JPH04339312A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
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- JPH04339312A JPH04339312A JP3111415A JP11141591A JPH04339312A JP H04339312 A JPH04339312 A JP H04339312A JP 3111415 A JP3111415 A JP 3111415A JP 11141591 A JP11141591 A JP 11141591A JP H04339312 A JPH04339312 A JP H04339312A
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Links
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録再生装置等に
用いられる磁気ディスクに関するものである。
用いられる磁気ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータ等の記憶手段として、ラン
ダムアクセス可能な円盤状の磁気ディスクが使用されて
いる。
ダムアクセス可能な円盤状の磁気ディスクが使用されて
いる。
【０００３】この磁気ディスク基板としては、アルミ合
金基板、ガラス基板、または、プラスチック基板等が一
般的に考えられているが、実用的には、アルミ合金基板
が主流である。
金基板、ガラス基板、または、プラスチック基板等が一
般的に考えられているが、実用的には、アルミ合金基板
が主流である。
【０００４】アルミ合金基板の場合Ｎｉ−Ｐメッキまた
は、アルマイト処理等の下地硬化処理を施す。その後、
ディスク表面を鏡面に仕上げるために、ポリッシュ加工
を行い、更にディスク表面に突起物を形成するためにテ
クスチャー加工を行う。このテクスチャーは、磁気ディ
スクの吸着を軽減させると共に磁気ディスクの磁性膜の
磁気異方性を円周方向に付与させる効果がある。磁気デ
ィスクは、このテクスチャー加工を施した基板上に磁性
膜層、保護膜層、潤滑膜層を順次積層したものであり、
電磁変換特性、浮上特性、コンタクト スタート
ストップ特性、吸着特性に優れる磁気ディスクが作製で
きる。
は、アルマイト処理等の下地硬化処理を施す。その後、
ディスク表面を鏡面に仕上げるために、ポリッシュ加工
を行い、更にディスク表面に突起物を形成するためにテ
クスチャー加工を行う。このテクスチャーは、磁気ディ
スクの吸着を軽減させると共に磁気ディスクの磁性膜の
磁気異方性を円周方向に付与させる効果がある。磁気デ
ィスクは、このテクスチャー加工を施した基板上に磁性
膜層、保護膜層、潤滑膜層を順次積層したものであり、
電磁変換特性、浮上特性、コンタクト スタート
ストップ特性、吸着特性に優れる磁気ディスクが作製で
きる。
【０００５】一般に磁気ディスクドライブ装置は、コン
タクト スタート ストップ方式を採用しており、
この方式では磁気ヘッド・磁気ディスク間に静止（接触
）・摺動・浮上の三つの状態が生じる。すなわち、磁気
ディスクの停止時には磁気ヘッドは、磁気ディスク上に
接触停止しており、磁気ディスクの低速回転中には、磁
気ヘッド・磁気ディスクは、接触・摺動をし、磁気ディ
スクの定常回転中には、磁気ディスク上に非接触で浮上
量０．２〜０．５μｍで浮上している。しかしコンタク
ト スタート ストップ方式では、磁気ヘッドと磁
気ディスクの接触・摺動・浮上が繰り返し行われること
から、磁気ヘッド・磁気ディスク間の摩擦係数が大きく
なり、磁気ディスクあるいは磁気ヘッドが破損するいわ
ゆるヘッド・クラッシュを起こすことがある。そのため
、磁気ディスクの表面に固体潤滑剤または、液体潤滑剤
を被覆するなどの対策が行われている。しかし、磁気デ
ィスクに潤滑剤を塗布することにより、磁気ヘッドと磁
気ディスク間に強い吸着現象を引き起こすことがある。 この吸着現象は、磁気ディスクドライブ装置のスタート
時に磁気ヘッド及び磁気ヘッドの支持体であるフレクシ
ャーに強い負荷を与え、磁気ヘッドやフレクシャーに損
傷を引き起こすか、または、磁気ディスク表面に強いス
クラッチ傷を発生させる。従って、コンタクト スタ
ート ストップを繰り返しても摩擦・摩耗が生じない
程度に潤滑剤を薄く塗布し、吸着現象が生じないように
磁気ディスクの表面粗さを粗くするテクスチャー加工が
必要となる。
タクト スタート ストップ方式を採用しており、
この方式では磁気ヘッド・磁気ディスク間に静止（接触
）・摺動・浮上の三つの状態が生じる。すなわち、磁気
ディスクの停止時には磁気ヘッドは、磁気ディスク上に
接触停止しており、磁気ディスクの低速回転中には、磁
気ヘッド・磁気ディスクは、接触・摺動をし、磁気ディ
スクの定常回転中には、磁気ディスク上に非接触で浮上
量０．２〜０．５μｍで浮上している。しかしコンタク
ト スタート ストップ方式では、磁気ヘッドと磁
気ディスクの接触・摺動・浮上が繰り返し行われること
から、磁気ヘッド・磁気ディスク間の摩擦係数が大きく
なり、磁気ディスクあるいは磁気ヘッドが破損するいわ
ゆるヘッド・クラッシュを起こすことがある。そのため
、磁気ディスクの表面に固体潤滑剤または、液体潤滑剤
を被覆するなどの対策が行われている。しかし、磁気デ
ィスクに潤滑剤を塗布することにより、磁気ヘッドと磁
気ディスク間に強い吸着現象を引き起こすことがある。 この吸着現象は、磁気ディスクドライブ装置のスタート
時に磁気ヘッド及び磁気ヘッドの支持体であるフレクシ
ャーに強い負荷を与え、磁気ヘッドやフレクシャーに損
傷を引き起こすか、または、磁気ディスク表面に強いス
クラッチ傷を発生させる。従って、コンタクト スタ
ート ストップを繰り返しても摩擦・摩耗が生じない
程度に潤滑剤を薄く塗布し、吸着現象が生じないように
磁気ディスクの表面粗さを粗くするテクスチャー加工が
必要となる。
【０００６】従来より、テクスチャー加工には、研磨剤
をテープに固定保持した研磨テープが用いられている。 そして加工法は、上記磁気ディスク基板を回転させなが
ら研磨テープを基板に押し付け加工することが行われて
いる。それによりテクスチャーラインは、最大面粗さＲ
ｍａｘ０．０２μｍ〜０．１μｍの突起物を持ち磁気ヘ
ッドの走行方向と一致する円周方向に沿って同心円状（
特開昭６１−５１６１９号公報）、または、円周方向に
対して３度以上異なる方向（特開平２−７３５１６号公
報）に施されていた。これらのテクスチャー加工は、い
ずれも１種類のテクスチャーラインをディスク基板上に
形成するものである。
をテープに固定保持した研磨テープが用いられている。 そして加工法は、上記磁気ディスク基板を回転させなが
ら研磨テープを基板に押し付け加工することが行われて
いる。それによりテクスチャーラインは、最大面粗さＲ
ｍａｘ０．０２μｍ〜０．１μｍの突起物を持ち磁気ヘ
ッドの走行方向と一致する円周方向に沿って同心円状（
特開昭６１−５１６１９号公報）、または、円周方向に
対して３度以上異なる方向（特開平２−７３５１６号公
報）に施されていた。これらのテクスチャー加工は、い
ずれも１種類のテクスチャーラインをディスク基板上に
形成するものである。
【０００７】近年、磁気ディスクドライブ装置の記録容
量を高めることが要求され、その方法として、１）磁気
ディスクの磁性膜層の膜厚を薄くする。 ２）磁気ディスクの磁性膜層の保磁力Ｈｃを大きくする
。 ３）磁気ヘッドのギャップ長を小さくする。 ４）磁気ヘッドの浮上量を低減する。 等の方法がある。このため磁気ヘッドの浮上量は、低浮
上化が進み、磁気ヘッド浮上量は、０．２μｍから０．
１μｍへと徐々に低くなりつつある。
量を高めることが要求され、その方法として、１）磁気
ディスクの磁性膜層の膜厚を薄くする。 ２）磁気ディスクの磁性膜層の保磁力Ｈｃを大きくする
。 ３）磁気ヘッドのギャップ長を小さくする。 ４）磁気ヘッドの浮上量を低減する。 等の方法がある。このため磁気ヘッドの浮上量は、低浮
上化が進み、磁気ヘッド浮上量は、０．２μｍから０．
１μｍへと徐々に低くなりつつある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記従来
の構成では、磁気ヘッドの浮上量が０．１μｍという低
浮上化でコンタクト スタート ストップ試験を行
った場合、磁気ヘッドの摺動時間と距離が増加し磁気デ
ィスク表面が摩耗し磁気ディスクの表面形状が変化する
と共に磁気ディスク上に生じた摩耗粉が磁気ヘッドに付
着することによってヘッド・クラッシュが生じてしまう
問題点があった。
の構成では、磁気ヘッドの浮上量が０．１μｍという低
浮上化でコンタクト スタート ストップ試験を行
った場合、磁気ヘッドの摺動時間と距離が増加し磁気デ
ィスク表面が摩耗し磁気ディスクの表面形状が変化する
と共に磁気ディスク上に生じた摩耗粉が磁気ヘッドに付
着することによってヘッド・クラッシュが生じてしまう
問題点があった。
【０００９】図１１は、磁気ヘッドの浮上量を変化させ
たとき、従来磁気ディスクのコンタクト スタート
ストップ試験における動摩擦係数μの変化を示してい
る。 図１１に示されているように、磁気ヘッドの浮上量が低
くなるにしたがって動摩擦係数μが急激に上昇しコンタ
クト スタート ストップ特性が劣化してしまうこ
とが判る。
たとき、従来磁気ディスクのコンタクト スタート
ストップ試験における動摩擦係数μの変化を示してい
る。 図１１に示されているように、磁気ヘッドの浮上量が低
くなるにしたがって動摩擦係数μが急激に上昇しコンタ
クト スタート ストップ特性が劣化してしまうこ
とが判る。
【００１０】又従来の磁気ディスクのテクスチャーは、
円周方向に対して０度の角度を有する同心円状のテクス
チャーラインのみを形成するかまたは、円周方向に対し
て３度以上異なる方向のテクスチャーラインのみを形成
するものである。これらのテクスチャーは、１種類のテ
クスチャーラインをディスク基板上に形成するもので、
このときの磁気ディスクのＲａは８ｎｍ〜１５ｎｍで、
磁気ディスク表面の突起物の高さが不均一でしかも突起
物上に微細突起が形成されない。このため１種類のテク
スチャーラインを形成するテクスチャーでは、磁気ヘッ
ド低浮上化における浮上特性、コンタクト スタート
ストップ特性、吸着特性を満足することができない
。
円周方向に対して０度の角度を有する同心円状のテクス
チャーラインのみを形成するかまたは、円周方向に対し
て３度以上異なる方向のテクスチャーラインのみを形成
するものである。これらのテクスチャーは、１種類のテ
クスチャーラインをディスク基板上に形成するもので、
このときの磁気ディスクのＲａは８ｎｍ〜１５ｎｍで、
磁気ディスク表面の突起物の高さが不均一でしかも突起
物上に微細突起が形成されない。このため１種類のテク
スチャーラインを形成するテクスチャーでは、磁気ヘッ
ド低浮上化における浮上特性、コンタクト スタート
ストップ特性、吸着特性を満足することができない
。
【００１１】本発明は前記従来の問題点を解決するもの
で、磁気ヘッド浮上量０．１μｍという低浮上量におい
てもコンタクト スタート ストップ特性が劣化せ
ず、しかも浮上特性及び吸着特性に優れた磁気ディスク
を提供することを目的とする。
で、磁気ヘッド浮上量０．１μｍという低浮上量におい
てもコンタクト スタート ストップ特性が劣化せ
ず、しかも浮上特性及び吸着特性に優れた磁気ディスク
を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、テクスチャー加工を施してなる磁気ディスク基板上
に記憶媒体となる磁性薄膜及び保護膜を形成した磁気デ
ィスクに、テクスチャーのテクスチャーラインが円周方
向に対して角度０度であるテクスチャーラインと円周方
向に対して角度３〜９度であるテクスチャーラインの２
種類を混合した。
に、テクスチャー加工を施してなる磁気ディスク基板上
に記憶媒体となる磁性薄膜及び保護膜を形成した磁気デ
ィスクに、テクスチャーのテクスチャーラインが円周方
向に対して角度０度であるテクスチャーラインと円周方
向に対して角度３〜９度であるテクスチャーラインの２
種類を混合した。
【００１３】
【作用】この構成により、異常突起物が発生せず、しか
も突起物のピーク先端形状を均一にする事ができる。
も突起物のピーク先端形状を均一にする事ができる。
【００１４】
【実施例】図１は本発明の一実施例における磁気ディス
クの積層構造を示す断面図である。図１において、１は
アルミニウムでできた基板、２は基板の上に形成された
Ｎｉ−Ｐ膜で、Ｎｉ−Ｐ膜２には図２に示す様なテクス
チャー、すなわちテクスチャーラインが円周方向に対し
て角度０度であるテクスチャーラインと円周方向に対し
て角度３〜９度であるテクスチャーラインの２種類を混
合したテクスチャー７が形成されている。また円周方向
に対して角度０度というのは図３に示すように、テクス
チャー８の様なライン（接線Ａ）の様なものであり、円
周方向に対して角度３〜９度というのはテクスチャー９
の様なライン（接線Ｂ）のようなものである。３はＮｉ
−Ｐ膜２の上に形成されたＣｒ下地膜、４はＣｒ下地膜
３の上に形成され、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒの合金で形成され
た磁性薄膜、５は磁性薄膜４の上に形成されたカーボン
保護膜、６はカーボン保護膜５の上に形成された潤滑膜
である。
クの積層構造を示す断面図である。図１において、１は
アルミニウムでできた基板、２は基板の上に形成された
Ｎｉ−Ｐ膜で、Ｎｉ−Ｐ膜２には図２に示す様なテクス
チャー、すなわちテクスチャーラインが円周方向に対し
て角度０度であるテクスチャーラインと円周方向に対し
て角度３〜９度であるテクスチャーラインの２種類を混
合したテクスチャー７が形成されている。また円周方向
に対して角度０度というのは図３に示すように、テクス
チャー８の様なライン（接線Ａ）の様なものであり、円
周方向に対して角度３〜９度というのはテクスチャー９
の様なライン（接線Ｂ）のようなものである。３はＮｉ
−Ｐ膜２の上に形成されたＣｒ下地膜、４はＣｒ下地膜
３の上に形成され、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒの合金で形成され
た磁性薄膜、５は磁性薄膜４の上に形成されたカーボン
保護膜、６はカーボン保護膜５の上に形成された潤滑膜
である。
【００１５】以上の様に構成された磁気ディスクについ
て以下その製造方法を説明する。まずアルミニウムでで
きた基板１上に、無電解メッキ法でＮｉ−Ｐ膜２を２０
μｍ程度の厚みに施した後、ポリッシュ加工により基板
１表面を鏡面にする。この基板１を所定の回転数で回転
させながら、アルミナ砥粒研磨テープを一定圧力で基板
に押し付け、円周方向に対して角度０度を有するテクス
チャーライン８と円周方向に対して交差角度θを有する
テクスチャーライン９の２種類のテクスチャーラインを
形成する。円周方向に対して交差角度θを有するテクス
チャーラインは、アルミナ砥粒研磨テープをディスク基
板の半径方向に揺動をかけながら加工したものである。 この時の磁気ディスクの粗さＲａは、２ｎｍ〜８ｎｍ程
度である。その後、超精密洗浄装置により完全にディス
ク表面から加工塵を除去し、ディスクの基板上にスパッ
タ法によりＣｒ下地膜３を２０ｎｍの厚さに形成し、更
にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒの合金を用いて厚さ６０ｎｍの磁性
薄膜４を積層する。次に磁性薄膜４の上にカーボンをス
パッタさせ厚さ３０ｎｍのカーボン保護膜５を形成し、
その上に潤滑剤６を塗布することにより磁気ディスクを
作製した。
て以下その製造方法を説明する。まずアルミニウムでで
きた基板１上に、無電解メッキ法でＮｉ−Ｐ膜２を２０
μｍ程度の厚みに施した後、ポリッシュ加工により基板
１表面を鏡面にする。この基板１を所定の回転数で回転
させながら、アルミナ砥粒研磨テープを一定圧力で基板
に押し付け、円周方向に対して角度０度を有するテクス
チャーライン８と円周方向に対して交差角度θを有する
テクスチャーライン９の２種類のテクスチャーラインを
形成する。円周方向に対して交差角度θを有するテクス
チャーラインは、アルミナ砥粒研磨テープをディスク基
板の半径方向に揺動をかけながら加工したものである。 この時の磁気ディスクの粗さＲａは、２ｎｍ〜８ｎｍ程
度である。その後、超精密洗浄装置により完全にディス
ク表面から加工塵を除去し、ディスクの基板上にスパッ
タ法によりＣｒ下地膜３を２０ｎｍの厚さに形成し、更
にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒの合金を用いて厚さ６０ｎｍの磁性
薄膜４を積層する。次に磁性薄膜４の上にカーボンをス
パッタさせ厚さ３０ｎｍのカーボン保護膜５を形成し、
その上に潤滑剤６を塗布することにより磁気ディスクを
作製した。
【００１６】次にダイヤモンド触針により磁気ディスク
の表面形状及び粗さを解析するタリステップ装置を使用
して測定した従来磁気ディスクの５０μｍ長のテクスチ
ャープロファイル及び本実施例の磁気ディスクの５０μ
ｍ長のテクスチャープロファイルを図４および図５にそ
れぞれ表わした。図４および図５を比べると図４すなわ
ち従来の磁気ディスクの表面形状および粗さは図５すな
わち本実施例の磁気ディスクに比べて非常に表面形状が
悪く、しかも突起物の高さが不均一である事がわかる。 従って本実施例の磁気ディスクの様に、テクスチャ
ーラインが円周方向に対して角度０度であるテクスチャ
ーラインと円周方向に対して角度３〜９度であるテクス
チャーラインの２種類を混合した事によって、従来の磁
気ディスクよりも表面形状がよく、しかも突起物の高さ
も均一になる事がわかる。
の表面形状及び粗さを解析するタリステップ装置を使用
して測定した従来磁気ディスクの５０μｍ長のテクスチ
ャープロファイル及び本実施例の磁気ディスクの５０μ
ｍ長のテクスチャープロファイルを図４および図５にそ
れぞれ表わした。図４および図５を比べると図４すなわ
ち従来の磁気ディスクの表面形状および粗さは図５すな
わち本実施例の磁気ディスクに比べて非常に表面形状が
悪く、しかも突起物の高さが不均一である事がわかる。 従って本実施例の磁気ディスクの様に、テクスチャ
ーラインが円周方向に対して角度０度であるテクスチャ
ーラインと円周方向に対して角度３〜９度であるテクス
チャーラインの２種類を混合した事によって、従来の磁
気ディスクよりも表面形状がよく、しかも突起物の高さ
も均一になる事がわかる。
【００１７】次に本実施例の磁気ディスクについて、浮
上特性評価、コンタクトスタートストップ試験、吸着試
験を行った。
上特性評価、コンタクトスタートストップ試験、吸着試
験を行った。
【００１８】浮上特性評価は、浮上量０．１μｍの磁気
ヘッドのグライド保証となる浮上量０．０６μｍでのＡ
Ｅ（Ａｃｏｕｓｔｉｃ．Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）出力電圧に
て評価を行った。グライド保証とは、磁気ヘッドの所定
の浮上量に対してその６０〜８０％の浮上量でも磁気デ
ィスクと接触しない事を保障するものである。ＡＥ出力
電圧の測定は、図６に示すように、磁気ディスク１０上
に磁気ヘッド１１を所定の浮上量の６０〜８０％の浮上
量で浮上させる。そして磁気ヘッド１１の支持部である
フレクシャー１２の固定部１３にＡＥ素子１４を取り付
けることにより、磁気ヘッド１１が受ける衝撃力をＡＥ
素子１４が電圧に変換したものを測定し、ノイズレベル
の２倍以上になる出力電圧の回数をカウントすることで
磁気ヘッドと磁気ディスクの接触回数を評価するもので
ある。その結果を図７に示す。図７において横軸は円周
方向に対して傾斜したテクスチャーの角度θを取り、縦
軸には磁気ヘッドを全トラックの上を移動させた時のＡ
Ｅ素子１４が出力した電圧出力の数をカウントした値を
取っている。図７に示されるように２種類のテクスチャ
ーラインの交差角が９度以下の場合磁気ディスクの表面
は異常突起物がなく、又突起物の高さが均一となってい
るため、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触が生じない
。一方２種類のテクスチャーラインの交差角が、１０度
以上になると磁気ディスク表面に異常突起物が多数発生
し、磁気ヘッドと磁気ディスクとのヒット数が多くなり
浮上特性が急激に悪くなると考えられる。
ヘッドのグライド保証となる浮上量０．０６μｍでのＡ
Ｅ（Ａｃｏｕｓｔｉｃ．Ｅｍｉｓｓｉｏｎ）出力電圧に
て評価を行った。グライド保証とは、磁気ヘッドの所定
の浮上量に対してその６０〜８０％の浮上量でも磁気デ
ィスクと接触しない事を保障するものである。ＡＥ出力
電圧の測定は、図６に示すように、磁気ディスク１０上
に磁気ヘッド１１を所定の浮上量の６０〜８０％の浮上
量で浮上させる。そして磁気ヘッド１１の支持部である
フレクシャー１２の固定部１３にＡＥ素子１４を取り付
けることにより、磁気ヘッド１１が受ける衝撃力をＡＥ
素子１４が電圧に変換したものを測定し、ノイズレベル
の２倍以上になる出力電圧の回数をカウントすることで
磁気ヘッドと磁気ディスクの接触回数を評価するもので
ある。その結果を図７に示す。図７において横軸は円周
方向に対して傾斜したテクスチャーの角度θを取り、縦
軸には磁気ヘッドを全トラックの上を移動させた時のＡ
Ｅ素子１４が出力した電圧出力の数をカウントした値を
取っている。図７に示されるように２種類のテクスチャ
ーラインの交差角が９度以下の場合磁気ディスクの表面
は異常突起物がなく、又突起物の高さが均一となってい
るため、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触が生じない
。一方２種類のテクスチャーラインの交差角が、１０度
以上になると磁気ディスク表面に異常突起物が多数発生
し、磁気ヘッドと磁気ディスクとのヒット数が多くなり
浮上特性が急激に悪くなると考えられる。
【００１９】コンタクト スタート ストップ試験
は、浮上量０．１μｍの磁気ヘッドを使用して測定し、
測定した条件は、半径２５〜３０ｍｍ，回転数３６００
ｒｐｍで、コンタクト・スタート・ストップを２万回行
い、その後の動摩擦係数μの値を測定した。その結果を
図８に示す。２種類のテクスチャーラインの交差角θが
３度未満の磁気ディスクの場合、コンタクト スター
ト ストップ２万回後の動摩擦係数μの値は、０．６
以上となり、磁気ヘッド浮上量０．１μｍの低浮上量で
は、満足するコンタクト スタート ストップ特性
が得られない。これに対し、２種類のテクスチャーライ
ンの交差角θが、３度以上の磁気ディスクでは、コンタ
クト スタート ストップ２万回後の動摩擦係数μ
の値は、０．２５以下となり、磁気ヘッド浮上量０．１
μｍの低浮上量においても十分満足できるコンタクト
スタート ストップ特性が得られる。また同様の実
験でディスク表面に存在する円周方向に対して角度３度
〜９度のテクスチャーラインの割合（本数）とコンタク
ト スタート ストップ２万回後の動摩擦係数μの
値の関係を図９に示した。このグラフから判る様にディ
スク表面に存在する円周方向に対して角度３度〜９度の
テクスチャーラインの割合が５％〜５０％の間では動摩
擦係数μの値はほぼ一定であるが、その範囲外では動摩
擦係数μの値は上昇し始める。従ってディスク表面に存
在する円周方向に対して角度３度〜９度のテクスチャー
ラインの割合は５％〜５０％の間が望ましい事がわかる
。
は、浮上量０．１μｍの磁気ヘッドを使用して測定し、
測定した条件は、半径２５〜３０ｍｍ，回転数３６００
ｒｐｍで、コンタクト・スタート・ストップを２万回行
い、その後の動摩擦係数μの値を測定した。その結果を
図８に示す。２種類のテクスチャーラインの交差角θが
３度未満の磁気ディスクの場合、コンタクト スター
ト ストップ２万回後の動摩擦係数μの値は、０．６
以上となり、磁気ヘッド浮上量０．１μｍの低浮上量で
は、満足するコンタクト スタート ストップ特性
が得られない。これに対し、２種類のテクスチャーライ
ンの交差角θが、３度以上の磁気ディスクでは、コンタ
クト スタート ストップ２万回後の動摩擦係数μ
の値は、０．２５以下となり、磁気ヘッド浮上量０．１
μｍの低浮上量においても十分満足できるコンタクト
スタート ストップ特性が得られる。また同様の実
験でディスク表面に存在する円周方向に対して角度３度
〜９度のテクスチャーラインの割合（本数）とコンタク
ト スタート ストップ２万回後の動摩擦係数μの
値の関係を図９に示した。このグラフから判る様にディ
スク表面に存在する円周方向に対して角度３度〜９度の
テクスチャーラインの割合が５％〜５０％の間では動摩
擦係数μの値はほぼ一定であるが、その範囲外では動摩
擦係数μの値は上昇し始める。従ってディスク表面に存
在する円周方向に対して角度３度〜９度のテクスチャー
ラインの割合は５％〜５０％の間が望ましい事がわかる
。
【００２０】吸着試験は、恒温槽を用い高温高湿環境下
（温度６０℃、湿度８０％）に２４時間放置し、その後
静止摩擦係数の上昇量δμｓを測定した。使用したヘッ
ドは、フェライトモノリシックミニスライダーで測定半
径は、４５ｍｍである。その結果を図１０に示す。この
図１０より２種類のテクスチャーラインの交差角θが３
度未満の場合、静止摩擦係数の上昇量δμｓ値は、０．
０５以上と高い吸着量を示しているが、２種類のテクス
チャーラインの交差角θが、３度以上の場合上昇量δμ
ｓ値は、０であり、磁気ヘッドと磁気ディスクが、全く
吸着しなかった。
（温度６０℃、湿度８０％）に２４時間放置し、その後
静止摩擦係数の上昇量δμｓを測定した。使用したヘッ
ドは、フェライトモノリシックミニスライダーで測定半
径は、４５ｍｍである。その結果を図１０に示す。この
図１０より２種類のテクスチャーラインの交差角θが３
度未満の場合、静止摩擦係数の上昇量δμｓ値は、０．
０５以上と高い吸着量を示しているが、２種類のテクス
チャーラインの交差角θが、３度以上の場合上昇量δμ
ｓ値は、０であり、磁気ヘッドと磁気ディスクが、全く
吸着しなかった。
【００２１】上記浮上特性評価、コンタクト スター
ト ストップ試験、吸着試験の結果より円周方向に対
して角度０度のテクスチャーラインと円周方向に対して
角度３〜９度であるテクスチャーラインの２種類を混合
してなる磁気ディスクが、磁気ヘッド低浮上化における
浮上特性、コンタクト スタート ストップ特性、
吸着特性を最も満足させるものとなった。
ト ストップ試験、吸着試験の結果より円周方向に対
して角度０度のテクスチャーラインと円周方向に対して
角度３〜９度であるテクスチャーラインの２種類を混合
してなる磁気ディスクが、磁気ヘッド低浮上化における
浮上特性、コンタクト スタート ストップ特性、
吸着特性を最も満足させるものとなった。
【００２２】以上の様に本実施例によればテクスチャー
ラインは、円周方向に対して角度０度であるテクスチャ
ーライン５と円周方向に対して角度３〜９度であるテク
スチャーライン６の２種類のテクスチャーラインを混合
して形成されるものである。このためＲａが２ｎｍ〜８
ｎｍと小さく磁気ディスク表面の突起物の高さが均一で
しかも突起物上に無数の微細突起物が形成され、従来よ
りも諸特性の向上した磁気ディスクを提供できる。又円
周方向に対して角度０度であるテクスチャーラインと円
周方向に対して角度３〜９度であるテクスチャーライン
の２種類のテクスチャーラインを混合し、しかも円周方
向に対して角度３〜９度であるテクスチャーラインの占
める割合を５％〜５０％にすると、更に磁気ヘッド低浮
上化における浮上特性、コンタクト スタート ス
トップ特性、吸着特性を向上させる事ができる。
ラインは、円周方向に対して角度０度であるテクスチャ
ーライン５と円周方向に対して角度３〜９度であるテク
スチャーライン６の２種類のテクスチャーラインを混合
して形成されるものである。このためＲａが２ｎｍ〜８
ｎｍと小さく磁気ディスク表面の突起物の高さが均一で
しかも突起物上に無数の微細突起物が形成され、従来よ
りも諸特性の向上した磁気ディスクを提供できる。又円
周方向に対して角度０度であるテクスチャーラインと円
周方向に対して角度３〜９度であるテクスチャーライン
の２種類のテクスチャーラインを混合し、しかも円周方
向に対して角度３〜９度であるテクスチャーラインの占
める割合を５％〜５０％にすると、更に磁気ヘッド低浮
上化における浮上特性、コンタクト スタート ス
トップ特性、吸着特性を向上させる事ができる。
【００２３】
【発明の効果】本発明は、テクスチャー加工を施してな
る磁気ディスク基板上に記憶媒体となる磁性薄膜及び保
護膜を形成した磁気ディスクであり、上記テクスチャー
のテクスチャーーラインが円周方向に対して角度０度で
あるテクスチャーラインと円周方向に対して角度３〜９
度であるテクスチャーラインの２種類を混合した事によ
り、異常突起物が発生せず、しかも突起物のピーク先端
形状を均一にする事ができるので、磁気ヘッド低浮上化
における浮上特性、コンタクト スタート ストッ
プ特性、吸着特性を向上させる事ができる。
る磁気ディスク基板上に記憶媒体となる磁性薄膜及び保
護膜を形成した磁気ディスクであり、上記テクスチャー
のテクスチャーーラインが円周方向に対して角度０度で
あるテクスチャーラインと円周方向に対して角度３〜９
度であるテクスチャーラインの２種類を混合した事によ
り、異常突起物が発生せず、しかも突起物のピーク先端
形状を均一にする事ができるので、磁気ヘッド低浮上化
における浮上特性、コンタクト スタート ストッ
プ特性、吸着特性を向上させる事ができる。
【図１】本発明の一実施例における磁気ディスクの積層
構造を示す断面図
構造を示す断面図
【図２】本発明の一実施例による磁気ディスクの平面図
【図３】本発明の一実施例による磁気ディスクの拡大平
面図
面図
【図４】従来テクスチャーによるテクスチャープロファ
イルを示す図
イルを示す図
【図５】本発明のテクスチャーによるテクスチャープロ
ファイルを示す図
ファイルを示す図
【図６】ＡＥ出力電圧測定器を用いたグライド保証の実
験を示す図
験を示す図
【図７】本実施例のＡＥ出力のカウント数と交差角θの
関係を示すグラフ
関係を示すグラフ
【図８】本実施例のコンタクト スタート ストッ
プ２万回後の動摩擦係数μと交差角θの関係を示すグラ
フ
プ２万回後の動摩擦係数μと交差角θの関係を示すグラ
フ
【図９】ディスク表面に存在する円周方向に対して角
度３度〜９度のテクスチャーラインの割合とコンタクト
スタート ストップ２万回後の動摩擦係数μの値
の関係を示すグラフ
度３度〜９度のテクスチャーラインの割合とコンタクト
スタート ストップ２万回後の動摩擦係数μの値
の関係を示すグラフ
【図１０】本実施例の静止摩擦係数の上昇量δμｓとテ
クスチャーラインの交差角θの関係を示すグラフ
クスチャーラインの交差角θの関係を示すグラフ
【図１
１】従来の磁気ディスクの磁気ヘッド浮上量と動摩擦係
数μの関係を示すグラフ
１】従来の磁気ディスクの磁気ヘッド浮上量と動摩擦係
数μの関係を示すグラフ
１ 基板
２ Ｎｉ−Ｐ膜
３ Ｃｒ下地膜
４ 磁性薄膜
５ カーボン保護膜
６ 潤滑膜
７ テクスチャー
８ テクスチャー
９ テクスチャー
１０ 磁気ディスク
１１ 磁気ヘッド
１２ フレクシャー
１３ 固定部
１４ ＡＥ素子
Claims (2)
- 【請求項１】基板の表面にテクスチャーを形成し、前記
基板の表面上に少なくとも磁性薄膜と保護膜を順に積層
してなる磁気ディスクであって、基板表面に円周方向に
対して角度０度であるテクスチャーと円周方向に対して
３〜９度傾斜したテクスチャーを有する事を特徴とする
磁気ディスク。 - 【請求項２】全テクスチャーの内、傾斜したテクスチャ
ーの割合が５％〜５０％である事を特徴とする請求項１
記載の磁気ディスク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3111415A JP2543265B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | 磁気ディスク |
| US08/253,831 US5478622A (en) | 1991-05-16 | 1994-06-03 | Magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3111415A JP2543265B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | 磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04339312A true JPH04339312A (ja) | 1992-11-26 |
| JP2543265B2 JP2543265B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=14560593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3111415A Expired - Lifetime JP2543265B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | 磁気ディスク |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5478622A (ja) |
| JP (1) | JP2543265B2 (ja) |
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| JP2008090907A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、および磁気ディスク |
| JP2008176825A (ja) * | 2007-01-16 | 2008-07-31 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5478622A (en) | 1995-12-26 |
| JP2543265B2 (ja) | 1996-10-16 |
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