JPH0714157A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0714157A JPH0714157A JP17462193A JP17462193A JPH0714157A JP H0714157 A JPH0714157 A JP H0714157A JP 17462193 A JP17462193 A JP 17462193A JP 17462193 A JP17462193 A JP 17462193A JP H0714157 A JPH0714157 A JP H0714157A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録媒体面からの磁気ヘッドの浮上量を
低く設定しても、磁気記録媒体や磁気ヘッドに傷が付き
難い磁気記録媒体の製造方法を提供する。 【構成】 粗面化処理された非磁性基板上に、磁気記録
層と保護層を順次形成し、次に、該保護層表面の微小突
起を除去するために該保護層表面を研磨処理およびクリ
ーニング処理し、更に、該クリーニング処理された保護
層上に潤滑層を形成する方法において、前記クリーニン
グ処理された保護層表面を水洗浄し乾燥した後、３０分
以内に前記潤滑層を形成することを特徴とする。
低く設定しても、磁気記録媒体や磁気ヘッドに傷が付き
難い磁気記録媒体の製造方法を提供する。 【構成】 粗面化処理された非磁性基板上に、磁気記録
層と保護層を順次形成し、次に、該保護層表面の微小突
起を除去するために該保護層表面を研磨処理およびクリ
ーニング処理し、更に、該クリーニング処理された保護
層上に潤滑層を形成する方法において、前記クリーニン
グ処理された保護層表面を水洗浄し乾燥した後、３０分
以内に前記潤滑層を形成することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、粗面化処理された非磁
性基板上に磁気記録層、保護層および潤滑層を備え、Ｃ
ＳＳ（コンタクト・スタート・アンド・ストップ）方式
を採用した磁気ディスク装置等に適用される磁気記録媒
体の製造方法に関する。
性基板上に磁気記録層、保護層および潤滑層を備え、Ｃ
ＳＳ（コンタクト・スタート・アンド・ストップ）方式
を採用した磁気ディスク装置等に適用される磁気記録媒
体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＣＳＳ方式を採用した磁気ディス
ク装置等に適用される磁気記録媒体を製造するには、非
磁性基板にラップ加工、ポリッシュ加工およびテクスチ
ャ加工等の表面処理を施してその表面を粗面化した後、
該基板上に磁気記録層を形成し、次に、該磁気記録層上
にこれを保護するためにカーボン、ＳｉＯ2 等からなる
保護層を形成し、更に、該保護層表面の上記非磁性基板
の粗面状態に対応した微小突起を除去するために研磨処
理およびクリーニング処理した後、該保護層上に潤滑層
を形成する方法によっている。
ク装置等に適用される磁気記録媒体を製造するには、非
磁性基板にラップ加工、ポリッシュ加工およびテクスチ
ャ加工等の表面処理を施してその表面を粗面化した後、
該基板上に磁気記録層を形成し、次に、該磁気記録層上
にこれを保護するためにカーボン、ＳｉＯ2 等からなる
保護層を形成し、更に、該保護層表面の上記非磁性基板
の粗面状態に対応した微小突起を除去するために研磨処
理およびクリーニング処理した後、該保護層上に潤滑層
を形成する方法によっている。
【０００３】ところで、近年、磁気記録媒体の高密度化
に伴い、磁気記録媒体と磁気ヘッドの間隔は益々狭くな
る傾向にある。そこで、上記のようにして製造された磁
気記録媒体に対し、磁気ヘッドの浮上量を低く設定する
ためには、前記テクスチャ加工における表面粗面化の程
度を低くしなければならない。すると、磁気記録媒体と
磁気ヘッドの接触面積が増加し、この部分の摺動が増加
するため、磁気記録媒体と磁気ヘッドに傷が付き易くな
って長期間の使用に耐えられなくなるという問題点があ
った。
に伴い、磁気記録媒体と磁気ヘッドの間隔は益々狭くな
る傾向にある。そこで、上記のようにして製造された磁
気記録媒体に対し、磁気ヘッドの浮上量を低く設定する
ためには、前記テクスチャ加工における表面粗面化の程
度を低くしなければならない。すると、磁気記録媒体と
磁気ヘッドの接触面積が増加し、この部分の摺動が増加
するため、磁気記録媒体と磁気ヘッドに傷が付き易くな
って長期間の使用に耐えられなくなるという問題点があ
った。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点を解消し、磁気記録媒体面からの磁気ヘッドの浮
上量を低く設定しても、磁気記録媒体や磁気ヘッドに傷
が付き難い磁気記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。
問題点を解消し、磁気記録媒体面からの磁気ヘッドの浮
上量を低く設定しても、磁気記録媒体や磁気ヘッドに傷
が付き難い磁気記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するものとして、前記従来の磁気記録媒体を製造する
方法において、研磨処理およびクリーニング処理された
保護層表面を水洗浄し乾燥した後、３０分以内に潤滑層
を形成することを特徴とする。
成するものとして、前記従来の磁気記録媒体を製造する
方法において、研磨処理およびクリーニング処理された
保護層表面を水洗浄し乾燥した後、３０分以内に潤滑層
を形成することを特徴とする。
【０００６】
【作用】本発明方法において、非磁性基板の素材として
は、アルミニウム合金の如き非磁性金属、ガラス、樹脂
等の剛性を有する非磁性材料が用いられる。このような
素材からなる基板に対して、その全面に亘って硬度が高
く、切削性の良好な硬化層が形成される。この硬化層
は、例えば、無電解めっき法によりＮｉ−Ｐ合金層やＮ
ｉ−Ｃｕ−Ｐ合金層を設けたり、アルミニウム合金を用
いる場合、アルマイト処理を施したりして形成され得
る。
は、アルミニウム合金の如き非磁性金属、ガラス、樹脂
等の剛性を有する非磁性材料が用いられる。このような
素材からなる基板に対して、その全面に亘って硬度が高
く、切削性の良好な硬化層が形成される。この硬化層
は、例えば、無電解めっき法によりＮｉ−Ｐ合金層やＮ
ｉ−Ｃｕ−Ｐ合金層を設けたり、アルミニウム合金を用
いる場合、アルマイト処理を施したりして形成され得
る。
【０００７】硬化層が設けられた基板には、その表面を
平面化する研磨加工、例えば、ラップ加工やポリッシュ
加工が施される。そして、この平面化研磨加工の施され
た基板に対して、その表面の粗面化がテクスチャ加工に
よって行なわれる。
平面化する研磨加工、例えば、ラップ加工やポリッシュ
加工が施される。そして、この平面化研磨加工の施され
た基板に対して、その表面の粗面化がテクスチャ加工に
よって行なわれる。
【０００８】この基板には、必要により磁気記録層の磁
気特性を調整する等のためＣｒ，Ｃｒ合金等からなる下
地層を形成した後、例えば、Ｃｏ系、Ｃｏ−Ｎｉ系、Ｃ
ｏ−Ｐｔ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｆｅ系のような強磁
性金属薄膜からなる磁気記録層が形成される。
気特性を調整する等のためＣｒ，Ｃｒ合金等からなる下
地層を形成した後、例えば、Ｃｏ系、Ｃｏ−Ｎｉ系、Ｃ
ｏ−Ｐｔ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｆｅ系のような強磁
性金属薄膜からなる磁気記録層が形成される。
【０００９】この磁気記録層上には、これを保護する保
護層として、従来と同様にカーボン、ＳｉＯ2 、Ｓｉ
Ｎ、ＳｉＡｌＯＮ、ＺｒＯ2 膜等が形成される。形成さ
れた保護層表面には、前記非磁性基板の粗面状態に対応
した微小突起が多数形成されているため、次に保護層表
面を研磨処理およびクリーニング処理する。研磨処理は
研磨テープを用い、また、クリーニング処理はコット
ン、ポリエステル等不織布からなるクリーニングテー
プ、好ましくは、本発明者等が先に提案した、ポリエス
テルおよび／またはポリアミドからなる極細繊維の編織
物で構成され、該極細繊維の外周面および／または編織
されたこれら極細繊維の間隙にくさび状の凹部を有する
クリーニングテープ（特願平３−３３１６８２号、同３
−３３１６８３号）を用いて行なうことができる。
護層として、従来と同様にカーボン、ＳｉＯ2 、Ｓｉ
Ｎ、ＳｉＡｌＯＮ、ＺｒＯ2 膜等が形成される。形成さ
れた保護層表面には、前記非磁性基板の粗面状態に対応
した微小突起が多数形成されているため、次に保護層表
面を研磨処理およびクリーニング処理する。研磨処理は
研磨テープを用い、また、クリーニング処理はコット
ン、ポリエステル等不織布からなるクリーニングテー
プ、好ましくは、本発明者等が先に提案した、ポリエス
テルおよび／またはポリアミドからなる極細繊維の編織
物で構成され、該極細繊維の外周面および／または編織
されたこれら極細繊維の間隙にくさび状の凹部を有する
クリーニングテープ（特願平３−３３１６８２号、同３
−３３１６８３号）を用いて行なうことができる。
【００１０】本発明方法において、このように研磨処理
およびクリーニング処理された保護層表面を水洗浄し乾
燥した後、潤滑層を形成することが重要である。この水
洗浄を行なうことにより、磁気記録媒体の耐久性、具体
的にはＣＳＳ試験の結果を大幅に向上させることができ
る。これは、水洗浄する前に保護層表面に吸着され、も
しも水洗浄することなく、即ち吸着されたまま潤滑層が
形成された場合、潤滑層の保護層に対する密着力を低下
させ、潤滑層を保護層から剥れ易くさせていた、クリー
ンルーム内雰囲気中のハイドロカーボン等の気体状の微
量の不純物が水に溶解除去されることによると推察され
る。
およびクリーニング処理された保護層表面を水洗浄し乾
燥した後、潤滑層を形成することが重要である。この水
洗浄を行なうことにより、磁気記録媒体の耐久性、具体
的にはＣＳＳ試験の結果を大幅に向上させることができ
る。これは、水洗浄する前に保護層表面に吸着され、も
しも水洗浄することなく、即ち吸着されたまま潤滑層が
形成された場合、潤滑層の保護層に対する密着力を低下
させ、潤滑層を保護層から剥れ易くさせていた、クリー
ンルーム内雰囲気中のハイドロカーボン等の気体状の微
量の不純物が水に溶解除去されることによると推察され
る。
【００１１】水洗浄は、単に常温〜７０℃程度の純水中
に１分〜２時間程度浸漬するだけでもよいが、超音波を
使用すれば更に有効である。使用する水の水質は特に制
限はないが、比抵抗が高く、また、有機物、微粒子、溶
存酸素は少ないものが好ましい。
に１分〜２時間程度浸漬するだけでもよいが、超音波を
使用すれば更に有効である。使用する水の水質は特に制
限はないが、比抵抗が高く、また、有機物、微粒子、溶
存酸素は少ないものが好ましい。
【００１２】表面が水洗浄された保護層は、乾燥、好ま
しくはスピン乾燥した後、３０分以内にその上にパーフ
ロロアルキルポリエーテルのような潤滑層を形成し、以
て目的とする磁気記録媒体とする。この際、潤滑層の形
成を乾燥後３０分を超える時間経過後に行なうと、前記
水洗浄する前に起っていた雰囲気中不純物の吸着が再び
起るので、３０分以内に行なうことが必要である。
しくはスピン乾燥した後、３０分以内にその上にパーフ
ロロアルキルポリエーテルのような潤滑層を形成し、以
て目的とする磁気記録媒体とする。この際、潤滑層の形
成を乾燥後３０分を超える時間経過後に行なうと、前記
水洗浄する前に起っていた雰囲気中不純物の吸着が再び
起るので、３０分以内に行なうことが必要である。
【００１３】
実施例１ 直径３．５インチの円盤状のアルミニウム合金（Ｍｇ４
重量％、残部Ａｌ）材料の基板上に、無電解めっき法に
よりＮｉ−Ｐ合金層を形成した後、ラップ加工およびポ
リッシュ加工を施して、表面粗さＲmax （基準長さ内の
最高山頂から最深谷底までの高さ）が３００Å以下の表
面粗度を有する媒体基板を製造した。この粗度を有する
基板表面に対し、ポリエステルベース上に平均粒径６μ
ｍのアルミナ砥粒が結着されてなる研磨テープを一定の
力で押し付けてテクスチャ加工を施し、同心円状に表面
粗さＲａが６０Åの微細な凹凸を形成した。
重量％、残部Ａｌ）材料の基板上に、無電解めっき法に
よりＮｉ−Ｐ合金層を形成した後、ラップ加工およびポ
リッシュ加工を施して、表面粗さＲmax （基準長さ内の
最高山頂から最深谷底までの高さ）が３００Å以下の表
面粗度を有する媒体基板を製造した。この粗度を有する
基板表面に対し、ポリエステルベース上に平均粒径６μ
ｍのアルミナ砥粒が結着されてなる研磨テープを一定の
力で押し付けてテクスチャ加工を施し、同心円状に表面
粗さＲａが６０Åの微細な凹凸を形成した。
【００１４】次に、この基板に下地層としてのＣｒをス
パッタリングにより膜厚５００Åに形成し、そして、こ
の下地層の上に厚さ５００ÅのＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系磁気
記録層を形成し、更に、この磁気記録層の上に厚さ２０
０Åのカーボン保護層を非晶質カーボンターゲットを用
いたスパッタリング法（Ａｒガス圧６ｍ Ｔｏｒｒ、Ｄ
Ｃ投入電力２０Ｗ／ｃｍ2 ）により形成した。
パッタリングにより膜厚５００Åに形成し、そして、こ
の下地層の上に厚さ５００ÅのＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系磁気
記録層を形成し、更に、この磁気記録層の上に厚さ２０
０Åのカーボン保護層を非晶質カーボンターゲットを用
いたスパッタリング法（Ａｒガス圧６ｍ Ｔｏｒｒ、Ｄ
Ｃ投入電力２０Ｗ／ｃｍ2 ）により形成した。
【００１５】カーボン保護層が形成された基板を２００
０ｒｐｍで回転しながら、ポリエステルベースフィルム
上に平均粒径２μｍのアルミナ砥粒が結着された研磨テ
ープを該カーボン保護層上に密着し研磨処理を施した
後、ナイロンとポリエステルからなる極細繊維の編織物
（カネボウ（株）製ワイピングクロス商品名：ザヴィー
ナミニマックス）で構成されたクリーニングテープを用
いてクリーニング処理を施した。
０ｒｐｍで回転しながら、ポリエステルベースフィルム
上に平均粒径２μｍのアルミナ砥粒が結着された研磨テ
ープを該カーボン保護層上に密着し研磨処理を施した
後、ナイロンとポリエステルからなる極細繊維の編織物
（カネボウ（株）製ワイピングクロス商品名：ザヴィー
ナミニマックス）で構成されたクリーニングテープを用
いてクリーニング処理を施した。
【００１６】クリーニング処理を施した基板は、３時間
放置した後、６５℃の純水（２５℃における比抵抗１５
ＭΩ・ｃｍ、有機物０．１重量ｐｐｍ以下、０．２μｍ
以上の粒子１０個／ｍｌ以下、溶存酸素８重量ｐｐｍ）
中に１０分間浸漬して水洗浄し、次に、回転数５０００
ｒｐｍでスピン乾燥を行なった。
放置した後、６５℃の純水（２５℃における比抵抗１５
ＭΩ・ｃｍ、有機物０．１重量ｐｐｍ以下、０．２μｍ
以上の粒子１０個／ｍｌ以下、溶存酸素８重量ｐｐｍ）
中に１０分間浸漬して水洗浄し、次に、回転数５０００
ｒｐｍでスピン乾燥を行なった。
【００１７】そして、スピン乾燥が行なわれた保護層上
に直ちに、スピンコート法によりパーフロロポリエーテ
ル系潤滑剤（デュポン社製商品名クライトックス）を塗
布して膜厚２５Åの潤滑層を形成した。
に直ちに、スピンコート法によりパーフロロポリエーテ
ル系潤滑剤（デュポン社製商品名クライトックス）を塗
布して膜厚２５Åの潤滑層を形成した。
【００１８】得られた磁気記録媒体についてＣＳＳ試験
による耐久性の評価を行なった。即ち、磁気記録媒体を
回転スピンドルにセットすると共に、この磁気記録媒体
の半径２０ｍｍの位置に薄膜磁気ヘッド（スライダ材
質：Ａｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＣ、スライダ寸法：長さ３．２０
ｍｍ、幅２．６６ｍｍ、荷重７．２ｇ重）をおいた後、
０ｒｐｍ（薄膜磁気ヘッドが磁気記録媒体面に接触して
いる状態）→３６００ｒｐｍ（薄膜磁気ヘッドが磁気記
録媒体面から浮上している状態。尚、浮上量０．１０μ
ｍ）→０ｒｐｍ（薄膜磁気ヘッドが浮上状態から再び接
触状態に戻る）の工程を３０秒の周期で行なって、開始
前と開始してから１００，０００回後の磁気ヘッドと磁
気記録媒体の摩擦係数を測定した。得られた結果は、夫
々０．２０、０．２８であった。
による耐久性の評価を行なった。即ち、磁気記録媒体を
回転スピンドルにセットすると共に、この磁気記録媒体
の半径２０ｍｍの位置に薄膜磁気ヘッド（スライダ材
質：Ａｌ2 Ｏ3 ・ＴｉＣ、スライダ寸法：長さ３．２０
ｍｍ、幅２．６６ｍｍ、荷重７．２ｇ重）をおいた後、
０ｒｐｍ（薄膜磁気ヘッドが磁気記録媒体面に接触して
いる状態）→３６００ｒｐｍ（薄膜磁気ヘッドが磁気記
録媒体面から浮上している状態。尚、浮上量０．１０μ
ｍ）→０ｒｐｍ（薄膜磁気ヘッドが浮上状態から再び接
触状態に戻る）の工程を３０秒の周期で行なって、開始
前と開始してから１００，０００回後の磁気ヘッドと磁
気記録媒体の摩擦係数を測定した。得られた結果は、夫
々０．２０、０．２８であった。
【００１９】実施例２ クリーニング処理を施した後、直ちに水洗浄した以外
は、実施例１と同様に試験した。１００，０００回後の
摩擦係数は、０．２８であった。
は、実施例１と同様に試験した。１００，０００回後の
摩擦係数は、０．２８であった。
【００２０】実施例３ クリーニング処理を、１００％ポリアミド製の不織布で
構成されたクリーニングテープを用いて施した以外は、
実施例１と同様に試験した。１００，０００回後の摩擦
係数は、０．３０であった。
構成されたクリーニングテープを用いて施した以外は、
実施例１と同様に試験した。１００，０００回後の摩擦
係数は、０．３０であった。
【００２１】比較例１ クリーニング処理を施し３時間放置した基板に対して、
水洗浄およびスピン乾燥を行なわず、潤滑層を形成した
以外は、実施例１と同様に試験した。１００，０００回
後の摩擦係数は、０．８５であった。
水洗浄およびスピン乾燥を行なわず、潤滑層を形成した
以外は、実施例１と同様に試験した。１００，０００回
後の摩擦係数は、０．８５であった。
【００２２】比較例２ クリーニング処理を施した後、直ちに潤滑層を形成した
以外は、比較例１と同様に試験した。１００，０００回
後の摩擦係数は、０．４３であった。
以外は、比較例１と同様に試験した。１００，０００回
後の摩擦係数は、０．４３であった。
【００２３】
【発明の効果】以上から明らかなように、本発明方法に
よれば、磁気記録媒体面からの磁気ヘッドの浮上量を低
く設定しても、磁気記録媒体や磁気ヘッドに傷が極めて
付き難い磁気記録媒体を製造することができる。
よれば、磁気記録媒体面からの磁気ヘッドの浮上量を低
く設定しても、磁気記録媒体や磁気ヘッドに傷が極めて
付き難い磁気記録媒体を製造することができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 粗面化処理された非磁性基板上に、磁気
記録層と保護層を順次形成し、次に、該保護層表面の微
小突起を除去するために該保護層表面を研磨処理および
クリーニング処理し、更に、該クリーニング処理された
保護層上に潤滑層を形成する方法において、前記クリー
ニング処理された保護層表面を水洗浄し乾燥した後、３
０分以内に前記潤滑層を形成することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17462193A JPH0714157A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17462193A JPH0714157A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0714157A true JPH0714157A (ja) | 1995-01-17 |
Family
ID=15981799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17462193A Pending JPH0714157A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714157A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999014746A1 (fr) * | 1997-09-17 | 1999-03-25 | Showa Denko K.K. | Support 'enregistrement magnetique et son procede de production |
| US6316062B1 (en) | 1997-09-17 | 2001-11-13 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| CN1305034C (zh) * | 2003-09-30 | 2007-03-14 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 在制造磁性薄膜盘片期间过程定时的控制 |
-
1993
- 1993-06-23 JP JP17462193A patent/JPH0714157A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999014746A1 (fr) * | 1997-09-17 | 1999-03-25 | Showa Denko K.K. | Support 'enregistrement magnetique et son procede de production |
| US6316062B1 (en) | 1997-09-17 | 2001-11-13 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| US6468602B2 (en) | 1997-09-17 | 2002-10-22 | Showa Denko K.K. | Method of manufacturing a magnetic recording medium |
| CN1305034C (zh) * | 2003-09-30 | 2007-03-14 | 日立环球储存科技荷兰有限公司 | 在制造磁性薄膜盘片期间过程定时的控制 |
| US7276262B2 (en) | 2003-09-30 | 2007-10-02 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Control of process timing during manufacturing of magnetic thin film disks |
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