JP5032758B2 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
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また、本発明の第2の目的は、磁性層に良好な磁気異方性が付与された磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することにある。
表面の洗浄処理及び乾燥処理を含み、磁気ヘッドの浮上高さが10nm以下のLUL方式の磁気ディスク装置に用いられる基板を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、洗浄処理は、少なくとも、純水、または、水を主成分とする水溶液による洗浄と、その後、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とし、かつ、含水量が1.0重量%以下である液体を洗浄液として行う洗浄とを含み、乾燥処理は、少なくとも、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とする液体の蒸気と磁気ディスク用ガラス基板とを接触させる脱水処理を含み、液体に含まれる水分によるガラス基板表面の改質を阻止すべく、液体に含まれる水分量を1.0重量%以下とすることを特徴とするものである。
洗浄処理された磁気ディスク用ガラス基板の表面の乾燥処理を行うための水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とする液体を作製し、この液体の蒸気を磁気ディスク用ガラス基板に供給する脱水処理を含み、磁気ヘッドの浮上高さが10nm以下のLUL方式の磁気ディスク装置に用いられる基板を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、洗浄処理は、少なくとも、純水、または、水を主成分とする水溶液による洗浄と、その後、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とし、かつ、含水量が1.0重量%以下である液体を洗浄液として行う洗浄とを含み、液体の作製において、原料の少なくとも一部として脱水処理で使用済みの水溶性溶剤を再生して使用し、液体に含まれる水分によるガラス基板表面の改質を阻止すべく、液体に含まれる水分量を1.0重量%以下とすることを特徴とするものである。
構成1、または、構成2を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、水溶性溶剤を主成分とする液体は、イソプロピルアルコールを主成分として含むものであることを特徴とするものである。
構成1乃至構成3のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、磁気ディスク用ガラス基板は、表面にテクスチャを有することを特徴とするものである。
構成1乃至構成4のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造した磁気ディスク用ガラス基板の主面部上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とするものである。
本発明においては、ガラスディスクに対して、少なくとも研磨処理を施し、ガラスディスクの主表面を鏡面化する。この研磨処理以降の工程は、クリーンルーム内で行うことが好ましい。
そして、本発明においては、ガラスディスクの研磨工程の後に、化学強化処理を施す。化学強化処理を行うことにより、磁気ディスク用ガラス基板の表面に高い圧縮応力を生じさせることができ、耐衝撃性を向上させることができる。特に、ガラスディスクの材料としてアルミノシリケートガラスを用いている場合には、好適に化学強化処理を行うことができる。
次に、本発明においては、ガラスディスクの主表面及び端面に対して、テクスチャ加工を施す。このテクスチャは、この磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成したときに、磁性層に磁気異方性を付与する、例えば、線状凹凸のテクスチャである。
そして、本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、前述のような磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成する。
以下に述べる本実施例における磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの製造方法においては、まず、アモルファスのアルミノシリケートガラスからなるディスク状のガラス母材を用意する。このアルミノシリケートガラスは、リチウムを含有している。
(1)第1研磨工程
(2)第2研磨工程
(3)化学強化工程
(4)テクスチャ加工
(5)磁気ディスクの製造工程(成膜工程)
ガラスディスクに残留した傷や歪みを除去するため、両面研磨装置を用いて、第1研磨工程を行なった。
次に、第1研磨工程で使用した両面研磨装置と同様の両面研磨装置を用いて、ポリッシャを軟質ポリッシャ(スウェードパット)に替えて、主表面の鏡面研磨工程として、第2研磨工程を実施した。
次に、、洗浄を終えたガラスディスクに対し、化学強化処理を施した。化学強化処理は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとを混合させた化学強化液を用いて行い、強化処理されたガラスディスクから溶出されるリチウム含有量をICP発光分析装置を用いて測定した。
次に、化学強化処理を終えたガラスディスクに対し、テクスチャ加工を行った。このテクスチャ加工は、テクスチャ加工装置を用いて、ガラスディスクとこのガラスディスクの両主表面を挟持する研磨テープとを所定の状態で相対的に摺接移動させる「メカニカルテクスチャ加工」によって、主表面及び端面に対して行った。これらガラスディスクと各研磨テープとの相対的摺動は、ガラスディスクの周方向(接線方向)の移動を基本としつつ、この周方向に対して、サインカーブを描いて揺動する移動として行った。また、このとき、ガラスディスクと各研磨テープとの間に、研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒をを含有する液体状の研磨剤を供給した。
次に、以下の工程を経て、本発明に係る磁気ディスクを製造した。
第2研磨工程後の洗浄処理及び乾燥処理において、IPAの洗浄槽に供給されるIPA及びIPA蒸気として供給されるIPAの含水量を0.3重量%とし、他は前述の実施例1と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作成した。
第2研磨工程後の洗浄処理及び乾燥処理において、IPAの洗浄槽に供給されるIPA及びIPA蒸気として供給されるIPAの含水量を0.1重量%とし、他は前述の実施例1と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作成した。
テクスチャ加工を行わずに磁気ディスク用ガラス基板を作成し、他は前述の実施例1と同様とした。この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作成した。
この比較例においては、第2研磨工程後の洗浄処理及び乾燥処理において、IPAの洗浄槽に供給されるIPA及びIPA蒸気として供給されるIPAの含水量を3重量%とし、他は前述の実施例1と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作成した。
前述の各実施例及び比較例の磁気ディスク用ガラス基板を用いて作製した磁気ディスクについて、浮上量が6nmのグライドヘッドによりグライド検査を行った。この結果を以下の〔表1〕に示す。このグライド検査は、磁気ヘッドに衝突する異物等の検出により、磁気ヘッドが安定した浮上状態を維持しているかを判別するものである。
2 酸洗浄槽
3 純水(1)洗浄槽
4 中性洗剤洗浄槽
5 純水(2)洗浄槽
6 IPA洗浄槽
7 IPA蒸気槽
8 IPAタンク
9 排タンク
10 脱水蒸留装置
11 新たなIPA
Claims (5)
- 表面の洗浄処理及び乾燥処理を含み、磁気ヘッドの浮上高さが10nm以下のLUL方式の磁気ディスク装置に用いられる基板を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記洗浄処理は、少なくとも、純水、または、水を主成分とする水溶液による洗浄と、その後、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とし、かつ、含水量が1.0重量%以下である液体を洗浄液として行う洗浄とを含み、
前記乾燥処理は、少なくとも、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とする液体の蒸気と磁気ディスク用ガラス基板とを接触させる脱水処理を含み、
前記液体に含まれる水分によるガラス基板表面の改質を阻止すべく、前記液体に含まれる水分量を1.0重量%以下とする
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 洗浄処理された磁気ディスク用ガラス基板の表面の乾燥処理を行うための水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とする液体を作製し、この液体の蒸気を磁気ディスク用ガラス基板に供給する脱水処理を含み、磁気ヘッドの浮上高さが10nm以下のLUL方式の磁気ディスク装置に用いられる基板を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記洗浄処理は、少なくとも、純水、または、水を主成分とする水溶液による洗浄と、その後、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とし、かつ、含水量が1.0重量%以下である液体を洗浄液として行う洗浄とを含み、
前記液体の作製において、原料の少なくとも一部として前記脱水処理で使用済みの水溶性溶剤を再生して使用し、
前記液体に含まれる水分によるガラス基板表面の改質を阻止すべく、前記液体に含まれる水分量を1.0重量%以下とする
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記水溶性溶剤を主成分とする液体は、イソプロピルアルコールを主成分として含むものである
ことを特徴とする請求項1、または、請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記磁気ディスク用ガラス基板は、表面にテクスチャを有する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造した磁気ディスク用ガラス基板の主面部上に、少なくとも磁性層を形成する
ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
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