JPH0887746A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0887746A JPH0887746A JP22118994A JP22118994A JPH0887746A JP H0887746 A JPH0887746 A JP H0887746A JP 22118994 A JP22118994 A JP 22118994A JP 22118994 A JP22118994 A JP 22118994A JP H0887746 A JPH0887746 A JP H0887746A
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】磁気ヘッドの極低安定走行浮上量に対応可能
で、かつ、耐磨耗性，磁気特性に優れた磁気記録媒体の
製造方法を提供する。 【構成】非磁性基板上に無電解メッキ法で非磁性金属膜
が形成された非磁性基体表面にテクスチャー加工が施さ
れ、その上に、スパッタ法により非磁性金属下地層，薄
膜磁性層，保護膜が順次成膜積層され、その上に液体潤
滑剤を塗布した潤滑層が形成される磁気記録媒体の製造
方法において、前記テクスチャー加工を、研削液に研磨
砥粒を分散させたスラリーを用いたスラリーテクスチャ
ー加工を多段階に分けて行い、かつ、段階を追って使用
するスラリーの砥粒径を小さくしていく加工方法とす
る。
で、かつ、耐磨耗性，磁気特性に優れた磁気記録媒体の
製造方法を提供する。 【構成】非磁性基板上に無電解メッキ法で非磁性金属膜
が形成された非磁性基体表面にテクスチャー加工が施さ
れ、その上に、スパッタ法により非磁性金属下地層，薄
膜磁性層，保護膜が順次成膜積層され、その上に液体潤
滑剤を塗布した潤滑層が形成される磁気記録媒体の製造
方法において、前記テクスチャー加工を、研削液に研磨
砥粒を分散させたスラリーを用いたスラリーテクスチャ
ー加工を多段階に分けて行い、かつ、段階を追って使用
するスラリーの砥粒径を小さくしていく加工方法とす
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、情報処理装置の外部
記憶装置として用いられる固定磁気ディスク装置などに
搭載される磁気ディスクなどの磁気記録媒体の製造方法
に関し、詳しくは非磁性基体のテクスチャー加工に関す
る。
記憶装置として用いられる固定磁気ディスク装置などに
搭載される磁気ディスクなどの磁気記録媒体の製造方法
に関し、詳しくは非磁性基体のテクスチャー加工に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータなどの情報処理装置
の外部記憶装置として固定磁気ディスク装置が多く用い
られている。この固定磁気ディスク装置に搭載される磁
気記録媒体としての磁気ディスクは、一般に、ディスク
状の非磁性材料，例えばアルミニウム合金やガラスから
なる基板の表面に無電解メッキ法でＮｉ−Ｐ膜からなる
非磁性金属膜を形成した非磁性基体上に、スパッタ法で
Ｃｒからなる非磁性金属下地層，Ｃｏ合金からなる薄膜
磁性層，アモルファスカーボンからなる保護膜を順次成
膜積層し、その上に液体潤滑剤を塗布した潤滑層を形成
して構成されている。
の外部記憶装置として固定磁気ディスク装置が多く用い
られている。この固定磁気ディスク装置に搭載される磁
気記録媒体としての磁気ディスクは、一般に、ディスク
状の非磁性材料，例えばアルミニウム合金やガラスから
なる基板の表面に無電解メッキ法でＮｉ−Ｐ膜からなる
非磁性金属膜を形成した非磁性基体上に、スパッタ法で
Ｃｒからなる非磁性金属下地層，Ｃｏ合金からなる薄膜
磁性層，アモルファスカーボンからなる保護膜を順次成
膜積層し、その上に液体潤滑剤を塗布した潤滑層を形成
して構成されている。
【０００３】固定磁気ディスク装置においては、このよ
うな磁気ディスクを回転させながら磁気ヘッドにより情
報の記録・再生が行われるが、その場合、通常、情報の
記録・再生が行われる装置駆動時には、磁気ヘッドは回
転している磁気ディスク上を僅かに浮上して走行し、装
置停止時には磁気ヘッドは停止している磁気ディスク表
面に接触して停止している，いわゆるＣＳＳ（Ｃｏｎｔ
ａｃｔ ＳｔａｒｔＳｔｏｐ）方式が採用されている。
従って、磁気記録媒体と磁気ヘッドは装置の駆動開始時
と停止時に過渡的に接触摺動を繰り返すので、磁気記録
媒体表面の耐磨耗性や潤滑性が不十分な場合、こような
接触摺動の繰り返しによって媒体表面が磨滅し、その程
度がひどい場合には磁性層が破壊して記録・再生が不可
能となる問題が生じる。耐磨耗性を向上させるために
は、媒体表面を粗面化して磁気ヘッドと媒体の接触面積
を減らして摩擦係数を低減することが有効であり、その
ために非磁性基体表面を粗面化しておき、それを媒体表
面に引き継がせて媒体表面を粗面とする方法が知られて
いる。媒体表面の粗さが大きい程摩擦係数は小さくな
る。また、磁気ディスクの記録・再生に重要な磁気特性
を高めるためには媒体表面がディスクの円周方向に沿っ
た方向性を有するように粗面化されていることが有効で
あることも知られている。このために、従来、基体表面
には、基体を回転させながら表面を研磨し、ディスクの
円周方向に方向性を有する粗面形状を形成する，いわゆ
るテクスチャー加工が施されてきた。
うな磁気ディスクを回転させながら磁気ヘッドにより情
報の記録・再生が行われるが、その場合、通常、情報の
記録・再生が行われる装置駆動時には、磁気ヘッドは回
転している磁気ディスク上を僅かに浮上して走行し、装
置停止時には磁気ヘッドは停止している磁気ディスク表
面に接触して停止している，いわゆるＣＳＳ（Ｃｏｎｔ
ａｃｔ ＳｔａｒｔＳｔｏｐ）方式が採用されている。
従って、磁気記録媒体と磁気ヘッドは装置の駆動開始時
と停止時に過渡的に接触摺動を繰り返すので、磁気記録
媒体表面の耐磨耗性や潤滑性が不十分な場合、こような
接触摺動の繰り返しによって媒体表面が磨滅し、その程
度がひどい場合には磁性層が破壊して記録・再生が不可
能となる問題が生じる。耐磨耗性を向上させるために
は、媒体表面を粗面化して磁気ヘッドと媒体の接触面積
を減らして摩擦係数を低減することが有効であり、その
ために非磁性基体表面を粗面化しておき、それを媒体表
面に引き継がせて媒体表面を粗面とする方法が知られて
いる。媒体表面の粗さが大きい程摩擦係数は小さくな
る。また、磁気ディスクの記録・再生に重要な磁気特性
を高めるためには媒体表面がディスクの円周方向に沿っ
た方向性を有するように粗面化されていることが有効で
あることも知られている。このために、従来、基体表面
には、基体を回転させながら表面を研磨し、ディスクの
円周方向に方向性を有する粗面形状を形成する，いわゆ
るテクスチャー加工が施されてきた。
【０００４】一方、固定磁気ディスク装置の記録密度を
高めるためにはＣＳＳ時の磁気ヘッドの安定走行浮上量
を小さくすることが有効であるが、媒体表面粗さが大き
くなると異常突起のために浮上量は大きくなってしま
う。以上述べたようなことを考慮して、従来、テクスチ
ャー加工は、通常、基体を数十ｒｐｍ〜数百ｒｐｍで回
転させながら、その表面に一段目として比較的粒径の大
きい研磨砥粒の研磨テープ（ベースとなる，例えばポリ
エステル樹脂フィルム上に研磨砥粒をバインダーで付着
したもの）を押し当てて研磨してベースとなる比較的大
きな粗さを形成し、続いて二段目としてより小さな粒径
の研磨砥粒の研磨テープを押し当てて研磨して、初段で
形成されてしまう異常突起を除去するとともに一段目に
形成した粗面に重畳して微細な粗面を形成する加工方法
が採られてきた。また、二段目の加工を、研磨テープの
代わりに植毛テープを基体表面に接触させ、その接触面
に研磨砥粒を研削液に分散させたスラリーを注ぎながら
研磨を行う方法も知られている。
高めるためにはＣＳＳ時の磁気ヘッドの安定走行浮上量
を小さくすることが有効であるが、媒体表面粗さが大き
くなると異常突起のために浮上量は大きくなってしま
う。以上述べたようなことを考慮して、従来、テクスチ
ャー加工は、通常、基体を数十ｒｐｍ〜数百ｒｐｍで回
転させながら、その表面に一段目として比較的粒径の大
きい研磨砥粒の研磨テープ（ベースとなる，例えばポリ
エステル樹脂フィルム上に研磨砥粒をバインダーで付着
したもの）を押し当てて研磨してベースとなる比較的大
きな粗さを形成し、続いて二段目としてより小さな粒径
の研磨砥粒の研磨テープを押し当てて研磨して、初段で
形成されてしまう異常突起を除去するとともに一段目に
形成した粗面に重畳して微細な粗面を形成する加工方法
が採られてきた。また、二段目の加工を、研磨テープの
代わりに植毛テープを基体表面に接触させ、その接触面
に研磨砥粒を研削液に分散させたスラリーを注ぎながら
研磨を行う方法も知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、処理情報の増大
につれて固定磁気ディスク装置の記憶容量の増大が要求
され、高記録密度化が要望され、そのために、ＣＳＳ時
の磁気ヘッドの極低浮上量化が要求されている。上述の
従来のテクスチャー加工技術は、磁気ヘッドの安定走行
浮上量を決める突起高さ（ＧＬＩＤＥ ＨＥＩＧＨＴ）
が０．０３８μｍ（１．５マイクロインチ）程度以上が
許される磁気記録媒体には有効であったが、突起高さと
してそれ以下が要求される磁気記録媒体には対応できな
い。すなわち、初段のテクスチャー加工時、媒体と磁気
ヘッドとの摩擦係数を所要の値以下となるようにするた
めに必要なベースとなる基体表面粗さを得るためには大
きな粒径の研磨砥粒の研磨テープを用いることが必要と
なるが、その結果異常突起が発生する。これを除去する
ために、より粒径の小さい研磨砥粒の研磨テープあるい
はスラリーを用いて二段目のテクスチャー加工を行う
が、必要とする極低浮上量を実現できる程度に異常突起
を除去する強さで二段目のテクスチャー加工を行うと、
基体表面の微小突起まで削りとってしまうことになり、
得られる媒体の表面粗さが微小となりすぎて、媒体と磁
気ヘッドとの接触面積が増大して耐磨耗性が悪くなる。
につれて固定磁気ディスク装置の記憶容量の増大が要求
され、高記録密度化が要望され、そのために、ＣＳＳ時
の磁気ヘッドの極低浮上量化が要求されている。上述の
従来のテクスチャー加工技術は、磁気ヘッドの安定走行
浮上量を決める突起高さ（ＧＬＩＤＥ ＨＥＩＧＨＴ）
が０．０３８μｍ（１．５マイクロインチ）程度以上が
許される磁気記録媒体には有効であったが、突起高さと
してそれ以下が要求される磁気記録媒体には対応できな
い。すなわち、初段のテクスチャー加工時、媒体と磁気
ヘッドとの摩擦係数を所要の値以下となるようにするた
めに必要なベースとなる基体表面粗さを得るためには大
きな粒径の研磨砥粒の研磨テープを用いることが必要と
なるが、その結果異常突起が発生する。これを除去する
ために、より粒径の小さい研磨砥粒の研磨テープあるい
はスラリーを用いて二段目のテクスチャー加工を行う
が、必要とする極低浮上量を実現できる程度に異常突起
を除去する強さで二段目のテクスチャー加工を行うと、
基体表面の微小突起まで削りとってしまうことになり、
得られる媒体の表面粗さが微小となりすぎて、媒体と磁
気ヘッドとの接触面積が増大して耐磨耗性が悪くなる。
【０００６】この発明は、上述の点に鑑みてなされたも
のであって、極低浮上量に対応可能で、かつ、耐磨耗
性，磁気特性の優れた磁気記録媒体を提供することを目
的とする。
のであって、極低浮上量に対応可能で、かつ、耐磨耗
性，磁気特性の優れた磁気記録媒体を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
によれば、非磁性基板上に無電解メッキ法で非磁性金属
膜が形成された非磁性基体表面にテクスチャー加工が施
され、その上ににスパッタ法により非磁性金属下地層，
薄膜磁性層，保護膜が順次成膜積層され、その上に液体
潤滑剤を塗布した潤滑層が形成される磁気記録媒体の製
造方法において、前記テクスチャー加工を研削液に研磨
砥粒を分散させたスラリーを用いたスラリーテクスチャ
ー加工を多段階，例えば二段階に分けて行い、段階を追
って使用するスラリーの研磨砥粒径を小さくしていくこ
とによって達成される。
によれば、非磁性基板上に無電解メッキ法で非磁性金属
膜が形成された非磁性基体表面にテクスチャー加工が施
され、その上ににスパッタ法により非磁性金属下地層，
薄膜磁性層，保護膜が順次成膜積層され、その上に液体
潤滑剤を塗布した潤滑層が形成される磁気記録媒体の製
造方法において、前記テクスチャー加工を研削液に研磨
砥粒を分散させたスラリーを用いたスラリーテクスチャ
ー加工を多段階，例えば二段階に分けて行い、段階を追
って使用するスラリーの研磨砥粒径を小さくしていくこ
とによって達成される。
【０００８】使用する研磨砥粒としてはアルミナまたは
ダイヤモンドからなる砥粒が好適である。また、非磁性
基板としてはアルミニウム合金からなる基板，ガラスか
らなる基板を用いることができ、非磁性基板上に無電解
メッキ法で形成される非磁性金属膜としてはＮｉ−Ｐ膜
が好適である。
ダイヤモンドからなる砥粒が好適である。また、非磁性
基板としてはアルミニウム合金からなる基板，ガラスか
らなる基板を用いることができ、非磁性基板上に無電解
メッキ法で形成される非磁性金属膜としてはＮｉ−Ｐ膜
が好適である。
【０００９】
【作用】研磨テープにおいては研磨砥粒はベースとなる
フィルム上にバインダーにより固定されていて動くこと
ができないが、スラリーにおいては研磨砥粒は自由に動
きまわることができる。テクスチャー加工を多段階に分
けて初段からテープを用いずにすべてスラリーを用いて
行う方法を採ることにより、初段のベースとなる大きな
粗さを従来のテープを用いた加工を行ったときのような
異常突起を発生させることなく形成することが可能とな
り、次段階以降で異常突起を除去するための考慮は要ら
なくなる。従って、段階を追って使用するスラリーの研
磨砥粒径を小さくして加工を施すことにより初段に形成
したベースとなる大きな粗さの面に重畳してＣＳＳ時の
耐磨耗性に必要とする微小粗さの面を良好に形成するこ
とが可能となる。
フィルム上にバインダーにより固定されていて動くこと
ができないが、スラリーにおいては研磨砥粒は自由に動
きまわることができる。テクスチャー加工を多段階に分
けて初段からテープを用いずにすべてスラリーを用いて
行う方法を採ることにより、初段のベースとなる大きな
粗さを従来のテープを用いた加工を行ったときのような
異常突起を発生させることなく形成することが可能とな
り、次段階以降で異常突起を除去するための考慮は要ら
なくなる。従って、段階を追って使用するスラリーの研
磨砥粒径を小さくして加工を施すことにより初段に形成
したベースとなる大きな粗さの面に重畳してＣＳＳ時の
耐磨耗性に必要とする微小粗さの面を良好に形成するこ
とが可能となる。
【００１０】
【実施例】図２はスラリーテクスチャー加工の説明図で
あり、図３はテープテクスチャー加工の説明図である。
スラリーテクスチャー加工は、図２に示すように、回転
している基体１の表面に植毛パッド２を接触させ、その
接触部に研削液に研磨砥粒を分散浮遊させたスラリー３
を注ぐことにより加工が施される。基体１の表面は研磨
砥粒４により研磨されて粗面化されるが、研磨砥粒４は
研削液中で自由に動けるため平均粒径より大きい粒径の
砥粒が存在しても基体１の表面を異常に深く削ることは
なく、基体１の表面を異常突起を発生させることなく均
一にあらすことができる。従って、次段階の加工では異
常突起の除去を考慮することは必要でなくなる。一方、
テープテクスチャー加工は、図３に示すように、フィル
ム５の表面にバインダー６により研磨砥粒４が固着され
てなる研磨テープ７を回転している基体１の表面に押し
つけることにより加工が施される。研磨砥粒４は研磨テ
ープ７に固着しているため、平均粒径より大きい粒径の
研磨砥粒４が存在した場合には、その砥粒により基体１
の表面は深く削られることになり、異常突起８が発生す
る。従って、次段階でこの異常突起８を除去することが
必要となる。
あり、図３はテープテクスチャー加工の説明図である。
スラリーテクスチャー加工は、図２に示すように、回転
している基体１の表面に植毛パッド２を接触させ、その
接触部に研削液に研磨砥粒を分散浮遊させたスラリー３
を注ぐことにより加工が施される。基体１の表面は研磨
砥粒４により研磨されて粗面化されるが、研磨砥粒４は
研削液中で自由に動けるため平均粒径より大きい粒径の
砥粒が存在しても基体１の表面を異常に深く削ることは
なく、基体１の表面を異常突起を発生させることなく均
一にあらすことができる。従って、次段階の加工では異
常突起の除去を考慮することは必要でなくなる。一方、
テープテクスチャー加工は、図３に示すように、フィル
ム５の表面にバインダー６により研磨砥粒４が固着され
てなる研磨テープ７を回転している基体１の表面に押し
つけることにより加工が施される。研磨砥粒４は研磨テ
ープ７に固着しているため、平均粒径より大きい粒径の
研磨砥粒４が存在した場合には、その砥粒により基体１
の表面は深く削られることになり、異常突起８が発生す
る。従って、次段階でこの異常突起８を除去することが
必要となる。
【００１１】ディスク状のアルミニウム合金基板表面に
無電解メッキ法でＮｉ−Ｐ膜を形成し、その表面を鏡面
研磨して非磁性基体とする。この基体表面にホワイトア
ランダム砥粒を研削液に分散浮遊させたスラリーを用い
てベースとなる比較的大きい表面粗さを形成する初段の
テクスチャー加工を行う。続いて、初段の加工に用いた
研磨砥粒よりも平均粒径の小さい砥粒を研削液に分散浮
遊させたスラリーを用い、初段で形成した比較的大きい
表面粗さに重畳して微小粗さを形成する第二段階のテク
スチャー加工を行う。初段および二段目に用いる砥粒の
平均粒径を変えて、種々の表面粗さを有する基体を作製
した。
無電解メッキ法でＮｉ−Ｐ膜を形成し、その表面を鏡面
研磨して非磁性基体とする。この基体表面にホワイトア
ランダム砥粒を研削液に分散浮遊させたスラリーを用い
てベースとなる比較的大きい表面粗さを形成する初段の
テクスチャー加工を行う。続いて、初段の加工に用いた
研磨砥粒よりも平均粒径の小さい砥粒を研削液に分散浮
遊させたスラリーを用い、初段で形成した比較的大きい
表面粗さに重畳して微小粗さを形成する第二段階のテク
スチャー加工を行う。初段および二段目に用いる砥粒の
平均粒径を変えて、種々の表面粗さを有する基体を作製
した。
【００１２】このようにスラリーテクスチャー加工を施
した種々の表面粗さの非磁性基体上に、スパッタ法でＣ
ｒ下地層，Ｃｏ合金薄膜磁性層，カーボン保護膜を順次
成膜積層し、その表面に液体潤滑剤を塗布して潤滑層を
形成して実施例の磁気記録媒体を作製した。比較のため
に、上述の基体表面の初段のテクスチャー加工を研磨テ
ープを用いたテープテクスチャー加工に変え、その他は
上述の実施例と同様にして比較例の磁気記録媒体を作製
した。
した種々の表面粗さの非磁性基体上に、スパッタ法でＣ
ｒ下地層，Ｃｏ合金薄膜磁性層，カーボン保護膜を順次
成膜積層し、その表面に液体潤滑剤を塗布して潤滑層を
形成して実施例の磁気記録媒体を作製した。比較のため
に、上述の基体表面の初段のテクスチャー加工を研磨テ
ープを用いたテープテクスチャー加工に変え、その他は
上述の実施例と同様にして比較例の磁気記録媒体を作製
した。
【００１３】以上のようにして作製した実施例および比
較例の磁気記録媒体について、磁気ヘッド安定走行浮上
量および媒体の耐磨耗性と基体の表面粗さとの関係を調
べた。図１にその結果を示す。図１において、左縦軸は
磁気記録媒体と磁気ヘッドとの摩擦係数を示し、右縦軸
は磁気ヘッドの安定走行を保証できる浮上量を示し、横
軸は使用した非磁性基体の表面粗さを示す。また、実線
は実施例の媒体，鎖線は比較例の媒体について示す。
較例の磁気記録媒体について、磁気ヘッド安定走行浮上
量および媒体の耐磨耗性と基体の表面粗さとの関係を調
べた。図１にその結果を示す。図１において、左縦軸は
磁気記録媒体と磁気ヘッドとの摩擦係数を示し、右縦軸
は磁気ヘッドの安定走行を保証できる浮上量を示し、横
軸は使用した非磁性基体の表面粗さを示す。また、実線
は実施例の媒体，鎖線は比較例の媒体について示す。
【００１４】図１に見られるように、表面粗さが大きく
なるにつれて、両者ともに摩擦係数が大きくなり、浮上
量が大きくなるが、いずれの表面粗さにおいても比較例
の媒体に比して実施例の媒体の方が摩擦係数は小さく、
かつ、浮上量が小さく、優れていることが判る。また、
比較例ではテープテクスチャー加工により異常突起が発
生し、これを除去しようとすると必要な微小突起まで除
去されて表面粗さが微細になりすぎて摩擦係数が大きく
なり、異常突起の除去が不十分であると浮上量が大きく
なるという問題があり、そのバランスをとるのが非常に
難しいという問題があった。スラリーテクスチャー加工
のみの実施例の場合には、異常突起が発生せずそれを除
去する必要がないため、摩擦係数を悪化させることなく
極低浮上量を達成することが可能となる。
なるにつれて、両者ともに摩擦係数が大きくなり、浮上
量が大きくなるが、いずれの表面粗さにおいても比較例
の媒体に比して実施例の媒体の方が摩擦係数は小さく、
かつ、浮上量が小さく、優れていることが判る。また、
比較例ではテープテクスチャー加工により異常突起が発
生し、これを除去しようとすると必要な微小突起まで除
去されて表面粗さが微細になりすぎて摩擦係数が大きく
なり、異常突起の除去が不十分であると浮上量が大きく
なるという問題があり、そのバランスをとるのが非常に
難しいという問題があった。スラリーテクスチャー加工
のみの実施例の場合には、異常突起が発生せずそれを除
去する必要がないため、摩擦係数を悪化させることなく
極低浮上量を達成することが可能となる。
【００１５】以上、アルミニウム合金基板表面に非磁性
金属膜としてＮｉ−Ｐ膜が形成された基体について述べ
たが、基板材質はこれに限られず、ガラス基板の場合で
も同様の効果が得られることが確認された。また、非磁
性金属膜もＮｉ−Ｐ膜に限られるものではなく，例えば
Ｎｉ−Ｃｕ−Ｐ膜でも同様の効果が得られる。また、デ
クスチャー加工に使用する研磨砥粒はホワイトアランダ
ムに限定されるものではなく、例えばダイヤモンド砥粒
でもよい。
金属膜としてＮｉ−Ｐ膜が形成された基体について述べ
たが、基板材質はこれに限られず、ガラス基板の場合で
も同様の効果が得られることが確認された。また、非磁
性金属膜もＮｉ−Ｐ膜に限られるものではなく，例えば
Ｎｉ−Ｃｕ−Ｐ膜でも同様の効果が得られる。また、デ
クスチャー加工に使用する研磨砥粒はホワイトアランダ
ムに限定されるものではなく、例えばダイヤモンド砥粒
でもよい。
【００１６】
【発明の効果】この発明によれば、非磁性基板上に無電
解メッキ法で非磁性金属膜が形成された非磁性基体上に
テクスチャー加工が施され、その上にスパッタ法により
非磁性金属下地層，薄膜磁性層，保護膜が順次成膜積層
され、その上に液体潤滑剤を塗布した潤滑層が形成され
る磁気記録媒体の製造方法において、前記テクスチャー
加工を研削液に研磨砥粒を分散させたスラリーを用いた
スラリーテクスチャー加工を多段階に分けて行い、か
つ、段階を追って使用するスラリーの研磨砥粒径を小さ
くしていく方法とする。このようなテクスチャー加工方
法を採ることにより、磁気ヘッドの極低浮上量に対応で
き、かつ、耐磨耗性，磁気特性に優れた磁気記録媒体を
得ることができる。
解メッキ法で非磁性金属膜が形成された非磁性基体上に
テクスチャー加工が施され、その上にスパッタ法により
非磁性金属下地層，薄膜磁性層，保護膜が順次成膜積層
され、その上に液体潤滑剤を塗布した潤滑層が形成され
る磁気記録媒体の製造方法において、前記テクスチャー
加工を研削液に研磨砥粒を分散させたスラリーを用いた
スラリーテクスチャー加工を多段階に分けて行い、か
つ、段階を追って使用するスラリーの研磨砥粒径を小さ
くしていく方法とする。このようなテクスチャー加工方
法を採ることにより、磁気ヘッドの極低浮上量に対応で
き、かつ、耐磨耗性，磁気特性に優れた磁気記録媒体を
得ることができる。
【図１】媒体表面の摩擦係数および磁気ヘッドの安定走
行を保証できる浮上量と使用基体の表面粗さとの関係を
テクスチャー加工方法をパラメータとして示す線図
行を保証できる浮上量と使用基体の表面粗さとの関係を
テクスチャー加工方法をパラメータとして示す線図
【図２】スラリーテクスチャー加工の説明図
【図３】テープテクスチャー加工の説明図
１ 基体 ２ 植毛パッド ３ スラリー ４ 研磨砥粒 ５ フィルム ６ バインダー ７ 研磨テープ ８ 異常突起
Claims (6)
- 【請求項１】非磁性基板上に無電解メッキ法で非磁性金
属膜が形成された非磁性基体上にテクスチャー加工が施
され、その上にスパッタ法により非磁性金属下地層，薄
膜磁性層，保護膜が順次成膜積層され、その上に液体潤
滑剤を塗布した潤滑層が形成される磁気記録媒体の製造
方法において、前記テクスチャー加工が研削液に研磨砥
粒を分散させたスラリーを用いたスラリーテクスチャー
加工を多段階に分けて施す方法であり、かつ、段階を追
って使用するスラリーの研磨砥粒径が小さくされること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】研磨砥粒がアルミナまたはダイヤモンドか
らなることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の
製造方法。 - 【請求項３】スラリーテクスチャー加工が二段階で行わ
れることを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録
媒体の製造方法。 - 【請求項４】非磁性基板がアルミニウム合金からなるこ
とを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の磁
気記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】非磁性基板がガラスからなることを特徴と
する請求項１ないし３のいずれかに記載の磁気記録媒体
の製造方法。 - 【請求項６】非磁性基板上に無電解メッキ法で形成され
る非磁性金属膜がＮｉ−Ｐ膜であることを特徴とする請
求項１ないし５のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22118994A JPH0887746A (ja) | 1994-09-16 | 1994-09-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22118994A JPH0887746A (ja) | 1994-09-16 | 1994-09-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0887746A true JPH0887746A (ja) | 1996-04-02 |
Family
ID=16762876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22118994A Pending JPH0887746A (ja) | 1994-09-16 | 1994-09-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0887746A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000301441A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Nippon Micro Coating Kk | 化学的機械的テクスチャ加工方法 |
-
1994
- 1994-09-16 JP JP22118994A patent/JPH0887746A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000301441A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Nippon Micro Coating Kk | 化学的機械的テクスチャ加工方法 |
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