JP4484160B2 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
した後、粒状結晶の粒子径よりも小さな砥粒径の研磨材で研磨する磁気ディスク基板の製造方法が記載されている。
めることができる。
(A1)ガラスをディスク状に成形・加工する工程
(A2)粗研磨工程
(A3)精研磨工程
(A4)化学強化工程
(A5)仕上げ研磨工程
(A6)最終洗浄工程
からなる。
(C1)ガラスをディスク状に成形する工程
(C2)結晶化工程
(C3)粗研磨工程
(C4)精研磨工程
(C5)最終洗浄工程
からなる。
mm程度両面研削される。
厚さ1.1mmのアルミノケイ酸塩ガラスのシート材を外径66.0mm、内径19.0mmの円盤状に切り出し、ドーナツ形のアモルファスガラス基板とした。つづいて、基板の内周面と外周面に面取り加工および端面研磨を施し、外径65.00mm、内径20.02mmとした。つぎに、平均粒径が5〜10μmの遊離砥粒(アルミナなど)を用いて基板両面を約0.690mmまで粗研磨し、さらに平均粒径が約1μmの酸化セリウムを用いて精研磨をし、厚さ約0.635mmで表面粗さRa1nm以下の基板を得た。そして、この基板に上記化学強化処理を施した。
実施例1における化学強化処理後の基板を仕上げ研磨せずに最終洗浄し、比較例1の磁気ディスクとし、「OPTI FLAT」で測定した。さらに、この磁気ディスクに誤作動試験を行った。その結果を「表1」に示す。
厚さ1.3mmにプレス成形されたリチウムシリケートガラスを、所定の温度で熱処理し結晶化させて、外径66.0mmの円盤状にした。そして、その中心に内径19.0mmの孔を明け、ドーナツ形の円盤とした。続いて、ダイヤペレットで基板の両面を荒削りし、厚さを約0.9mmとし、内外周を面取加工および端面研磨して、外径65.0mm、内径20.02mmにした。その後平均粒径5〜10μmのアルミナ研磨剤で粗研磨した。
実施例2の粗研磨後の基板に対して、密度が0.5g/cm3の高密度、高硬度のウレタンパッドと平均粒径が約0.8μmの酸化セリウムの研磨剤とを用いて、一次精研磨を行った。さらに、圧縮弾性率が50%、密度が0.3g/cm3、C硬度が50程度のパッドと平均粒径が約0.8μmの研磨剤とを用いて、約6μm精研磨を行い、厚さ0.635mmの比較用基板を得た。
Claims (1)
- 結晶化ガラス基板の精研磨に、圧縮弾性率が70〜90%、密度が0.4〜0.6g/cm3、C硬度が70〜80の高密度、高硬度のパッドと、平均粒径が0.8〜1μmの酸化セリウムの遊離砥粒と、を用いることにより、前記結晶化ガラス基板の表面の微小うねりを周期0.1〜5mm、振幅0.1〜0.77nmにすることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008327851A JP4484160B2 (ja) | 2008-12-24 | 2008-12-24 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008327851A JP4484160B2 (ja) | 2008-12-24 | 2008-12-24 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP00410099A Division JP4293389B2 (ja) | 1999-01-11 | 1999-01-11 | 磁気ディスクの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009110256A Division JP4484162B2 (ja) | 2009-04-30 | 2009-04-30 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクおよび磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009123327A JP2009123327A (ja) | 2009-06-04 |
JP4484160B2 true JP4484160B2 (ja) | 2010-06-16 |
Family
ID=40815303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008327851A Expired - Fee Related JP4484160B2 (ja) | 2008-12-24 | 2008-12-24 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4484160B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014103986A1 (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法 |
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JP2001167430A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-06-22 | Asahi Techno Glass Corp | 磁気ディスク用基板およびその製造方法 |
-
2008
- 2008-12-24 JP JP2008327851A patent/JP4484160B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH10241144A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-09-11 | Hoya Corp | 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法並びに該基板を用いた磁気記録媒体及びその製造方法 |
JPH10222842A (ja) * | 1997-02-04 | 1998-08-21 | Nishimura Seiko Kk | 高記録密度磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP2001167430A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-06-22 | Asahi Techno Glass Corp | 磁気ディスク用基板およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009123327A (ja) | 2009-06-04 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090310 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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