JPH0376023A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
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- JPH0376023A JPH0376023A JP21182289A JP21182289A JPH0376023A JP H0376023 A JPH0376023 A JP H0376023A JP 21182289 A JP21182289 A JP 21182289A JP 21182289 A JP21182289 A JP 21182289A JP H0376023 A JPH0376023 A JP H0376023A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、固定磁気ディスク装置に用いられる磁気デ
ィスクに関し、詳しくはコンポジットタイプの硬質磁気
ヘッドと組み合わせた場合にも好適に用いられる磁気デ
ィスクに関する。
ィスクに関し、詳しくはコンポジットタイプの硬質磁気
ヘッドと組み合わせた場合にも好適に用いられる磁気デ
ィスクに関する。
近年、固定磁気ディスク装置に用いられる磁気記録媒体
は強磁性合金薄膜を磁性層とする磁気ディスクが主流と
なってきている。このような磁気ディスクの製造方法と
して、ディスク状のＡ１合金基板の表面を平坦に加工し
、Ｎ１−Ｐ無電解めっきをした後、このＮ１−Ｐ合金層
表面にテクスチャーを施して、一定の表面形状（粗さ〉
の非磁性基板とし、この基板上にスパッタ法、イオンブ
レーティング法あるいは蒸着法などにより、磁性を向上
させるためのＣｒ下地層、 Ｃｏ合金磁性層、カーボン
膜からなる保護層を順次成膜する方法が一般的に知られ
ている。このカーボン膜は磁気ディスク表面に潤滑性能
を付与する機能も有する。
は強磁性合金薄膜を磁性層とする磁気ディスクが主流と
なってきている。このような磁気ディスクの製造方法と
して、ディスク状のＡ１合金基板の表面を平坦に加工し
、Ｎ１−Ｐ無電解めっきをした後、このＮ１−Ｐ合金層
表面にテクスチャーを施して、一定の表面形状（粗さ〉
の非磁性基板とし、この基板上にスパッタ法、イオンブ
レーティング法あるいは蒸着法などにより、磁性を向上
させるためのＣｒ下地層、 Ｃｏ合金磁性層、カーボン
膜からなる保護層を順次成膜する方法が一般的に知られ
ている。このカーボン膜は磁気ディスク表面に潤滑性能
を付与する機能も有する。
一方、固定磁気ディスク装置は、一般にＣ３５（Ｃｏｎ
ｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式が採られており
、磁気ヘッドは装置の停止中は磁気ディスク表面に接触
停止しており、駆動中は高速回転している磁気ディスク
表面を僅かに浮上して走行し、駆動開始時と停止時には
磁気ディスク表面と接触摺動する。
ｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式が採られており
、磁気ヘッドは装置の停止中は磁気ディスク表面に接触
停止しており、駆動中は高速回転している磁気ディスク
表面を僅かに浮上して走行し、駆動開始時と停止時には
磁気ディスク表面と接触摺動する。
このために、磁気ディスクの表面形状（粗さ〉は微妙な
制約を受けることになる。すなわち、第３図に定性的に
示すように、磁気ヘッドの安定した良好な浮上走行性を
実現するためには表面粗さは小さくして突起の少ない表
面とすることが必要である。ところが表面粗さが小さく
なり平坦になってくると接触停止時に磁気ヘッドの吸着
がおきやすくなり、また接触摺動時には摩擦係数が増大
し磨耗が激しくなる。磁気ディスク表面はこれらの点を
考慮して適切な表面粗さとすることが必要となる。
制約を受けることになる。すなわち、第３図に定性的に
示すように、磁気ヘッドの安定した良好な浮上走行性を
実現するためには表面粗さは小さくして突起の少ない表
面とすることが必要である。ところが表面粗さが小さく
なり平坦になってくると接触停止時に磁気ヘッドの吸着
がおきやすくなり、また接触摺動時には摩擦係数が増大
し磨耗が激しくなる。磁気ディスク表面はこれらの点を
考慮して適切な表面粗さとすることが必要となる。
磁気ディスク表面の粗さは非磁性基板表面の粗さに対応
している。従って、基板表面のＮｉ −Ｐ合金層表面に
施すテクスチャーにより磁気ディスク表面の粗さを制御
していた。このようにして制御された磁気ディスクの表
面粗さと摩擦係数との関係を第２図に示す。粗さは中心
線平均粗さＲａおよび相対負荷曲線の相対負荷長さ１０
％におけるカッティング深さから相対負荷長さ１％にお
ける。
している。従って、基板表面のＮｉ −Ｐ合金層表面に
施すテクスチャーにより磁気ディスク表面の粗さを制御
していた。このようにして制御された磁気ディスクの表
面粗さと摩擦係数との関係を第２図に示す。粗さは中心
線平均粗さＲａおよび相対負荷曲線の相対負荷長さ１０
％におけるカッティング深さから相対負荷長さ１％にお
ける。
カッティング深さを差し引いた値△Ｃｖ（１０％−１％
）で評価し、摩擦係数はモノリシックタイプのＭｎ−Ｚ
ｎフェライト磁気ヘッドでＣ８Ｓを１万回行った後の値
である。第２図よりＲａを６０Å以上８５Å以下の範囲
内とし、△Ｃｖ（１０％−１％）を８０Å以上１５０Å
以下の範囲内にすることにより、磨耗が少なく、磁気ヘ
ッドの吸着もおきにくく、しかも磁気ヘッドの安定な低
浮上走行が可能な磁気ディスクを得ていた。
）で評価し、摩擦係数はモノリシックタイプのＭｎ−Ｚ
ｎフェライト磁気ヘッドでＣ８Ｓを１万回行った後の値
である。第２図よりＲａを６０Å以上８５Å以下の範囲
内とし、△Ｃｖ（１０％−１％）を８０Å以上１５０Å
以下の範囲内にすることにより、磨耗が少なく、磁気ヘ
ッドの吸着もおきにくく、しかも磁気ヘッドの安定な低
浮上走行が可能な磁気ディスクを得ていた。
近年、固定磁気ディスク装置の大容量化にともない、磁
気ヘッドはモノリシックヘッド（例えばＭｎ−Ｚｎフェ
ライト磁気ヘッド；硬度Ｈｖ約７００〉 からコンポ
ジットヘッド（例えばスライダ材料としてＣａＴｉ０．
を用いたちの；硬度Ｈｖ約８００）へと移行する傾向に
ある。ところが、コンポジットヘッドと従来の磁気ディ
スクとを組み合わせて用いると、ヘッドスライダの硬度
、材質などの違いにより、磁気ヘッドの低浮上走行、吸
着に関しては良好であるが、摩擦係数はモノリシックヘ
ッドの場合に比べて著しく増大するという問題が生じる
。
気ヘッドはモノリシックヘッド（例えばＭｎ−Ｚｎフェ
ライト磁気ヘッド；硬度Ｈｖ約７００〉 からコンポ
ジットヘッド（例えばスライダ材料としてＣａＴｉ０．
を用いたちの；硬度Ｈｖ約８００）へと移行する傾向に
ある。ところが、コンポジットヘッドと従来の磁気ディ
スクとを組み合わせて用いると、ヘッドスライダの硬度
、材質などの違いにより、磁気ヘッドの低浮上走行、吸
着に関しては良好であるが、摩擦係数はモノリシックヘ
ッドの場合に比べて著しく増大するという問題が生じる
。
この発明が解決しようとする課題は、上述の問題点を解
消して、硬質のコンポジットヘッドと組み合わせて好適
に使用できる磁気ディスクを提供することにある。
消して、硬質のコンポジットヘッドと組み合わせて好適
に使用できる磁気ディスクを提供することにある。
上記の課題は、この発明によれば、非磁性基板上に設け
られた強磁性合金薄膜磁性層上にさらに保護層が形成さ
れてなる磁気ディスクにおいて、磁気ディスクの表面粗
さをＲａで８０Å以上１２０Å以下の範囲内とし、△Ｃ
ｖ（１０％−１％）で１２０Ａ以上２５０Ａ以下の範囲
内とすることによって解決できる。
られた強磁性合金薄膜磁性層上にさらに保護層が形成さ
れてなる磁気ディスクにおいて、磁気ディスクの表面粗
さをＲａで８０Å以上１２０Å以下の範囲内とし、△Ｃ
ｖ（１０％−１％）で１２０Ａ以上２５０Ａ以下の範囲
内とすることによって解決できる。
第１図は、磁気ディスクの表面粗さのＲａおよびΔＣＶ
（１０％−１％〉とコンポジットヘッドを用いてＣ８Ｓ
を１万回行った後の摩擦係数との関係を示す線図である
。Ｒａ、△Ｃｖ（１０％−１％〉の値が大きくなる程摩
擦係数は減少する。本発明者は鋭意検討の結果、Ｒａの
範囲を従来の６０Å以上８５Å以下から８０Å以上１２
０Å以下とずらし、また、△Ｃｖ（１０％−１％）の範
囲を従来の８０Å以上１５０Å以下から１２０Å以上２
５０Å以下とずらし、磁気ディスクの表面粗さを若干あ
らくすることにより、コンポジットヘッドと組み合わせ
て使用しても摩擦係数の増大が少なく、磨耗が少なくて
しかも磁気ヘッドの低浮上走行性が悪化せず、かつ、磁
気ヘッドの吸着もおこらない磁気ディスクを得るに至っ
たのである。
（１０％−１％〉とコンポジットヘッドを用いてＣ８Ｓ
を１万回行った後の摩擦係数との関係を示す線図である
。Ｒａ、△Ｃｖ（１０％−１％〉の値が大きくなる程摩
擦係数は減少する。本発明者は鋭意検討の結果、Ｒａの
範囲を従来の６０Å以上８５Å以下から８０Å以上１２
０Å以下とずらし、また、△Ｃｖ（１０％−１％）の範
囲を従来の８０Å以上１５０Å以下から１２０Å以上２
５０Å以下とずらし、磁気ディスクの表面粗さを若干あ
らくすることにより、コンポジットヘッドと組み合わせ
て使用しても摩擦係数の増大が少なく、磨耗が少なくて
しかも磁気ヘッドの低浮上走行性が悪化せず、かつ、磁
気ヘッドの吸着もおこらない磁気ディスクを得るに至っ
たのである。
ディスク状Ｍ合金基板の表面を平坦に機械加工し、その
上に無電解めっき法でＮ１−Ｐ合金層を形成した。次に
このＭ合金基板を回転させながらＮ１−Ｐ合金表面を砥
粒平均粒径５μｍの研磨テープを用いて一回テープボリ
ッシュを行い、続いて砥粒平均粒径１μｍの研磨テープ
を用いて軽くテープポリッシュを行うテクスチャーを施
してディスク用基板とした。 この基板の表面粗さはＲ
ａで９０Ａ前後、ΔＣＶ（１０％−１％）で９０Ａ前後
であった。
上に無電解めっき法でＮ１−Ｐ合金層を形成した。次に
このＭ合金基板を回転させながらＮ１−Ｐ合金表面を砥
粒平均粒径５μｍの研磨テープを用いて一回テープボリ
ッシュを行い、続いて砥粒平均粒径１μｍの研磨テープ
を用いて軽くテープポリッシュを行うテクスチャーを施
してディスク用基板とした。 この基板の表面粗さはＲ
ａで９０Ａ前後、ΔＣＶ（１０％−１％）で９０Ａ前後
であった。
この基板上にスパッタ法によりＣｒ下地層、 Ｃｏ合金
磁性層、カーボン保護層を順次形成し、表面の微小突起
の除去を行って磁気ディスクを作製した。
磁性層、カーボン保護層を順次形成し、表面の微小突起
の除去を行って磁気ディスクを作製した。
このようにして得られた磁気ディスクの表面粗さはＲａ
で８０人〜１２（１人、ΔＣＶ（１０％−１％）で１２
０ Ａ〜２５０人の範囲であった。
で８０人〜１２（１人、ΔＣＶ（１０％−１％）で１２
０ Ａ〜２５０人の範囲であった。
比較のために、上述の製造方法においてＮ１−Ｐ合金表
面のテクスチャーの条件を変えて作製したディスク基板
を用い、磁気ディスク表面の粗さが従来の粗さ、すなわ
ちＲａで６０人〜８５人、ΔＣν（１０％−１％）で８
０人〜１５０人の範囲の磁気ディスクを作製した。
面のテクスチャーの条件を変えて作製したディスク基板
を用い、磁気ディスク表面の粗さが従来の粗さ、すなわ
ちＲａで６０人〜８５人、ΔＣν（１０％−１％）で８
０人〜１５０人の範囲の磁気ディスクを作製した。
また、磁気ディスク表面の潤滑特性を良くして摩擦係数
の増大を防ぐ方法として保護層上に液体潤滑剤を塗布す
ることが考えられる。そこで、本実施例および比較例の
磁気ディスクの表面にそれぞれ液体潤滑剤Ａ（平均分子
量３０００）を膜厚１８人に、また液体潤滑剤Ｂ（平均
分子量１２０００） を膜厚６．５人にデイツプコータ
ーで塗布した磁気ディスクを作製した。
の増大を防ぐ方法として保護層上に液体潤滑剤を塗布す
ることが考えられる。そこで、本実施例および比較例の
磁気ディスクの表面にそれぞれ液体潤滑剤Ａ（平均分子
量３０００）を膜厚１８人に、また液体潤滑剤Ｂ（平均
分子量１２０００） を膜厚６．５人にデイツプコータ
ーで塗布した磁気ディスクを作製した。
これら６種類の磁気ディスクについて、コンポジットヘ
ッドを磁気ディスクの半径２１．５ｍｍの所に位置させ
て、Ｃ３Ｓを１万回行い、その後磁気ディスクを低速回
転（０，０８３ｒｐｍ） させて摩擦係数を測定し評
価した結果を第１表に示す。
ッドを磁気ディスクの半径２１．５ｍｍの所に位置させ
て、Ｃ３Ｓを１万回行い、その後磁気ディスクを低速回
転（０，０８３ｒｐｍ） させて摩擦係数を測定し評
価した結果を第１表に示す。
第１表より、この発明に規定した表面粗さを有し、かつ
、液体潤滑剤を塗布しない磁気ディスクが摩擦係数の増
加が最も少なく磨耗も少なくて優れていることは明らか
である。実施例の磁気ディスクは従来例の比較例より表
面が粗れているので磁気ヘッドの吸着はおこらず、しか
も粗れの程度は磁気ヘッドの低浮上走行を乱すほどのも
のではなかった。
、液体潤滑剤を塗布しない磁気ディスクが摩擦係数の増
加が最も少なく磨耗も少なくて優れていることは明らか
である。実施例の磁気ディスクは従来例の比較例より表
面が粗れているので磁気ヘッドの吸着はおこらず、しか
も粗れの程度は磁気ヘッドの低浮上走行を乱すほどのも
のではなかった。
以上の実施例においては保護層の材料はカーボンであっ
たが、これに限られるものではなく、５ｉ０２などの硬
質の膜が懲戒できる酸化物を用いた場合でもこの発明は
有効である。
たが、これに限られるものではなく、５ｉ０２などの硬
質の膜が懲戒できる酸化物を用いた場合でもこの発明は
有効である。
この発明によれば、磁気ディスク表面の粗さをＲａで８
０人以上１２０Å以下、ΔＣＶ（１０％−１％）で１２
０ Ａ以上２５０ Ａ以下の範囲に限定することにより
、硬質のコンポジットヘッドと組み合わせて好適に使用
できる磁気ディスクを得ることができ、固定磁気ディス
ク装置の大容量化に対応できることになる。
０人以上１２０Å以下、ΔＣＶ（１０％−１％）で１２
０ Ａ以上２５０ Ａ以下の範囲に限定することにより
、硬質のコンポジットヘッドと組み合わせて好適に使用
できる磁気ディスクを得ることができ、固定磁気ディス
ク装置の大容量化に対応できることになる。
また、例えば液体潤滑剤を塗布した磁気ディスクになる
と、塗布工程が必要となるが、本発明は基板のＮ１−Ｐ
合金の表面に施すテクスチャーを制御すればよいという
利点があり効果は大きい。
と、塗布工程が必要となるが、本発明は基板のＮ１−Ｐ
合金の表面に施すテクスチャーを制御すればよいという
利点があり効果は大きい。
第１図および第２図はＣ３Ｓ１万回後の摩擦係数と磁気
ディスク表面の粗さとの関係を示す線図で、第１図はＣ
８Ｓをコンポジットヘッドテ行った場合のもの、第２図
はＣＳＳをモノリシックヘッドで行った場合のものであ
る。第３ＦｇＪは磁気ディス、りの表面粗さとＣ３Ｓ１
万回後の摩擦係数。 磁気ヘッドの吸着、磁気ヘッドの浮上走行性との５０
１００ ５００ Ｒａ、△Ｃｖ（１０％−１％）（入） 第１図 ０００ 第 ２ 図 −１４・ 第 図
ディスク表面の粗さとの関係を示す線図で、第１図はＣ
８Ｓをコンポジットヘッドテ行った場合のもの、第２図
はＣＳＳをモノリシックヘッドで行った場合のものであ
る。第３ＦｇＪは磁気ディス、りの表面粗さとＣ３Ｓ１
万回後の摩擦係数。 磁気ヘッドの吸着、磁気ヘッドの浮上走行性との５０
１００ ５００ Ｒａ、△Ｃｖ（１０％−１％）（入） 第１図 ０００ 第 ２ 図 −１４・ 第 図
Claims (1)
- １）非磁性基板上に設けられた強磁性合金薄膜磁性層上
にさらに保護層が形成されてなる磁気ディスクにおいて
、磁気ディスクの表面粗さが中心線平均粗さＲａで８０
Å以上１２０Å以下の範囲内にあり、相対負荷曲線の相
対負荷長さ１０％におけるカッティング深さから相対負
荷長さ１％におけるカッティング深さを差し引いた値△
Ｃｖ（１０％−１％）で１２０Å以上２５０Å以下の範
囲内であることを特徴とする磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211822A JP2546383B2 (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1211822A JP2546383B2 (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0376023A true JPH0376023A (ja) | 1991-04-02 |
| JP2546383B2 JP2546383B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=16612169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1211822A Expired - Lifetime JP2546383B2 (ja) | 1989-08-17 | 1989-08-17 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2546383B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6165582A (en) * | 1992-11-19 | 2000-12-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US6805941B1 (en) | 1992-11-19 | 2004-10-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01154314A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-16 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気ディスク |
-
1989
- 1989-08-17 JP JP1211822A patent/JP2546383B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01154314A (ja) * | 1987-12-10 | 1989-06-16 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気ディスク |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6165582A (en) * | 1992-11-19 | 2000-12-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US6194047B1 (en) | 1992-11-19 | 2001-02-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US6258434B1 (en) | 1992-11-19 | 2001-07-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US6623836B1 (en) | 1992-11-19 | 2003-09-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US6805941B1 (en) | 1992-11-19 | 2004-10-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US7083873B2 (en) | 1992-11-19 | 2006-08-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium including a diamond-like carbon protective film with hydrogen and at least two additional elements |
| US7391592B2 (en) | 1992-11-19 | 2008-06-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium including a diamond-like carbon protective film and at least two additional elements |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2546383B2 (ja) | 1996-10-23 |
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