JPH05282668A - 垂直磁気記録用サブストレート、磁気ディスク及びその製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録用サブストレート、磁気ディスク及びその製造方法Info
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- JPH05282668A JPH05282668A JP4079504A JP7950492A JPH05282668A JP H05282668 A JPH05282668 A JP H05282668A JP 4079504 A JP4079504 A JP 4079504A JP 7950492 A JP7950492 A JP 7950492A JP H05282668 A JPH05282668 A JP H05282668A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
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- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 鏡面性が優れ、欠陥が少なく信頼性が高い垂
直磁気記録用のサブストレート、磁気ディスク及びその
製造方法を提供する。 【構成】 垂直磁気記録用サブストレートは、アモルフ
ァスカーボン基板の表面に軟磁性層が形成されている。
また、垂直磁気記録用磁気ディスクは、アモルファスカ
ーボン基板の表面に軟磁性層が形成されたサブストレー
ト上に、垂直磁気メディア層及び保護潤滑層が形成され
ている。更に、垂直磁気記録用サブストレートの製造方
法は、アモルファスカーボン基板の表面を鏡面研磨した
後、軟磁性層をコーティングする。
直磁気記録用のサブストレート、磁気ディスク及びその
製造方法を提供する。 【構成】 垂直磁気記録用サブストレートは、アモルフ
ァスカーボン基板の表面に軟磁性層が形成されている。
また、垂直磁気記録用磁気ディスクは、アモルファスカ
ーボン基板の表面に軟磁性層が形成されたサブストレー
ト上に、垂直磁気メディア層及び保護潤滑層が形成され
ている。更に、垂直磁気記録用サブストレートの製造方
法は、アモルファスカーボン基板の表面を鏡面研磨した
後、軟磁性層をコーティングする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録装置としてコン
ピュータ等に使用されているハードディスクドライブ
（ＨＤＤ）の構成部品であって、ＨＤＤの高記録密度化
を可能とする垂直磁気記録用サブストレート、垂直磁気
記録用磁気ディスク及びその製造方法に関し、特に面内
記録（水平方式）に比して格段に高記録密度化が可能な
垂直磁気記録メディアの担体として有用なサブストレー
ト、磁気ディスク及びその製造方法に関する。
ピュータ等に使用されているハードディスクドライブ
（ＨＤＤ）の構成部品であって、ＨＤＤの高記録密度化
を可能とする垂直磁気記録用サブストレート、垂直磁気
記録用磁気ディスク及びその製造方法に関し、特に面内
記録（水平方式）に比して格段に高記録密度化が可能な
垂直磁気記録メディアの担体として有用なサブストレー
ト、磁気ディスク及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】面内記録方式に比して、記録密度を著し
く高くすることができる垂直磁気記録方式用のメディア
として、Ｃｏ−Ｃｒ系のものが実用されている。このＣ
ｏ−Ｃｒ系合金からなる垂直磁気記録用磁性層を担持す
るサブストレートは、Ａｌ−Ｍｇ合金上にパーマロイ層
をメッキし、これを鏡面研磨したものが使用されてい
る。
く高くすることができる垂直磁気記録方式用のメディア
として、Ｃｏ−Ｃｒ系のものが実用されている。このＣ
ｏ−Ｃｒ系合金からなる垂直磁気記録用磁性層を担持す
るサブストレートは、Ａｌ−Ｍｇ合金上にパーマロイ層
をメッキし、これを鏡面研磨したものが使用されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のサブス
トレートを使用した場合、まず、性能面で下記の問題点
がある。
トレートを使用した場合、まず、性能面で下記の問題点
がある。
【０００４】高記録密度を達成するために、基板上の
欠陥は少なくとも5μｍ以下、望ましくは2μｍ以下であ
ることが必要である。しかし、Ａｌ−Ｍｇ合金中には数
十μｍ単位の金属間化合物が存在するため、パーマロイ
層をメッキした後において、これが欠陥として表れる。
欠陥は少なくとも5μｍ以下、望ましくは2μｍ以下であ
ることが必要である。しかし、Ａｌ−Ｍｇ合金中には数
十μｍ単位の金属間化合物が存在するため、パーマロイ
層をメッキした後において、これが欠陥として表れる。
【０００５】垂直磁気記録においては、コンタクトレ
コーディング方式が採用されている。しかし、Ａｌ−Ｍ
ｇ合金をサブストレートとした場合に、ケミカルテクス
チャー処理を施すことができない。メカニカルテクスチ
ャー処理では、表面が粗れすぎるため、コンタクトレコ
ーディング方式を採用することができない。このため、
従来のＡｌ−Ｍｇ合金サブストレートは、記録再生時の
ヘッドとメディアとの間の摩擦係数が大きくなり、メデ
ィアの信頼性が低いという難点がある。
コーディング方式が採用されている。しかし、Ａｌ−Ｍ
ｇ合金をサブストレートとした場合に、ケミカルテクス
チャー処理を施すことができない。メカニカルテクスチ
ャー処理では、表面が粗れすぎるため、コンタクトレコ
ーディング方式を採用することができない。このため、
従来のＡｌ−Ｍｇ合金サブストレートは、記録再生時の
ヘッドとメディアとの間の摩擦係数が大きくなり、メデ
ィアの信頼性が低いという難点がある。
【０００６】一方、生産性から見ると、従来のサブスト
レートは下記の問題点がある。
レートは下記の問題点がある。
【０００７】Ａｌ−Ｍｇ合金材の表面研磨では、必要
とされるＲａ５〜６オングストロームの鏡面を得ること
ができない。このため、パーマロイ層をメッキした後、
再度鏡面研磨を実施している。このように、従来のＡｌ
−Ｍｇ合金サブストレートは、二度の研磨が必要なこと
に加え、メッキ後の面を研磨することにより、パーマロ
イ層に格子欠陥等の結晶欠陥が発生し、また不純物の混
入によりサブストレートの透磁率が著しく劣化するとい
う難点がある。
とされるＲａ５〜６オングストロームの鏡面を得ること
ができない。このため、パーマロイ層をメッキした後、
再度鏡面研磨を実施している。このように、従来のＡｌ
−Ｍｇ合金サブストレートは、二度の研磨が必要なこと
に加え、メッキ後の面を研磨することにより、パーマロ
イ層に格子欠陥等の結晶欠陥が発生し、また不純物の混
入によりサブストレートの透磁率が著しく劣化するとい
う難点がある。
【０００８】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、鏡面性が優れ、欠陥が少なく信頼性が高い
垂直磁気記録用のサブストレート、磁気ディスク及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
のであって、鏡面性が優れ、欠陥が少なく信頼性が高い
垂直磁気記録用のサブストレート、磁気ディスク及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係る垂直磁気記
録用サブストレートは、アモルファスカーボン基板の表
面に軟磁性層が形成されていることを特徴とする。
録用サブストレートは、アモルファスカーボン基板の表
面に軟磁性層が形成されていることを特徴とする。
【００１０】本発明に係る垂直磁気記録用磁気ディスク
は、アモルファスカーボン基板の表面に軟磁性層が形成
されたサブストレート上に、垂直磁気メディア層及び保
護潤滑層が形成されていることを特徴とする。
は、アモルファスカーボン基板の表面に軟磁性層が形成
されたサブストレート上に、垂直磁気メディア層及び保
護潤滑層が形成されていることを特徴とする。
【００１１】本発明に係る垂直磁気記録用サブストレー
トの製造方法は、アモルファスカーボン基板の表面を鏡
面研磨した後、軟磁性層を無電解メッキ等の方法により
コーティングすることを特徴とする。
トの製造方法は、アモルファスカーボン基板の表面を鏡
面研磨した後、軟磁性層を無電解メッキ等の方法により
コーティングすることを特徴とする。
【００１２】なお、前記軟磁性層は、パーマロイ、鉄シ
リコン合金、ミュメタル、パーメンジュール、パーミン
バー、センダスト、方向性ケイ素鉄、イソパーム、アル
パーム、スーパーマロイ、又はニオブパーマロイ等の材
料で形成されたものをいい、フェライト等の磁性材料よ
りも弱い磁性を有する。
リコン合金、ミュメタル、パーメンジュール、パーミン
バー、センダスト、方向性ケイ素鉄、イソパーム、アル
パーム、スーパーマロイ、又はニオブパーマロイ等の材
料で形成されたものをいい、フェライト等の磁性材料よ
りも弱い磁性を有する。
【００１３】また、垂直磁気メディア層としては、Ｃｏ
Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｆｅ、Ｃｏ−γＦｅ2
Ｏ3、γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＢａＦｅ3Ｏ4、Ｆｅ3Ｏ
4、ＦｅＣｏ−Ｏ／Ｃｏ−Ｏ、及びＣｏＣｒＴａ等があ
り、磁気特性を調節するために、Ｔｉ等の下地層を設け
る場合もある。
Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｆｅ、Ｃｏ−γＦｅ2
Ｏ3、γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＢａＦｅ3Ｏ4、Ｆｅ3Ｏ
4、ＦｅＣｏ−Ｏ／Ｃｏ−Ｏ、及びＣｏＣｒＴａ等があ
り、磁気特性を調節するために、Ｔｉ等の下地層を設け
る場合もある。
【００１４】更に、保護潤滑層としては、カーボン、Ｚ
ｒＯ2、ＳｉＯ2、及びＺｒ等がある。
ｒＯ2、ＳｉＯ2、及びＺｒ等がある。
【００１５】
【作用】本発明においては、高密度アモルファスカーボ
ンを基材とし、鏡面研磨を実施した後、パーマロイ等の
軟磁性層をコーティングする。コーティングの方法とし
ては、電解及び無電解メッキ、スパッタリング等の方法
がある。コーティング後でも表面の鏡面性が保たれるの
で、再研磨は不要である。
ンを基材とし、鏡面研磨を実施した後、パーマロイ等の
軟磁性層をコーティングする。コーティングの方法とし
ては、電解及び無電解メッキ、スパッタリング等の方法
がある。コーティング後でも表面の鏡面性が保たれるの
で、再研磨は不要である。
【００１６】アモルファカスカーボンはケミカルテクス
チャーにより表面に極めて微細なテクスチャーパターン
を形成できる。このため、表面粗度Ｒａが５〜６オング
ストロームの鏡面性を保ちながら、記録再生時のヘッド
／メディア間の摩擦係数を下げ、メディアの信頼性を著
しく向上させることができる。また、アモルファスカー
ボンには金属間化合物のような欠陥が存在しないため、
パーマロイ層のメッキ後に極めて高精度及び無欠陥のサ
ブストレートを得ることができる。
チャーにより表面に極めて微細なテクスチャーパターン
を形成できる。このため、表面粗度Ｒａが５〜６オング
ストロームの鏡面性を保ちながら、記録再生時のヘッド
／メディア間の摩擦係数を下げ、メディアの信頼性を著
しく向上させることができる。また、アモルファスカー
ボンには金属間化合物のような欠陥が存在しないため、
パーマロイ層のメッキ後に極めて高精度及び無欠陥のサ
ブストレートを得ることができる。
【００１７】なお、このテクスチャー処理方法として
は、以下の方法がある。先ず、アモルファスカーボン基
板の表面を研磨することにより、その表面粗さＲａを5
乃至40オングストロームにすると共に、円周方向の表面
粗さＲａ１と半径方向の表面粗さＲａ２との比Ｒａ２／
Ｒａ１を0.85乃至1.15にする。次いで、この表面研磨し
たアモルファスカーボン基板を、陽極酸化処理する
か、ドライエッチングするか、水蒸気、水素、オゾ
ン及び二酸化炭素からなる群から選択された酸化性ガス
の存在下で加熱処理するか、酸化性溶液中に浸漬する
等の方法によりテクスチャー面を形成することができる
（特願平3-280520, 3-280521, 3-280524, 3-280525）。
は、以下の方法がある。先ず、アモルファスカーボン基
板の表面を研磨することにより、その表面粗さＲａを5
乃至40オングストロームにすると共に、円周方向の表面
粗さＲａ１と半径方向の表面粗さＲａ２との比Ｒａ２／
Ｒａ１を0.85乃至1.15にする。次いで、この表面研磨し
たアモルファスカーボン基板を、陽極酸化処理する
か、ドライエッチングするか、水蒸気、水素、オゾ
ン及び二酸化炭素からなる群から選択された酸化性ガス
の存在下で加熱処理するか、酸化性溶液中に浸漬する
等の方法によりテクスチャー面を形成することができる
（特願平3-280520, 3-280521, 3-280524, 3-280525）。
【００１８】このようにして構成された本発明のサブス
トレート上に、ＣｏＣｒ及びフェライト等の垂直磁気記
録メディアを成膜した磁気ディスクは、低ヘッド浮上特
性及び優れた摩擦特性が得られるため、格別ヘッドの軽
量化を図らなくても、安定して高密度の記録再生を行う
ことができる。
トレート上に、ＣｏＣｒ及びフェライト等の垂直磁気記
録メディアを成膜した磁気ディスクは、低ヘッド浮上特
性及び優れた摩擦特性が得られるため、格別ヘッドの軽
量化を図らなくても、安定して高密度の記録再生を行う
ことができる。
【００１９】また、本発明方法においては、アモルファ
スカーボン基板の表面を鏡面研磨した後、軟磁性層を電
解及び無電解メッキ、スパッタリング等の方法により形
成している。
スカーボン基板の表面を鏡面研磨した後、軟磁性層を電
解及び無電解メッキ、スパッタリング等の方法により形
成している。
【００２０】従来の基板では基板を一旦研磨した後、軟
磁性層をメッキしていたが、メッキ後、再研磨が必要な
ため、パーマロイ層を20μｍメッキする必要があった。
そして、再研磨後には、このパーマロイ層は約10μｍに
減少する。しかし、本発明では再研磨が不要であるた
め、パーマロイ層のメッキ厚さは10μｍでよく、メッキ
時間の短縮と再研磨の省略によるコストダウン効果が大
きい。
磁性層をメッキしていたが、メッキ後、再研磨が必要な
ため、パーマロイ層を20μｍメッキする必要があった。
そして、再研磨後には、このパーマロイ層は約10μｍに
減少する。しかし、本発明では再研磨が不要であるた
め、パーマロイ層のメッキ厚さは10μｍでよく、メッキ
時間の短縮と再研磨の省略によるコストダウン効果が大
きい。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例について、その比較例
と比較して説明する。熱間静水圧加圧装置（ＨＩＰ）に
て高密度化されたアモルファスカーボン（神戸製鋼所
製、商品名 UDAC）を外径65mm、内径20mm、板厚0.632m
mに加工した。表面は粗、中間、仕上げの各研磨工程に
て表面粗さＲａが5オングストローム、平坦度3μｍ、AC
C2.5m／sec2の鏡面に仕上げた。次いで、このアモルフ
ァスカーボン基板を空気中で高温処理して表面を酸化さ
せることによりテクスチャー処理した。そして、このア
モルファスカーボン基板の表面をパラジウムで活性化し
た後、軟磁性層としてＮｉＦｅ層を厚さ10μｍまで無電
解メッキしてサブストレートを作成した。
と比較して説明する。熱間静水圧加圧装置（ＨＩＰ）に
て高密度化されたアモルファスカーボン（神戸製鋼所
製、商品名 UDAC）を外径65mm、内径20mm、板厚0.632m
mに加工した。表面は粗、中間、仕上げの各研磨工程に
て表面粗さＲａが5オングストローム、平坦度3μｍ、AC
C2.5m／sec2の鏡面に仕上げた。次いで、このアモルフ
ァスカーボン基板を空気中で高温処理して表面を酸化さ
せることによりテクスチャー処理した。そして、このア
モルファスカーボン基板の表面をパラジウムで活性化し
た後、軟磁性層としてＮｉＦｅ層を厚さ10μｍまで無電
解メッキしてサブストレートを作成した。
【００２２】メッキ後のサブストレートをスクラブ洗浄
機で十分に洗浄した後、乾燥し、次いで、垂直磁気メデ
ィアとしてＣｏＣｒ層を500オングストロームの厚さに
スパッタリングして堆積し、垂直記録磁気ディスクを作
成した。
機で十分に洗浄した後、乾燥し、次いで、垂直磁気メデ
ィアとしてＣｏＣｒ層を500オングストロームの厚さに
スパッタリングして堆積し、垂直記録磁気ディスクを作
成した。
【００２３】比較例として、Ａｌ−Ｍｇ合金を外径65m
m、内径20mm、板厚0.632mmに加工し、従来の製造方法に
より、ＮｉＦｅ層を20μｍの厚さにメッキした後、鏡面
研磨を実施し、ＮｉＦｅ層の厚さが10μｍのサブストレ
ートを作成した。そして、同様にメディア層をスパッタ
リングにより堆積し、垂直記録磁気ディスクを作成し
た。
m、内径20mm、板厚0.632mmに加工し、従来の製造方法に
より、ＮｉＦｅ層を20μｍの厚さにメッキした後、鏡面
研磨を実施し、ＮｉＦｅ層の厚さが10μｍのサブストレ
ートを作成した。そして、同様にメディア層をスパッタ
リングにより堆積し、垂直記録磁気ディスクを作成し
た。
【００２４】実施例と１と比較例について、サブストレ
ートの表面欠陥を、ディスク欠陥検査装置DISCAN（神戸
製鋼所製）により測定した。その結果、ディスク１枚当
たりの5μｍ以上の欠陥の数の測定値を下記表１に示し
た。
ートの表面欠陥を、ディスク欠陥検査装置DISCAN（神戸
製鋼所製）により測定した。その結果、ディスク１枚当
たりの5μｍ以上の欠陥の数の測定値を下記表１に示し
た。
【００２５】
【表１】
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明により、鏡
面性が優れ、欠陥が極めて少ない垂直磁気記録用サブス
トレートが得られる。また、このサブストレートを使用
した磁気ディスクは極めて信頼性が優れたものとなる。
更に、このサブストレートはアモルファスカーボンで成
形されているため、極めて軽量であり、磁気ディスク装
置の消費電力の低減にも著しい効果がある。更にまた、
本発明においては、アモルファスカーボンがそれ自体で
優れた鏡面が得られるので、再研磨が不要であると共
に、メッキ厚さも薄くすることができ、製造コストを著
しく低減することができる。
面性が優れ、欠陥が極めて少ない垂直磁気記録用サブス
トレートが得られる。また、このサブストレートを使用
した磁気ディスクは極めて信頼性が優れたものとなる。
更に、このサブストレートはアモルファスカーボンで成
形されているため、極めて軽量であり、磁気ディスク装
置の消費電力の低減にも著しい効果がある。更にまた、
本発明においては、アモルファスカーボンがそれ自体で
優れた鏡面が得られるので、再研磨が不要であると共
に、メッキ厚さも薄くすることができ、製造コストを著
しく低減することができる。
Claims (3)
- 【請求項１】 アモルファスカーボン基板の表面に軟磁
性層が形成されていることを特徴とする垂直磁気記録用
サブストレート。 - 【請求項２】 アモルファスカーボン基板の表面に軟磁
性層が形成されたサブストレート上に、垂直磁気メディ
ア層及び保護潤滑層が形成されていることを特徴とする
垂直磁気記録用磁気ディスク。 - 【請求項３】 アモルファスカーボン基板の表面を鏡面
研磨した後、軟磁性層をコーティングすることを特徴と
する垂直磁気記録用サブストレートの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4079504A JPH05282668A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 垂直磁気記録用サブストレート、磁気ディスク及びその製造方法 |
| GB9306747A GB2266319B (en) | 1992-04-01 | 1993-03-31 | Substrate for vertical magnetic recording, magnetic disk, and process for their production |
| DE4310758A DE4310758A1 (de) | 1992-04-01 | 1993-04-01 | Substrat für vertikale magnetische Aufzeichnung, Magnetplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4079504A JPH05282668A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 垂直磁気記録用サブストレート、磁気ディスク及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05282668A true JPH05282668A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=13691772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4079504A Pending JPH05282668A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 垂直磁気記録用サブストレート、磁気ディスク及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05282668A (ja) |
| DE (1) | DE4310758A1 (ja) |
| GB (1) | GB2266319B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004061829A1 (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Fujitsu Limited | 垂直磁気記録媒体 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1061511A3 (en) * | 1999-06-15 | 2002-02-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magnetooptical recording alloy |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01122966A (ja) * | 1987-11-07 | 1989-05-16 | Kobe Steel Ltd | 炭素材の製造方法 |
| JPH0297639A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-10 | Furukawa Alum Co Ltd | メツキ性に優れた磁気デイスク基板用アルミニウム合金 |
| JPH02246017A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-01 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気記録媒体 |
-
1992
- 1992-04-01 JP JP4079504A patent/JPH05282668A/ja active Pending
-
1993
- 1993-03-31 GB GB9306747A patent/GB2266319B/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-04-01 DE DE4310758A patent/DE4310758A1/de not_active Ceased
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004061829A1 (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Fujitsu Limited | 垂直磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2266319A (en) | 1993-10-27 |
| DE4310758A1 (de) | 1993-10-14 |
| GB2266319B (en) | 1995-06-07 |
| GB9306747D0 (en) | 1993-05-26 |
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