JPS6151619A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6151619A JPS6151619A JP17315784A JP17315784A JPS6151619A JP S6151619 A JPS6151619 A JP S6151619A JP 17315784 A JP17315784 A JP 17315784A JP 17315784 A JP17315784 A JP 17315784A JP S6151619 A JPS6151619 A JP S6151619A
- Authority
- JP
- Japan
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- substrate
- magnetic
- magnetic layer
- layer
- thin film
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁性層が安定化され、ヘッドに対する摩擦係
数が小さい磁気記録媒体、さらに詳しくいえば、本発明
はあらかじめ形成された線状開口部により製造時に生じ
る内部ひずみを緩和して、使用時に往々にして発生する
望ましくないクラックを防止すると共に、ヘッドとの接
角虫摩擦を減少させたコンタクト・スタート・ストップ
方式の磁気ディスク用磁性記録媒体に関するものである
。
数が小さい磁気記録媒体、さらに詳しくいえば、本発明
はあらかじめ形成された線状開口部により製造時に生じ
る内部ひずみを緩和して、使用時に往々にして発生する
望ましくないクラックを防止すると共に、ヘッドとの接
角虫摩擦を減少させたコンタクト・スタート・ストップ
方式の磁気ディスク用磁性記録媒体に関するものである
。
従来の技術
円板状アルミニウム基板の両面に下地層を介して磁性層
を設けた、いわゆる磁気ディスクは、コンタクト・スタ
ート・ストップ方式の磁性記録媒体としてよく知られて
いるが、これは従来、アルミニウム基板上にγ−フェラ
イト磁性粉とバインダーとの混合物を塗布する方法によ
って製造されていた。
を設けた、いわゆる磁気ディスクは、コンタクト・スタ
ート・ストップ方式の磁性記録媒体としてよく知られて
いるが、これは従来、アルミニウム基板上にγ−フェラ
イト磁性粉とバインダーとの混合物を塗布する方法によ
って製造されていた。
しかるに、近年、記録密度の大きい磁気ディスクが要望
されるようになり、それの達成のために磁性層の薄・層
化がはかられた結果、めっき、スパッタリング、イオン
ブレーティング、真空蒸着などによって基板上に形成さ
れる金属磁性層が、コーティング法による酸化鉄磁性層
に代わるものとして注目されつつある。
されるようになり、それの達成のために磁性層の薄・層
化がはかられた結果、めっき、スパッタリング、イオン
ブレーティング、真空蒸着などによって基板上に形成さ
れる金属磁性層が、コーティング法による酸化鉄磁性層
に代わるものとして注目されつつある。
この種の磁気ディスクは、通常アルミニウム又はその合
金から成る基板と、その上に施されたクロムやニッケル
ーリンなどから成る下地層と、さらにその上に設けられ
たコバルト−ニッケル合金、コバルト−ニッケルーリン
合金、コバルト−クロム合金などから成る磁性層で構成
されているが、保存中に生じる金属腐食、使用に際し、
スクート及びストップのたびに伴うヘッドとの衝突など
に起因する摩耗、各層間のはく離などにょシ、磁気特性
が経時的に変化するのを免れない。このため、金属磁性
層上に保護層を施して腐食や摩耗を防止したシ、基板を
熱処理してはく離を防止する方法が提案されているが（
特開昭５４−８９７０６号公報、特開昭５８−１６０６
７号公報）、マだ十分満足しうる結果は得られていない
。
金から成る基板と、その上に施されたクロムやニッケル
ーリンなどから成る下地層と、さらにその上に設けられ
たコバルト−ニッケル合金、コバルト−ニッケルーリン
合金、コバルト−クロム合金などから成る磁性層で構成
されているが、保存中に生じる金属腐食、使用に際し、
スクート及びストップのたびに伴うヘッドとの衝突など
に起因する摩耗、各層間のはく離などにょシ、磁気特性
が経時的に変化するのを免れない。このため、金属磁性
層上に保護層を施して腐食や摩耗を防止したシ、基板を
熱処理してはく離を防止する方法が提案されているが（
特開昭５４−８９７０６号公報、特開昭５８−１６０６
７号公報）、マだ十分満足しうる結果は得られていない
。
発明が解決しようとする問題点
ところで、磁気ディスクの劣化の原因の１つとして、基
板上に下地層や磁性層を形成する際に生じる内部ひずみ
によシ、磁気ディスクの使用中にクラックを発生し、磁
気特性をそこなうと共にこれが次第に拡大されて各層間
のはく離やディスク表面の破損をもたらすことを挙げる
ことができる。
板上に下地層や磁性層を形成する際に生じる内部ひずみ
によシ、磁気ディスクの使用中にクラックを発生し、磁
気特性をそこなうと共にこれが次第に拡大されて各層間
のはく離やディスク表面の破損をもたらすことを挙げる
ことができる。
したがって、このような各層間の内部ひずみを除去する
ことができれば、磁気ディスクの特性の向上し、かつ使
用寿命を著しく延長しうろことになる。
ことができれば、磁気ディスクの特性の向上し、かつ使
用寿命を著しく延長しうろことになる。
本発明の目的は、製造時に生じる下地層及び磁性層の内
部ひずみを緩和して、改良された特性と長い使用寿命を
もつ磁気ディスクを提供することである。
部ひずみを緩和して、改良された特性と長い使用寿命を
もつ磁気ディスクを提供することである。
問題点を解決するための手段
本発明者らは、磁気ディスクにおける下地層及び磁性層
の内部ひずみを緩和し、これに起因するクラック発生を
防止するために種々研究を重ねた結果、基板表面に多数
の研摩溝を設け、かつ下地層と磁性層とを薄層とするこ
とにより、磁性層から下地層にわたって、あらかじめ多
数の線状開口部を形成させることにより、その目的を達
成しうろことを見出し、この知見に基づき本発明をなす
に至った。
の内部ひずみを緩和し、これに起因するクラック発生を
防止するために種々研究を重ねた結果、基板表面に多数
の研摩溝を設け、かつ下地層と磁性層とを薄層とするこ
とにより、磁性層から下地層にわたって、あらかじめ多
数の線状開口部を形成させることにより、その目的を達
成しうろことを見出し、この知見に基づき本発明をなす
に至った。
すなわち、本発明は、円板状の非磁性硬質基板上に薄膜
下地層及び薄膜磁性層を有する磁気記録媒体において、
前記非磁性硬質基板表面に多数の研摩溝を設けると共に
、薄膜磁性層から薄膜下地層にわたって、前記研摩溝に
沿った多数の線状開口部を形成させたことを特徴とする
磁気記録媒体を提供するものである。
下地層及び薄膜磁性層を有する磁気記録媒体において、
前記非磁性硬質基板表面に多数の研摩溝を設けると共に
、薄膜磁性層から薄膜下地層にわたって、前記研摩溝に
沿った多数の線状開口部を形成させたことを特徴とする
磁気記録媒体を提供するものである。
本発明において用いられる基板の材料は、磁気ディスク
の基板として適当な非磁性硬質材料であればどのような
ものでもよく、レリえばアルミニウム、アルミニウムー
マクネシウム合金、５ＵＳ１黄銅のような非磁性金属、
アルミナ、シリカ、チタニアなどのセラミックス、エポ
キシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアラミド樹脂、
フッ素樹脂などの耐熱性プラスチックス及びこれらを炭
素繊維、ガラス繊維、金属繊維などで補強した繊維強化
プラスチックスを用いることができる。
の基板として適当な非磁性硬質材料であればどのような
ものでもよく、レリえばアルミニウム、アルミニウムー
マクネシウム合金、５ＵＳ１黄銅のような非磁性金属、
アルミナ、シリカ、チタニアなどのセラミックス、エポ
キシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアラミド樹脂、
フッ素樹脂などの耐熱性プラスチックス及びこれらを炭
素繊維、ガラス繊維、金属繊維などで補強した繊維強化
プラスチックスを用いることができる。
本発明においては、この非磁性硬質材料を円板状に成形
して用いるが、その表面に研摩溝を設けることが必要で
おる。この研摩溝は、［Ｆｉえは研摩布を回転している
基板上に押し付けることによシ容易に設けることができ
る。この研摩溝の形状は同心円状、遊星状、円弧状、交
叉状のいずれでもよく、またその寸法としては深さ０．
０１〜０．１μｍ１巾０．０１〜０．１μｍ が適当で
あり、各溝間の間隔は０．０３〜１，０μ口が適当でお
る。
して用いるが、その表面に研摩溝を設けることが必要で
おる。この研摩溝は、［Ｆｉえは研摩布を回転している
基板上に押し付けることによシ容易に設けることができ
る。この研摩溝の形状は同心円状、遊星状、円弧状、交
叉状のいずれでもよく、またその寸法としては深さ０．
０１〜０．１μｍ１巾０．０１〜０．１μｍ が適当で
あり、各溝間の間隔は０．０３〜１，０μ口が適当でお
る。
次に、この基板上に施す下地層の材料としては、ニッケ
ル、ニッケルーリン、クロム、バー１０イ、チタンなど
が用いられる。また、この上に設けられる磁性層の材料
としては、鉄、コバルト、クロム、ニッケルそれらの合
金及びそれらにケイ素、ホウ素、リン、バナジウム、ロ
ジウム、亜鉛、銅、銀、タングステン、マンガン希土類
などを添加したものなどが用いられる。
ル、ニッケルーリン、クロム、バー１０イ、チタンなど
が用いられる。また、この上に設けられる磁性層の材料
としては、鉄、コバルト、クロム、ニッケルそれらの合
金及びそれらにケイ素、ホウ素、リン、バナジウム、ロ
ジウム、亜鉛、銅、銀、タングステン、マンガン希土類
などを添加したものなどが用いられる。
この下地層及び磁性層を基板上に施す方法としては、め
っき、スパッタリング、イオングレーティング、真空蒸
着など従来磁気ディスクの製造に常用されている方法の
中から任意に選ぶことができるが、条件制御の容易な点
で磁性層の形成にはスパッタリングが有利である。
っき、スパッタリング、イオングレーティング、真空蒸
着など従来磁気ディスクの製造に常用されている方法の
中から任意に選ぶことができるが、条件制御の容易な点
で磁性層の形成にはスパッタリングが有利である。
本発明において、磁性層から下地層にわたって所望の線
状開口部を形成させるには、基板温度を１５０℃以上の
比較的高温に保ち、かつ磁性層と下地層とを合わせた厚
さが１μｍ以下になるように制御することが必要である
。
状開口部を形成させるには、基板温度を１５０℃以上の
比較的高温に保ち、かつ磁性層と下地層とを合わせた厚
さが１μｍ以下になるように制御することが必要である
。
従来の磁気ディスクにおいては、下地層の厚さが１０〜
５０ ｐｍ ’１磁性層の厚さが０．０２〜０．１ ｐ
ｍ程度であるが、このように厚みのある下地層及び磁性
層を設けた場合には、たとえ基板に研摩溝を設け、かつ
基板温度を高温に保って処理しても所望の線状開口部を
形成させることができない。
５０ ｐｍ ’１磁性層の厚さが０．０２〜０．１ ｐ
ｍ程度であるが、このように厚みのある下地層及び磁性
層を設けた場合には、たとえ基板に研摩溝を設け、かつ
基板温度を高温に保って処理しても所望の線状開口部を
形成させることができない。
このように、下地層と磁性層とを薄層とし、これらを形
成する際の基板温度を１５０℃以上とすることによシ、
製造後の温度降下により各層の収縮を生じ、適所に所望
の線状開口部が形成される。
成する際の基板温度を１５０℃以上とすることによシ、
製造後の温度降下により各層の収縮を生じ、適所に所望
の線状開口部が形成される。
図面は本発明磁気記録媒体の１例の断面斜視図である。
この図に示されるように、この線状開口部５はだいたい
基板１の研摩溝２に溢って形成されるが、必ずしも基板
１の研摩溝２と一致したものにする必要はなく、研摩溝
数本ごとに１本という間隔で設けられれば十分である。
基板１の研摩溝２に溢って形成されるが、必ずしも基板
１の研摩溝２と一致したものにする必要はなく、研摩溝
数本ごとに１本という間隔で設けられれば十分である。
その形状は連続状、不連続状のいずれでもよく、また磁
性層４の上面から下地層３の下面に達するもの、磁性層
４の上面から下地層３の中間部に達する・もの、磁性層
４の中間部から下地層３の中間部又は下面に達するもの
のいずれでもよい。この線状開口部５の巾は、磁気ディ
スクと共に使用される磁気ヘッドのギャノフの４以下に
するのが望ましい。
性層４の上面から下地層３の下面に達するもの、磁性層
４の上面から下地層３の中間部に達する・もの、磁性層
４の中間部から下地層３の中間部又は下面に達するもの
のいずれでもよい。この線状開口部５の巾は、磁気ディ
スクと共に使用される磁気ヘッドのギャノフの４以下に
するのが望ましい。
本発明の磁気記録媒体には、所望に応じ、耐食性、耐摩
耗性を向上させ、摩擦係数を小さくするため、従来の場
合と同様に磁性層上に保護層を設けることもできる。こ
の保護層の材料としては、例えばカーボン、石英、アル
ミナ、タングステン、モリブデン又はタングステンやモ
リブデンの硫化物などが用いられる。この保護層の厚さ
としては、０．０１〜０．２μｍ程度で十分である。
耗性を向上させ、摩擦係数を小さくするため、従来の場
合と同様に磁性層上に保護層を設けることもできる。こ
の保護層の材料としては、例えばカーボン、石英、アル
ミナ、タングステン、モリブデン又はタングステンやモ
リブデンの硫化物などが用いられる。この保護層の厚さ
としては、０．０１〜０．２μｍ程度で十分である。
発明の効果
本発明の磁気記録媒体は、下地層及び磁性層における内
部ひずみが緩和されているため、これが安定化したクラ
ックや各層間のはく離を生じることがなく、また表面が
適度に粗面化されるところから磁気ヘッドに対する摩擦
係数が低下し、コンタクトｅスタート１ストップ（以下
Ｃ８Ｓと略す）が改善されるという利点を有する。
部ひずみが緩和されているため、これが安定化したクラ
ックや各層間のはく離を生じることがなく、また表面が
適度に粗面化されるところから磁気ヘッドに対する摩擦
係数が低下し、コンタクトｅスタート１ストップ（以下
Ｃ８Ｓと略す）が改善されるという利点を有する。
実施例
次に実施列によって本発明をさらに詳細に説明する。
実施列１
円板状のアルミニウムーマグネシウム合金（ＡＡ５０８
６）を荒研磨後、研摩布を用いてその表面に同心円状の
研摩溝を形成した。この研摩溝は、深さ０．０２〜０．
０３ ｐｍ 、巾０．０５〜０．０７ μｍ、間隔０．
１〜０．８ μｍでらった。次にこれをフロン洗浄及び
超音波洗浄したのち、基板温度１６０〜１７０℃に保持
し、マグネトロンスパッタリングを行って、基板上に０
．３μｍ厚のクロム下地層と０．０６μｍ厚のＣ！ｏ、
。
６）を荒研磨後、研摩布を用いてその表面に同心円状の
研摩溝を形成した。この研摩溝は、深さ０．０２〜０．
０３ ｐｍ 、巾０．０５〜０．０７ μｍ、間隔０．
１〜０．８ μｍでらった。次にこれをフロン洗浄及び
超音波洗浄したのち、基板温度１６０〜１７０℃に保持
し、マグネトロンスパッタリングを行って、基板上に０
．３μｍ厚のクロム下地層と０．０６μｍ厚のＣ！ｏ、
。
Ｎｉ２□磁性層を設けた。
このようにして巾約０．３μｍの同心円状線状開口部を
約５μｍ間隔で有する磁気ディスクが得られた。
約５μｍ間隔で有する磁気ディスクが得られた。
次いでこの上にスパッタリングによｐ、０．０２２℃厚
のカーボン保護層を設けたのち、この磁気ディスクを用
いて、常法に従いａＳＳ試験を行った。その結果を以下
に示す。
のカーボン保護層を設けたのち、この磁気ディスクを用
いて、常法に従いａＳＳ試験を行った。その結果を以下
に示す。
ａＳＳ回数 出力低下
ｉ ｏ、ｏ ｏ ｏ なし２０．０００
なし ３０．０００ なし ５０．０００ １２％低下比較レし１ 実施例１と同じアルミニウムーマグネシウム合金から成
る基板に、実施列１と同様の研摩溝を形成させ、基板温
度を１２０℃に保持し、マグネトロンスパッタリングに
より５μｍ厚のクロム下地層及び０．０６μｍ厚のＣｏ
７８Ｎｉ□２ 磁性層を設けた。このものは実質上、線
状開口部を有していない。
なし ３０．０００ なし ５０．０００ １２％低下比較レし１ 実施例１と同じアルミニウムーマグネシウム合金から成
る基板に、実施列１と同様の研摩溝を形成させ、基板温
度を１２０℃に保持し、マグネトロンスパッタリングに
より５μｍ厚のクロム下地層及び０．０６μｍ厚のＣｏ
７８Ｎｉ□２ 磁性層を設けた。このものは実質上、線
状開口部を有していない。
このようにして得た磁気ディスクの表面に０．０２２℃
厚の保護層を設けたものについて、Ｃ８Ｓ試験を行った
。その結果を以下の表に示す。
厚の保護層を設けたものについて、Ｃ８Ｓ試験を行った
。その結果を以下の表に示す。
ａｓｓ回数 出力低下
１０．０００ なし
２０．０００ なし
３０．０００ ９％低下
５０．０００ ２８％低下比較し１１２
実施列１と同じアルミニウムーマグネシウム合金から成
る基板に、研摩溝を付することなく４μｍ厚のクロム下
地層を設けた。次にこのクロム下地層の上に研摩布を用
いて巾０．０５μｍの遊星状の研摩溝を付し、その上に
実施列１と同じ材料、同じ厚さの磁性層を設けた。
る基板に、研摩溝を付することなく４μｍ厚のクロム下
地層を設けた。次にこのクロム下地層の上に研摩布を用
いて巾０．０５μｍの遊星状の研摩溝を付し、その上に
実施列１と同じ材料、同じ厚さの磁性層を設けた。
このようにして、上記の研摩溝に清って巾平均０．３μ
ｍ１間隔平均４．５μｍの線状開口部を磁性層のみに有
する磁気ディスクを得た。
ｍ１間隔平均４．５μｍの線状開口部を磁性層のみに有
する磁気ディスクを得た。
次いでこの上に０．０２μｍ厚のカーボン保護層を設け
たのち、Ｃ８Ｓ試験を行った。その結果を以下に示す。
たのち、Ｃ８Ｓ試験を行った。その結果を以下に示す。
ａｓｓ回数 出力低下
１０．０００ なし
２０．０００ なし
３０．０００ ４％低下
５０．０００ ２３チ低下実施レリ２
エポキシ樹脂６５重量％とガラス繊維３５重量％から成
る繊維強化プラスチックスをもって４０朋φの内孔を有
する径１３０ｍｍφ、厚さ１．５ ｍｍの円板を作製し
、全体が２５ｍｍ厚になるようにエポキシ樹脂層で被覆
したのち、研摩して２．３ ｒｒｕｎ厚の鏡面を有する
円板状基板を得た。
る繊維強化プラスチックスをもって４０朋φの内孔を有
する径１３０ｍｍφ、厚さ１．５ ｍｍの円板を作製し
、全体が２５ｍｍ厚になるようにエポキシ樹脂層で被覆
したのち、研摩して２．３ ｒｒｕｎ厚の鏡面を有する
円板状基板を得た。
次にこの基板表面に、実施シリ１と同様にして深さ０．
０２〜０．０３ ｐｍ 、巾０．０５〜０．０７ ｐｒ
ｎ、間隔０．１〜０８μｍの研摩溝を形成し、その上に
実施列１と同じ下地層と磁性層を設けた。
０２〜０．０３ ｐｍ 、巾０．０５〜０．０７ ｐｒ
ｎ、間隔０．１〜０８μｍの研摩溝を形成し、その上に
実施列１と同じ下地層と磁性層を設けた。
このようにして、巾約０．５μｍ１間隔約３．５μｍの
同心円状の線状開口部を有する磁気ディスクを得た。
同心円状の線状開口部を有する磁気ディスクを得た。
このものの上に０．０２μｍ厚のカーボン保護層を設け
、Ｃ８Ｓ試験を行った。その結果を以下に示す。
、Ｃ８Ｓ試験を行った。その結果を以下に示す。
ａｓｓ回数 出力低下
１０．０００ なし
２０．０００ なし
３０．０００ １％低下
５０．０００ １８チ低下
図面は、本発明磁気記録媒体の構造を示す断面斜視図で
あり、図中符号１は基板、３は下地層、４は磁性層、５
は線状開口部でおる。
あり、図中符号１は基板、３は下地層、４は磁性層、５
は線状開口部でおる。
Claims (1)
- １ 円板状の非磁性硬質基板上に薄膜下地層及び薄膜磁
性層を有する磁気記録媒体において、前記非磁性硬質基
板表面に多数の研摩溝を設けると共に薄膜磁性層から薄
膜下地層にわたって、前記研摩溝に沿った多数の線状開
口部を形成させたことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17315784A JPS6151619A (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17315784A JPS6151619A (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6151619A true JPS6151619A (ja) | 1986-03-14 |
Family
ID=15955155
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17315784A Pending JPS6151619A (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6151619A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62219227A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-26 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| JPS63217525A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-09-09 | コマッグ・インコーポレイテッド | 磁気ディスク構造及びその製造方法 |
| JPS63228414A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-22 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 磁気デイスク基板およびその製造方法 |
| US5478622A (en) * | 1991-05-16 | 1995-12-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic disk |
-
1984
- 1984-08-22 JP JP17315784A patent/JPS6151619A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62219227A (ja) * | 1986-03-19 | 1987-09-26 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| JPS63217525A (ja) * | 1987-02-25 | 1988-09-09 | コマッグ・インコーポレイテッド | 磁気ディスク構造及びその製造方法 |
| JPS63228414A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-22 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 磁気デイスク基板およびその製造方法 |
| US5478622A (en) * | 1991-05-16 | 1995-12-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic disk |
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