JPS6038720A - 磁気ディスク用基板 - Google Patents
磁気ディスク用基板Info
- Publication number
- JPS6038720A JPS6038720A JP58145526A JP14552683A JPS6038720A JP S6038720 A JPS6038720 A JP S6038720A JP 58145526 A JP58145526 A JP 58145526A JP 14552683 A JP14552683 A JP 14552683A JP S6038720 A JPS6038720 A JP S6038720A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- film
- magnetic
- magnetic disk
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の技術分野
本発明は高密度連続薄膜型磁気ディスク用茫板に係シ、
特に機台材料によるセラミックを用い、電磁変換特性を
損わず耐Ｃ８５（コンタクト、スタート、ストップ）性
、衝堅四を付与する基板に関する。
特に機台材料によるセラミックを用い、電磁変換特性を
損わず耐Ｃ８５（コンタクト、スタート、ストップ）性
、衝堅四を付与する基板に関する。
（ｂ） 従来技術と問題点
従来よシ磁気ティスク等に使用される連続薄膜型磁気デ
ィスク媒体は、例えば第１図に示すように磁気ディスク
基板Ａはアルミ（Ａｔ３基板１上にアルマイト処理（Ｍ
２Ｏ３・Ｈ２Ｏ）膜２を形成し、その処理膜２上をボリ
ソシーし、そのヒ（（スノくツタにより磁性膜（ｒ−Ｆ
ｅ２０３） ３を形成し、さらにその上に保瀕膜（Ｓｉ
Ｏｚ）４をつけ、その表面に潤滑剤５が塗布されている
。
ィスク媒体は、例えば第１図に示すように磁気ディスク
基板Ａはアルミ（Ａｔ３基板１上にアルマイト処理（Ｍ
２Ｏ３・Ｈ２Ｏ）膜２を形成し、その処理膜２上をボリ
ソシーし、そのヒ（（スノくツタにより磁性膜（ｒ−Ｆ
ｅ２０３） ３を形成し、さらにその上に保瀕膜（Ｓｉ
Ｏｚ）４をつけ、その表面に潤滑剤５が塗布されている
。
上記のように磁気ディスク媒体の基板１はアルミ板が用
いられ、アルマイト処理（もしくは非磁性メッキ処理）
を行い、ポリツシーによシ鏡面加工され、表面粗さ０．
００５μＲａを達成することにより必要な砧件特性を得
ている。
いられ、アルマイト処理（もしくは非磁性メッキ処理）
を行い、ポリツシーによシ鏡面加工され、表面粗さ０．
００５μＲａを達成することにより必要な砧件特性を得
ている。
上記磁気ディスク媒体ＡはＣ８Ｓ型研気ヘツドにより読
み／書きが行われるため、第２図に示すように磁気ヘッ
ド６はバネ７で押圧されて、最初はｌ愕気ティスク媒体
Ａ上にあり、磁気ディスクＡの回転により生ずる空気流
で０２〜０．３μｍ浮上し、ｔＲみ７店きを行い、磁気
ディスクＡの回転停止で磁気ヘッド６は磁気ディスク媒
体Ａ上に停止する。
み／書きが行われるため、第２図に示すように磁気ヘッ
ド６はバネ７で押圧されて、最初はｌ愕気ティスク媒体
Ａ上にあり、磁気ディスクＡの回転により生ずる空気流
で０２〜０．３μｍ浮上し、ｔＲみ７店きを行い、磁気
ディスクＡの回転停止で磁気ヘッド６は磁気ディスク媒
体Ａ上に停止する。
ところが磁気ヘッド６はフェライトで底面が平坦に構成
されており、又磁気ディスク媒体Ａも上記のように平坦
（鏡面加工）で、かっＣ１６時の耐摩耗性をよくするた
めに表面に潤滑剤５が塗布されているため、磁気へノド
６は停止状態で磁気ディスク媒体Ａに吸着してし壕う。
されており、又磁気ディスク媒体Ａも上記のように平坦
（鏡面加工）で、かっＣ１６時の耐摩耗性をよくするた
めに表面に潤滑剤５が塗布されているため、磁気へノド
６は停止状態で磁気ディスク媒体Ａに吸着してし壕う。
又、磁気ヘッド６は浮上状述で振動等によシ磁気ディス
ク謀体Ａに接触踵その衝撃により磁気ディスク媒体Ａを
傷める等の問題がある。
ク謀体Ａに接触踵その衝撃により磁気ディスク媒体Ａを
傷める等の問題がある。
（Ｃ） 発明の目的
本発明の目的は磁気ディスク用基板として複合材料のセ
ラミックを用いること１ｃよシ、その複合材料の特徴を
生かし、加工法もしくは処理により磁特性上問題の無い
範囲で凹凸を作ムタ１′、体として必要な摺動強ｌ更及
び吸着を満足させることにある。
ラミックを用いること１ｃよシ、その複合材料の特徴を
生かし、加工法もしくは処理により磁特性上問題の無い
範囲で凹凸を作ムタ１′、体として必要な摺動強ｌ更及
び吸着を満足させることにある。
（ｄ） 発明の構成
そしてこのＩ」的は、本発明によればスパッタ。
メッキ、蒸着等のプロセスにょシ連ｖ？、’＜Ａは脱が
形成される磁気フ′イスクｊ１」基板に背いて、該基板
として複合材料セラミックを用い、基板表面に化学的、
物理的なエツチングによって微小な凹凸を形成した事を
特徴とする磁気ディスク用基板を提供することによシ達
成される。
形成される磁気フ′イスクｊ１」基板に背いて、該基板
として複合材料セラミックを用い、基板表面に化学的、
物理的なエツチングによって微小な凹凸を形成した事を
特徴とする磁気ディスク用基板を提供することによシ達
成される。
（ｅ） 発明の実施例
以下、本発明の実施例を図面により詳述する０第３図は
本発明の磁気ディスク用基板の一実施例を示す断面図で
ある。
本発明の磁気ディスク用基板の一実施例を示す断面図で
ある。
図において、磁気記録媒体には＠１図に示す従来の磁気
記録媒体Ａのアルミ基板１とアルマイト処理膜２の代シ
に、複合材料セラミックの基板８を用い、セラミックを
構成する微小に分散混合された＆！！、種の材質（実施
例ではアルミナＭ２０．とチタンカーバイ）ＴｉＣ３の
差を利用し、表面加工の際のボリソシー又は化学的又は
物理的なエツチングによって表面上に微小な凹凸を形成
したものである０ 複合材料のセラミ・りにおいて、向えばアルミナＡｇ
２０ｓとチタンカーバイトＴｉｃの複合材料では第４図
に示すようにアルミナ９の材質とチタンカーバイト１０
の材質が微小に分散、結合されている。この表面を平坦
に仕上げるために、ポリッシュ加工するとアルミナ９の
材質とチタンカーバイト１０の拐質の加工速度の違いか
ら、表面にアルミナ９とチタンカーバイト１０の材質で
段差１１が生ずる。本実施例では０．０２〜０．０５μ
ｍ程度の段差１１がサイズ１〜２μｍ程度の幅１２で生
じ、その段差１１が発生する間隔１３は５〜１０μ溝で
あった。なお、実施例ではボリッシー加工による方法で
説明したが、同様に酸等の化学的エツチングあるいは物
理的なドライエツチングによっても、アルミナ９．チタ
ンカーバイト１０の材質の違いから段差を生じる。
記録媒体Ａのアルミ基板１とアルマイト処理膜２の代シ
に、複合材料セラミックの基板８を用い、セラミックを
構成する微小に分散混合された＆！！、種の材質（実施
例ではアルミナＭ２０．とチタンカーバイ）ＴｉＣ３の
差を利用し、表面加工の際のボリソシー又は化学的又は
物理的なエツチングによって表面上に微小な凹凸を形成
したものである０ 複合材料のセラミ・りにおいて、向えばアルミナＡｇ
２０ｓとチタンカーバイトＴｉｃの複合材料では第４図
に示すようにアルミナ９の材質とチタンカーバイト１０
の材質が微小に分散、結合されている。この表面を平坦
に仕上げるために、ポリッシュ加工するとアルミナ９の
材質とチタンカーバイト１０の拐質の加工速度の違いか
ら、表面にアルミナ９とチタンカーバイト１０の材質で
段差１１が生ずる。本実施例では０．０２〜０．０５μ
ｍ程度の段差１１がサイズ１〜２μｍ程度の幅１２で生
じ、その段差１１が発生する間隔１３は５〜１０μ溝で
あった。なお、実施例ではボリッシー加工による方法で
説明したが、同様に酸等の化学的エツチングあるいは物
理的なドライエツチングによっても、アルミナ９．チタ
ンカーバイト１０の材質の違いから段差を生じる。
この基板８上に、従来と同様に磁性膜３を成膜し、更に
その上に保護膜４を成膜すると、基板８上の凹凸がその
まま維持される。その上に潤滑剤５を塗布している。
その上に保護膜４を成膜すると、基板８上の凹凸がその
まま維持される。その上に潤滑剤５を塗布している。
上記のように磁気ディスク媒体Ａ′の表面上に凹凸が形
成されることによシ、凹部に潤滑剤５が保持されるので
、潤滑剤５の塗布は’＋ｉｉ ＜少量でよく、さらに表
面が凸凹であるので磁気ヘッドとの接触面が少くでき、
磁気ヘッドの吸着が防げる。又磁気ヘッドが磁気ディス
ク媒体Ａ′上を摺動したときの摩擦も減少できるので、
Ｃ８Ｓ時の耐摩耗性が増し摺動強度が向上する。さらに
磁気ヘッドの浮上状態で、振動等によシ磁気ディスク媒
体Ａ′に接触した場合でも、セラミック基板で非常に硬
いので、その衝撃力による磁気ディスク媒体Ａ′の変形
を防ぐことができ、媒体のｑｉＪ撃強度は向上する。
成されることによシ、凹部に潤滑剤５が保持されるので
、潤滑剤５の塗布は’＋ｉｉ ＜少量でよく、さらに表
面が凸凹であるので磁気ヘッドとの接触面が少くでき、
磁気ヘッドの吸着が防げる。又磁気ヘッドが磁気ディス
ク媒体Ａ′上を摺動したときの摩擦も減少できるので、
Ｃ８Ｓ時の耐摩耗性が増し摺動強度が向上する。さらに
磁気ヘッドの浮上状態で、振動等によシ磁気ディスク媒
体Ａ′に接触した場合でも、セラミック基板で非常に硬
いので、その衝撃力による磁気ディスク媒体Ａ′の変形
を防ぐことができ、媒体のｑｉＪ撃強度は向上する。
最後に、本発明の複合材料セラミック基板を用いた磁気
ディスク媒体にと従来のアルミ基板を用いた磁気ディス
ク媒体Ａの比較を行った。
ディスク媒体にと従来のアルミ基板を用いた磁気ディス
ク媒体Ａの比較を行った。
第５図（イ）は本発明のＭ２Ｏ３・ＴｉＣ複合栃料セラ
ミンク基板をポリッシー仕上した表面粗さを示しｉδ５
図（ロ）は従来のアルマイト基板をポリッンユ仕上した
表面粗さを示したものでおる。（１０万倍率の表面粗さ
計による表面粗さの模式図）図よシ本発明の複合材料基
板の方が、従来のアルマイト基板よシ微小さ凸凹が多く
形成されていることが判る。
ミンク基板をポリッシー仕上した表面粗さを示しｉδ５
図（ロ）は従来のアルマイト基板をポリッンユ仕上した
表面粗さを示したものでおる。（１０万倍率の表面粗さ
計による表面粗さの模式図）図よシ本発明の複合材料基
板の方が、従来のアルマイト基板よシ微小さ凸凹が多く
形成されていることが判る。
この両者の基板を用いて磁性膜を形成した後、同一の表
面潤滑剤を施し、第６図に示すように該磁気ディスク（
Ａ、Ａ’）を３００Ｏｒｐｍ回転し、試験用ヘッド１３
を用いて、磁気ディスク（Ａ、Ａ ）の回転、停止によ
りヘッド浮上摺動を繰返すＣ８Ｓ試９を行い （ｌ″ｆ
ｉ気ヘッド摺動後のキズの発生。
面潤滑剤を施し、第６図に示すように該磁気ディスク（
Ａ、Ａ’）を３００Ｏｒｐｍ回転し、試験用ヘッド１３
を用いて、磁気ディスク（Ａ、Ａ ）の回転、停止によ
りヘッド浮上摺動を繰返すＣ８Ｓ試９を行い （ｌ″ｆ
ｉ気ヘッド摺動後のキズの発生。
吸着の有ｆｊ＆を評価した。その結果、下記のような成
積であった。 ４ 以上のように耐キズ付性（摺動摩耗及び打ちキズ）吸着
性、摩耗係数の全てについて効果が認められた０ （ｆ） 発明の効果 以上詳＋Ｐｉｌｌに説明したように、本発明によれば本
発明の磁気ティスフ用基板は複合材料のセラミックを用
い、その特性を生かし、加工法もしくは処理によシ微小
な凸凹を作ることにより、この基板上に形成された磁性
膜、保画膜が基板上の凸凹をそのまま維持される。その
結果、潤滑剤が゛塗布された磁気ディスク媒体は従来の
アルミを用いた鏡面基板に比べ、摺動抵抗が減少し、吸
着が無い、摺動強度及び衝撃強度の向上した媒体である
。
積であった。 ４ 以上のように耐キズ付性（摺動摩耗及び打ちキズ）吸着
性、摩耗係数の全てについて効果が認められた０ （ｆ） 発明の効果 以上詳＋Ｐｉｌｌに説明したように、本発明によれば本
発明の磁気ティスフ用基板は複合材料のセラミックを用
い、その特性を生かし、加工法もしくは処理によシ微小
な凸凹を作ることにより、この基板上に形成された磁性
膜、保画膜が基板上の凸凹をそのまま維持される。その
結果、潤滑剤が゛塗布された磁気ディスク媒体は従来の
アルミを用いた鏡面基板に比べ、摺動抵抗が減少し、吸
着が無い、摺動強度及び衝撃強度の向上した媒体である
。
第１図は従来の磁気ディスク媒体の構成を示す断断面図
、第２図はＣ８Ｓ型磁気ヘッドの動作を説明する図、第
３図は本発明の磁気ディスク用基板の一実施例を示す断
面図、第４図は本発明の複合材料セラミックの表面加工
時に形成される凸凹状態を示す図、第５図（ｒ）は本発
明の基板の表面粗さ、第５図（ロ）は従来の基板の表面
粗さを夫々示す図、第６図はＣ８Ｓ試験法を説明する斜
視図である。 図において、３は磁性膜、４は保護膜、５は潤滑剤、８
は基板、９はアルミナ、１０はチタンカーバイト、１１
は段差、１２は幅、１３は間隔、１４は試験用ヘッドを
示す。
、第２図はＣ８Ｓ型磁気ヘッドの動作を説明する図、第
３図は本発明の磁気ディスク用基板の一実施例を示す断
面図、第４図は本発明の複合材料セラミックの表面加工
時に形成される凸凹状態を示す図、第５図（ｒ）は本発
明の基板の表面粗さ、第５図（ロ）は従来の基板の表面
粗さを夫々示す図、第６図はＣ８Ｓ試験法を説明する斜
視図である。 図において、３は磁性膜、４は保護膜、５は潤滑剤、８
は基板、９はアルミナ、１０はチタンカーバイト、１１
は段差、１２は幅、１３は間隔、１４は試験用ヘッドを
示す。
Claims (1)
- スパッタ、メッキ、蒸着等のプロセスによシ連続磁性膜
が形成される磁気ディスク用基板であって、該基板とし
て抜合材旧セラミックを用い、その基板表面上に化学的
、物理的なエツチングによって微小な凹凸を形成した事
を特徴とする磁気ディスク用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58145526A JPS6038720A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | 磁気ディスク用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58145526A JPS6038720A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | 磁気ディスク用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6038720A true JPS6038720A (ja) | 1985-02-28 |
Family
ID=15387254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58145526A Pending JPS6038720A (ja) | 1983-08-09 | 1983-08-09 | 磁気ディスク用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6038720A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6040528A (ja) * | 1983-08-15 | 1985-03-02 | Hitachi Ltd | 磁気ディスクの製造方法 |
| JPS61278021A (ja) * | 1985-06-03 | 1986-12-08 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク用下地基板 |
| US4711115A (en) * | 1985-12-30 | 1987-12-08 | Aluminum Company Of America | Method for forming memory discs by forging |
| JPH02217336A (ja) * | 1989-02-16 | 1990-08-30 | Itochu Shoji Kk | 記録ディスク基板及びその製造方法 |
| US5093173A (en) * | 1989-01-13 | 1992-03-03 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc comprising a substrate of an amorphous glass continuous phase dispersed with crystal particles which produce a structurally defined surface on the substrate |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6022733A (ja) * | 1983-07-19 | 1985-02-05 | Hitachi Metals Ltd | 磁気デイスク基板 |
-
1983
- 1983-08-09 JP JP58145526A patent/JPS6038720A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6022733A (ja) * | 1983-07-19 | 1985-02-05 | Hitachi Metals Ltd | 磁気デイスク基板 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6040528A (ja) * | 1983-08-15 | 1985-03-02 | Hitachi Ltd | 磁気ディスクの製造方法 |
| JPS61278021A (ja) * | 1985-06-03 | 1986-12-08 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク用下地基板 |
| US4711115A (en) * | 1985-12-30 | 1987-12-08 | Aluminum Company Of America | Method for forming memory discs by forging |
| US5093173A (en) * | 1989-01-13 | 1992-03-03 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disc comprising a substrate of an amorphous glass continuous phase dispersed with crystal particles which produce a structurally defined surface on the substrate |
| JPH02217336A (ja) * | 1989-02-16 | 1990-08-30 | Itochu Shoji Kk | 記録ディスク基板及びその製造方法 |
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