JPH01154314A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
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- JPH01154314A JPH01154314A JP31256587A JP31256587A JPH01154314A JP H01154314 A JPH01154314 A JP H01154314A JP 31256587 A JP31256587 A JP 31256587A JP 31256587 A JP31256587 A JP 31256587A JP H01154314 A JPH01154314 A JP H01154314A
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- magnetic disk
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は情報処理システムの周辺機器としての固定磁気
ディスク装置に用いられる強磁性金属薄膜からなる磁性
層を備えた薄膜磁気ディスクに関する。
ディスク装置に用いられる強磁性金属薄膜からなる磁性
層を備えた薄膜磁気ディスクに関する。
このような磁気ディスクとしては、−役に第４図の模式
的断面図に示す構成のものが知られている。第４図にお
いて、１は非磁性ディスク状基板。
的断面図に示す構成のものが知られている。第４図にお
いて、１は非磁性ディスク状基板。
例えばＡ１合金からなる基板であり、表面に切削。
研削を施して面振れの少ない平坦な面に仕上げられてい
る。この基板上に１例えば無電解めっき法でＮ１−Ｐ合
金層２を形成する。このＮ１−Ｐ合金層２の表面を平滑
に鏡面仕上げ加工した後、テープポリッシングでディス
ク基板円周方向にテクスチャア加工を施して所望の表面
粗さとし、その上に非磁性金属下地層（例えばＣｒｔり
３．強磁性金属磁性層（例えばＣｏ合金層）４１表面
保護層（例えば非晶質カーボン膜）５を薄膜で順次成膜
積層して磁気ディスクとする。成膜方法としては、スパ
ッタ、イオンブレーティングなど薄膜形成に適した方法
が採られる。非磁性金属下地層３１強磁性金属磁性層４
１表面保護層５はそれぞれ薄層であリ、積層しても全体
として数千人程度の薄いものであるため、磁気ディスク
の表面形状は下地のＮ１−Ｐ合金層２の表面形状に支配
される。従って磁気ディスクの表面形状７表面粗さはＮ
１−Ｐ合金層２の表面に施されるテクスチャア加工によ
り制御されることになる。
る。この基板上に１例えば無電解めっき法でＮ１−Ｐ合
金層２を形成する。このＮ１−Ｐ合金層２の表面を平滑
に鏡面仕上げ加工した後、テープポリッシングでディス
ク基板円周方向にテクスチャア加工を施して所望の表面
粗さとし、その上に非磁性金属下地層（例えばＣｒｔり
３．強磁性金属磁性層（例えばＣｏ合金層）４１表面
保護層（例えば非晶質カーボン膜）５を薄膜で順次成膜
積層して磁気ディスクとする。成膜方法としては、スパ
ッタ、イオンブレーティングなど薄膜形成に適した方法
が採られる。非磁性金属下地層３１強磁性金属磁性層４
１表面保護層５はそれぞれ薄層であリ、積層しても全体
として数千人程度の薄いものであるため、磁気ディスク
の表面形状は下地のＮ１−Ｐ合金層２の表面形状に支配
される。従って磁気ディスクの表面形状７表面粗さはＮ
１−Ｐ合金層２の表面に施されるテクスチャア加工によ
り制御されることになる。
固定磁気ディスク装置においては、磁気ディスクへの情
報の記録あるいは再生は高速回転している磁気ディスク
上を浮上走行する磁気ヘッドにより行われる。また、Ｃ
８Ｓ方式が採られ、磁気ヘッドは磁気ディスク停止時に
はその面上に接触停止しており、回転を開始すると磁気
ディスク表面を摺動して浮上走行状態にはいり、回転を
中止すると浮動走行状態から磁気ディスク表面に接触摺
動して停止する。
報の記録あるいは再生は高速回転している磁気ディスク
上を浮上走行する磁気ヘッドにより行われる。また、Ｃ
８Ｓ方式が採られ、磁気ヘッドは磁気ディスク停止時に
はその面上に接触停止しており、回転を開始すると磁気
ディスク表面を摺動して浮上走行状態にはいり、回転を
中止すると浮動走行状態から磁気ディスク表面に接触摺
動して停止する。
このような磁気ディスク装置の記録密度を高めるために
は記録時の磁気ヘッドの浮上量を低減することが必要で
ある。磁気ディスク表面の粗さが細かければ細かい程磁
気ヘッドの低浮上安定走行が実現でき、高い記録密度が
得られるが、表面粗さが極めて微小になると磁気ヘッド
と磁気ディスクの接触時吸着が起きるようになり、また
、Ｃ１８時摩擦係数が大きくて薄膜磁性層が破壊したり
する現象が生じてくる。また、逆に表面粗さをあらくす
ると磁気ヘッドの低浮上走行を妨げ、さらにヘッドクラ
ッシュの原因となる異常突起が多数発生するという問題
が生じてくる。
は記録時の磁気ヘッドの浮上量を低減することが必要で
ある。磁気ディスク表面の粗さが細かければ細かい程磁
気ヘッドの低浮上安定走行が実現でき、高い記録密度が
得られるが、表面粗さが極めて微小になると磁気ヘッド
と磁気ディスクの接触時吸着が起きるようになり、また
、Ｃ１８時摩擦係数が大きくて薄膜磁性層が破壊したり
する現象が生じてくる。また、逆に表面粗さをあらくす
ると磁気ヘッドの低浮上走行を妨げ、さらにヘッドクラ
ッシュの原因となる異常突起が多数発生するという問題
が生じてくる。
これらの問題点を避けるために、磁気ディスク表面の中
心線平均粗さＲａと最大高さＲｍａｘとを特定の範囲内
に制御して所望の表面形状の磁気ディスクを得ようとす
ることが行われてきた。
心線平均粗さＲａと最大高さＲｍａｘとを特定の範囲内
に制御して所望の表面形状の磁気ディスクを得ようとす
ることが行われてきた。
しかしながら、上述のように磁気ディスク表面のＲａと
Ｒｍａｘとを特定の範囲にはいるようにしても、これら
の問題点を完全に解消するには至らなかった。
Ｒｍａｘとを特定の範囲にはいるようにしても、これら
の問題点を完全に解消するには至らなかった。
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、磁
気ディスクの表面形状をさらに新しい観点から特定化し
、Ｃ８Ｓ時の摩擦磨耗が低減され、かつ、磁気ヘッドの
低浮上走行を妨げたりヘッドクラッシュを引き起こした
りする異常突起の存在しない良好な表面形状の磁気ディ
スクを提供することを目的とする。
気ディスクの表面形状をさらに新しい観点から特定化し
、Ｃ８Ｓ時の摩擦磨耗が低減され、かつ、磁気ヘッドの
低浮上走行を妨げたりヘッドクラッシュを引き起こした
りする異常突起の存在しない良好な表面形状の磁気ディ
スクを提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明によれば、非磁性
基板上に強磁性金属薄膜磁性層を備えてなる磁気ディス
クにおいて、磁気ディスク表面の中心線平均粗さＲａＯ
値が１００Å以上２００Å以下の範囲にあり、かつ、こ
の磁気ディスク表面の断面の相対負荷曲線において、相
対負荷長さ１０％のときのカッティング深さと相対負荷
長さ１％のときのカッティング深さとの差が１００Å以
上３００Å以下の範囲にある磁気ディスクとする。
基板上に強磁性金属薄膜磁性層を備えてなる磁気ディス
クにおいて、磁気ディスク表面の中心線平均粗さＲａＯ
値が１００Å以上２００Å以下の範囲にあり、かつ、こ
の磁気ディスク表面の断面の相対負荷曲線において、相
対負荷長さ１０％のときのカッティング深さと相対負荷
長さ１％のときのカッティング深さとの差が１００Å以
上３００Å以下の範囲にある磁気ディスクとする。
上述のように、磁気ディスク表面の中心線平均粗さと断
面の相対負荷曲線の特性とを特定することにより、従来
の中心線平均粗さＲａ、 最大高さＲｍａｘで規定す
るよりも摩擦磨耗特性が優れしかも異常突起のない適切
な表面形状を有する磁気ディスクを得ることができる。
面の相対負荷曲線の特性とを特定することにより、従来
の中心線平均粗さＲａ、 最大高さＲｍａｘで規定す
るよりも摩擦磨耗特性が優れしかも異常突起のない適切
な表面形状を有する磁気ディスクを得ることができる。
すなわち、第２図に示すように、磁気ディスクの断面曲
線へから基準長さしを抜き取り、その区間で断面曲線を
平均線に平行なあるレベル（基準長さ区間の最高山頂Ｐ
からこのレベルまでの距離をカッティング深さという）
の直線で切断したとき断面曲線が切り取る線分の長さ（
Ｌ、 Ｌ、 −、、、ｉ、−、、ｐ、、＞ の総和
（Ｒ、＋ １、−＋−＋１□１＋！っ〉 と基準長さし
との比（Ｒ＋＋ １２ ＋＋ Ｌ−１＋βつ）／Ｌｘｌ
ＯＯがそのレベル（カッティング深さＣＶ）における相
対負荷長さｔｐであり、このカッティング深さと相対負
荷長さとの関係をグラフ化したものが相対負荷曲線（ア
ボットの負荷曲線ともいう）Ｂであるが、磁気ディスク
表面のＲａを１００Å以上２００Å以下の範囲とした場
合、この断面の相対負荷曲線における相対負荷長さｔｐ
ｌＱ％のカッティング深さＣＶＩＯとｔｐ １％のカ
ッティング深さＣＶ ＋ との差とＣＳ Ｓ １００
００回後の摩擦係数μとの間には第１図に示すように密
接な関係があり、この差の値が１００Å以上２００Å以
下の範囲にあるように相対負荷曲線を特定することによ
り適切な表面形状の磁気ディスクを得ることができる。
線へから基準長さしを抜き取り、その区間で断面曲線を
平均線に平行なあるレベル（基準長さ区間の最高山頂Ｐ
からこのレベルまでの距離をカッティング深さという）
の直線で切断したとき断面曲線が切り取る線分の長さ（
Ｌ、 Ｌ、 −、、、ｉ、−、、ｐ、、＞ の総和
（Ｒ、＋ １、−＋−＋１□１＋！っ〉 と基準長さし
との比（Ｒ＋＋ １２ ＋＋ Ｌ−１＋βつ）／Ｌｘｌ
ＯＯがそのレベル（カッティング深さＣＶ）における相
対負荷長さｔｐであり、このカッティング深さと相対負
荷長さとの関係をグラフ化したものが相対負荷曲線（ア
ボットの負荷曲線ともいう）Ｂであるが、磁気ディスク
表面のＲａを１００Å以上２００Å以下の範囲とした場
合、この断面の相対負荷曲線における相対負荷長さｔｐ
ｌＱ％のカッティング深さＣＶＩＯとｔｐ １％のカ
ッティング深さＣＶ ＋ との差とＣＳ Ｓ １００
００回後の摩擦係数μとの間には第１図に示すように密
接な関係があり、この差の値が１００Å以上２００Å以
下の範囲にあるように相対負荷曲線を特定することによ
り適切な表面形状の磁気ディスクを得ることができる。
ディスク状Ａ１合金基板に無電解めっきでＮ１−Ｐ合金
層を形成し、その表面に鏡面加工を施した後、平均粒径
５μｍの砥粒の研磨テープを用いてテープポリッシング
を行いテクスチャア加工を施し、さらに平均粒径１μｍ
の砥粒の研磨テープを用いて最上表面を軽く削った。こ
のように加工を施したディスク状基吸上にＣｒ地下層、
Ｃｏ合金磁性層。
層を形成し、その表面に鏡面加工を施した後、平均粒径
５μｍの砥粒の研磨テープを用いてテープポリッシング
を行いテクスチャア加工を施し、さらに平均粒径１μｍ
の砥粒の研磨テープを用いて最上表面を軽く削った。こ
のように加工を施したディスク状基吸上にＣｒ地下層、
Ｃｏ合金磁性層。
非晶質カーボン保護層をスパッタ法で順次成膜積層して
磁気ディスクを作製した。
磁気ディスクを作製した。
これらの磁気ディスクについてＣ３Ｓを繰り返し行った
ときの磁気ヘッドの浮上走行状況および摩擦係数を調べ
た。磁気ヘッドとしてワトラス型のＭｎ−Ｚｎフェライ
トヘッドを使用し、磁気ディスク上半径４２ｍｍの位は
において、磁気ディスクを第３図に示したように磁気ヘ
ッドが表面に接触した停止状態から回転を開始して５秒
間で３６０Ｏｒｐｍまで回転数をあげ磁気ヘッドを浮上
させ、５秒間回転させながら磁気ヘッドを浮上走行させ
た後５秒間で回転停止して磁気ヘッドを接触停止させ、
５秒間休止した後回転を再開するというサイクルでＣ８
Ｓを繰り返し行い、磁気ヘッドの浮上走行状態を調べ、
またＣ Ｓ Ｓ １００００回後の摩擦係数μを評価し
た。磁気ディスクの表面形状は■小板研究所のサーフコ
ーダＥ Ｔ −３０Ｈｋ で磁気ディスクの半径方向に
測定し評価した。
ときの磁気ヘッドの浮上走行状況および摩擦係数を調べ
た。磁気ヘッドとしてワトラス型のＭｎ−Ｚｎフェライ
トヘッドを使用し、磁気ディスク上半径４２ｍｍの位は
において、磁気ディスクを第３図に示したように磁気ヘ
ッドが表面に接触した停止状態から回転を開始して５秒
間で３６０Ｏｒｐｍまで回転数をあげ磁気ヘッドを浮上
させ、５秒間回転させながら磁気ヘッドを浮上走行させ
た後５秒間で回転停止して磁気ヘッドを接触停止させ、
５秒間休止した後回転を再開するというサイクルでＣ８
Ｓを繰り返し行い、磁気ヘッドの浮上走行状態を調べ、
またＣ Ｓ Ｓ １００００回後の摩擦係数μを評価し
た。磁気ディスクの表面形状は■小板研究所のサーフコ
ーダＥ Ｔ −３０Ｈｋ で磁気ディスクの半径方向に
測定し評価した。
その結果、磁気ディスク表面の中心線平均粗さＲａを１
００Ａ以上２００Ａ以下の範囲とすると良好な摩擦係数
を有する表面が得られ、１００Å以上１３０Å以下の範
囲とすればより好適であることが判った。
００Ａ以上２００Ａ以下の範囲とすると良好な摩擦係数
を有する表面が得られ、１００Å以上１３０Å以下の範
囲とすればより好適であることが判った。
また、磁気ディスクの最上表面が細かい研磨テープで軽
く研磨され、表面の突起の頂上近傍が削り取られている
ためＣ８Ｓはスムーズに行われ、磁気ヘッドの低浮上走
行を妨げたりヘッドクラッシュを引き起こしたりする異
常突起が存在しないことが判った。さらに、このように
細かい研磨テープで研磨することにより摩擦係数は変わ
るものであるが、磁気ディスク表面の断面の相対負荷曲
線について突起すなわち山の頂上近傍の形状に係わる指
標として相対負荷長さｔｐｌＯ％のカッティング深さＣ
Ｖ＋ａと相対負荷長さｔｐ １％のカッティング深さ
Ｃｖ、との差とＣＳ ５１００ＯＯ回後の摩擦係数との
関係を調べたところ第１図に示す結果が得られ、この差
が１００Å以上３００Ａ以下の範囲にあれば実用上問題
とならない小さな摩擦係数となり、１５０Å以上２５０
Ａ以下の範囲にあればより好適であることが判った。
く研磨され、表面の突起の頂上近傍が削り取られている
ためＣ８Ｓはスムーズに行われ、磁気ヘッドの低浮上走
行を妨げたりヘッドクラッシュを引き起こしたりする異
常突起が存在しないことが判った。さらに、このように
細かい研磨テープで研磨することにより摩擦係数は変わ
るものであるが、磁気ディスク表面の断面の相対負荷曲
線について突起すなわち山の頂上近傍の形状に係わる指
標として相対負荷長さｔｐｌＯ％のカッティング深さＣ
Ｖ＋ａと相対負荷長さｔｐ １％のカッティング深さ
Ｃｖ、との差とＣＳ ５１００ＯＯ回後の摩擦係数との
関係を調べたところ第１図に示す結果が得られ、この差
が１００Å以上３００Ａ以下の範囲にあれば実用上問題
とならない小さな摩擦係数となり、１５０Å以上２５０
Ａ以下の範囲にあればより好適であることが判った。
本発明によれば、従来、その中心線平均粗さＲａ、
最大高さＲｍａｘで規定し制御していた磁気ディスクの
表面形状を、中心線平均粗さＲａ と相対負荷曲線とで
規定し制御するようにしたことにより、摩擦磨耗特性に
優れ、しかも磁気ヘッドの低浮上安定走行を妨げたり、
ベッドクラッシニを引き起こしたりする異常突起の存在
しない良好な表面状況の磁気ディスクを得ることが可能
となる。
最大高さＲｍａｘで規定し制御していた磁気ディスクの
表面形状を、中心線平均粗さＲａ と相対負荷曲線とで
規定し制御するようにしたことにより、摩擦磨耗特性に
優れ、しかも磁気ヘッドの低浮上安定走行を妨げたり、
ベッドクラッシニを引き起こしたりする異常突起の存在
しない良好な表面状況の磁気ディスクを得ることが可能
となる。
第１図は相対負荷曲線の形状と摩擦係数との関係を示す
線図、第２図は相対負荷曲線の説明図、第３図はＣ８Ｓ
サイクルの線図、第４図は強磁性金属薄膜磁性層を備え
た一般的な磁気ディスクの模式的断面図。 第１図 第２図 第３図 第４図
線図、第２図は相対負荷曲線の説明図、第３図はＣ８Ｓ
サイクルの線図、第４図は強磁性金属薄膜磁性層を備え
た一般的な磁気ディスクの模式的断面図。 第１図 第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）非磁性基板上に強磁性金属薄膜磁性層を備えてなる
磁気ディスクにおいて、磁気ディスク表面の中心線平均
粗さＲａの値が１００Å以上２００Å以下の範囲にあり
、かつ、この磁気ディスク表面の断面の相対負荷曲線に
おいて、相対負荷長さ１０％のときのカッティング深さ
と相対負荷長さ１％のときのカッティング深さとの差が
１００Å以上３００Å以下の範囲にあることを特徴とす
る磁気ディスク。 ２）特許請求の範囲第１項記載の磁気ディスクにおいて
、前記相対負荷長さ１０％のときのカッティング深さと
相対負荷長さ１％のときのカッティング深さとの差が１
５０Å以上２５０Å以下の範囲にあることを特徴とする
磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31256587A JPH01154314A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31256587A JPH01154314A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01154314A true JPH01154314A (ja) | 1989-06-16 |
Family
ID=18030744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31256587A Pending JPH01154314A (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01154314A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0240128A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Canon Inc | 垂直磁気記録媒体 |
| JPH0240130A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Canon Inc | 垂直磁気記録媒体 |
| JPH0371427A (ja) * | 1989-08-09 | 1991-03-27 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPH0376023A (ja) * | 1989-08-17 | 1991-04-02 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気ディスク |
| JPH03176814A (ja) * | 1989-12-05 | 1991-07-31 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH03209628A (ja) * | 1990-01-12 | 1991-09-12 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPH08297837A (ja) * | 1996-04-26 | 1996-11-12 | Hitachi Ltd | 磁気ディスクの製造方法 |
| US6165582A (en) * | 1992-11-19 | 2000-12-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| US6805941B1 (en) | 1992-11-19 | 2004-10-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
| JP2009014007A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-22 | Kokuyo Co Ltd | オプション取付構造 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62150519A (ja) * | 1985-12-25 | 1987-07-04 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-12-10 JP JP31256587A patent/JPH01154314A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS62150519A (ja) * | 1985-12-25 | 1987-07-04 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体 |
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