JPH01133274A - 浮動磁気ヘッドとその製造方法 - Google Patents
浮動磁気ヘッドとその製造方法Info
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- JPH01133274A JPH01133274A JP29152087A JP29152087A JPH01133274A JP H01133274 A JPH01133274 A JP H01133274A JP 29152087 A JP29152087 A JP 29152087A JP 29152087 A JP29152087 A JP 29152087A JP H01133274 A JPH01133274 A JP H01133274A
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- magnetic disk
- slider
- magnetic head
- slider surface
- floating
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- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 abstract description 26
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、固定磁気ディスク装茸に用いられる浮動磁気
ヘッドに係り、特に磁気ディスクの回転に伴って磁気デ
ィスクから浮上し、回転停止に伴って磁気ディスクと接
触するスライダ部の構造とその製法に関する。
ヘッドに係り、特に磁気ディスクの回転に伴って磁気デ
ィスクから浮上し、回転停止に伴って磁気ディスクと接
触するスライダ部の構造とその製法に関する。
（従来技術）
近年、磁気ディスクｇ装置に対する小型大容量化の要請
が強まるにつれ、磁気ディスクの径が小型化されると共
に磁気ディスクの回転数を小さくし、記録波長を小さく
した高密度磁気記録再生が広く行なわれている。高密度
磁気記録再生を充分行うためには、高い保持力の記録媒
体から、なる磁気ディスクと磁気ギャップ長の小さな浮
動磁気ヘッドが必要であり、また、使用に際してはスペ
ーシングロスを出来るだけ小さくするために、磁気ギャ
ップが形成されたスライダ面を磁気ディスクからあまり
浮上させないことが必要である。
が強まるにつれ、磁気ディスクの径が小型化されると共
に磁気ディスクの回転数を小さくし、記録波長を小さく
した高密度磁気記録再生が広く行なわれている。高密度
磁気記録再生を充分行うためには、高い保持力の記録媒
体から、なる磁気ディスクと磁気ギャップ長の小さな浮
動磁気ヘッドが必要であり、また、使用に際してはスペ
ーシングロスを出来るだけ小さくするために、磁気ギャ
ップが形成されたスライダ面を磁気ディスクからあまり
浮上させないことが必要である。
この浮上最は磁気ヘッド及び磁気ディスクの表面性とか
装置の押圧バネの性能等により定まるが、最近ではのこ
の値は０．２μｍあるいはそれ以下の値に抑えられてい
る。
装置の押圧バネの性能等により定まるが、最近ではのこ
の値は０．２μｍあるいはそれ以下の値に抑えられてい
る。
また、浮動磁気ヘッドのスライダ面と接触を繰り返す磁
気ディスクの表面は極めて薄い薄膜状の磁気媒体から出
来ているため、その耐久性に何らかの対策を講する必要
がある。
気ディスクの表面は極めて薄い薄膜状の磁気媒体から出
来ているため、その耐久性に何らかの対策を講する必要
がある。
従来の磁気ディスクにおいては、磁気ディスク媒体の上
にＳｉ ０２ 、Ｑｒなどの保護膜を成膜し、更にｒａ
ＷＩ油を塗布したり、カーボン膜などの潤滑性を有する
保ｒ！ＩＩＩを成膜する等して耐久性を持たせていたが
、スライダ面と磁気ディスクとは磁気ディスクの回転・
停止に伴って接触回転するため、これらの数十人程度の
保護ｒＲＷ４膜は摩耗消滅するという問題点があった。
にＳｉ ０２ 、Ｑｒなどの保護膜を成膜し、更にｒａ
ＷＩ油を塗布したり、カーボン膜などの潤滑性を有する
保ｒ！ＩＩＩを成膜する等して耐久性を持たせていたが
、スライダ面と磁気ディスクとは磁気ディスクの回転・
停止に伴って接触回転するため、これらの数十人程度の
保護ｒＲＷ４膜は摩耗消滅するという問題点があった。
また、従来の多結晶フェライトを用いた浮動磁気ヘッド
のスライダ面は、ラップ加工により滑らかな地肌に仕上
げられ、しかも、硬度の低い加工変質層が表面に露出し
ているため、使用に際して、磁気ディスクとスライダ面
の間に液体ｎ滑剤や雰囲気中の水蒸気が介在すると吸着
を生じ摩擦係数が大となる傾向があった。
のスライダ面は、ラップ加工により滑らかな地肌に仕上
げられ、しかも、硬度の低い加工変質層が表面に露出し
ているため、使用に際して、磁気ディスクとスライダ面
の間に液体ｎ滑剤や雰囲気中の水蒸気が介在すると吸着
を生じ摩擦係数が大となる傾向があった。
摩擦係数の大きなスライダ面と磁気ディスクとの接触回
転により摩耗が生じると塵などの発生を招くと共に、ス
ライダ面と磁気ディスクとの密着度が増し、実効接触面
積が増加する結果、吸着力の増加、摩擦係数の増加を招
き、磁気ディスクの摩耗は増大し、耐久性を著しく弱め
る動きをする等の問題があった。
転により摩耗が生じると塵などの発生を招くと共に、ス
ライダ面と磁気ディスクとの密着度が増し、実効接触面
積が増加する結果、吸着力の増加、摩擦係数の増加を招
き、磁気ディスクの摩耗は増大し、耐久性を著しく弱め
る動きをする等の問題があった。
（問題点を解決するための手段）
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
り、磁気ディスクの回転に伴って磁気ディスクから浮上
し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触するスライダ
部を有する浮ｖＪ磁気ヘッドにおいて、前記スライダ部
を粒界が析出した多結晶フェライト材から構成したこと
を特徴とする浮動型磁気ヘッドとその製造方法を提供し
ようとするものである。
り、磁気ディスクの回転に伴って磁気ディスクから浮上
し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触するスライダ
部を有する浮ｖＪ磁気ヘッドにおいて、前記スライダ部
を粒界が析出した多結晶フェライト材から構成したこと
を特徴とする浮動型磁気ヘッドとその製造方法を提供し
ようとするものである。
（実施例）
第１図は本発明になる浮ｖＪ磁気ヘッド１０の斜視図で
あり、以下同図を用いて説明する。１１は多結晶フェラ
イトからなるスライダ部であり、スライダ面１１ａの略
中央部には平行な一対の逃げ溝１１ｂが形成され、溝１
１ｂに挾まれてセンターレール１１Ｃが設けられている
。１２は多結晶フェライトからなる磁気コア半休であり
、突合せ面に形成された巻線窓１３にはコイル１４が施
され、スライダ部１１を他の磁気コア半休となる如く、
センタへレール１１ｃの端面に突合され、磁気ヘッド部
を形成している。浮動磁気ヘッド１０はスライダ面１１
ａを研磨機によってラップされたのち、更にこのスライ
ダ面１１ａにイオンミリングを行いスライダ面１１ａ上
に多結晶粒界を析出しである。このときのイオンミリン
グの条件は１０４ＴｏｒｒのＡｒガス雰囲気中でイオン
ソースと基板間を１ｋＶの加速電圧を加えイオンミリン
グ時間をｉｌｌ ｔｉｌｌすることにより粒界の凹凸の
高さを決める。実験によれば数千人のイオンミリングを
行ってもイオンミリングの前後でスライダ部１１の捻れ
歪等は発生せず、ランプ時と同様のスライダ面１１ａの
平坦度が保たれるものである。
あり、以下同図を用いて説明する。１１は多結晶フェラ
イトからなるスライダ部であり、スライダ面１１ａの略
中央部には平行な一対の逃げ溝１１ｂが形成され、溝１
１ｂに挾まれてセンターレール１１Ｃが設けられている
。１２は多結晶フェライトからなる磁気コア半休であり
、突合せ面に形成された巻線窓１３にはコイル１４が施
され、スライダ部１１を他の磁気コア半休となる如く、
センタへレール１１ｃの端面に突合され、磁気ヘッド部
を形成している。浮動磁気ヘッド１０はスライダ面１１
ａを研磨機によってラップされたのち、更にこのスライ
ダ面１１ａにイオンミリングを行いスライダ面１１ａ上
に多結晶粒界を析出しである。このときのイオンミリン
グの条件は１０４ＴｏｒｒのＡｒガス雰囲気中でイオン
ソースと基板間を１ｋＶの加速電圧を加えイオンミリン
グ時間をｉｌｌ ｔｉｌｌすることにより粒界の凹凸の
高さを決める。実験によれば数千人のイオンミリングを
行ってもイオンミリングの前後でスライダ部１１の捻れ
歪等は発生せず、ランプ時と同様のスライダ面１１ａの
平坦度が保たれるものである。
第２図（ａ ）は第１図に示す浮動磁気ヘッド１０のイ
オンミリングを行う前のスライダ面１１ａ′の平坦度を
示すグラフであり、同図＜ｂ＞は第１図に示す本発明に
なる浮動磁気ヘッド１０のスライダ面の平坦度を示すグ
ラフである。平坦度はマイケルソン干渉計で測定した結
果をグラフ化しである。同図＜ａ ）に示す様に、イオ
ンミリングを行う前のスライダ面１１ａの粗を表わす凸
部の突出ｆｆ１ｄ１は５０人と略一定に整っているが、
同図（ｂ ）に示す様に、本発明になるイオンミリング
を行ったスライダ面１１ａ上に見られる凸部は不整いで
あり、しかもその突出ａｄ２の最大値は１００〜１５０
人と大きくなっている。
オンミリングを行う前のスライダ面１１ａ′の平坦度を
示すグラフであり、同図＜ｂ＞は第１図に示す本発明に
なる浮動磁気ヘッド１０のスライダ面の平坦度を示すグ
ラフである。平坦度はマイケルソン干渉計で測定した結
果をグラフ化しである。同図＜ａ ）に示す様に、イオ
ンミリングを行う前のスライダ面１１ａの粗を表わす凸
部の突出ｆｆ１ｄ１は５０人と略一定に整っているが、
同図（ｂ ）に示す様に、本発明になるイオンミリング
を行ったスライダ面１１ａ上に見られる凸部は不整いで
あり、しかもその突出ａｄ２の最大値は１００〜１５０
人と大きくなっている。
上記の実施例では多結晶を析出させる方法としてイオン
ミリングによる方法を採用したが、必ずしもイオンミリ
ングに限ることはなく、スパッタエツチング、プラズマ
エツチング等のドライエツチング手段を用いることが出
来る。
ミリングによる方法を採用したが、必ずしもイオンミリ
ングに限ることはなく、スパッタエツチング、プラズマ
エツチング等のドライエツチング手段を用いることが出
来る。
第３図は浮動磁気ヘッド１０と磁気ディスクとが接触回
転している状態を示す模式図である。
転している状態を示す模式図である。
使用に際して、浮動磁気ヘッド１０は磁気ディスク１５
の半径方向に移動可能な図示しない装置に取付けられ、
回転する磁気ディスク１５上に同心円状の信号トラック
を記録、再生する。浮動磁気ヘッド１０のスライダ面１
１ａは磁気ディスク１５の回転に伴って磁気ディスク１
５がられずか浮上するが、回転停止に伴ってスライダ面
１１ａは磁気ディスクと接触する。第４図（ａ ）は第
１図に示す浮動磁気ヘッドのイオンミリングを行う前の
スライダ面１１ａ′と磁気ディスク１５面との接触状態
を示す一部拡大図であり、同図（ｂ）は第１図に示す本
発明になる浮動磁気ヘッド１０のイオンミリングを行っ
たスライダ面１１ａと磁気ディスク１５面との接触状態
を示す一部拡大図である。
の半径方向に移動可能な図示しない装置に取付けられ、
回転する磁気ディスク１５上に同心円状の信号トラック
を記録、再生する。浮動磁気ヘッド１０のスライダ面１
１ａは磁気ディスク１５の回転に伴って磁気ディスク１
５がられずか浮上するが、回転停止に伴ってスライダ面
１１ａは磁気ディスクと接触する。第４図（ａ ）は第
１図に示す浮動磁気ヘッドのイオンミリングを行う前の
スライダ面１１ａ′と磁気ディスク１５面との接触状態
を示す一部拡大図であり、同図（ｂ）は第１図に示す本
発明になる浮動磁気ヘッド１０のイオンミリングを行っ
たスライダ面１１ａと磁気ディスク１５面との接触状態
を示す一部拡大図である。
同図から明らかな様に、従来のイオンミリングを行なわ
ないスライダ面１１ａ′と磁気ディスク１５との表面と
の実効接触面積と、本発明になるイオンミリングを行っ
て多結晶を析出させたスライダ面１１ａと磁気ディスク
１５の表面との実効接触面積とを比較すると本発明のス
ライダ面１１ａと磁気ディスク１５の表面との実効接触
面積の方が小さく、従って摩擦係数も吸着現象も少なく
、ｒｒ４摩耗性に優れていることが分る。
ないスライダ面１１ａ′と磁気ディスク１５との表面と
の実効接触面積と、本発明になるイオンミリングを行っ
て多結晶を析出させたスライダ面１１ａと磁気ディスク
１５の表面との実効接触面積とを比較すると本発明のス
ライダ面１１ａと磁気ディスク１５の表面との実効接触
面積の方が小さく、従って摩擦係数も吸着現象も少なく
、ｒｒ４摩耗性に優れていることが分る。
第５図（ａ ）は第４図（ａ ）に示す磁気ディスク１
５面に液性の薄膜１６を塗布した場合のイオンミリング
を行なわないスライダ面１１８′との接触状況を示す一
部拡大図、同図（ｂ ）は第４図（ｂ）に示す磁気ディ
スク１５面に液性の薄膜１６を塗布した場合のイオンミ
リングを行ったスライダ面１１ａとの接触状態を示す一
部拡大図である。
５面に液性の薄膜１６を塗布した場合のイオンミリング
を行なわないスライダ面１１８′との接触状況を示す一
部拡大図、同図（ｂ ）は第４図（ｂ）に示す磁気ディ
スク１５面に液性の薄膜１６を塗布した場合のイオンミ
リングを行ったスライダ面１１ａとの接触状態を示す一
部拡大図である。
同図から明らかな様に、磁気ディスク１５の表面に液状
の薄膜１６が介在すると従来のイオンミリングを行なわ
ないスライダ面１６と磁気ディスク１５の表面は更に吸
着しやすくなることを示している。
の薄膜１６が介在すると従来のイオンミリングを行なわ
ないスライダ面１６と磁気ディスク１５の表面は更に吸
着しやすくなることを示している。
第６図は従来の浮動磁気ヘッド及び第１図に示す本発明
になる浮動磁気ヘッド１０のコンタクトスタート／スト
ップ回数と摩擦係数との関係を示すグラフであり、図中
、曲１１１６はイオンミリングを行なわない従来の浮動
磁気ヘッドと磁気ディスク１５を用いてコンタクトスタ
ート／ストップ実験を榛り返し行い摩擦係数の変化を調
べたものである。曲線１８は本発明になる浮動磁気ヘッ
ド１０と磁気ディスクを用いて同様の実験を行った結果
を示すものである。
になる浮動磁気ヘッド１０のコンタクトスタート／スト
ップ回数と摩擦係数との関係を示すグラフであり、図中
、曲１１１６はイオンミリングを行なわない従来の浮動
磁気ヘッドと磁気ディスク１５を用いてコンタクトスタ
ート／ストップ実験を榛り返し行い摩擦係数の変化を調
べたものである。曲線１８は本発明になる浮動磁気ヘッ
ド１０と磁気ディスクを用いて同様の実験を行った結果
を示すものである。
第６図から、明らかな様に、イオンミリングを行った場
合と行なわない場合とを比較すると、イオンミリングを
行ったものの方が、初期状態においても、摩擦係数１７
は小さく、しかもコンタクトスタート／ストップ回数が
増してもさほど摩擦係数は増加せず、磁気ディスクの耐
久性を向上させ得ることが出来る。この理由は、ラップ
後加工層を有する多結晶フェライトの表面に加速イオン
を衝突させ、多結晶粒界を析出させたため、表面に生じ
た凸部は硬度の高い結晶面のみが残り、耐摩耗性が向上
すると共にこの凸部によって磁気ディスク１５面との実
効接触面積が小さくなるため吸着も起らず、摩擦係数も
小さくなるためと考えられる。また、この多結晶の凸部
によって生じた段差は数十人〜数百人程度が適当であり
、この値は結晶粒径の約１／ １０００以下という小さ
な値であり、また浮上層に比較して小さいため浮動磁気
ヘッドの浮動特性に何ら影響を与えるものではない。
合と行なわない場合とを比較すると、イオンミリングを
行ったものの方が、初期状態においても、摩擦係数１７
は小さく、しかもコンタクトスタート／ストップ回数が
増してもさほど摩擦係数は増加せず、磁気ディスクの耐
久性を向上させ得ることが出来る。この理由は、ラップ
後加工層を有する多結晶フェライトの表面に加速イオン
を衝突させ、多結晶粒界を析出させたため、表面に生じ
た凸部は硬度の高い結晶面のみが残り、耐摩耗性が向上
すると共にこの凸部によって磁気ディスク１５面との実
効接触面積が小さくなるため吸着も起らず、摩擦係数も
小さくなるためと考えられる。また、この多結晶の凸部
によって生じた段差は数十人〜数百人程度が適当であり
、この値は結晶粒径の約１／ １０００以下という小さ
な値であり、また浮上層に比較して小さいため浮動磁気
ヘッドの浮動特性に何ら影響を与えるものではない。
（発明の効果）
上述の如く本発明になる浮動磁気ヘッドによれば、磁気
ディスクの回転に伴って磁気ディスクから浮上し１回転
停止に伴って磁気ディスクと接触するスライダ部を有す
る浮動磁気ヘッドにおいて、前記スライダ部を粒界が析
出した多結晶フェライト材から構成したためスライダ面
と磁気ディスク面との実効接触面積を小さくすることが
出来、両者間の摩擦係数および吸着力を低減し、摩耗を
減らし磁気ディスク装置の耐久性を向上させることが出
来る。また、本発明になる浮動磁気ヘッドの製造方法に
よれば、磁気ディスクの回転に伴って磁気ディスクから
浮上し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触するスラ
イダ部を有する浮動磁気ヘッドにおいて、前記スライダ
部を多結晶フェライト材から構成すると共に、この多結
晶フェライト材をドライエツチングにより析出させたた
め、硬度の高い結晶面からなる凸部を容易にスライダ面
に形成することが出来るという特長を有する。
ディスクの回転に伴って磁気ディスクから浮上し１回転
停止に伴って磁気ディスクと接触するスライダ部を有す
る浮動磁気ヘッドにおいて、前記スライダ部を粒界が析
出した多結晶フェライト材から構成したためスライダ面
と磁気ディスク面との実効接触面積を小さくすることが
出来、両者間の摩擦係数および吸着力を低減し、摩耗を
減らし磁気ディスク装置の耐久性を向上させることが出
来る。また、本発明になる浮動磁気ヘッドの製造方法に
よれば、磁気ディスクの回転に伴って磁気ディスクから
浮上し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触するスラ
イダ部を有する浮動磁気ヘッドにおいて、前記スライダ
部を多結晶フェライト材から構成すると共に、この多結
晶フェライト材をドライエツチングにより析出させたた
め、硬度の高い結晶面からなる凸部を容易にスライダ面
に形成することが出来るという特長を有する。
第１図は本発明になる浮動磁気ヘッドの斜視図、第２図
（ａ ）は第１図に示す浮動磁気ヘッドのイオンミリン
グする前のスライダ面の平坦度を示すグラフ、同図（ｂ
）は第１図に示す本発明になる浮動磁気ヘッドのスラ
イダ面の平坦度を示すグラフ、第３図は浮動磁気ヘッド
と磁気ディスクとが接触回転している状態を示す模式口
、第４図（ａ ）は第１図に示す浮動磁気ヘッドのイオ
ンミリングを施す前のスライダ面と磁気ディスク面との
接触状態を示す一部拡大図、同図（ｂ）は第１図に示す
本発明になる浮動磁気ヘッドのイオンミリングを施した
スライダ面と磁気ディスク面との接触状態を示す一部拡
大図、第５図（ａ ）は第４図（ａ ）に示す磁気ディ
スク面に液性ｉ１膜を塗布した場合のイオンミリングを
施さないスライダ面との接触状態を示す一部拡大図、同
図（ｂ）は第４図（ｂ）に示す磁気ディスク面に液性薄
膜を塗布した場合のイオンミリングを施したスライダ面
１１ａとの接触状態を示す一部拡大図、第６図は従来の
浮動磁気ヘッド及び第１図に示す本発明になる浮動磁気
ヘッドのコンタクトスタート／ストップ回数と摩擦係数
との関係を示すグラフである。 １０・・・浮動磁気ヘッド、１１・・・スライダ部、１
１ａ・・・スライダ面、１２・・・磁気コア半休、１５
・・・磁気ディスク。 幕夕図
（ａ ）は第１図に示す浮動磁気ヘッドのイオンミリン
グする前のスライダ面の平坦度を示すグラフ、同図（ｂ
）は第１図に示す本発明になる浮動磁気ヘッドのスラ
イダ面の平坦度を示すグラフ、第３図は浮動磁気ヘッド
と磁気ディスクとが接触回転している状態を示す模式口
、第４図（ａ ）は第１図に示す浮動磁気ヘッドのイオ
ンミリングを施す前のスライダ面と磁気ディスク面との
接触状態を示す一部拡大図、同図（ｂ）は第１図に示す
本発明になる浮動磁気ヘッドのイオンミリングを施した
スライダ面と磁気ディスク面との接触状態を示す一部拡
大図、第５図（ａ ）は第４図（ａ ）に示す磁気ディ
スク面に液性ｉ１膜を塗布した場合のイオンミリングを
施さないスライダ面との接触状態を示す一部拡大図、同
図（ｂ）は第４図（ｂ）に示す磁気ディスク面に液性薄
膜を塗布した場合のイオンミリングを施したスライダ面
１１ａとの接触状態を示す一部拡大図、第６図は従来の
浮動磁気ヘッド及び第１図に示す本発明になる浮動磁気
ヘッドのコンタクトスタート／ストップ回数と摩擦係数
との関係を示すグラフである。 １０・・・浮動磁気ヘッド、１１・・・スライダ部、１
１ａ・・・スライダ面、１２・・・磁気コア半休、１５
・・・磁気ディスク。 幕夕図
Claims (2)
- （１）磁気ディスクの回転に伴つて磁気ディスクから浮
上し、回転停止に伴って磁気ディスクと接触するスライ
ダ部を有する浮動磁気ヘッドにおいて、前記スライダ部
を粒界が析出した多結晶フェライト材から構成したこと
を特徴とする浮動磁気ヘッド。 - （２）磁気ディスクの回転に伴つて磁気ディスクから浮
上し、回転停止に伴つて磁気ディスクと接触するスライ
ダ部を有する浮動磁気ヘッドにおいて、前記スライダ部
を多結晶フェライト材から構成すると共に、この多結晶
フェライト材をドライエッチングにより析出させたこと
を特徴とする浮動磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29152087A JPH01133274A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 浮動磁気ヘッドとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29152087A JPH01133274A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 浮動磁気ヘッドとその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01133274A true JPH01133274A (ja) | 1989-05-25 |
Family
ID=17769961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29152087A Pending JPH01133274A (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 浮動磁気ヘッドとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01133274A (ja) |
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1987
- 1987-11-18 JP JP29152087A patent/JPH01133274A/ja active Pending
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