JPH05166176A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH05166176A JPH05166176A JP3351463A JP35146391A JPH05166176A JP H05166176 A JPH05166176 A JP H05166176A JP 3351463 A JP3351463 A JP 3351463A JP 35146391 A JP35146391 A JP 35146391A JP H05166176 A JPH05166176 A JP H05166176A
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/028—Physical treatment to alter the texture of the substrate surface, e.g. grinding, polishing
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
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- G11B5/73911—Inorganic substrates
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドの吸着やヘッドヒットの問題を惹
起することなく、磁気ヘッドの浮上高さを低下せしめる
ことを可能にする磁気ディスクを、有利に製造する方法
を提供する。 【構成】 非磁性材料からなる円盤状の素材表面に金属
或いは酸化物の硬化層が形成された磁気ディスク用基板
を用い、かかる基板の表面に微細な凹凸を形成するテク
スチャ加工を施した後、強磁性金属からなる磁気記録層
を成膜して、目的とする磁気ディスクを製造するに際し
て、かかるテクスチャ加工を、粒径が実質的に４μm 以
下のみのダイヤモンド研磨砥粒を界面活性剤水溶液中に
分散せしめてなる加工液を用いて、実施する。
起することなく、磁気ヘッドの浮上高さを低下せしめる
ことを可能にする磁気ディスクを、有利に製造する方法
を提供する。 【構成】 非磁性材料からなる円盤状の素材表面に金属
或いは酸化物の硬化層が形成された磁気ディスク用基板
を用い、かかる基板の表面に微細な凹凸を形成するテク
スチャ加工を施した後、強磁性金属からなる磁気記録層
を成膜して、目的とする磁気ディスクを製造するに際し
て、かかるテクスチャ加工を、粒径が実質的に４μm 以
下のみのダイヤモンド研磨砥粒を界面活性剤水溶液中に
分散せしめてなる加工液を用いて、実施する。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、高密度磁気記録に適した強磁性
金属を、磁気記録媒体として、薄膜状に形成してなる磁
気ディスクを製造する方法に関するものである。
金属を、磁気記録媒体として、薄膜状に形成してなる磁
気ディスクを製造する方法に関するものである。
【０００２】
【背景技術】従来から、剛性を有する基板を用いた磁気
ディスク、特にスパッタディスク、メッキディスク等
の、所謂薄膜型磁気ディスクにおいては、より高密度の
記録を実現するために、通常の塗布型磁気ディスクに比
べて、その表面粗さがより微細化されている。このた
め、磁気ディスク上で磁気ヘッドを停止させた時、ディ
スクに吸着した水分や潤滑剤により、磁気ヘッドが磁気
ディスクに吸着する現象が起こることが問題となってい
る。そこで、磁気ディスクの基板表面に、基板の円周方
向に同心円状の微細な加工、所謂テクスチャ加工を施し
て、微細な凹凸を形成し、磁気ディスクの吸着を軽減す
ると共に、磁気ディスクの磁性膜の磁気異方性を、円周
方向に付与する方法が、考えられている。而して、その
ような方法において、テクスチャ加工を行なう際には、
ポリエステルベーステープ上にアルミナの砥粒を結着さ
せた研磨テープが用いられたり、或いはアルミナや炭化
珪素等の砥粒を液中に分散させた加工液が使用されてい
る。
ディスク、特にスパッタディスク、メッキディスク等
の、所謂薄膜型磁気ディスクにおいては、より高密度の
記録を実現するために、通常の塗布型磁気ディスクに比
べて、その表面粗さがより微細化されている。このた
め、磁気ディスク上で磁気ヘッドを停止させた時、ディ
スクに吸着した水分や潤滑剤により、磁気ヘッドが磁気
ディスクに吸着する現象が起こることが問題となってい
る。そこで、磁気ディスクの基板表面に、基板の円周方
向に同心円状の微細な加工、所謂テクスチャ加工を施し
て、微細な凹凸を形成し、磁気ディスクの吸着を軽減す
ると共に、磁気ディスクの磁性膜の磁気異方性を、円周
方向に付与する方法が、考えられている。而して、その
ような方法において、テクスチャ加工を行なう際には、
ポリエステルベーステープ上にアルミナの砥粒を結着さ
せた研磨テープが用いられたり、或いはアルミナや炭化
珪素等の砥粒を液中に分散させた加工液が使用されてい
る。
【０００３】ところで、磁気ディスクの記録密度が高く
なった場合において、磁気ディスク上を非接触に浮上す
る磁気ヘッドの浮上高さを低くして、磁気ヘッドと磁気
ディスクとの間の距離を小さくし、記録再生時の信号感
度を大きくすることが望まれている。そして、そのた
め、ディスク基板表面の粗さを小さくすることが必要と
なっている。
なった場合において、磁気ディスク上を非接触に浮上す
る磁気ヘッドの浮上高さを低くして、磁気ヘッドと磁気
ディスクとの間の距離を小さくし、記録再生時の信号感
度を大きくすることが望まれている。そして、そのた
め、ディスク基板表面の粗さを小さくすることが必要と
なっている。
【０００４】而して、アルミナ砥粒を結着させたテープ
で研磨を行なった場合、磁気ディスク基板表面に、テク
スチャ加工による同心円状の溝の他に、微小な突起物が
不規則に形成され、このため磁気ヘッドの浮上高さを下
げた場合に、前記突起物に磁気ヘッドが衝突する現象、
所謂ヘッドヒットが惹起され易くなるところから、磁気
ヘッドの浮上高さを無闇に低下させることは出来なかっ
た。また、ヘッドヒットを生じない程度に軽いテクスチ
ャ加工を行なった場合にあっては、平滑性が高過ぎて、
ヘッド吸着の問題が顕著となるのである。
で研磨を行なった場合、磁気ディスク基板表面に、テク
スチャ加工による同心円状の溝の他に、微小な突起物が
不規則に形成され、このため磁気ヘッドの浮上高さを下
げた場合に、前記突起物に磁気ヘッドが衝突する現象、
所謂ヘッドヒットが惹起され易くなるところから、磁気
ヘッドの浮上高さを無闇に低下させることは出来なかっ
た。また、ヘッドヒットを生じない程度に軽いテクスチ
ャ加工を行なった場合にあっては、平滑性が高過ぎて、
ヘッド吸着の問題が顕著となるのである。
【０００５】一方、アルミナ砥粒を分散させた加工液を
使用して、研磨を行なった場合にあっては、上記と同様
な突起物が形成されたり、アルミナの砥粒が基板表面に
食い込み、突起物の如き挙動をする場合があり、この場
合にも磁気ヘッドの浮上高さを下げることは困難であっ
たのである。なお、加工時間の短縮、或いは加工時の圧
力を下げることで、基板表面における前記突起物の形成
を抑制して、ヘッドヒットの発生を減少させることは可
能であるが、その場合には、磁気ヘッドの吸着がやはり
顕著となるのである。
使用して、研磨を行なった場合にあっては、上記と同様
な突起物が形成されたり、アルミナの砥粒が基板表面に
食い込み、突起物の如き挙動をする場合があり、この場
合にも磁気ヘッドの浮上高さを下げることは困難であっ
たのである。なお、加工時間の短縮、或いは加工時の圧
力を下げることで、基板表面における前記突起物の形成
を抑制して、ヘッドヒットの発生を減少させることは可
能であるが、その場合には、磁気ヘッドの吸着がやはり
顕著となるのである。
【０００６】
【解決課題】ここにおいて、本発明は、かかる事情を背
景にして為されたものであって、その課題とするところ
は、磁気ヘッドの吸着やヘッドヒットの問題を惹起する
ことなく、磁気ヘッドの浮上高さを低下せしめることを
可能にする磁気ディスクを、有利に製造する方法を提供
することにある。
景にして為されたものであって、その課題とするところ
は、磁気ヘッドの吸着やヘッドヒットの問題を惹起する
ことなく、磁気ヘッドの浮上高さを低下せしめることを
可能にする磁気ディスクを、有利に製造する方法を提供
することにある。
【０００７】
【解決手段】そして、本発明は、かかる課題を解決する
ために、非磁性材料からなる円盤状の素材表面に金属或
いは酸化物の硬化層が形成された磁気ディスク用基板を
用い、かかる基板の表面に微細な凹凸を形成するテクス
チャ加工を施した後、強磁性金属からなる磁気記録層を
成膜して、目的とする磁気ディスクを製造するに際し
て、かかるテクスチャ加工を、粒径が実質的に４μm 以
下のみのダイヤモンド研磨砥粒を界面活性剤水溶液中に
分散せしめてなる加工液を用いて、実施することを特徴
とする磁気ディスクの製造方法を、その要旨とするもの
である。
ために、非磁性材料からなる円盤状の素材表面に金属或
いは酸化物の硬化層が形成された磁気ディスク用基板を
用い、かかる基板の表面に微細な凹凸を形成するテクス
チャ加工を施した後、強磁性金属からなる磁気記録層を
成膜して、目的とする磁気ディスクを製造するに際し
て、かかるテクスチャ加工を、粒径が実質的に４μm 以
下のみのダイヤモンド研磨砥粒を界面活性剤水溶液中に
分散せしめてなる加工液を用いて、実施することを特徴
とする磁気ディスクの製造方法を、その要旨とするもの
である。
【０００８】
【具体的構成・作用】ところで、かかる本発明に従う磁
気ディスクの製造方法は、磁気ディスクの表面に形成さ
れる突起物に着目して完成されたものであって、磁気ヘ
ッドの吸着やヘッドヒットの問題を起こさずに、磁気ヘ
ッドの浮上高さを下げることを可能にするものである。
気ディスクの製造方法は、磁気ディスクの表面に形成さ
れる突起物に着目して完成されたものであって、磁気ヘ
ッドの吸着やヘッドヒットの問題を起こさずに、磁気ヘ
ッドの浮上高さを下げることを可能にするものである。
【０００９】すなわち、磁気ディスクの製造に用いられ
る基板の特徴は、記録密度の高密度化に伴い、磁気ヘッ
ドの磁気ディスク上での浮上高さを低下せしめる必要が
あるところから、その平面性が重要となっている。その
ため、非磁性金属を、磁気ディスク用基板として用いら
れる素材の表面にコートし、更に研磨により、平面性を
向上することが、一般的に行なわれており、またテクス
チャ加工を施す際に加工性を向上させるためにも、基板
素材の全面に、硬度の高く、切削性の優れたＮｉ−Ｐ等
のコーティングがメッキにより施されているが、そのよ
うな基板の表面に対して、アルミナを結着させた研磨テ
ープを使用して、テクスチャ加工を行なった場合、ディ
スク表面に特に深い食い込み疵を生じたり、微小な突起
物を発生し易かった。また、アルミナ砥粒を液中に分散
させた加工液を用いてテクスチャ加工した場合にあって
も、基板表面に鋭利なアルミナ砥粒が食い込み、ヘッド
ヒットを起こし易くなる問題があり、更にアルミナ加工
液で加工した場合、充分な磁気特性を得ることが出来な
いものであった。
る基板の特徴は、記録密度の高密度化に伴い、磁気ヘッ
ドの磁気ディスク上での浮上高さを低下せしめる必要が
あるところから、その平面性が重要となっている。その
ため、非磁性金属を、磁気ディスク用基板として用いら
れる素材の表面にコートし、更に研磨により、平面性を
向上することが、一般的に行なわれており、またテクス
チャ加工を施す際に加工性を向上させるためにも、基板
素材の全面に、硬度の高く、切削性の優れたＮｉ−Ｐ等
のコーティングがメッキにより施されているが、そのよ
うな基板の表面に対して、アルミナを結着させた研磨テ
ープを使用して、テクスチャ加工を行なった場合、ディ
スク表面に特に深い食い込み疵を生じたり、微小な突起
物を発生し易かった。また、アルミナ砥粒を液中に分散
させた加工液を用いてテクスチャ加工した場合にあって
も、基板表面に鋭利なアルミナ砥粒が食い込み、ヘッド
ヒットを起こし易くなる問題があり、更にアルミナ加工
液で加工した場合、充分な磁気特性を得ることが出来な
いものであった。
【００１０】本発明者らが、これらの問題点を解決すべ
く、種々の基板加工条件を検討した結果、研磨砥粒とし
て最も硬度が高く、切削性が良いダイヤモンド粒子を、
液中に分散させて使用した場合において、基板の表面形
状が最も良好となることを見い出し、本発明に到達した
のである。即ち、本発明は、ディスク基板に対するテク
スチャ加工を、粒径が実質的に４μm 以下のみのダイヤ
モンド研磨砥粒を界面活性剤水溶液中に分散せしめてな
る加工液を用いて、実施するようにしたものであり、こ
れによって基板の表面形状を効果的に改善し得たのであ
る。これは、研磨砥粒たるダイヤモンドの粒子が規則正
しい形状であり、その結晶面によるエッジが鋭く形成さ
れているところから、基板表面に形成される凹凸形状が
比較的均一で微細なものとなるためであると考えられて
いる。
く、種々の基板加工条件を検討した結果、研磨砥粒とし
て最も硬度が高く、切削性が良いダイヤモンド粒子を、
液中に分散させて使用した場合において、基板の表面形
状が最も良好となることを見い出し、本発明に到達した
のである。即ち、本発明は、ディスク基板に対するテク
スチャ加工を、粒径が実質的に４μm 以下のみのダイヤ
モンド研磨砥粒を界面活性剤水溶液中に分散せしめてな
る加工液を用いて、実施するようにしたものであり、こ
れによって基板の表面形状を効果的に改善し得たのであ
る。これは、研磨砥粒たるダイヤモンドの粒子が規則正
しい形状であり、その結晶面によるエッジが鋭く形成さ
れているところから、基板表面に形成される凹凸形状が
比較的均一で微細なものとなるためであると考えられて
いる。
【００１１】なお、このような本発明に従うテクスチャ
加工に際して、砥粒であるダイヤモンドの粒径が４μm
を越えるような大きな粒子が含まれた場合にあっては、
基板表面にヘッドヒットを惹起するような突起物が形成
され易くなるところから、その粒度を４μm 以下とする
必要があるのであり、特に粒子の体積平均で粒径が１〜
３μm の大きさのものが全体の９０％以上となるよう
に、粒度分布を狭くすることにより、加工される凹凸の
ピッチ、高さをより均一と為し得るところから、更に好
ましい結果を得ることが出来る。
加工に際して、砥粒であるダイヤモンドの粒径が４μm
を越えるような大きな粒子が含まれた場合にあっては、
基板表面にヘッドヒットを惹起するような突起物が形成
され易くなるところから、その粒度を４μm 以下とする
必要があるのであり、特に粒子の体積平均で粒径が１〜
３μm の大きさのものが全体の９０％以上となるよう
に、粒度分布を狭くすることにより、加工される凹凸の
ピッチ、高さをより均一と為し得るところから、更に好
ましい結果を得ることが出来る。
【００１２】また、本発明において、加工液中には、界
面活性剤が存在せしめられているところから、それを用
いてテクスチャ加工を行なう際に、ダイヤモンド砥粒が
均一に分散され、砥粒の沈降が良好に防止されることと
なる。なお、この界面活性剤としては、公知の各種のも
のが用いられ得るが、特にそのような界面活性剤は、一
般に、５％以下の割合において含有せしめられることと
なる。そして、この界面活性剤の水溶液に対して、ダイ
ヤモンド砥粒は、通常、５重量％以下の割合において分
散、含有せしめられるのである。
面活性剤が存在せしめられているところから、それを用
いてテクスチャ加工を行なう際に、ダイヤモンド砥粒が
均一に分散され、砥粒の沈降が良好に防止されることと
なる。なお、この界面活性剤としては、公知の各種のも
のが用いられ得るが、特にそのような界面活性剤は、一
般に、５％以下の割合において含有せしめられることと
なる。そして、この界面活性剤の水溶液に対して、ダイ
ヤモンド砥粒は、通常、５重量％以下の割合において分
散、含有せしめられるのである。
【００１３】さらに、本発明にあっては、テクスチャ加
工液が水溶液の形態とされているところから、テクスチ
ャ加工後の洗浄が容易となり、基板に付着したテクスチ
ャ加工時のＮｉ−Ｐ等の研磨かすやダイヤモンド砥粒
を、水とブラシを用いて容易に洗い落とすことが出来る
ため、基板表面に食い込んだ砥粒によるヘッドヒットの
問題も全く生じることがないのである。
工液が水溶液の形態とされているところから、テクスチ
ャ加工後の洗浄が容易となり、基板に付着したテクスチ
ャ加工時のＮｉ−Ｐ等の研磨かすやダイヤモンド砥粒
を、水とブラシを用いて容易に洗い落とすことが出来る
ため、基板表面に食い込んだ砥粒によるヘッドヒットの
問題も全く生じることがないのである。
【００１４】ところで、本発明において、磁気ディスク
用基板として用いられる素材にあっては、記録密度の高
密度化に伴い、磁気ヘッドの磁気ディスク上での浮上高
さが低くなるところから、その平面性が重要とされ、そ
のために磁気ディスク用基板を与える素材としては、ア
ルミニウムの如き非磁性金属、ガラス、樹脂等の剛性を
有する非磁性材料が有利に用いられることとなる。そし
て、そのような材料からなる円盤状の素材に対して、そ
の表面に微細な凹凸を形成すべくテクスチャ加工を施す
際には、素材の強度を高め、その切削性を向上させるた
めに、素材を構成する前記金属、ガラス又は樹脂からな
る円盤状の素材の全面に亘って、硬度が高く、切削性の
良好な金属（合金を含む）からなる硬化層が形成される
こととなる。なお、基板の素材としてアルミニウム合金
を用いる場合にあっては、その表面を酸化させる、所謂
アルマイト処理を施すことにより、酸化物の硬化層を形
成して、その表面を硬化させることも有利に採用され
る。
用基板として用いられる素材にあっては、記録密度の高
密度化に伴い、磁気ヘッドの磁気ディスク上での浮上高
さが低くなるところから、その平面性が重要とされ、そ
のために磁気ディスク用基板を与える素材としては、ア
ルミニウムの如き非磁性金属、ガラス、樹脂等の剛性を
有する非磁性材料が有利に用いられることとなる。そし
て、そのような材料からなる円盤状の素材に対して、そ
の表面に微細な凹凸を形成すべくテクスチャ加工を施す
際には、素材の強度を高め、その切削性を向上させるた
めに、素材を構成する前記金属、ガラス又は樹脂からな
る円盤状の素材の全面に亘って、硬度が高く、切削性の
良好な金属（合金を含む）からなる硬化層が形成される
こととなる。なお、基板の素材としてアルミニウム合金
を用いる場合にあっては、その表面を酸化させる、所謂
アルマイト処理を施すことにより、酸化物の硬化層を形
成して、その表面を硬化させることも有利に採用され
る。
【００１５】そして、このような素材からなるディスク
基板には、その表面に微細な凹凸を形成するために、そ
の表面に対して、前記した本発明に従うテクスチャ加工
が施されるのであり、更にその後、そのような微細な凹
凸の形成された基板には、所定の強磁性金属薄膜からな
る磁気記録層が、その粗面化された表面上に形成され
る。なお、この磁気記録層としては、公知の各種のもの
が採用され、例えばγ−Ｆｅ2 Ｏ3 からなるスパッタ
膜、Ｃｏ系、ＣｏＮｉ系、ＣｏＰｔ系、ＣｏＣｒＴａ
系、Ｆｅ系のスパッタ膜或いは蒸着膜、メッキ膜等の強
磁性金属薄膜がある。また、そのような磁気記録層の形
成に先立って、その下地層として、磁気特性を調整する
等のために、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層等を設けることも可能
である。
基板には、その表面に微細な凹凸を形成するために、そ
の表面に対して、前記した本発明に従うテクスチャ加工
が施されるのであり、更にその後、そのような微細な凹
凸の形成された基板には、所定の強磁性金属薄膜からな
る磁気記録層が、その粗面化された表面上に形成され
る。なお、この磁気記録層としては、公知の各種のもの
が採用され、例えばγ−Ｆｅ2 Ｏ3 からなるスパッタ
膜、Ｃｏ系、ＣｏＮｉ系、ＣｏＰｔ系、ＣｏＣｒＴａ
系、Ｆｅ系のスパッタ膜或いは蒸着膜、メッキ膜等の強
磁性金属薄膜がある。また、そのような磁気記録層の形
成に先立って、その下地層として、磁気特性を調整する
等のために、Ｃｒ層、Ｃｒ合金層等を設けることも可能
である。
【００１６】なお、かかる磁気記録層の上には、従来と
同様に、カーボン膜の如き保護層が形成され、更にその
上に、フロロカーボン系潤滑剤を塗布したりすること等
により形成される潤滑層が、順次形成され、以て目的と
する磁気ディスクとされることとなる。
同様に、カーボン膜の如き保護層が形成され、更にその
上に、フロロカーボン系潤滑剤を塗布したりすること等
により形成される潤滑層が、順次形成され、以て目的と
する磁気ディスクとされることとなる。
【００１７】
【実施例】以下に、本発明の代表的な実施例を示し、本
発明を更に具体的に明らかにすることとするが、本発明
が、そのような実施例の記載によって、何等の制約をも
受けるものでないことは、言うまでもないところであ
る。また、本発明には、以下の実施例の他にも、更には
上記の具体的記述以外にも、本発明の趣旨を逸脱しない
限りにおいて、当業者の知識に基づいて種々なる変更、
修正、改良等を加え得るものであることが理解されるべ
きである。
発明を更に具体的に明らかにすることとするが、本発明
が、そのような実施例の記載によって、何等の制約をも
受けるものでないことは、言うまでもないところであ
る。また、本発明には、以下の実施例の他にも、更には
上記の具体的記述以外にも、本発明の趣旨を逸脱しない
限りにおいて、当業者の知識に基づいて種々なる変更、
修正、改良等を加え得るものであることが理解されるべ
きである。
【００１８】まず、アルミニウム合金材料からなる、外
径：９５mm、内径：２５mm、厚さ：１．２７mmの円盤状
の素材を基板とし、その全面に亘り、公知の無電解メッ
キ手法にて、Ｎｉ−Ｐ合金層を１５μm 程度の厚みで形
成した後、ラップ加工及びポリッシュ加工により、Ｒ
ａ：５nmの鏡面とした。
径：９５mm、内径：２５mm、厚さ：１．２７mmの円盤状
の素材を基板とし、その全面に亘り、公知の無電解メッ
キ手法にて、Ｎｉ−Ｐ合金層を１５μm 程度の厚みで形
成した後、ラップ加工及びポリッシュ加工により、Ｒ
ａ：５nmの鏡面とした。
【００１９】次いで、図１に示すように、かかる研磨さ
れた基板２を１００〜５００rpm で回転させながら、研
磨布４に対して、粒径が３μm 以下のダイヤモンド砥粒
を、３重量％濃度となるように、界面活性剤（アルキル
エーテルスルホン酸ナトリウム）を３％の濃度で含む水
溶液中に分散せしめてなる加工液を、ノズル６より滴下
して供給し、更にロール８により回転する基板２に対し
て、０．５〜３kgf の力で押し付けて、３０秒間のテク
スチャ加工を行なった。そして、その際の基板２の回転
数及び押し付け力を種々変えて、実施例１〜５の各種の
ディスク基板を得た。
れた基板２を１００〜５００rpm で回転させながら、研
磨布４に対して、粒径が３μm 以下のダイヤモンド砥粒
を、３重量％濃度となるように、界面活性剤（アルキル
エーテルスルホン酸ナトリウム）を３％の濃度で含む水
溶液中に分散せしめてなる加工液を、ノズル６より滴下
して供給し、更にロール８により回転する基板２に対し
て、０．５〜３kgf の力で押し付けて、３０秒間のテク
スチャ加工を行なった。そして、その際の基板２の回転
数及び押し付け力を種々変えて、実施例１〜５の各種の
ディスク基板を得た。
【００２０】一方、比較のために、ダイヤモンド砥粒中
に４〜５μm 径の粒子を１０重量％の割合において含
む、上記と同様な加工液を用いて、テクスチャ加工を行
ない、比較例１としてのディスク基板を得た。また、比
較例２に係るディスク基板は、上記の実施例１〜５に係
るディスク基板の製造に用いられたダイヤモンド砥粒と
同程度の粒度のアルミナ砥粒を用いて、テクスチャ加工
を実施することにより得た。更に、ポリエステルフィル
ム上に、平均粒径：３μm のアルミナ砥粒を結着させた
研磨テープを用いて、上記と同様なテクスチャ加工を行
ない、比較例３に係るディスク基板を得た。
に４〜５μm 径の粒子を１０重量％の割合において含
む、上記と同様な加工液を用いて、テクスチャ加工を行
ない、比較例１としてのディスク基板を得た。また、比
較例２に係るディスク基板は、上記の実施例１〜５に係
るディスク基板の製造に用いられたダイヤモンド砥粒と
同程度の粒度のアルミナ砥粒を用いて、テクスチャ加工
を実施することにより得た。更に、ポリエステルフィル
ム上に、平均粒径：３μm のアルミナ砥粒を結着させた
研磨テープを用いて、上記と同様なテクスチャ加工を行
ない、比較例３に係るディスク基板を得た。
【００２１】このようにして得られた各種のディスク基
板について、その表面粗さ（Ｒａ）を測定し、その結果
を下記表１に示すが、その結果から明らかなように、本
発明手法に従う、ダイヤモンド砥粒分散研磨加工液を使
用して、テクスチャ加工した基板の中心平均粗さ：Ｒａ
は８nm程度であり、他の比較例の基板と同程度の粗さで
あることが認められる。
板について、その表面粗さ（Ｒａ）を測定し、その結果
を下記表１に示すが、その結果から明らかなように、本
発明手法に従う、ダイヤモンド砥粒分散研磨加工液を使
用して、テクスチャ加工した基板の中心平均粗さ：Ｒａ
は８nm程度であり、他の比較例の基板と同程度の粗さで
あることが認められる。
【００２２】なお、表１における各々のディスク基板の
テクスチャ加工後の表面粗度（Ｒａ）は、先端の曲率半
径が２．５μm のダイヤモンドからなるスタイラスを有
する触針式の粗さ計を用いて測定した。また、その測定
は、針の加重：２mg、操作の幅：０．５μm で移動させ
た時の信号を２０００ポイント／mmの割合でコンピュー
タに取り込み、基板表面の粗さを算出することにより、
行なった。
テクスチャ加工後の表面粗度（Ｒａ）は、先端の曲率半
径が２．５μm のダイヤモンドからなるスタイラスを有
する触針式の粗さ計を用いて測定した。また、その測定
は、針の加重：２mg、操作の幅：０．５μm で移動させ
た時の信号を２０００ポイント／mmの割合でコンピュー
タに取り込み、基板表面の粗さを算出することにより、
行なった。
【００２３】
【表１】
【００２４】また、比較例２のディスク基板の作製と同
様にして、アルミナ砥粒の加工液を用い、同様な押し付
け圧力の下に、より短い時間（１８秒）のテクスチャ加
工を施して、比較例４に係るディスク基板を作製した。
更に、前記比較例３と同様な条件下で、加工時間のみを
１８秒とすることにより、比較例５に係るディスク基板
を得た。そして、この得られた二つの比較例に係るディ
スク基板についても、その表面粗さを測定し、その結果
を下記表２に示す。
様にして、アルミナ砥粒の加工液を用い、同様な押し付
け圧力の下に、より短い時間（１８秒）のテクスチャ加
工を施して、比較例４に係るディスク基板を作製した。
更に、前記比較例３と同様な条件下で、加工時間のみを
１８秒とすることにより、比較例５に係るディスク基板
を得た。そして、この得られた二つの比較例に係るディ
スク基板についても、その表面粗さを測定し、その結果
を下記表２に示す。
【００２５】
【表２】
【００２６】次いで、これら各種の基板上に、ＤＣマグ
ネトロンスパッタリング法により、基板温度：３００
℃、Ａｒガス圧：１０ mTorr、ＤＣ投入電力：５Ｗ／cm
2 の条件下に、Ｃｒを５００Åの厚さに成膜して、下地
膜とした後、かかる下地膜上に、更に基板とスパッタリ
ング用ターゲットとの間に１５０Ｖの負バイアス電圧を
加えて、ＣｏＣｒＴａ磁気記録媒体を３００Åの厚さに
て成膜した。その後、そのような磁気記録媒体上に、上
記のＣｒ下地膜の成膜と同様な条件下にて、カーボン保
護膜を形成し、更にその上に、スピンコート法にて、潤
滑剤を約２０Åの厚さで塗布して潤滑層を形成し、目的
とする各種の磁気ディスクを作製した。
ネトロンスパッタリング法により、基板温度：３００
℃、Ａｒガス圧：１０ mTorr、ＤＣ投入電力：５Ｗ／cm
2 の条件下に、Ｃｒを５００Åの厚さに成膜して、下地
膜とした後、かかる下地膜上に、更に基板とスパッタリ
ング用ターゲットとの間に１５０Ｖの負バイアス電圧を
加えて、ＣｏＣｒＴａ磁気記録媒体を３００Åの厚さに
て成膜した。その後、そのような磁気記録媒体上に、上
記のＣｒ下地膜の成膜と同様な条件下にて、カーボン保
護膜を形成し、更にその上に、スピンコート法にて、潤
滑剤を約２０Åの厚さで塗布して潤滑層を形成し、目的
とする各種の磁気ディスクを作製した。
【００２７】かくして得られた各種の磁気ディスクにつ
いて、それぞれ、磁気ヘッドの浮上量とヘッドヒットに
ついての評価を行なった。即ち、各ディスクの半径：２
０mm〜４５mmの表面について、５００〜２０００rpm で
各ディスクを回転させ、圧力センサを取り付けた磁気ヘ
ッドを浮上させて、磁気ディスクと磁気ヘッドとの接触
回数を測定し、１０枚×２０面の平均を求めた。なお、
磁気ヘッドの浮上高さは、磁気ディスクの回転の周速度
によって決まり、予めその周速度と浮上量との関係を求
めておくことにより、各磁気ディスクに対する磁気ヘッ
ドの浮上高さを推定した。
いて、それぞれ、磁気ヘッドの浮上量とヘッドヒットに
ついての評価を行なった。即ち、各ディスクの半径：２
０mm〜４５mmの表面について、５００〜２０００rpm で
各ディスクを回転させ、圧力センサを取り付けた磁気ヘ
ッドを浮上させて、磁気ディスクと磁気ヘッドとの接触
回数を測定し、１０枚×２０面の平均を求めた。なお、
磁気ヘッドの浮上高さは、磁気ディスクの回転の周速度
によって決まり、予めその周速度と浮上量との関係を求
めておくことにより、各磁気ディスクに対する磁気ヘッ
ドの浮上高さを推定した。
【００２８】実施例１〜５及び比較例１〜５の各磁気デ
ィスクについて、磁気ヘッドとの接触回数を、磁気ヘッ
ドの浮上高さにおいて調べた結果を、図２、図３及び図
４にそれぞれ示すが、それらの結果から明らかなよう
に、本発明に従う実施例１〜５の磁気ディスクは、何れ
も、磁気ヘッドの浮上量を０．０８μm 程度まで下げて
もディスクと接触しないことから、ディスク表面には
０．０８μm を越える突起物が存在していないことが理
解される。
ィスクについて、磁気ヘッドとの接触回数を、磁気ヘッ
ドの浮上高さにおいて調べた結果を、図２、図３及び図
４にそれぞれ示すが、それらの結果から明らかなよう
に、本発明に従う実施例１〜５の磁気ディスクは、何れ
も、磁気ヘッドの浮上量を０．０８μm 程度まで下げて
もディスクと接触しないことから、ディスク表面には
０．０８μm を越える突起物が存在していないことが理
解される。
【００２９】これに対して、比較例１〜３の磁気ディス
クは、何れも、浮上量が０．１０μm 程度の高さでディ
スクに接触していることから、０．１０μm 程度の突起
物がディスク表面に形成されているものと認められる。
クは、何れも、浮上量が０．１０μm 程度の高さでディ
スクに接触していることから、０．１０μm 程度の突起
物がディスク表面に形成されているものと認められる。
【００３０】このことから、本発明に従って、ダイヤモ
ンド砥粒を分散せしめてなる加工液を用いてテクスチャ
加工した基板から磁気ディスクを製造する場合にあって
は、ディスク表面に形成される突起物の高さが低く、そ
の結果、磁気ディスクの浮上量を低くすることが出来る
ことが理解される。しかしながら、粒径が４〜５μmの
ダイヤモンド砥粒が存在するようになると、テクスチャ
加工された基板上の突起物が急激に増加し、ヘッドヒッ
トの生じる虞が高くなることが理解される。
ンド砥粒を分散せしめてなる加工液を用いてテクスチャ
加工した基板から磁気ディスクを製造する場合にあって
は、ディスク表面に形成される突起物の高さが低く、そ
の結果、磁気ディスクの浮上量を低くすることが出来る
ことが理解される。しかしながら、粒径が４〜５μmの
ダイヤモンド砥粒が存在するようになると、テクスチャ
加工された基板上の突起物が急激に増加し、ヘッドヒッ
トの生じる虞が高くなることが理解される。
【００３１】また、比較例４，５のアルミナ砥粒を用い
た場合にあっては、ヘッドヒットが磁気ヘッドの浮上高
さ：０．０８μm で観測されるにも拘わらず、磁気ヘッ
ドの吸着が惹起されることを認めた。これに対して、本
発明に従う実施例１〜５の磁気ディスクにおいては、何
れも、ヘッド吸着を起こさず、またヘッドヒットも良好
に抑制されているのである。
た場合にあっては、ヘッドヒットが磁気ヘッドの浮上高
さ：０．０８μm で観測されるにも拘わらず、磁気ヘッ
ドの吸着が惹起されることを認めた。これに対して、本
発明に従う実施例１〜５の磁気ディスクにおいては、何
れも、ヘッド吸着を起こさず、またヘッドヒットも良好
に抑制されているのである。
【００３２】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に従う磁気ディスクの製造法によれば、磁気ヘッドの吸
着やヘッドヒットを起こすことなく、磁気ヘッドの浮上
量を低下せしめ得る磁気ディスクを有利に製造すること
が出来、以て高密度磁気記録に適する磁気ディスクを有
利に製造し得ることとなったのである。
に従う磁気ディスクの製造法によれば、磁気ヘッドの吸
着やヘッドヒットを起こすことなく、磁気ヘッドの浮上
量を低下せしめ得る磁気ディスクを有利に製造すること
が出来、以て高密度磁気記録に適する磁気ディスクを有
利に製造し得ることとなったのである。
【図１】ディスク基板に対するテクスチャ加工の一例を
概略的に示す説明図である。
概略的に示す説明図である。
【図２】実施例１〜５の磁気ディスクに関する磁気ヘッ
ドとの接触回数と磁気ヘッド浮上高さとの関係を示すグ
ラフである。
ドとの接触回数と磁気ヘッド浮上高さとの関係を示すグ
ラフである。
【図３】比較例１〜３の磁気ディスクに関する磁気ヘッ
ドとの接触回数と磁気ヘッド浮上高さとの関係を示すグ
ラフである。
ドとの接触回数と磁気ヘッド浮上高さとの関係を示すグ
ラフである。
【図４】比較例４〜５の磁気ディスクに関する磁気ヘッ
ドとの接触回数と磁気ヘッド浮上高さとの関係を示すグ
ラフである。
ドとの接触回数と磁気ヘッド浮上高さとの関係を示すグ
ラフである。
２ ディスク基板 ４ 研磨布 ６ ノズル ８ ロール
Claims (1)
- 【請求項１】 非磁性材料からなる円盤状の素材表面に
金属或いは酸化物の硬化層が形成された磁気ディスク用
基板を用い、かかる基板の表面に微細な凹凸を形成する
テクスチャ加工を施した後、強磁性金属からなる磁気記
録層を成膜して、目的とする磁気ディスクを製造するに
際して、 かかるテクスチャ加工を、粒径が実質的に４μm 以下の
みのダイヤモンド研磨砥粒を界面活性剤水溶液中に分散
せしめてなる加工液を用いて、実施することを特徴とす
る磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3351463A JPH05166176A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 磁気ディスクの製造方法 |
| US07/987,817 US5223304A (en) | 1991-12-12 | 1992-12-09 | Process for fabricating magnetic disks |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3351463A JPH05166176A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05166176A true JPH05166176A (ja) | 1993-07-02 |
Family
ID=18417462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3351463A Pending JPH05166176A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5223304A (ja) |
| JP (1) | JPH05166176A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000012647A1 (fr) * | 1998-08-28 | 2000-03-09 | Hiroshi Ishizuka | Particules abrasives de diamant et leur procede de preparation |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5437779A (en) * | 1992-12-11 | 1995-08-01 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method of making a magnetic record medium |
| US6804085B1 (en) | 1995-03-21 | 2004-10-12 | Seagate Technology, Llc | Hard drive system interface between a disk surface and a transducer contacting the surface during communication |
| JP3150898B2 (ja) * | 1996-02-19 | 2001-03-26 | 日本ミクロコーティング株式会社 | 表面にアモルファス−ニッケル−リンから成る被膜層を形成して成る被加工物の加工方法 |
| US5902172A (en) * | 1997-08-22 | 1999-05-11 | Showa Aluminum Corporation | Method of polishing memory disk substrate |
| US6461958B1 (en) | 2000-02-04 | 2002-10-08 | Seagate Technology Llc | Polishing memory disk substrates with reclaim slurry |
| US8727832B2 (en) * | 2011-09-27 | 2014-05-20 | HGST Netherlands B.V. | System, method and apparatus for enhanced cleaning and polishing of magnetic recording disk |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03248328A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-06 | Hitachi Metals Ltd | 磁気ディスク基板のテクスチャリングの方法及びその装置 |
| JPH03287327A (ja) * | 1990-03-31 | 1991-12-18 | Mazda Motor Corp | パネル部材の組付方法 |
-
1991
- 1991-12-12 JP JP3351463A patent/JPH05166176A/ja active Pending
-
1992
- 1992-12-09 US US07/987,817 patent/US5223304A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03248328A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-06 | Hitachi Metals Ltd | 磁気ディスク基板のテクスチャリングの方法及びその装置 |
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| WO2000012647A1 (fr) * | 1998-08-28 | 2000-03-09 | Hiroshi Ishizuka | Particules abrasives de diamant et leur procede de preparation |
| JP2000136376A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-05-16 | Hiroshi Ishizuka | ダイヤモンド研磨材粒子及びその製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5223304A (en) | 1993-06-29 |
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