JP3206701B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、情報処理装置の外部
記憶装置としての固定磁気ディスク装置などに用いられ
る磁気ディスクなどの磁気記録媒体の製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、コンピュータなどの情報処理装置
の外部記憶装置として固定磁気ディスク装置が多く用い
られている。この固定磁気ディスク装置に搭載される磁
気記録媒体としての磁気ディスクは、一般に、ディスク
状の非磁性材料,例えばアルミニウム合金やガラスから
なる基板の表面に無電解めっき法でNi−P膜を形成し
た非磁性基体上に、スパッタ法でCrからなる非磁性金
属下地層,Co合金からなる薄膜磁性層,アモルファス
カーボンからなる保護膜を順次成膜積層し、その上に液
体潤滑剤を塗布した潤滑層を形成して構成されている。
【0003】このような磁気記録媒体の製造に際して、
非磁性基体表面は、鏡面研磨され、洗浄された後、媒体
の耐久性,磁気特性を高めるために、ディスクのほぼ円
周方向に溝を形成するテクスチャー加工が施される。こ
のようなテクスチャー加工は、通常、基体を数十rpm
〜数百rpmで回転させながらその表面に研磨テープを
押しつけ圧1kg/cm2 〜4kg/cm2 で押し当て
て研磨する,いわゆるテープテクスチャー加工によって
行われている。このときに基体表面と研磨テープとの接
触部付近に研削液が流されるが、従来、研削液の温度は
特に管理されておらず、加工環境の温度とほぼ等しく2
0℃〜25℃程度であった。
【0004】また、テクスチャー加工を二段階とし、一
段目として上述のテープテクスチャー加工を行い、続い
て二段目として回転している基体表面に押しつけた植毛
テープに研削液に研磨砥粒を分散浮遊させたスラリーを
滴下しながら研磨する,いわゆるスラリーテクスチャー
を施すことも行われている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述のテープテクスチ
ャー加工において、研磨テープとしては、従来、一般的
に、ポリエステル樹脂製のフィルムにポリエステル樹脂
系の接着剤に混合された研磨砥粒が付着されてなる研磨
テープが用いられてきた。ところが、フィルムや接着剤
は比較的硬く、研磨テープ表面に特に突出している砥粒
が存在した場合、研磨に際して基体表面に深い溝が形成
され、このような異常に深い溝のある基体を用いた媒体
では、情報を記録する際に溝に起因する欠陥が生じると
いう問題があった。また、このような突出している砥粒
によって深く掘り起こされるときに生じる基体表面のバ
リは記録・再生ヘッドの安定な浮上走行を妨げるもので
あった。
【0006】この発明は、上述の点に鑑みてなされたも
のであって、研磨テープ表面に特に突出している砥粒が
存在した場合でも、基体表面に問題となるような深い溝
やバリを形成しないようにテープテクスチャー加工を施
すことができる磁気記録媒体の製造方法を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
によれば、非磁性基体を回転させながらその表面に研磨
テープを押しつけて研磨を行うテクスチャー加工工程を
含む磁気記録媒体の製造方法において、前記非磁性基体
表面と研磨テープとの接触面に流す研削液の温度を40
℃以上としてテクスチャー加工を行うことによって解決
される。
【0008】この場合の非磁性基体は非磁性基板表面に
無電解めっき法でNi−P膜が形成されてなるものでよ
く、非磁性基板の材質はアルミニウム合金でもよく,あ
るいはガラスであってもよい。
【0009】
【作用】非磁性基体表面のテープテクスチャー加工に際
して、温度を高めた研削液を用いることにより研磨テー
プのベースフィルムや接着剤は軟らかくなり、研磨テー
プ表面の特に突出した大きな砥粒は研磨テープが基体に
押しつけられたときにベースフィルム側に沈み込み、基
体表面に深い溝を形成することがなくなり、バリの発生
も防止することができる。
【0010】研削液の温度は40℃以上にすると異常に
深い溝が形成されなくなり、深い溝に起因する情報記録
時のエラーが発生しなくなるので好適である。しかし、
研削液は鉱油を主体とし、これに界面活性剤,有機アミ
ン,水などを添加したものであり、あまり高温にするこ
とは好ましくなく、60℃程度以下が望ましく、上限は
70℃程度を超えない方がよい。
【0011】
【実施例】以下、この発明の実施例について説明する
が、この発明はその要旨を損なわない限り、以下の実施
例に制約されるものではない。 実施例1 3.5インチ磁気ディスク用のディスク状アルミニウム
合金基板(外径95mm)の表面に無電解めっき法で膜
厚12μmのNi−P皮膜を形成して非磁性基体とす
る。この基体表面を鏡面研磨し、洗浄した後、基体を1
00rpmで回転させながら、その表面に平均砥粒径2
μmのホワイトアランダム砥粒の研磨テープを1.5k
g/cm2 の圧力で押しつけて接触部付近に研削液を流
しながら研磨し、一段目のテープテクスチャー加工を行
う。続いて、回転している基体表面に押しつけた植毛テ
ープに平均砥粒径1μmのホワイトアランダム砥粒を研
削液に分散浮遊させたスラリーを滴下しながら研磨する
二段目のスラリーテクスチャー加工を行う。
【0012】この一段目のテープテクスチャー加工にお
いて、研削液として、市販の一般的な研削液(通常、鉱
油に界面活性剤,有機アミン,塩素系極圧剤,防腐剤,
防蝕剤,水などを添加したもの)を純水により30倍に
希釈した液を種々の温度に加熱して用いた。テクスチャ
ー加工後の基体表面の溝の深さRV を小坂研究所製の表
面粗さ計(型式ET−30K)により測定し、研削液温
度との関係を調べた。その結果を図1に示す。図1にお
いて、横軸は研削液の温度、縦軸は各研削液温度での最
大の溝の深さRV を示す。図1に見られるように、研削
液の温度が高い程最大の溝の深さRV の値が小さくなっ
ている。
【0013】上述のようなテクスチャー加工を施した基
体を精密洗浄した後、その上にスパッタ法で非磁性金属
下地層としてのCr層(膜厚約100nm),磁性層と
してのCo合金層(膜厚約50nm),保護膜としての
カーボン膜(膜厚約15nm)を順次形成し、さらに、
その上にパーフルオロポリエーテル系の液体潤滑剤を約
2nmの厚さに塗布して潤滑層を形成し磁気記録媒体を
作製した。
【0014】このようにして作製した各磁気記録媒体に
ついて、エラー個数を調べた。その結果を図2に示す。
図2に見られるように、エラー個数は一段目のテープテ
クスチャー加工時の研削液温度が高い程減少し、40℃
以上では検出されなかった。さらに記録・再生ヘッドの
最小安定走行浮上量を評価したところ、図3に示すよう
に、研削液温度が高い程減少していた。
【0015】
【発明の効果】この発明によれば、非磁性基体表面の研
磨テープを用いて行うテープテクスチャー加工におい
て、研削液の温度を40℃以上として加工を行うことに
より、研磨テープ表面に特に突出している砥粒が存在し
た場合でも、基体表面に問題となるような深い溝を形成
しないテクスチャー加工を施すことができ、エラー個数
が少なく、かつ、記録・再生ヘッドの安定走行浮上高さ
を低くすることができる磁気記録媒体を得ることが可能
となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】テープテクスチャー加工時の研削液温度とテク
スチャー後の基体表面のRV との関係を示す線図
【図2】テープテクスチャー加工時の研削液温度と磁気
記録媒体のエラー個数との関係を示す線図
【図3】テープテクスチャー加工時の研削液温度と記録
・再生ヘッドの最小安定走行浮上量との関係を示す線図

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】非磁性基体を回転させながらその表面に研
    磨テープを押しつけて研磨を行うテクスチャー加工工程
    を含む磁気記録媒体の製造方法において、前記非磁性基
    体表面と研磨テープとの接触面に流す研削液の温度を4
    0℃以上としてテクスチャー加工を行うことを特徴とす
    る磁気記録媒体の製造方法。
  2. 【請求項2】非磁性基体が非磁性基板表面に無電解めっ
    き法でNi−P膜が形成されてなることを特徴とする請
    求項1記載の磁気記録媒体の製造方法。
  3. 【請求項3】非磁性基板の材質がアルミニウム合金であ
    ることを特徴とする請求項2記載の磁気記録媒体の製造
    方法。
  4. 【請求項4】非磁性基板の材質がガラスであることを特
    徴とする請求項2記載の磁気記録媒体の製造方法。
JP20626894A 1994-08-31 1994-08-31 磁気記録媒体の製造方法 Expired - Fee Related JP3206701B2 (ja)

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