JP3199422B2 - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
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- JP3199422B2 JP3199422B2 JP31209191A JP31209191A JP3199422B2 JP 3199422 B2 JP3199422 B2 JP 3199422B2 JP 31209191 A JP31209191 A JP 31209191A JP 31209191 A JP31209191 A JP 31209191A JP 3199422 B2 JP3199422 B2 JP 3199422B2
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- Japan
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- magnetic disk
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- disk
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュ−タなどのデ
−タ記憶装置である磁気ディスク装置に用いられる磁気
ディスクに関するものである。
−タ記憶装置である磁気ディスク装置に用いられる磁気
ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、固定型の磁気ディスク装置に搭載
される基板としてアルミ合金基板，ガラス基板またはプ
ラスチック基板等が使用されているが現在はアルミ合金
基板が主流である。一般にアルミ合金基板上にＮｉ−Ｐ
メッキ処理後ポリッシュ加工を施し、その後円周方向に
基板表面を粗すテクスチャ−加工が施されている。テク
スチャ−加工の目的は基板上に設けられる磁性層に円周
方向に沿って磁気異方性を付けるとともに、表面を粗す
ことにより磁気ヘッドと磁気ディスク接触時の接触面積
を減らすことにより摩擦摩耗特性，吸着特性を向上させ
ることにある。
される基板としてアルミ合金基板，ガラス基板またはプ
ラスチック基板等が使用されているが現在はアルミ合金
基板が主流である。一般にアルミ合金基板上にＮｉ−Ｐ
メッキ処理後ポリッシュ加工を施し、その後円周方向に
基板表面を粗すテクスチャ−加工が施されている。テク
スチャ−加工の目的は基板上に設けられる磁性層に円周
方向に沿って磁気異方性を付けるとともに、表面を粗す
ことにより磁気ヘッドと磁気ディスク接触時の接触面積
を減らすことにより摩擦摩耗特性，吸着特性を向上させ
ることにある。
【０００３】一般の磁気ディスク装置はコンタクト・ス
タ−ト・ストップ方式（以下ＣＳＳ方式と略す）を採用
しており、装置停止時は磁気ヘッドと磁気ディスクは接
触状態である。そして、磁気ディスク装置が起動すると
磁気ヘッドと磁気ディスクは摺動し始め、磁気ディスク
が所定の回転数に達した時点で約０．２〜０．３μｍの
隙間を持って磁気ヘッドは磁気ディスク上を浮上する。
タ−ト・ストップ方式（以下ＣＳＳ方式と略す）を採用
しており、装置停止時は磁気ヘッドと磁気ディスクは接
触状態である。そして、磁気ディスク装置が起動すると
磁気ヘッドと磁気ディスクは摺動し始め、磁気ディスク
が所定の回転数に達した時点で約０．２〜０．３μｍの
隙間を持って磁気ヘッドは磁気ディスク上を浮上する。
【０００４】この様に磁気ディスクと磁気ヘッドが繰り
返し摺動することにより摩擦摩耗特性が劣化し、磁気デ
ィスクが損傷する場合もある。その為、磁気ディスク表
面に固体潤滑剤または液体潤滑剤を被覆するなどの対策
が行われている。しかし磁気ディスクに潤滑剤を塗布す
ることにより磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着を起こし
装置スタ−ト時に磁気ディスクを回転させるモ−タが回
転不可能になり磁気ヘッド，磁気ディスクに損傷を引き
起こす。
返し摺動することにより摩擦摩耗特性が劣化し、磁気デ
ィスクが損傷する場合もある。その為、磁気ディスク表
面に固体潤滑剤または液体潤滑剤を被覆するなどの対策
が行われている。しかし磁気ディスクに潤滑剤を塗布す
ることにより磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着を起こし
装置スタ−ト時に磁気ディスクを回転させるモ−タが回
転不可能になり磁気ヘッド，磁気ディスクに損傷を引き
起こす。
【０００５】従来よりテクスチャ−加工はメカニカルテ
クスチャ−加工が主流であり、加工材には研磨砥粒をテ
−プに固定保持したラッピングテ−プが用いられてい
る。そこで加工法としては磁気ディスク基板を回転させ
ながら研磨テ−プを押し付け加工することが行われてい
る。従来からテクスチャ−粗さを表す方法としては図８
に示すように中心線粗さＲａ（ここでＲａとはＪＩＳＢ
０６０１に規定された定義を用いる。），中心線Ｏから
最大凸部までの高さＲｐ，中心線Ｏから最大凹部まで深
さＲｖ，凸部の高さの最大値から最小値までの幅δｈ及
び半径方向に５０μｍの範囲での凸部の数などがある。
図９に示すように従来テクスチャ−ではＲａが約８０〜
１００Å，Ｒｐ／Ｒｖ＞０．５，δｈ＞２００Åでしか
も凸部の数は１００個前後になっている。ところが近
年、磁気ディスク装置は高密度化・大容量化の要請が強
く、そのため磁気ヘッドの浮上量が低下しており、現在
では約０．１μｍ以下にまで達しようとしている。その
ため磁気ディスクの表面粗さＲａを極力小さくしても吸
着しないようなテクスチャ−の開発が試みられている。
クスチャ−加工が主流であり、加工材には研磨砥粒をテ
−プに固定保持したラッピングテ−プが用いられてい
る。そこで加工法としては磁気ディスク基板を回転させ
ながら研磨テ−プを押し付け加工することが行われてい
る。従来からテクスチャ−粗さを表す方法としては図８
に示すように中心線粗さＲａ（ここでＲａとはＪＩＳＢ
０６０１に規定された定義を用いる。），中心線Ｏから
最大凸部までの高さＲｐ，中心線Ｏから最大凹部まで深
さＲｖ，凸部の高さの最大値から最小値までの幅δｈ及
び半径方向に５０μｍの範囲での凸部の数などがある。
図９に示すように従来テクスチャ−ではＲａが約８０〜
１００Å，Ｒｐ／Ｒｖ＞０．５，δｈ＞２００Åでしか
も凸部の数は１００個前後になっている。ところが近
年、磁気ディスク装置は高密度化・大容量化の要請が強
く、そのため磁気ヘッドの浮上量が低下しており、現在
では約０．１μｍ以下にまで達しようとしている。その
ため磁気ディスクの表面粗さＲａを極力小さくしても吸
着しないようなテクスチャ−の開発が試みられている。
【０００６】
【発明が解決しょうとする課題】しかしながら従来技術
では磁気ヘッド浮上量０．１μｍ以下の低浮上でＣＳＳ
試験を行った場合、磁気ヘッドの摺動時間と摺動距離が
増加し磁気ディスク表面が摩耗しヘッドクラッシュが生
じてしまう問題点があった。それに加え磁気ヘッドの浮
上量を０．１μｍ以下で安定して浮上させる為に磁気デ
ィスクのテクスチャ−粗さＲａは極力小さくされており
従来技術ではＣＳＳ特性が劣化しないような潤滑膜厚で
は磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着し装置が回転不可能
になる問題点があった。
では磁気ヘッド浮上量０．１μｍ以下の低浮上でＣＳＳ
試験を行った場合、磁気ヘッドの摺動時間と摺動距離が
増加し磁気ディスク表面が摩耗しヘッドクラッシュが生
じてしまう問題点があった。それに加え磁気ヘッドの浮
上量を０．１μｍ以下で安定して浮上させる為に磁気デ
ィスクのテクスチャ−粗さＲａは極力小さくされており
従来技術ではＣＳＳ特性が劣化しないような潤滑膜厚で
は磁気ヘッドと磁気ディスクが吸着し装置が回転不可能
になる問題点があった。
【０００７】本発明は前記従来の問題点を解決するもの
で、磁気ヘッド浮上量０．１μｍ以下の低浮上量におい
てもＣＳＳ特性が劣化せず、しかも浮上特性及び吸着特
性に優れた磁気ディスクを提供することを目的とする。
で、磁気ヘッド浮上量０．１μｍ以下の低浮上量におい
てもＣＳＳ特性が劣化せず、しかも浮上特性及び吸着特
性に優れた磁気ディスクを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
にテクスチャ−の凸部の高さの最大値と最小値の差を５
０〜１１０Åにするとともに半径方向に凸部の数が５０
μｍの範囲で１５０〜２３０個であり、最も高い凸部の
高さＲｐと最も低い凹部の深さＲｖの比Ｒｐ／Ｒｖが
０．１〜０．３の範囲に入る様にした。
にテクスチャ−の凸部の高さの最大値と最小値の差を５
０〜１１０Åにするとともに半径方向に凸部の数が５０
μｍの範囲で１５０〜２３０個であり、最も高い凸部の
高さＲｐと最も低い凹部の深さＲｖの比Ｒｐ／Ｒｖが
０．１〜０．３の範囲に入る様にした。
【０００９】
【作用】この構成により、異常突起の発生がなく、磁気
ディスクとの摺動面の表面積を大きくすることができ
る。
ディスクとの摺動面の表面積を大きくすることができ
る。
【００１０】
【実施例】図１は本発明の一実施例における磁気ディス
ク媒体の断面図を示す。図１において１は基板で、基板
１は直径３．５インチのアルミ合金基板２にラップ加工
を施し、その上にＮｉ−Ｐメッキ膜３を１５〜２０μｍ
被覆させた構成となっている。この基板１にポリッシュ
加工を施し鏡面仕上げした後、アルミナ砥粒が塗布され
たラッピングテ−プを用いて円周方向に溝を形成するテ
クスチャ−加工を施した。その後ＤＣマグネトロンスパ
ッタ法によりＣｒ下地膜４，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ磁性膜
５，カ−ボン保護膜６を順次被着し更に潤滑膜７を被覆
した。
ク媒体の断面図を示す。図１において１は基板で、基板
１は直径３．５インチのアルミ合金基板２にラップ加工
を施し、その上にＮｉ−Ｐメッキ膜３を１５〜２０μｍ
被覆させた構成となっている。この基板１にポリッシュ
加工を施し鏡面仕上げした後、アルミナ砥粒が塗布され
たラッピングテ−プを用いて円周方向に溝を形成するテ
クスチャ−加工を施した。その後ＤＣマグネトロンスパ
ッタ法によりＣｒ下地膜４，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ磁性膜
５，カ−ボン保護膜６を順次被着し更に潤滑膜７を被覆
した。
【００１１】図２に本実施例のテクスチャ−作製装置を
示す。本実施例のテクスチャ−は基板１を１００〜３０
０ｒｐｍの回転数で回転させながら各粒度のアルミナ砥
粒が塗布されたラッピングテ−プ８を０〜５０ｃｍ／ｓ
の揺動速度をもってディスク上にコンタクトロ−ル９を
介して０．５〜１．５Ｋｇ／ｃｍ2の圧力で３０ｓ間押
し当てることにより作製した。Ｒａの変化に対してはラ
ッピングテ−プ塗布砥粒の粒度を変化させることにより
又、δｈ（凸部の高さの最大値から最小値までの幅）を
変化させたサンプル，Ｒｐ／Ｒｖを変化させたサンプル
及び凸部の数（半径方向の長さ５０μｍの範囲に対し
て）を変化させたサンプルについては揺動速度と回転数
を変化させることにより作製した。テクスチャ−粗さ測
定に関しては、ランクテ−ラ−ホブソン社製のタリステ
ップにより測定を行った。測定条件はスタイラス径：
０．１×２．５μｍ，測定長：５０μｍ，カットオフ周
波数：２５Ｈｚである。
示す。本実施例のテクスチャ−は基板１を１００〜３０
０ｒｐｍの回転数で回転させながら各粒度のアルミナ砥
粒が塗布されたラッピングテ−プ８を０〜５０ｃｍ／ｓ
の揺動速度をもってディスク上にコンタクトロ−ル９を
介して０．５〜１．５Ｋｇ／ｃｍ2の圧力で３０ｓ間押
し当てることにより作製した。Ｒａの変化に対してはラ
ッピングテ−プ塗布砥粒の粒度を変化させることにより
又、δｈ（凸部の高さの最大値から最小値までの幅）を
変化させたサンプル，Ｒｐ／Ｒｖを変化させたサンプル
及び凸部の数（半径方向の長さ５０μｍの範囲に対し
て）を変化させたサンプルについては揺動速度と回転数
を変化させることにより作製した。テクスチャ−粗さ測
定に関しては、ランクテ−ラ−ホブソン社製のタリステ
ップにより測定を行った。測定条件はスタイラス径：
０．１×２．５μｍ，測定長：５０μｍ，カットオフ周
波数：２５Ｈｚである。
【００１２】先ず信頼性試験として浮上試験を行った結
果を図３，図４に示す。浮上試験としては磁気ヘッドを
０．０６μｍの浮上量で磁気ディスク上に浮上させ半径
２０ｍｍ〜４５ｍｍまでシ−クさせた時のヘッド・ディ
スク間の接触をＡＥ（アコ−スティックエミッション）
センサ−にて感知しコンピュ−タによりヒット数をカウ
ントさせた。図３のサンプルとしてはδｈを変化させた
サンプルであり、図４はＲｐ／Ｒｖを変化させたサンプ
ルでともにＲａは６０Åである。
果を図３，図４に示す。浮上試験としては磁気ヘッドを
０．０６μｍの浮上量で磁気ディスク上に浮上させ半径
２０ｍｍ〜４５ｍｍまでシ−クさせた時のヘッド・ディ
スク間の接触をＡＥ（アコ−スティックエミッション）
センサ−にて感知しコンピュ−タによりヒット数をカウ
ントさせた。図３のサンプルとしてはδｈを変化させた
サンプルであり、図４はＲｐ／Ｒｖを変化させたサンプ
ルでともにＲａは６０Åである。
【００１３】図３においてδｈが１５０Å越えると急に
ヒット数が増加するのが分かる。これは基板の粗さが同
じでもテクスチャ−凸部のばらつき（δｈ）が少ないと
磁気ヘッドが低浮上している時ヘッド・ディスク間の接
触する確率が少ないので安定して浮上しシ−クできる為
である。また図４においてはＲｐ／Ｒｖが０．５を越え
る辺りから急激にＡＥヒット数が増加することが分か
る。これはＲｐ／Ｒｖが大きくなることにより異常な突
起が増加しヘッド・ディスク間の接触する確率が増える
為ＡＥヒット数も増加する。これらのことより低浮上で
安定してシ−クするためには基板に設けられたテクスチ
ャの粗さとしてδｈを約１５０Å以下及びＲｐ／Ｒｖを
０．５以下にする必要がある。
ヒット数が増加するのが分かる。これは基板の粗さが同
じでもテクスチャ−凸部のばらつき（δｈ）が少ないと
磁気ヘッドが低浮上している時ヘッド・ディスク間の接
触する確率が少ないので安定して浮上しシ−クできる為
である。また図４においてはＲｐ／Ｒｖが０．５を越え
る辺りから急激にＡＥヒット数が増加することが分か
る。これはＲｐ／Ｒｖが大きくなることにより異常な突
起が増加しヘッド・ディスク間の接触する確率が増える
為ＡＥヒット数も増加する。これらのことより低浮上で
安定してシ−クするためには基板に設けられたテクスチ
ャの粗さとしてδｈを約１５０Å以下及びＲｐ／Ｒｖを
０．５以下にする必要がある。
【００１４】次にＣＳＳ試験を行った。結果を図５，図
６に示す。ＣＳＳ試験は周速９ｍ／ｓで約０．１μｍの
ウインチェスタ−モノリシックマイクロスライダ−を使
用して、半径２５ｍｍ，回転数３６００ｒｐｍ，立ち上
がり１０ｓ，立ち下がり２０ｓのパティＣＳＳ装置にて
２万回後の動摩擦係数μＫの値を測定した。
６に示す。ＣＳＳ試験は周速９ｍ／ｓで約０．１μｍの
ウインチェスタ−モノリシックマイクロスライダ−を使
用して、半径２５ｍｍ，回転数３６００ｒｐｍ，立ち上
がり１０ｓ，立ち下がり２０ｓのパティＣＳＳ装置にて
２万回後の動摩擦係数μＫの値を測定した。
【００１５】図５のサンプルとしては図３のサンプルと
同じものを用い、図６のサンプルとしては５０μｍの範
囲での凸部の数を変化させたものであり、ともにＲａは
６０Åである。図５においてδｈが約２００Åを越すあ
たりから２万回後のμＫは０．３以上になり摩耗特性が
劣化するのが分かる。これは磁気ヘッドが低浮上してい
る時、δｈが大きければ大きいほどヘッドがディスク上
の凸部の高い部分に衝突する時の衝撃が大きくなり摩耗
しやすくなりヘッドクラッシュする可能性がある。そこ
でδｈが約２００Å以下であれば異常に突出した突起物
がないのでＣＳＳ時に磁気ヘッドが磁気ディスク上に離
陸，着陸する際の衝激が小さく摩耗しにくくなり、磁気
ヘッドの低浮上化におけるＣＳＳ特性を満足することが
できる。また図６においては凸部の数が約１５０個以下
になると摩耗特性が劣化するのが分かる。これは凸部の
数はディスクの表面積に対応し多いほど表面積が大きい
と言うことである。そこで表面積が大きいとヘッド・デ
ィスク間の接触面積が減少するため摩耗特性が向上す
る。低浮上化におけるＣＳＳ特性を満足する為には凸部
の数は約１５０個以上が望ましい。
同じものを用い、図６のサンプルとしては５０μｍの範
囲での凸部の数を変化させたものであり、ともにＲａは
６０Åである。図５においてδｈが約２００Åを越すあ
たりから２万回後のμＫは０．３以上になり摩耗特性が
劣化するのが分かる。これは磁気ヘッドが低浮上してい
る時、δｈが大きければ大きいほどヘッドがディスク上
の凸部の高い部分に衝突する時の衝撃が大きくなり摩耗
しやすくなりヘッドクラッシュする可能性がある。そこ
でδｈが約２００Å以下であれば異常に突出した突起物
がないのでＣＳＳ時に磁気ヘッドが磁気ディスク上に離
陸，着陸する際の衝激が小さく摩耗しにくくなり、磁気
ヘッドの低浮上化におけるＣＳＳ特性を満足することが
できる。また図６においては凸部の数が約１５０個以下
になると摩耗特性が劣化するのが分かる。これは凸部の
数はディスクの表面積に対応し多いほど表面積が大きい
と言うことである。そこで表面積が大きいとヘッド・デ
ィスク間の接触面積が減少するため摩耗特性が向上す
る。低浮上化におけるＣＳＳ特性を満足する為には凸部
の数は約１５０個以上が望ましい。
【００１６】図６のサンプルについて吸着試験を行った
結果を図７に示す。吸着試験としては実際のハ−ドディ
スクドライブに磁気ディスク２枚，磁気ヘッド４個組み
込むことにより測定を行った。試験環境は６０℃，８０
％ＲＨの高温高湿環境下に２４時間放置後の静止摩擦係
数の上昇δμｓを測定した。
結果を図７に示す。吸着試験としては実際のハ−ドディ
スクドライブに磁気ディスク２枚，磁気ヘッド４個組み
込むことにより測定を行った。試験環境は６０℃，８０
％ＲＨの高温高湿環境下に２４時間放置後の静止摩擦係
数の上昇δμｓを測定した。
【００１７】図７において半径方向に沿って５０μｍの
長さの範囲の凸部の数が約１００〜１５０個以下になる
と吸着傾向を示しており５０個以下になるとδμｓが
０．２以上になり磁気ディスクを回転させるモ−タが回
転困難になる。これもＣＳＳ時と同様凸部の数が多くな
ることによりディスク表面積が増加し装置停止時のヘッ
ド・ディスク間の接触面積を減少させることによる吸着
特性の向上である。
長さの範囲の凸部の数が約１００〜１５０個以下になる
と吸着傾向を示しており５０個以下になるとδμｓが
０．２以上になり磁気ディスクを回転させるモ−タが回
転困難になる。これもＣＳＳ時と同様凸部の数が多くな
ることによりディスク表面積が増加し装置停止時のヘッ
ド・ディスク間の接触面積を減少させることによる吸着
特性の向上である。
【００１８】以上の様に本実施例では、基板１に設けら
れたテクスチャの粗さとしてテクスチャ−の凸部の高さ
の最大値から最小値までの幅δｈを５０〜１１０Åにす
るとともに最も高い凸部の高さＲｐと最も低い凹部の深
さＲｖの比Ｒｐ／Ｒｖを０．１〜０．３にすることによ
って、低浮上で安定してシ−クすることができる。また
δｈを５０〜１１０Åにするとともに半径方向の５０μ
ｍの範囲の凸部の数が１５０〜２３０個であれば異常に
突出した突起物がなく、さらに磁気ディスクの表面積が
大きくなるので、ＣＳＳ時に磁気ヘッドが磁気ディスク
上に離陸、着陸する際の衝撃が小さく摩耗しにくくな
り、磁気ヘッドの低浮上化におけるＣＳＳ特性を満足す
ることができる。さらにδｈを５０〜１１０Åにすると
ともに半径方向に凸部の数を５０μｍの範囲で１５０〜
２３０個とし、Ｒｐ／Ｒｖが０．１〜０．３の範囲に入
る様にすることにより、シーク時の安定した浮上と摩耗
及び吸着特性（ＣＳＳ特性）を同時に満たすことができ
る。
れたテクスチャの粗さとしてテクスチャ−の凸部の高さ
の最大値から最小値までの幅δｈを５０〜１１０Åにす
るとともに最も高い凸部の高さＲｐと最も低い凹部の深
さＲｖの比Ｒｐ／Ｒｖを０．１〜０．３にすることによ
って、低浮上で安定してシ−クすることができる。また
δｈを５０〜１１０Åにするとともに半径方向の５０μ
ｍの範囲の凸部の数が１５０〜２３０個であれば異常に
突出した突起物がなく、さらに磁気ディスクの表面積が
大きくなるので、ＣＳＳ時に磁気ヘッドが磁気ディスク
上に離陸、着陸する際の衝撃が小さく摩耗しにくくな
り、磁気ヘッドの低浮上化におけるＣＳＳ特性を満足す
ることができる。さらにδｈを５０〜１１０Åにすると
ともに半径方向に凸部の数を５０μｍの範囲で１５０〜
２３０個とし、Ｒｐ／Ｒｖが０．１〜０．３の範囲に入
る様にすることにより、シーク時の安定した浮上と摩耗
及び吸着特性（ＣＳＳ特性）を同時に満たすことができ
る。
【００１９】
【発明の効果】本発明はテクスチャ−加工を施した非磁
性基板上に少なくとも磁性層を設け、かつ浮上量が０．
１μｍ以下の磁気ヘッドと共に用いるための磁気ディス
クにおいて、テクスチャーの凸部の高さの最大値と最小
値の差を５０〜１１０Åにするとともに、半径方向に沿
った長さ５０μｍの範囲の凸の数を１５０〜２３０個と
し、または／およびＲｐ／Ｒｖを０．１〜０．３にした
ことにより異常突起の発生を防ぐことができ磁気ヘッド
が０．１μｍ以下の低浮上量で安定浮上できる。
性基板上に少なくとも磁性層を設け、かつ浮上量が０．
１μｍ以下の磁気ヘッドと共に用いるための磁気ディス
クにおいて、テクスチャーの凸部の高さの最大値と最小
値の差を５０〜１１０Åにするとともに、半径方向に沿
った長さ５０μｍの範囲の凸の数を１５０〜２３０個と
し、または／およびＲｐ／Ｒｖを０．１〜０．３にした
ことにより異常突起の発生を防ぐことができ磁気ヘッド
が０．１μｍ以下の低浮上量で安定浮上できる。
【００２０】しかも異常な突起がないのでＣＳＳ時のヘ
ッド・ディスク間の衝撃が小さくテクスチャ−溝の密度
が大きい為ヘッド・ディスク間の接触面積が小さくなる
ことにＣＳＳ特性及び吸着特性が向上する。すなわち磁
気ヘッドの低浮上化における高信頼性のディスクが提供
できる。
ッド・ディスク間の衝撃が小さくテクスチャ−溝の密度
が大きい為ヘッド・ディスク間の接触面積が小さくなる
ことにＣＳＳ特性及び吸着特性が向上する。すなわち磁
気ヘッドの低浮上化における高信頼性のディスクが提供
できる。
【００２１】
【００２２】
【図１】本発明の一実施例の磁気ディスクを示す断面図
【００２３】
【図２】本実施例のテクスチャ−作製加工装置を示す図
【００２４】
【図３】凸部のばらつき（δｈ）とＡＥヒット数を示す
図
図
【００２５】
【図４】Ｒｐ／ＲｖとＡＥヒット数を示す図
【００２６】
【図５】凸部のばらつき（δｈ）とＣＳＳ２万回後の動
摩擦係数μＫを示す図
摩擦係数μＫを示す図
【００２７】
【図６】凸部の数とＣＳＳ２万回後の動摩擦係数μＫを
示す図
示す図
【００２８】
【図７】凸部の数と高温高湿環境下に２４時間放置後の
静止摩擦係数の上昇δμｓを示す図
静止摩擦係数の上昇δμｓを示す図
【００２９】
【図８】テクスチャ−粗さの表記法を示す図
【００３０】
【図９】従来テクスチャ−の半径方向のプロファイルを
示す図
示す図
【００３１】
１ 基板 ２ アルミ合金基板 ３ Ｎｉ−Ｐメッキ膜 ４ Ｃｒ下地膜 ５ Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ磁性膜 ６ カ−ボン保護膜 ７ 潤滑膜 ８ ラッピングテ−プ ９ コンタクトロ−ル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/82 G11B 5/84
Claims (3)
- 【請求項１】テクスチャ−加工を施した非磁性基板上に
少なくとも磁性層を設け、かつ浮上量が０．１μｍ以下
の磁気ヘッドと共に用いるための磁気ディスクであっ
て、テクスチャ−の凸部の高さの最大値と最小値の差が
５０〜１１０Åであるとともに半径方向に沿った長さ５
０μｍの範囲内での凸部の数が１５０〜２３０個である
ことを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項２】テクスチャー加工を施した非磁性基板上に
少なくとも磁性層を設け、かつ浮上量が０．１μｍ以下
の磁気ヘッドと共に用いるための磁気ディスクであっ
て、テクスチャ−の凸部の高さの最大値と最小値の差が
５０〜１１０Åであるとともに最も高い凸部の高さＲｐ
と最も低い凹部の深さＲｖの比Ｒｐ／Ｒｖが０．１〜
０．３であることを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項３】テクスチャー加工を施した非磁性基板上に
少なくとも磁性層を設け、かつ浮上量が０．１μｍ以下
の磁気ヘッドと共に用いるための磁気ディスクであっ
て、テクスチャ−の凸部の高さの最大値と最小値の差が
５０〜１１０Åであるとともに半径方向に沿った長さ５
０μｍの範囲で凸部の数が１５０〜２３０個であり、し
かも最も高い凸部の高さＲｐと最も低い凹部の深さＲｖ
の比Ｒｐ／Ｒｖが０．１〜０．３であることを特徴とす
る磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31209191A JP3199422B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31209191A JP3199422B2 (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05151556A JPH05151556A (ja) | 1993-06-18 |
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Family
ID=18025127
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP3199422B2 (ja) |
-
1991
- 1991-11-27 JP JP31209191A patent/JP3199422B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPH05151556A (ja) | 1993-06-18 |
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