JPH0528470A - 金属薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体Info
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- JPH0528470A JPH0528470A JP17846391A JP17846391A JPH0528470A JP H0528470 A JPH0528470 A JP H0528470A JP 17846391 A JP17846391 A JP 17846391A JP 17846391 A JP17846391 A JP 17846391A JP H0528470 A JPH0528470 A JP H0528470A
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- Japan
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- thin film
- layer
- recording medium
- magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヘッドの低浮上化およびトラック密度の向上
が可能な金属薄膜型磁気記録媒体を提供する。 【構成】 非磁性の基板(1) に非磁性の下地層(2) を介
して磁気記録層(3) を積層形成した金属薄膜型磁気記録
媒体において、磁気記録層(3) の上に、上面が平坦な凸
部(4) が同心状又はら線状に形成されている。
が可能な金属薄膜型磁気記録媒体を提供する。 【構成】 非磁性の基板(1) に非磁性の下地層(2) を介
して磁気記録層(3) を積層形成した金属薄膜型磁気記録
媒体において、磁気記録層(3) の上に、上面が平坦な凸
部(4) が同心状又はら線状に形成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は記録密度の高い金属薄膜
型磁気記録媒体に関する。
型磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度記録化に伴
って、ＣｏＮｉＣｒ，ＣｏＣｒＴａ等の一軸結晶磁気異
方性を有するＣｏ合金を非磁性基板上にＣｒ下地層を介
して成膜した金属薄膜型磁気記録媒体が用いられてい
る。前記非磁性基板としては、通常、Ａｌ合金板上に剛
性確保のために10〜20μmの非晶質Ｎｉ−Ｐメッキ層が
形成されたもの (以下、単にアルミ基板という。)が使
用されている。前記基板には、媒体表面と磁気ヘッドと
の接触抵抗を軽減し、耐久性を向上させるためにテキス
チャーと呼ばれる凹凸加工が施されている。テキスチャ
ーはラッピングテープ又は遊離砥粒により機械的に形成
されている。
って、ＣｏＮｉＣｒ，ＣｏＣｒＴａ等の一軸結晶磁気異
方性を有するＣｏ合金を非磁性基板上にＣｒ下地層を介
して成膜した金属薄膜型磁気記録媒体が用いられてい
る。前記非磁性基板としては、通常、Ａｌ合金板上に剛
性確保のために10〜20μmの非晶質Ｎｉ−Ｐメッキ層が
形成されたもの (以下、単にアルミ基板という。)が使
用されている。前記基板には、媒体表面と磁気ヘッドと
の接触抵抗を軽減し、耐久性を向上させるためにテキス
チャーと呼ばれる凹凸加工が施されている。テキスチャ
ーはラッピングテープ又は遊離砥粒により機械的に形成
されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記Ｃｏ合金の使用に
より、磁気記録層自体の保磁力が向上し、これによって
記録密度の向上が図られたが、より高密度化が要望され
ている。このためには、ディスク（磁気記録媒体）の円
周方向の記録密度（線密度）の向上および径方向のトラ
ック密度の向上が不可欠である。
より、磁気記録層自体の保磁力が向上し、これによって
記録密度の向上が図られたが、より高密度化が要望され
ている。このためには、ディスク（磁気記録媒体）の円
周方向の記録密度（線密度）の向上および径方向のトラ
ック密度の向上が不可欠である。
【０００４】しかし、アルミ基板のテキスチャーは、デ
ィスクの円周方向に比較的粗いピッチで凹凸が形成され
るため、耐久性は良好であるが、凹凸の高低差が大き
く、不均一なため平滑性に劣り、ヘッドの低浮上化が困
難で、磁気ヘッドと媒体の磁気記録層との距離が大きく
なり電磁変換特性を低下させ、線密度の向上に問題があ
る。
ィスクの円周方向に比較的粗いピッチで凹凸が形成され
るため、耐久性は良好であるが、凹凸の高低差が大き
く、不均一なため平滑性に劣り、ヘッドの低浮上化が困
難で、磁気ヘッドと媒体の磁気記録層との距離が大きく
なり電磁変換特性を低下させ、線密度の向上に問題があ
る。
【０００５】また、磁気ヘッドのトラックに対する位置
決めは、ディスクに位置決め用の情報を記録しておき、
これをデータヘッドや位置決め情報の読出し専用のサー
ボヘッドによって読み取り、データヘッドをトラックに
追従させる方式（サーボ方式）で行われているため、ト
ラック間隔を小さくすることにも限度があり、トラック
密度の向上にも問題がある。
決めは、ディスクに位置決め用の情報を記録しておき、
これをデータヘッドや位置決め情報の読出し専用のサー
ボヘッドによって読み取り、データヘッドをトラックに
追従させる方式（サーボ方式）で行われているため、ト
ラック間隔を小さくすることにも限度があり、トラック
密度の向上にも問題がある。
【０００６】本発明はかかる問題に鑑みなされたもの
で、ヘッドの低浮上化およびトラック密度の向上が可能
な金属薄膜型磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。
で、ヘッドの低浮上化およびトラック密度の向上が可能
な金属薄膜型磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の金属薄膜型磁気
記録媒体は、非磁性の基板に非磁性の下地層を介して磁
気記録層を積層形成した金属薄膜型磁気記録媒体におい
て、前記磁気記録層の上に、上面が平坦な凸部が同心状
又はら線状に形成されている。
記録媒体は、非磁性の基板に非磁性の下地層を介して磁
気記録層を積層形成した金属薄膜型磁気記録媒体におい
て、前記磁気記録層の上に、上面が平坦な凸部が同心状
又はら線状に形成されている。
【０００８】
【作用】磁気記録層の上に形成された凸部は磁気記録層
の保護層として作用するほか、テキスチャーとして機能
するため、耐久性が確保される。また、該凸部は同心状
又はら線状で、かつその上面が平坦であるため、磁気ヘ
ッドの相対的な走行面が平坦となり、グライドハイトを
低くすることができ、低浮上化ひいては線密度の向上を
図ることができる。また、凸部の段差をレーザ光等の光
学的手段により検出することによって、トラックの位置
検出を正確かつ容易に行なうことができる。この位置検
出は凸部の間隔が小さくても可能なため、凸部に対応し
て形成されるトラックの間隔を小さくすることができ、
トラック密度の向上を図ることができる。
の保護層として作用するほか、テキスチャーとして機能
するため、耐久性が確保される。また、該凸部は同心状
又はら線状で、かつその上面が平坦であるため、磁気ヘ
ッドの相対的な走行面が平坦となり、グライドハイトを
低くすることができ、低浮上化ひいては線密度の向上を
図ることができる。また、凸部の段差をレーザ光等の光
学的手段により検出することによって、トラックの位置
検出を正確かつ容易に行なうことができる。この位置検
出は凸部の間隔が小さくても可能なため、凸部に対応し
て形成されるトラックの間隔を小さくすることができ、
トラック密度の向上を図ることができる。
【０００９】また、凸部は磁気記録層の上に形成されて
いるため、基板にテキスチャーを施した場合に対して、
磁気記録層自体が凹凸状態にならず平滑なため、磁気ヘ
ッドと磁気記録層との間隔が一定の状態となり、電磁変
換の際の電気的特性が向上する。
いるため、基板にテキスチャーを施した場合に対して、
磁気記録層自体が凹凸状態にならず平滑なため、磁気ヘ
ッドと磁気記録層との間隔が一定の状態となり、電磁変
換の際の電気的特性が向上する。
【００１０】
【実施例】図１および図２は、実施例に係る金属薄膜型
磁気記録媒体の要部断面図および平面図を示しており、
非磁性基板1 の上にＣｒ下地層2 、磁気記録層3 がこの
順序で積層形成されており、前記磁気記録層3 の上に
は、上面が平坦な非磁性の凸部4 が同心状またはら線状
に形成されている。尚、図１は、図２Ａ−Ａ線上の要部
断面である。
磁気記録媒体の要部断面図および平面図を示しており、
非磁性基板1 の上にＣｒ下地層2 、磁気記録層3 がこの
順序で積層形成されており、前記磁気記録層3 の上に
は、上面が平坦な非磁性の凸部4 が同心状またはら線状
に形成されている。尚、図１は、図２Ａ−Ａ線上の要部
断面である。
【００１１】前記非磁性基板1 としては、アルミ基板の
みならずガラス基板、セラミックス基板等、ある程度の
剛性のある非磁性材ならいずれのものも使用可能であ
る。前記Ｃｒ下地層2 は、その上に形成される磁気記録
層3 の一軸結晶磁気異方性を示すＣｏ合金 (結晶構造ｈ
ｃｐ）のＣ軸（磁気異方性を示す結晶軸）を面内配向さ
せるために形成されるもので、通常500〜2000Å程度の
厚さに形成される。
みならずガラス基板、セラミックス基板等、ある程度の
剛性のある非磁性材ならいずれのものも使用可能であ
る。前記Ｃｒ下地層2 は、その上に形成される磁気記録
層3 の一軸結晶磁気異方性を示すＣｏ合金 (結晶構造ｈ
ｃｐ）のＣ軸（磁気異方性を示す結晶軸）を面内配向さ
せるために形成されるもので、通常500〜2000Å程度の
厚さに形成される。
【００１２】前記磁気記録層3 は、既述の通り、ＣｏＮ
ｉＣｒ, ＣｏＣｒＴａ，ＣｏＣｒＰｔ等の一軸結晶磁気
異方性を示すＣｏ合金で形成される。尚、磁気記録層は
Ｃｏ合金を単層に形成したものに限らず、Ｃｏ合金層と
Ｃｒ層とを交互に複層形成したもの（最上層はＣｏ合金
層）でもよい。磁気記録層3 の層厚 (Ｃｏ合金単層なら
その層厚、複層ならＣｏ合金層の合計厚) は通常 600〜
800 Åとされる。再生出力の確保とノイズ低減のために
は、磁気記録媒体としてＢｒδが 400〜600 Ｇ・μのも
のが要求されているからである。
ｉＣｒ, ＣｏＣｒＴａ，ＣｏＣｒＰｔ等の一軸結晶磁気
異方性を示すＣｏ合金で形成される。尚、磁気記録層は
Ｃｏ合金を単層に形成したものに限らず、Ｃｏ合金層と
Ｃｒ層とを交互に複層形成したもの（最上層はＣｏ合金
層）でもよい。磁気記録層3 の層厚 (Ｃｏ合金単層なら
その層厚、複層ならＣｏ合金層の合計厚) は通常 600〜
800 Åとされる。再生出力の確保とノイズ低減のために
は、磁気記録媒体としてＢｒδが 400〜600 Ｇ・μのも
のが要求されているからである。
【００１３】前記凸部は、Ｃや非磁性の窒化物又は酸化
物 (例えば、ＳｉＯ2 ，ＴｉＮ，ＺｒＯ2 ）で形成され
ており、その高さＨは、100 〜300 Å程度にするのがよ
い。100 Å未満では、テキスチャーとしての作用が不足
し、耐久性が低下する。一方、300 Åを越えると平滑性
が損なわれ、グライド特性ひいては磁気ヘッドとの電磁
変換特性が低下する。また、凸部4 の幅Ｌ1 は、トラッ
ク幅Ｔｗにするのがよい。一方、凸部4 相互間の凹部の
幅Ｌ2 は、トラック密度をＴｄ(TPI) としたとき、Ｌ2
＝（ｒ0 −ｒ1 ）／Ｔｄ−Ｔｗとされる。尚、（ｒ0 −
ｒ1 ）はトラックの有効幅（記録領域として使用できる
半径方向の幅）である。
物 (例えば、ＳｉＯ2 ，ＴｉＮ，ＺｒＯ2 ）で形成され
ており、その高さＨは、100 〜300 Å程度にするのがよ
い。100 Å未満では、テキスチャーとしての作用が不足
し、耐久性が低下する。一方、300 Åを越えると平滑性
が損なわれ、グライド特性ひいては磁気ヘッドとの電磁
変換特性が低下する。また、凸部4 の幅Ｌ1 は、トラッ
ク幅Ｔｗにするのがよい。一方、凸部4 相互間の凹部の
幅Ｌ2 は、トラック密度をＴｄ(TPI) としたとき、Ｌ2
＝（ｒ0 −ｒ1 ）／Ｔｄ−Ｔｗとされる。尚、（ｒ0 −
ｒ1 ）はトラックの有効幅（記録領域として使用できる
半径方向の幅）である。
【００１４】前記磁気記録層3 の上に凸部4 を形成する
には、基板1 にＣｒ下地層2 、磁気記録層3 を連続的に
成膜した後、第３図に示すように、磁気記録層3 の上に
該凸部4 とほぼ同じ高さの平坦層11を非磁性材により形
成する (工程Ａ, Ｂ) 。次に、その上に、レジスト層12
を塗布し (工程Ｃ) 、フォトリソグラフィーにより、レ
ジスト層12に凸部に対応したパタンを露光し、現像後、
未露光部分を除去する（工程Ｄ）。次に、平坦層11をプ
ラズマエッチングし、レジシストの除去された部分を除
去し (工程Ｅ) 、最後にパタン露光部のレジスト層12を
除去することにより一様な方形断面形状に形成されてい
る。尚、凸部4 は、平坦層11を形成後、集束イオンビー
ムによって隣接する凸部の間に凹部を加工することによ
り形成してもよい。
には、基板1 にＣｒ下地層2 、磁気記録層3 を連続的に
成膜した後、第３図に示すように、磁気記録層3 の上に
該凸部4 とほぼ同じ高さの平坦層11を非磁性材により形
成する (工程Ａ, Ｂ) 。次に、その上に、レジスト層12
を塗布し (工程Ｃ) 、フォトリソグラフィーにより、レ
ジスト層12に凸部に対応したパタンを露光し、現像後、
未露光部分を除去する（工程Ｄ）。次に、平坦層11をプ
ラズマエッチングし、レジシストの除去された部分を除
去し (工程Ｅ) 、最後にパタン露光部のレジスト層12を
除去することにより一様な方形断面形状に形成されてい
る。尚、凸部4 は、平坦層11を形成後、集束イオンビー
ムによって隣接する凸部の間に凹部を加工することによ
り形成してもよい。
【００１５】磁気記録層3 の上には凸部4 を形成した
後、フッ素化ポリエーテル等の潤滑剤を10〜50Å程度塗
布してもよい。尚、潤滑剤塗布層5 は必要に応じて形成
すればよい。尚、Ｃｒ下地層、磁気記録層、平坦層は、
スパッタ、イオンビームスパッタ、イオンクラスタービ
ームスパッタ、真空蒸着などの物理蒸着法によって連続
的に成膜される。また、上記実施例では、凸部の間の凹
部の底面には磁気記録層3 が露出しているが、平坦層11
のエッチング量や凹部加工量を加減して、図４に示すよ
うに、凹部の底部に保護層4Aを残すようにしてもよい。
また、前記凸部には、半径方向に小幅の溝を設け、媒体
表面におけるヘッドとの接触抵抗を減少するようにして
もよい。
後、フッ素化ポリエーテル等の潤滑剤を10〜50Å程度塗
布してもよい。尚、潤滑剤塗布層5 は必要に応じて形成
すればよい。尚、Ｃｒ下地層、磁気記録層、平坦層は、
スパッタ、イオンビームスパッタ、イオンクラスタービ
ームスパッタ、真空蒸着などの物理蒸着法によって連続
的に成膜される。また、上記実施例では、凸部の間の凹
部の底面には磁気記録層3 が露出しているが、平坦層11
のエッチング量や凹部加工量を加減して、図４に示すよ
うに、凹部の底部に保護層4Aを残すようにしてもよい。
また、前記凸部には、半径方向に小幅の溝を設け、媒体
表面におけるヘッドとの接触抵抗を減少するようにして
もよい。
【００１６】次に具体的実施例を掲げる。 (1) 表１に示した基板を用いて、スパッタリングによ
り基板温度240 ℃、Ａｒ圧 5.6mmTorrでプレＣｒ下地層
を1000Å成膜した後、−300 Ｖのバイアス電圧を印加し
ながらＣｒ下地層を1500Å、Ｃｏ合金単層からなる磁気
記録層を800 Å、Ｃ層 (平坦層) を250 Åを成膜した。
次に、図３の要領でＣ層から同表の凸部を同心状に形成
した。尚、従来例は、Ａｌ2 Ｏ3 微粉を塗布した研磨テ
ープを用いてアルミ基板に円周方向のテキスチャーを形
成したものである。
り基板温度240 ℃、Ａｒ圧 5.6mmTorrでプレＣｒ下地層
を1000Å成膜した後、−300 Ｖのバイアス電圧を印加し
ながらＣｒ下地層を1500Å、Ｃｏ合金単層からなる磁気
記録層を800 Å、Ｃ層 (平坦層) を250 Åを成膜した。
次に、図３の要領でＣ層から同表の凸部を同心状に形成
した。尚、従来例は、Ａｌ2 Ｏ3 微粉を塗布した研磨テ
ープを用いてアルミ基板に円周方向のテキスチャーを形
成したものである。
【００１７】
【表１】
【００１８】(2) これらの試料を用いて、グライドハ
イトおよび電気的特性を調べた。グライドハイトは、ピ
エゾ素子をカンチレバータイプに取付けた薄膜ヘッド
（ＡＢＳ幅１／mil 、15gf) を用い、回転数を下げる方
法で測定した。スレショールドは0.3 Ｖである。電気的
特性は、トラック幅Ｔｗ11μ、ギャップ長 0.45 μ、巻
数30turn、ＦＨ＝0.1 μm(実施例1,2)及び0.15μm(従来
例) の薄膜ヘッドを用いて、ディスク回転数3600ｒｐ
ｍ、周波数５ＭＨｚ、回転中心より半径ｒ＝23.5μm位
置で測定した。測定結果を表２に示す。
イトおよび電気的特性を調べた。グライドハイトは、ピ
エゾ素子をカンチレバータイプに取付けた薄膜ヘッド
（ＡＢＳ幅１／mil 、15gf) を用い、回転数を下げる方
法で測定した。スレショールドは0.3 Ｖである。電気的
特性は、トラック幅Ｔｗ11μ、ギャップ長 0.45 μ、巻
数30turn、ＦＨ＝0.1 μm(実施例1,2)及び0.15μm(従来
例) の薄膜ヘッドを用いて、ディスク回転数3600ｒｐ
ｍ、周波数５ＭＨｚ、回転中心より半径ｒ＝23.5μm位
置で測定した。測定結果を表２に示す。
【００１９】
【表２】
【００２０】(3) 表２より、実施例は従来例に対して
グライドハイトが40％以上低く、電磁変換特性の改善ひ
いては線密度の著しい向上が期待できる。また、実施例
は従来例に対してＮ (ノイズ) が小さく、又Ｓ／Ｎが大
きく、電気的特性に優れている。
グライドハイトが40％以上低く、電磁変換特性の改善ひ
いては線密度の著しい向上が期待できる。また、実施例
は従来例に対してＮ (ノイズ) が小さく、又Ｓ／Ｎが大
きく、電気的特性に優れている。
【００２１】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明の金属薄膜型
磁気記録媒体は、磁気記録層の上に上面が平坦な凸部が
同心状又はら線状に形成されているので、該凸部によっ
て耐久性と平滑性とを兼備することができ、平滑性によ
りヘッドの低浮上化を図ることができ、線記録密度を向
上させることができる。また、凸部が規則的に形成され
ているため、該凹部を光学的に検出することにより、凸
部に対応するトラックの位置検出を容易に行なうことが
でき、位置検出用のトラックが不要となり、トラック密
度の向上も図ることができる。また、磁気記録層自体に
は凹凸が形成されず、平滑な層となっているため、磁気
記録層表面と磁気ヘッドとの間隔が一定となり、基板に
テキスチャーを施したものに比べて電気的特性が優れ
る。
磁気記録媒体は、磁気記録層の上に上面が平坦な凸部が
同心状又はら線状に形成されているので、該凸部によっ
て耐久性と平滑性とを兼備することができ、平滑性によ
りヘッドの低浮上化を図ることができ、線記録密度を向
上させることができる。また、凸部が規則的に形成され
ているため、該凹部を光学的に検出することにより、凸
部に対応するトラックの位置検出を容易に行なうことが
でき、位置検出用のトラックが不要となり、トラック密
度の向上も図ることができる。また、磁気記録層自体に
は凹凸が形成されず、平滑な層となっているため、磁気
記録層表面と磁気ヘッドとの間隔が一定となり、基板に
テキスチャーを施したものに比べて電気的特性が優れ
る。
【図１】本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の要部断面図
である。
である。
【図２】同磁気記録媒体の平面図である。
【図３】磁気記録層に凸部を形成する場合のプロセス図
である。
である。
【図４】本発明の金属薄膜型磁気記録媒体の他例の要部
断面図である。
断面図である。
1 非磁性基板 2 Ｃｒ下地層 3 磁気記録層 4 凸部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 功 大阪府大阪市浪速区敷津東１丁目２番47号 株式会社クボタ内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 非磁性の基板に非磁性の下地層を介して
磁気記録層を積層形成した金属薄膜型磁気記録媒体にお
いて前記磁気記録層の上に上面が平坦な凸部が同心状又
はら線状に形成されていることを特徴とする金属薄膜型
磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17846391A JPH0528470A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17846391A JPH0528470A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0528470A true JPH0528470A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16048960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17846391A Pending JPH0528470A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0528470A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011023080A (ja) * | 2009-07-17 | 2011-02-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-07-18 JP JP17846391A patent/JPH0528470A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011023080A (ja) * | 2009-07-17 | 2011-02-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
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