JP2546383B2 - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
- Publication number
- JP2546383B2 JP2546383B2 JP1211822A JP21182289A JP2546383B2 JP 2546383 B2 JP2546383 B2 JP 2546383B2 JP 1211822 A JP1211822 A JP 1211822A JP 21182289 A JP21182289 A JP 21182289A JP 2546383 B2 JP2546383 B2 JP 2546383B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- magnetic
- head
- roughness
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、固定磁気ディスク装置に用いられる磁気
ディスクに関し、詳しくはコンポジットタイプの硬質磁
気ヘッドと組み合わせた場合にも好適に用いられる磁気
ディスクに関する。
ディスクに関し、詳しくはコンポジットタイプの硬質磁
気ヘッドと組み合わせた場合にも好適に用いられる磁気
ディスクに関する。
近年、固定磁気ディスク装置に用いられる磁気記録媒
体は強磁性合金薄膜を磁性層とする磁気ディスクが主流
となってきている。このような磁気ディスクの製造方法
として、ディスク状のAl合金基板の表面を平坦に加工
し、Ni−Ｐ無電解めっきをした後、このNi−Ｐ合金層表
面にテクスチャーを施して、一定の表面形状（粗さ）の
非磁性基板とし、この基板上にスパッタ法，イオンプレ
ーティング法あるいは蒸着法などにより、磁性を向上さ
せるためのCr下地層,Co合金磁性層，カーボン膜からな
る保護膜を順次成膜する方法が一般的に知られている。
このカーボン膜は磁気ディスク表面に潤滑性能を付与す
る機能も有する。
体は強磁性合金薄膜を磁性層とする磁気ディスクが主流
となってきている。このような磁気ディスクの製造方法
として、ディスク状のAl合金基板の表面を平坦に加工
し、Ni−Ｐ無電解めっきをした後、このNi−Ｐ合金層表
面にテクスチャーを施して、一定の表面形状（粗さ）の
非磁性基板とし、この基板上にスパッタ法，イオンプレ
ーティング法あるいは蒸着法などにより、磁性を向上さ
せるためのCr下地層,Co合金磁性層，カーボン膜からな
る保護膜を順次成膜する方法が一般的に知られている。
このカーボン膜は磁気ディスク表面に潤滑性能を付与す
る機能も有する。
一方、固定磁気ディスク装置は、一般にCSS（Contact
Start Stop）方式が採られており、磁気ヘッドは装置
の停止中は磁気ディスク表面に接触停止しており、駆動
中は高速回転している磁気ディスク表面を僅かに浮上し
て走行し、駆動開始時と停止時には磁気ディスク表面と
接触摺動する。
Start Stop）方式が採られており、磁気ヘッドは装置
の停止中は磁気ディスク表面に接触停止しており、駆動
中は高速回転している磁気ディスク表面を僅かに浮上し
て走行し、駆動開始時と停止時には磁気ディスク表面と
接触摺動する。
このために、磁気ディスクの表面形状（粗さ）は微妙
な制約を受けることになる。すなわち、第３図に定性的
に示すように、磁気ヘッドの安定した良好な浮上走行性
を実現するためには表面粗さは小さくして突起の少ない
面とすることが必要である。ところが表面粗さが小さく
なり平坦になってくると接触停止時に磁気ヘッドの吸着
がおきやすくなり、また接触摺動時には摩擦係数が増大
し磨耗が激しくなる。磁気ディスク表面はこれらの点を
考慮して適切な表面粗さとすることをが必要となる。
な制約を受けることになる。すなわち、第３図に定性的
に示すように、磁気ヘッドの安定した良好な浮上走行性
を実現するためには表面粗さは小さくして突起の少ない
面とすることが必要である。ところが表面粗さが小さく
なり平坦になってくると接触停止時に磁気ヘッドの吸着
がおきやすくなり、また接触摺動時には摩擦係数が増大
し磨耗が激しくなる。磁気ディスク表面はこれらの点を
考慮して適切な表面粗さとすることをが必要となる。
磁気ディスク表面の粗さは非磁性基板表面の粗さに対
応している。従って、基板表面のNi−Ｐ合金層表面に施
すテクスチャーにより磁気ディスク表面の粗さを制御し
ていた。このようにして制御された磁気ディスクの表面
粗さと摩擦係数との関係を第２図に示す。粗さは中心線
平均粗さRaおよび相対負荷曲線の相対負荷長さ10％にお
けるカッティング深さから相対負荷長さ１％におけるカ
ッティング深さを差し引いた値ΔCv（10％−１％）で評
価し、摩擦係数はモノリシックタイプのMn−Znフェライ
ト磁気ヘッドでCSSを１万回行った後の値である。第２
図よりRaを60Å以上85Å以下の範囲内とし、ΔCv（10％
−１％）を80Å以上150Å以下の範囲内にすることによ
り、磨耗が少なく、磁気ヘッドの吸着もおきにくく、し
かも磁気ヘッドの安定な低浮上走行が可能な磁気ディス
クを得ていた。
応している。従って、基板表面のNi−Ｐ合金層表面に施
すテクスチャーにより磁気ディスク表面の粗さを制御し
ていた。このようにして制御された磁気ディスクの表面
粗さと摩擦係数との関係を第２図に示す。粗さは中心線
平均粗さRaおよび相対負荷曲線の相対負荷長さ10％にお
けるカッティング深さから相対負荷長さ１％におけるカ
ッティング深さを差し引いた値ΔCv（10％−１％）で評
価し、摩擦係数はモノリシックタイプのMn−Znフェライ
ト磁気ヘッドでCSSを１万回行った後の値である。第２
図よりRaを60Å以上85Å以下の範囲内とし、ΔCv（10％
−１％）を80Å以上150Å以下の範囲内にすることによ
り、磨耗が少なく、磁気ヘッドの吸着もおきにくく、し
かも磁気ヘッドの安定な低浮上走行が可能な磁気ディス
クを得ていた。
近年、固定磁気ディスク装置の大容量化にともない、
磁気ヘッドはモノリシックヘッド（例えばMn−Znフェラ
イト磁気ヘッド；硬度Hv約700）からコンポジットヘッ
ド（例えばスライダ材料としてCaTiO3を用いたもの；硬
度Hv約800）へと移行する傾向にある。ところが、コン
ポジットヘッドと従来の磁気ディスクとを組み合わせて
用いると、ヘッドスライダの硬度，材質などの違いによ
り、磁気ヘッドの低浮上走行，吸着に関しては良好であ
るが、摩擦係数はモノシックヘッドの場合に比べて著し
く増大するという問題が生じる。
磁気ヘッドはモノリシックヘッド（例えばMn−Znフェラ
イト磁気ヘッド；硬度Hv約700）からコンポジットヘッ
ド（例えばスライダ材料としてCaTiO3を用いたもの；硬
度Hv約800）へと移行する傾向にある。ところが、コン
ポジットヘッドと従来の磁気ディスクとを組み合わせて
用いると、ヘッドスライダの硬度，材質などの違いによ
り、磁気ヘッドの低浮上走行，吸着に関しては良好であ
るが、摩擦係数はモノシックヘッドの場合に比べて著し
く増大するという問題が生じる。
この発明が解決しようとする課題は、上述の問題点を
解消して、硬質のコンポジットヘッドと組み合わせて好
適に使用できる磁気ディスクを提供することにある。
解消して、硬質のコンポジットヘッドと組み合わせて好
適に使用できる磁気ディスクを提供することにある。
上記の課題は、この発明によれば、非磁性基板上に設
けられた強磁性合金薄膜磁性層上にさらに保護層が形成
されてなる磁気ディスクにおいて、磁気ディスクの表面
粗さをRaで80Å以上120Å以下の範囲内とし、ΔCv（10
％−１％）で120Å以上250Å以下の範囲内とすることに
よって解決できる。
けられた強磁性合金薄膜磁性層上にさらに保護層が形成
されてなる磁気ディスクにおいて、磁気ディスクの表面
粗さをRaで80Å以上120Å以下の範囲内とし、ΔCv（10
％−１％）で120Å以上250Å以下の範囲内とすることに
よって解決できる。
第１図は、磁気ディスクの表面粗さのRaおよびΔCu
（10％−１％）とコンポジットヘッドを用いてCSSを１
万回行った後の摩擦係数との関係を示す線図である。R
a,ΔCv（10％−１％）の値が大きくなる程摩擦係数は減
少する。本発明者は鋭意検討の結果、Raの範囲を従来の
60Å以上85Å以下から80Å以上120Å以下とずらし、ま
た、ΔCv（10％−１％）の範囲を従来の80Å以上150Å
以下から120Å以上250Å以下とずらし、磁気ディスクの
表面粗さを若干あらくすることにより、コンポジットヘ
ッドを組み合わせて使用しても摩擦係数の増大が少な
く、磨耗が少なくてしかも磁気ヘッドの低浮上走行性が
悪化せず、かつ、磁気ヘッドの吸着もおこらない磁気デ
ィスクを得るに至ったものである。
（10％−１％）とコンポジットヘッドを用いてCSSを１
万回行った後の摩擦係数との関係を示す線図である。R
a,ΔCv（10％−１％）の値が大きくなる程摩擦係数は減
少する。本発明者は鋭意検討の結果、Raの範囲を従来の
60Å以上85Å以下から80Å以上120Å以下とずらし、ま
た、ΔCv（10％−１％）の範囲を従来の80Å以上150Å
以下から120Å以上250Å以下とずらし、磁気ディスクの
表面粗さを若干あらくすることにより、コンポジットヘ
ッドを組み合わせて使用しても摩擦係数の増大が少な
く、磨耗が少なくてしかも磁気ヘッドの低浮上走行性が
悪化せず、かつ、磁気ヘッドの吸着もおこらない磁気デ
ィスクを得るに至ったものである。
ディスク状Al合金基板の表面を平坦に機械加工し、そ
の上に無電解めっき法でNi−Ｐ合金層を形成した。次に
このAlb合金基板を回転させながらNi−Ｐ合金表面を砥
粒平均粒径５μｍの研磨テープを用いて一回テープポリ
ッシュを行い、続いて砥粒平均粒径１μｍの研磨テープ
を用いて、軽くテープポリッシュを行うテクスチャーを
施してディス用基板とした。この基板の表面粗さはRaで
90Å前後，ΔCv（10％−１％）で90Å前後であった。こ
の基板上にスパッタ法によりCr下地層,Co合金磁性層，
カーボン保護層を順次形成し、表面の微小突起の除去を
行って磁気ディスクを作製した。このようにして得られ
た磁気ディスクの表面粗さはRaで80Å〜120Å，ΔCv（1
0％−１％）で120Å〜250Åの範囲であった。
の上に無電解めっき法でNi−Ｐ合金層を形成した。次に
このAlb合金基板を回転させながらNi−Ｐ合金表面を砥
粒平均粒径５μｍの研磨テープを用いて一回テープポリ
ッシュを行い、続いて砥粒平均粒径１μｍの研磨テープ
を用いて、軽くテープポリッシュを行うテクスチャーを
施してディス用基板とした。この基板の表面粗さはRaで
90Å前後，ΔCv（10％−１％）で90Å前後であった。こ
の基板上にスパッタ法によりCr下地層,Co合金磁性層，
カーボン保護層を順次形成し、表面の微小突起の除去を
行って磁気ディスクを作製した。このようにして得られ
た磁気ディスクの表面粗さはRaで80Å〜120Å，ΔCv（1
0％−１％）で120Å〜250Åの範囲であった。
比較のために、上述の製造方法においてNi−Ｐ合金表
面のテクスチャーの条件を変えて作製したディスク基板
を用い、磁気ディスク表面の粗さが従来の粗さ，すなわ
ちRaで60Å〜85Å，ΔCv（10％−１％）で80Å〜150Å
の範囲の磁気ディスクを作製した。
面のテクスチャーの条件を変えて作製したディスク基板
を用い、磁気ディスク表面の粗さが従来の粗さ，すなわ
ちRaで60Å〜85Å，ΔCv（10％−１％）で80Å〜150Å
の範囲の磁気ディスクを作製した。
また、磁気ディスク表面の潤滑特性を良くして摩擦係
数の増大を防ぐ方法として保護層上に液体潤滑剤を塗布
することが考えられる。そこで、本実施例および比較例
の磁気ディスクの表面にそれぞれ液体潤滑剤Ａ（平均分
子量3000）を膜厚18Åに、また液体潤滑剤Ｂ（平均分子
量12000）を膜厚6.5Åにディップコーターで塗布したデ
ィスクを作製した。
数の増大を防ぐ方法として保護層上に液体潤滑剤を塗布
することが考えられる。そこで、本実施例および比較例
の磁気ディスクの表面にそれぞれ液体潤滑剤Ａ（平均分
子量3000）を膜厚18Åに、また液体潤滑剤Ｂ（平均分子
量12000）を膜厚6.5Åにディップコーターで塗布したデ
ィスクを作製した。
これら６種類の磁気ディスクについて、コンポジット
ヘッドを磁気ディスクの半径21.5mmの所に位置させて、
CSSを１万回行い、その後磁気ディスクを低速回転（0.0
83rmp）させて摩擦係数を測定し評価した結果を第１表
に示す。
ヘッドを磁気ディスクの半径21.5mmの所に位置させて、
CSSを１万回行い、その後磁気ディスクを低速回転（0.0
83rmp）させて摩擦係数を測定し評価した結果を第１表
に示す。
第１表より、この発明に規定した表面粗さを有し、か
つ、液体潤滑剤を塗布しない磁気ディスクが摩擦係数の
増加が最も少なく磨耗も少なくて優れていることは明ら
かである。実施例の磁気ディスクは従来例の比較例によ
り方面が粗られているので磁気ヘッドの吸着はおこら
ず、しかも粗れの程度は磁気ヘッドの低浮上走行を乱す
ほどのものではなかった。
つ、液体潤滑剤を塗布しない磁気ディスクが摩擦係数の
増加が最も少なく磨耗も少なくて優れていることは明ら
かである。実施例の磁気ディスクは従来例の比較例によ
り方面が粗られているので磁気ヘッドの吸着はおこら
ず、しかも粗れの程度は磁気ヘッドの低浮上走行を乱す
ほどのものではなかった。
以上の実施例においては保護層の材料はカーボンであ
ったが、これに限られるものではなく、SiO2などの硬質
の膜が形成できる酸化物を用いた場合でもこの発明は有
効である。
ったが、これに限られるものではなく、SiO2などの硬質
の膜が形成できる酸化物を用いた場合でもこの発明は有
効である。
この発明によれば、磁気ディスク表面の粗さをRaで80
Å以上120Å以下，ΔCv（10％−１％）で120Å以上250
Å以下の範囲に限定することにより、硬質のコンポジッ
トヘッドと組み合わせて好適に使用できる磁気ディスク
を得ることができ、固定磁気ディスク装置の大容量化に
対応できることになる。
Å以上120Å以下，ΔCv（10％−１％）で120Å以上250
Å以下の範囲に限定することにより、硬質のコンポジッ
トヘッドと組み合わせて好適に使用できる磁気ディスク
を得ることができ、固定磁気ディスク装置の大容量化に
対応できることになる。
また、例えば液体潤滑剤を塗布した磁気ディスクにな
ると、塗布工程が必要となるが、本発明は基板のNi−Ｐ
合金の表面に施すテクスチャーを制御すればよいという
利点があり効果は大きい。
ると、塗布工程が必要となるが、本発明は基板のNi−Ｐ
合金の表面に施すテクスチャーを制御すればよいという
利点があり効果は大きい。
第１図および第２図はCSS1万回後の摩擦係数と磁気ディ
スク表面の粗さとの関係を示す線図で、第１図はCSSを
コンポジットヘッドで行った場合のもの、第２図はCSS
をモノリシックヘッドで行った場合のものである。第３
図は磁気ディスクの表面粗さとCSS1万回後の摩擦係数，
磁気ヘッドの吸着，磁気ヘッドの浮上走行性との関係を
定性的に示す線図である。
スク表面の粗さとの関係を示す線図で、第１図はCSSを
コンポジットヘッドで行った場合のもの、第２図はCSS
をモノリシックヘッドで行った場合のものである。第３
図は磁気ディスクの表面粗さとCSS1万回後の摩擦係数，
磁気ヘッドの吸着，磁気ヘッドの浮上走行性との関係を
定性的に示す線図である。
Claims (1)
- 【請求項１】非磁性基板上に設けられた強磁性合金薄膜
磁性層上にさらに保護層が形成されてなる磁気ディスク
であって、コンポジットヘッドと組み合わせて用いられ
るものにおいて、前記磁気ディスクの表面粗さが中心線
平均粗さRaで80Å以上120Å以下の範囲内にあり、相対
負荷曲線の相対負荷長さ10％におけるカッテング深さか
ら相対負荷長さ１％におけるカッティング深さを差し引
いた値ΔCv（10％−１％）で120Å以上250Å以下の範囲
内であることを特徴とする磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211822A JP2546383B2 (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211822A JP2546383B2 (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0376023A JPH0376023A (ja) | 1991-04-02 |
| JP2546383B2 true JP2546383B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=16612169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1211822A Expired - Lifetime JP2546383B2 (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2546383B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6805941B1 (en) | 1992-11-19 | 2004-10-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US5637373A (en) | 1992-11-19 | 1997-06-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01154314A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-16 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気ディスク |
-
1989
- 1989-08-17 JP JP1211822A patent/JP2546383B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0376023A (ja) | 1991-04-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3018762B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2546383B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| JPS61199224A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2613947B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0568771B2 (ja) | ||
| JPH0421930B2 (ja) | ||
| JP2952967B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6038720A (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPH01133274A (ja) | 浮動磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JPH01134720A (ja) | 磁気ディスク | |
| JP2762286B2 (ja) | 磁気記録再生方法 | |
| JPH03176814A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2581225B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0223517A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JP2967698B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH06325342A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH02201731A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3051851B2 (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPS62134826A (ja) | 磁気記憶体の製造方法 | |
| JPH0778870B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2581232B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH05128468A (ja) | 浮上式磁気ヘツド | |
| JPH10283626A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH08273139A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH04216319A (ja) | 磁気記録媒体 |