JPH10143857A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH10143857A JPH10143857A JP29381396A JP29381396A JPH10143857A JP H10143857 A JPH10143857 A JP H10143857A JP 29381396 A JP29381396 A JP 29381396A JP 29381396 A JP29381396 A JP 29381396A JP H10143857 A JPH10143857 A JP H10143857A
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- Japan
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- polishing
- layer
- substrate
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- magnetic
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- Pending
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面腐食が少なく、耐久性に優れた磁気記録
媒体を製造する方法を提供する。 【解決手段】 保護層形成後研磨を行うに当り、研磨テ
ープとして塩素イオン、硫酸イオンの含有量の少ないも
のを用いるもの。
媒体を製造する方法を提供する。 【解決手段】 保護層形成後研磨を行うに当り、研磨テ
ープとして塩素イオン、硫酸イオンの含有量の少ないも
のを用いるもの。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスクの製
造方法に関するものであり、詳しくは、磁気ディスクド
ライブ等に使用されるハードディスク等の磁気ディスク
の製造方法に関するものである。
造方法に関するものであり、詳しくは、磁気ディスクド
ライブ等に使用されるハードディスク等の磁気ディスク
の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】通常、ハードディスクドライブはその使
用に際し、磁気ヘッドがモーター回転時（記録再生時）
に浮上し、モーター停止時に磁気ディスクに接触するＣ
ＳＳ（コンタクトスタートストップ）方式を採用してい
る。この方式により、磁気ヘッド／磁気ディスク間での
高速摺動による磨耗を抑制することが可能となる。ま
た、近年、磁気ディスクの高記録密度化に伴い、記録再
生時の磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔、即ち磁気ヘ
ッドの浮上量は益々小さくなってきており、最近では
０．１５μｍ程度以下になっている。通常、保護層形成
後の磁気ディスクは、研磨によって表面の突起を除去す
るが、この際突起の除去と同時に磁気ディスク表面に微
小な磨耗傷が生じる。この微小な磨耗傷が腐食等の磁気
ディスクの表面欠陥の原因となり、耐久性等の問題とな
ってきている。
用に際し、磁気ヘッドがモーター回転時（記録再生時）
に浮上し、モーター停止時に磁気ディスクに接触するＣ
ＳＳ（コンタクトスタートストップ）方式を採用してい
る。この方式により、磁気ヘッド／磁気ディスク間での
高速摺動による磨耗を抑制することが可能となる。ま
た、近年、磁気ディスクの高記録密度化に伴い、記録再
生時の磁気ヘッドと磁気ディスクとの間隔、即ち磁気ヘ
ッドの浮上量は益々小さくなってきており、最近では
０．１５μｍ程度以下になっている。通常、保護層形成
後の磁気ディスクは、研磨によって表面の突起を除去す
るが、この際突起の除去と同時に磁気ディスク表面に微
小な磨耗傷が生じる。この微小な磨耗傷が腐食等の磁気
ディスクの表面欠陥の原因となり、耐久性等の問題とな
ってきている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決するために鋭意検討した結果、磁気ディスク表面
の突起は除去するが磨耗傷からの腐食を生じさせること
のない研磨テープの材質を見出し、本発明に到達した。
を解決するために鋭意検討した結果、磁気ディスク表面
の突起は除去するが磨耗傷からの腐食を生じさせること
のない研磨テープの材質を見出し、本発明に到達した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明の要旨は、
基板上に磁性層及び保護層を形成した後保護層を研磨し
て磁気記録媒体を製造するにあたり、研磨工程における
研磨体として塩素イオン含有量が８０μｇ／ｍ2 以下、
硫酸イオン含有量が４０μｇ／ｍ2 以下である研磨体を
用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法に存す
る。
基板上に磁性層及び保護層を形成した後保護層を研磨し
て磁気記録媒体を製造するにあたり、研磨工程における
研磨体として塩素イオン含有量が８０μｇ／ｍ2 以下、
硫酸イオン含有量が４０μｇ／ｍ2 以下である研磨体を
用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法に存す
る。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において製造する磁気記録媒体は、非磁性基板上
に、下地層、磁性層、保護層及び潤滑剤層等を設けてな
る磁気記録媒体であることが好ましい。非磁性基板とし
ては、アルミニウム合金基板、ガラス基板又はケイ素基
板が好適に使用されるが、銅、チタン等のその他の金属
基板、セラミック基板又は樹脂基板を使用することもで
きる。基板は、通常、円盤状（ディスク）に形成される
が、その他の形状、例えば、カード状であってもよい。
基板の厚さは、通常、約１〜３ｍｍである。
本発明において製造する磁気記録媒体は、非磁性基板上
に、下地層、磁性層、保護層及び潤滑剤層等を設けてな
る磁気記録媒体であることが好ましい。非磁性基板とし
ては、アルミニウム合金基板、ガラス基板又はケイ素基
板が好適に使用されるが、銅、チタン等のその他の金属
基板、セラミック基板又は樹脂基板を使用することもで
きる。基板は、通常、円盤状（ディスク）に形成される
が、その他の形状、例えば、カード状であってもよい。
基板の厚さは、通常、約１〜３ｍｍである。
【０００６】基板の表面に直接下地層を形成することも
できるが、通常は基板の表面に表面層を形成し、該表面
層を介して下地層を形成する。表面層としては、ＮｉＰ
合金から成る非磁性表面層が好適であり、通常、無電解
メッキ法又はスパッタ法により形成される。表面層の厚
さは、通常、約５０〜２０００Åの範囲である。また、
基板又は表面層の表面には鏡面加工（ポリッシュ加工）
が施される。下地層としては、クロム、銅等の金属層が
好適であり、通常、スパッタ法により形成される。下地
層の厚さは、通常、約５０〜２００００ｎｍである。
できるが、通常は基板の表面に表面層を形成し、該表面
層を介して下地層を形成する。表面層としては、ＮｉＰ
合金から成る非磁性表面層が好適であり、通常、無電解
メッキ法又はスパッタ法により形成される。表面層の厚
さは、通常、約５０〜２０００Åの範囲である。また、
基板又は表面層の表面には鏡面加工（ポリッシュ加工）
が施される。下地層としては、クロム、銅等の金属層が
好適であり、通常、スパッタ法により形成される。下地
層の厚さは、通常、約５０〜２００００ｎｍである。
【０００７】磁性層は、通常、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−Ｗ−Ｘ等
で表されるコバルト系強磁性合金薄膜によって構成され
る。ここでＸとしては、通常、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｐ、Ｃａ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、
Ｒｕ、Ａｇ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉ
ｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓ
ｍ、Ｅｕ及びＢよりなる群より選ばれた１種又は２種以
上の元素が用いられる。磁性層は、通常、無電解メッキ
法、電気メッキ法、蒸着法又はスパッタ法により形成さ
れる。磁性層の厚さは、通常、約１００〜１０００Åの
範囲である。
ｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−Ｗ−Ｘ等
で表されるコバルト系強磁性合金薄膜によって構成され
る。ここでＸとしては、通常、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｐ、Ｃａ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、
Ｒｕ、Ａｇ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉ
ｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓ
ｍ、Ｅｕ及びＢよりなる群より選ばれた１種又は２種以
上の元素が用いられる。磁性層は、通常、無電解メッキ
法、電気メッキ法、蒸着法又はスパッタ法により形成さ
れる。磁性層の厚さは、通常、約１００〜１０００Åの
範囲である。
【０００８】本発明において、保護層としては、炭素
膜、水素化カーボン膜、窒素化カーボン膜、ＴｉＣ、Ｓ
ｉＣ等の炭化膜、ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜、ＳｉＯ、
Ａｌ2Ｏ3 、ＺｒＯ等の酸化物膜等によって構成され、
通常、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、
湿式法等により形成される。保護層としては、炭素膜、
水素化カーボン膜及び窒素化カーボン膜が特に好まし
い。保護層の厚さは、通常、約５０〜１０００Å、好ま
しくは約１００〜６００Åの範囲である。
膜、水素化カーボン膜、窒素化カーボン膜、ＴｉＣ、Ｓ
ｉＣ等の炭化膜、ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜、ＳｉＯ、
Ａｌ2Ｏ3 、ＺｒＯ等の酸化物膜等によって構成され、
通常、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、
湿式法等により形成される。保護層としては、炭素膜、
水素化カーボン膜及び窒素化カーボン膜が特に好まし
い。保護層の厚さは、通常、約５０〜１０００Å、好ま
しくは約１００〜６００Åの範囲である。
【０００９】本発明の保護層形成後に行う研磨工程にお
いては、研磨体を用いた研磨を行う。研磨体としては、
通常、ポリエチレンテレフタレート製、ポリアミド製等
の樹脂製のフイルムやシート、円盤状体上に粒径０．５
〜３μｍのアルミナ粒子、ＳｉＣ粒子等の研磨砥粒を担
持したテープ状、シート状等の研磨体が用いられる。本
発明においては、特に研磨体として、イオンクロマトグ
ラフ分析による塩素イオンの分析値（含有量）が８０μ
ｇ／ｍ2 以下、硫酸イオンの分析値が４０μｇ／ｍ2 以
下である研磨体を用いる。好ましくは、塩素イオンの分
析値が４０μｇ／ｍ2 以下、硫酸イオンの分析値が２０
μｇ／ｍ2 以下である研磨体を用いる。本発明におい
て、研磨テープのイオンクロマトグラフ分析は、研磨テ
ープ１ｍを純水６０ｍｌに入れ、１０分間超音波洗浄を
行った後、３ｍｌまで濃縮したものをイオンクロマト分
析機にかけて、各イオンの濃度を測定することにより行
われる。
いては、研磨体を用いた研磨を行う。研磨体としては、
通常、ポリエチレンテレフタレート製、ポリアミド製等
の樹脂製のフイルムやシート、円盤状体上に粒径０．５
〜３μｍのアルミナ粒子、ＳｉＣ粒子等の研磨砥粒を担
持したテープ状、シート状等の研磨体が用いられる。本
発明においては、特に研磨体として、イオンクロマトグ
ラフ分析による塩素イオンの分析値（含有量）が８０μ
ｇ／ｍ2 以下、硫酸イオンの分析値が４０μｇ／ｍ2 以
下である研磨体を用いる。好ましくは、塩素イオンの分
析値が４０μｇ／ｍ2 以下、硫酸イオンの分析値が２０
μｇ／ｍ2 以下である研磨体を用いる。本発明におい
て、研磨テープのイオンクロマトグラフ分析は、研磨テ
ープ１ｍを純水６０ｍｌに入れ、１０分間超音波洗浄を
行った後、３ｍｌまで濃縮したものをイオンクロマト分
析機にかけて、各イオンの濃度を測定することにより行
われる。
【００１０】保護層形成後に行う研磨は、一段階でも、
二段階以上の工程であってもよい。二段目以降の研磨工
程は、一段目の研磨工程で使用した研磨体とは、種類の
異なるもの、例えば研磨砥粒の細かいものを用いて研磨
を行ってもよい。また、アルミナ粒子、ＳｉＣ粒子等の
研磨砥粒を担持していないテープやシート等を用いるこ
とができる。このようなテープやシート等としては、例
えば、綿、麻、羊毛、絹等の天然繊維、又はポリアミ
ド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリロニトリ
ル等の合成繊維を用いた織布又は不織布からなるテープ
等を用いることができる。
二段階以上の工程であってもよい。二段目以降の研磨工
程は、一段目の研磨工程で使用した研磨体とは、種類の
異なるもの、例えば研磨砥粒の細かいものを用いて研磨
を行ってもよい。また、アルミナ粒子、ＳｉＣ粒子等の
研磨砥粒を担持していないテープやシート等を用いるこ
とができる。このようなテープやシート等としては、例
えば、綿、麻、羊毛、絹等の天然繊維、又はポリアミ
ド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアクリロニトリ
ル等の合成繊維を用いた織布又は不織布からなるテープ
等を用いることができる。
【００１１】このような、塩素イオン及び硫酸イオンが
特定の値以下の研磨体を用いることにより、研磨後に磁
気記録媒体の表面に微量残留する研磨体由来の腐食性化
合物を極めて少なくすることができる。塩素イオンや硫
酸イオンが研磨後の磁気記録媒体の表面に残存すると、
微細な研磨傷部分から浸入し、磁性層を腐食したりする
が、本発明の方法によれば、このような問題を生ずる恐
れはない。塩素イオン、硫酸イオンが本発明における含
有量以下である研磨体を製造するには、基材となるテー
プやシート、研磨砥粒中の塩素イオンや硫酸イオンを除
去したものを用いること等によって達成される。
特定の値以下の研磨体を用いることにより、研磨後に磁
気記録媒体の表面に微量残留する研磨体由来の腐食性化
合物を極めて少なくすることができる。塩素イオンや硫
酸イオンが研磨後の磁気記録媒体の表面に残存すると、
微細な研磨傷部分から浸入し、磁性層を腐食したりする
が、本発明の方法によれば、このような問題を生ずる恐
れはない。塩素イオン、硫酸イオンが本発明における含
有量以下である研磨体を製造するには、基材となるテー
プやシート、研磨砥粒中の塩素イオンや硫酸イオンを除
去したものを用いること等によって達成される。
【００１２】保護層形成後の研磨工程の終了後、通常、
保護層の表面に潤滑剤層が設けられる。潤滑剤として
は、例えば、フッ素系液体潤滑剤が使用され、通常、デ
ィップコート法、スピンコート法、スプレーコート法等
により、保護層の表面に形成される。潤滑剤層の厚さ
は、通常、約１５〜５０Åの範囲である。
保護層の表面に潤滑剤層が設けられる。潤滑剤として
は、例えば、フッ素系液体潤滑剤が使用され、通常、デ
ィップコート法、スピンコート法、スプレーコート法等
により、保護層の表面に形成される。潤滑剤層の厚さ
は、通常、約１５〜５０Åの範囲である。
【００１３】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例により限定されるものではない。 実施例１及び比較例１ 無電解メッキ法によりＮｉ−Ｐメッキを１５μｍの厚み
で施したアルミニウム合金ディスク基板の表面にポリッ
シュ加工を施し、該基板の表面層上に一般的なＣｒ下地
膜、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる磁性層及び炭素質膜
からなる保護膜を順次スパッタ法により形成した。
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例により限定されるものではない。 実施例１及び比較例１ 無電解メッキ法によりＮｉ−Ｐメッキを１５μｍの厚み
で施したアルミニウム合金ディスク基板の表面にポリッ
シュ加工を施し、該基板の表面層上に一般的なＣｒ下地
膜、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金からなる磁性層及び炭素質膜
からなる保護膜を順次スパッタ法により形成した。
【００１４】次いで、表−１に示した研磨テープ及び条
件で研磨を行った。研磨処理をした磁気記録媒体を温度
６０℃、湿度８０％の恒温槽に５日間置き、表面のＣｏ
量の増加率を調べたところ比較例１の媒体表面には、実
施例１の媒体表面の約２．５倍のＣｏ量が確認された。
これは、磁気記録媒体の表面に残存した塩素イオン、硫
酸イオンが空気中の水分により酸性液となり研磨傷部分
等から磁性層に達し、磁性層のＣｏと反応して表面に表
われた結果と思われる。
件で研磨を行った。研磨処理をした磁気記録媒体を温度
６０℃、湿度８０％の恒温槽に５日間置き、表面のＣｏ
量の増加率を調べたところ比較例１の媒体表面には、実
施例１の媒体表面の約２．５倍のＣｏ量が確認された。
これは、磁気記録媒体の表面に残存した塩素イオン、硫
酸イオンが空気中の水分により酸性液となり研磨傷部分
等から磁性層に達し、磁性層のＣｏと反応して表面に表
われた結果と思われる。
【００１５】
【表１】
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、欠陥の少ない高性能の
磁気ディスクを効率よく製造することができるため、工
業上非常に有用である。
磁気ディスクを効率よく製造することができるため、工
業上非常に有用である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成９年７月３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において製造する磁気記録媒体は、非磁性基板上
に、下地層、磁性層、保護層及び潤滑剤層等を設けてな
る磁気記録媒体であることが好ましい。非磁性基板とし
ては、アルミニウム合金基板、ガラス基板又はケイ素基
板が好適に使用されるが、銅、チタン等のその他の金属
基板、セラミック基板又は樹脂基板を使用することもで
きる。基板は、通常、円盤状（ディスク）に形成される
が、その他の形状、例えば、カード状であってもよい。
基板の厚さは、通常約０．１〜３ｍｍである。
本発明において製造する磁気記録媒体は、非磁性基板上
に、下地層、磁性層、保護層及び潤滑剤層等を設けてな
る磁気記録媒体であることが好ましい。非磁性基板とし
ては、アルミニウム合金基板、ガラス基板又はケイ素基
板が好適に使用されるが、銅、チタン等のその他の金属
基板、セラミック基板又は樹脂基板を使用することもで
きる。基板は、通常、円盤状（ディスク）に形成される
が、その他の形状、例えば、カード状であってもよい。
基板の厚さは、通常約０．１〜３ｍｍである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】基板の表面に直接下地層を形成することも
できるが、通常は基板の表面に表面層を形成し、該表面
層を介して下地層を形成する。表面層としては、ＮｉＰ
合金から成る非磁性表面層が好適であり、通常、無電解
メッキ法又はスパッタ法により形成される。表面層の厚
さは、通常、約５〜２０μｍの範囲である。また、基板
又は表面層の表面には鏡面加工（ポリッシュ加工）が施
される。下地層としては、クロム、同等の金属層が好適
であり、通常スパッタ法により形成される。下地層の厚
さは、通常約５０〜２０００Åである。
できるが、通常は基板の表面に表面層を形成し、該表面
層を介して下地層を形成する。表面層としては、ＮｉＰ
合金から成る非磁性表面層が好適であり、通常、無電解
メッキ法又はスパッタ法により形成される。表面層の厚
さは、通常、約５〜２０μｍの範囲である。また、基板
又は表面層の表面には鏡面加工（ポリッシュ加工）が施
される。下地層としては、クロム、同等の金属層が好適
であり、通常スパッタ法により形成される。下地層の厚
さは、通常約５０〜２０００Åである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１２】保護層形成後の研磨工程の終了後、通常、
保護層の表面に潤滑剤層が設けられる。潤滑剤として
は、例えば、フッ素系液体潤滑剤が使用され、通常、デ
ィップコート法、スピンコート法、スプレーコート法等
により、保護層の表面に形成される。潤滑剤層の厚さ
は、通常約５〜５０Åの範囲である。
保護層の表面に潤滑剤層が設けられる。潤滑剤として
は、例えば、フッ素系液体潤滑剤が使用され、通常、デ
ィップコート法、スピンコート法、スプレーコート法等
により、保護層の表面に形成される。潤滑剤層の厚さ
は、通常約５〜５０Åの範囲である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１５】
【表１】
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上に磁性層及び保護層を形成した後
保護層を研磨して磁気記録媒体を製造するにあたり、研
磨工程における研磨体として塩素イオン含有量が８０μ
ｇ／ｍ2 以下、硫酸イオン含有量が４０μｇ／ｍ2 以下
である研磨体を用いることを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29381396A JPH10143857A (ja) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29381396A JPH10143857A (ja) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10143857A true JPH10143857A (ja) | 1998-05-29 |
Family
ID=17799488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29381396A Pending JPH10143857A (ja) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10143857A (ja) |
-
1996
- 1996-11-06 JP JP29381396A patent/JPH10143857A/ja active Pending
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