＣＳＳによる摩擦力の変化を
示す。この領域で作製した磁気ディスクではＲｐが小さ
いため磁気ディスクと磁気ヘッドとの接触面積が大きく
初期の摩擦力も大きい。また、はじめの潤滑剤膜厚が薄
いものは容易にＣＳＳで前記潤滑剤10が除去されてしま
い、摩耗の進行による摩擦力の増加も大きい。逆に潤滑
剤膜10が厚いものは、吸着力の増加の影響により、摩擦
力が増大している。このため、図３から明らかなよう
に、従来例で作製した磁気ディスクは１３０００回のＣ
ＳＳを行うと、最大摩擦力が１５ｇ重以上と大きくなっ
ている。
【００１２】以上のように、本発明の実施例の範囲より
Ｒｐが小さい領域では磁気ディスクと磁気ヘッドの接触
面積が大きく、摩擦力吸着力ともに大きくなる。逆にＲ
ｐが大きい領域では磁気ヘッドの低浮上が出来ないた
め、磁気ディスクの高密度化が実現できない。潤滑剤膜
厚が薄い領域ではＣＳＳにより容易に潤滑剤膜が除去さ
れ、摩耗の進行による磁気ディスク表面の平坦化が生じ
る。これにより摩擦力、吸着力は増加する。潤滑剤膜が
厚い領域では、磁気ディスクと磁気ヘッドの隙間を潤滑
剤が埋めてしまい接触面積増加による摩擦力、吸着力の
増加を生じる。
Ｒｐが小さい領域では磁気ディスクと磁気ヘッドの接触
面積が大きく、摩擦力吸着力ともに大きくなる。逆にＲ
ｐが大きい領域では磁気ヘッドの低浮上が出来ないた
め、磁気ディスクの高密度化が実現できない。潤滑剤膜
厚が薄い領域ではＣＳＳにより容易に潤滑剤膜が除去さ
れ、摩耗の進行による磁気ディスク表面の平坦化が生じ
る。これにより摩擦力、吸着力は増加する。潤滑剤膜が
厚い領域では、磁気ディスクと磁気ヘッドの隙間を潤滑
剤が埋めてしまい接触面積増加による摩擦力、吸着力の
増加を生じる。
【００１３】本発明の範囲で作製した磁気ディスクで
は、表面の粗さによって接触面積は小さく、潤滑剤膜の
作用により摩耗も進行しない。
は、表面の粗さによって接触面積は小さく、潤滑剤膜の
作用により摩耗も進行しない。
【００１４】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、高密度化
に対応し、吸着せず、ＣＳＳによる摩擦力の増加が少な
い磁気ディスクを容易に大量に作製することができる。
に対応し、吸着せず、ＣＳＳによる摩擦力の増加が少な
い磁気ディスクを容易に大量に作製することができる。
【図１】本発明に於て吸着力、摩擦力を測定した磁気デ
ィスク装置の概略図
ィスク装置の概略図
【図２】本発明の一実施例を示す磁気ディスクのＣＳＳ
回数による摩擦力の変化を示すグラフ
回数による摩擦力の変化を示すグラフ
【図３】本発明範囲外で作製した磁気ディスクのＣＳＳ
回数による摩擦力の変化を示すグラフ
回数による摩擦力の変化を示すグラフ
【図４】磁気ディスク装置の概略図
【図５】磁気ディスクの断面図
【図６】磁気ディスク表面のテクスチャーと潤滑剤の概
念図
念図
１ 磁気ディスク ２ 磁気ヘッド ３ サスペンション ４ 歪ゲージ ５ 基板 ６ Ｎｉ−Ｐ層 ７ テクスチャー ８ 下地層 ９ 磁性層 １０ 保護膜 １１ 潤滑剤 １２ 凹凸
Claims (1)
- 【請求項１】 磁気ヘッドが始動時と停止時に接触する
コンタクトスタートストップ方式の磁気ディスク装置に
搭載される磁気ディスクにおいて、表面粗さＲｐを１７
ｎｍ以上、３７ｎｍ以下かつ潤滑剤膜厚ｔを３ｎｍ以上
７ｎｍ以下としたことを特徴とする磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24270091A JPH0554374A (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24270091A JPH0554374A (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0554374A true JPH0554374A (ja) | 1993-03-05 |
Family
ID=17092947
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24270091A Withdrawn JPH0554374A (ja) | 1991-08-28 | 1991-08-28 | 磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0554374A (ja) |
-
1991
- 1991-08-28 JP JP24270091A patent/JPH0554374A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981112 |