JPH0770050B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH0770050B2 JPH0770050B2 JP62207633A JP20763387A JPH0770050B2 JP H0770050 B2 JPH0770050 B2 JP H0770050B2 JP 62207633 A JP62207633 A JP 62207633A JP 20763387 A JP20763387 A JP 20763387A JP H0770050 B2 JPH0770050 B2 JP H0770050B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は非磁性基板表面にめっき，スパッタリング，蒸
着などによって形成された強磁性金属合金薄膜からなる
磁性層を有する磁気記録媒体に関し、磁性層を保護する
ために設ける表面保護層に関する。
着などによって形成された強磁性金属合金薄膜からなる
磁性層を有する磁気記録媒体に関し、磁性層を保護する
ために設ける表面保護層に関する。
近年、情報処理システムの外部記憶装置として用いられ
る固定磁気ディスク装置に搭載される磁気記録媒体にお
いては、その高記録密度化の要請により、磁性層として
めっき，スパッタリング，蒸着などによって形成される
磁気特性に優れたCo合金などの強磁性金属合金薄膜が注
目され検討されている。
る固定磁気ディスク装置に搭載される磁気記録媒体にお
いては、その高記録密度化の要請により、磁性層として
めっき，スパッタリング，蒸着などによって形成される
磁気特性に優れたCo合金などの強磁性金属合金薄膜が注
目され検討されている。
ところが、一般にこのような金属合金薄膜は腐食され易
く、また磁気ヘッドとの摺動によって摩耗や損傷を受け
易く、磁気特性，記録再生特性が劣化し易いため、磁性
層表面に保護層を設け、耐食性，耐久性を改善すること
が行われている。保護層の膜圧は保護機能の面から厚い
方が望ましいが、反面、高記録密度を達成するためには
磁気記録装置において磁気ヘッドと媒体の磁性層との間
隙を小さくする必要があり、磁性層と磁気ヘッドとの間
に介在する保護層の膜厚としては薄い方が望ましく、10
00Å以下，好ましくは,500Å以下とすることが要求され
ている。
く、また磁気ヘッドとの摺動によって摩耗や損傷を受け
易く、磁気特性，記録再生特性が劣化し易いため、磁性
層表面に保護層を設け、耐食性，耐久性を改善すること
が行われている。保護層の膜圧は保護機能の面から厚い
方が望ましいが、反面、高記録密度を達成するためには
磁気記録装置において磁気ヘッドと媒体の磁性層との間
隙を小さくする必要があり、磁性層と磁気ヘッドとの間
に介在する保護層の膜厚としては薄い方が望ましく、10
00Å以下，好ましくは,500Å以下とすることが要求され
ている。
このような表面保護層として、スパッタリングなどによ
り被着されたアモルファス状炭素（以下、ａ−Ｃと略
す）膜が知られている。しかしながら、ａ−Ｃ膜は磁気
ヘッドとの長期間の繰り返し摺動によって、摩擦係数が
増大し、潤滑性能が低下し、また耐食性も十分ではない
という難点があった。これを改善するためａ−Ｃ膜の表
面に液状のパーフルオロアルキル化合物，あるいはフル
オロカーボンポリマーの分散液のような液体潤滑剤を、
浸漬法，あるいはスピンコート法などにより塗布するこ
とが行われている。
り被着されたアモルファス状炭素（以下、ａ−Ｃと略
す）膜が知られている。しかしながら、ａ−Ｃ膜は磁気
ヘッドとの長期間の繰り返し摺動によって、摩擦係数が
増大し、潤滑性能が低下し、また耐食性も十分ではない
という難点があった。これを改善するためａ−Ｃ膜の表
面に液状のパーフルオロアルキル化合物，あるいはフル
オロカーボンポリマーの分散液のような液体潤滑剤を、
浸漬法，あるいはスピンコート法などにより塗布するこ
とが行われている。
ところが、磁気記録媒体の保護層の膜厚に対する制約の
ために、ａ−Ｃ膜に塗布する液体潤滑剤の膜厚は50Å以
下とする必要があり、このような薄膜を均一に塗布する
ための塗布条件の管理が難しいという欠点があった。し
かも、液体潤滑剤の層を表面層とする磁気記録媒体にお
いては、特に高湿度雰囲気で磁気ヘッドを長時間静止接
触させた場合、磁気記録媒体と磁気ヘッドスライダとの
吸着現象が生じ易いという致命的な欠陥を有していた。
さらに、このような液体潤滑剤の層はａ−Ｃ膜との密着
性が不十分であることから、高信頼性を要求される磁気
記録媒体の表面保護層としては問題であり、その改善が
強く望まれていた。
ために、ａ−Ｃ膜に塗布する液体潤滑剤の膜厚は50Å以
下とする必要があり、このような薄膜を均一に塗布する
ための塗布条件の管理が難しいという欠点があった。し
かも、液体潤滑剤の層を表面層とする磁気記録媒体にお
いては、特に高湿度雰囲気で磁気ヘッドを長時間静止接
触させた場合、磁気記録媒体と磁気ヘッドスライダとの
吸着現象が生じ易いという致命的な欠陥を有していた。
さらに、このような液体潤滑剤の層はａ−Ｃ膜との密着
性が不十分であることから、高信頼性を要求される磁気
記録媒体の表面保護層としては問題であり、その改善が
強く望まれていた。
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、耐
摩耗性，耐食性に優れ、かつ、均一で適切な膜厚の薄膜
表面保護層を有し、特性変動が少なく信頼性の高い磁気
記録媒体を提供することを目的とする。
摩耗性，耐食性に優れ、かつ、均一で適切な膜厚の薄膜
表面保護層を有し、特性変動が少なく信頼性の高い磁気
記録媒体を提供することを目的とする。
本発明は、上述の目的を達成するため、非磁性基板上に
形成された磁性層と、該磁性層上に形成された表面保護
層とを備えた磁気記録媒体において、表面保護層が、磁
性層側の水素化アモルファス状炭素膜と、表面側のアモ
ルファス状ふっ化炭素膜とからなることを特徴としてお
り、また、表面保護層が、磁性層側の水素化アモルファ
ス状炭素膜と、アモルファス状ふっ化炭素の量が表面に
向かって多くなるように水素化アモルファス状炭素とア
モルファス状ふっ化炭素とが混合された表面側の混合膜
とからなることを特徴としている。
形成された磁性層と、該磁性層上に形成された表面保護
層とを備えた磁気記録媒体において、表面保護層が、磁
性層側の水素化アモルファス状炭素膜と、表面側のアモ
ルファス状ふっ化炭素膜とからなることを特徴としてお
り、また、表面保護層が、磁性層側の水素化アモルファ
ス状炭素膜と、アモルファス状ふっ化炭素の量が表面に
向かって多くなるように水素化アモルファス状炭素とア
モルファス状ふっ化炭素とが混合された表面側の混合膜
とからなることを特徴としている。
このような表面保護膜は、プラズマ重合法により形成す
ることができる。
ることができる。
このように、磁性層の上に、まず機械的強度，硬さが大
きい水素化アモルファス状炭素（以下、ａ−Ｃ（Ｈ）と
略す）膜を形成し、その上に潤滑性，耐食性に優れたア
モルファス状ふっ化炭素（以下、ａ−Ｃ（Ｆ）と略す）
膜、またはａ−Ｃ（Ｈ）とａ−Ｃ（Ｆ）との混合膜を形
成した積層膜は、ａ−Ｃ（Ｈ）およびａ−Ｃ（Ｆ）それ
ぞれの性能が相まって、耐摩耗性，耐食性に優れた表面
保護層となる。
きい水素化アモルファス状炭素（以下、ａ−Ｃ（Ｈ）と
略す）膜を形成し、その上に潤滑性，耐食性に優れたア
モルファス状ふっ化炭素（以下、ａ−Ｃ（Ｆ）と略す）
膜、またはａ−Ｃ（Ｈ）とａ−Ｃ（Ｆ）との混合膜を形
成した積層膜は、ａ−Ｃ（Ｈ）およびａ−Ｃ（Ｆ）それ
ぞれの性能が相まって、耐摩耗性，耐食性に優れた表面
保護層となる。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
実施例１ 第１図は、本発明による磁気記録媒体の一実施例の層構
成を示す模式的断面図である。
成を示す模式的断面図である。
第１図において、11はアルミニウム合金からなる基板で
あり、その表面は機械加工によりうねりの小さい面に仕
上げられている。12は基板11の表面に無電解めっきにて
被着されたNi−Ｐ合金層であり、その表面は機械研磨に
より中心線平均粗さ0.005μｍ〜0.015μｍの範囲に仕上
げられている。その上に磁性層13として、Fe,Co,Niなど
の強磁性金属などからなる合金薄膜をめっき，スパッタ
リング，蒸着などによって形成する。
あり、その表面は機械加工によりうねりの小さい面に仕
上げられている。12は基板11の表面に無電解めっきにて
被着されたNi−Ｐ合金層であり、その表面は機械研磨に
より中心線平均粗さ0.005μｍ〜0.015μｍの範囲に仕上
げられている。その上に磁性層13として、Fe,Co,Niなど
の強磁性金属などからなる合金薄膜をめっき，スパッタ
リング，蒸着などによって形成する。
この磁性層13の上に本発明によるａ−Ｃ（Ｈ）膜14aと
ａ−Ｃ（Ｆ）膜14bとからなる表面保護層14を形成し
て、磁気記録媒体とする。
ａ−Ｃ（Ｆ）膜14bとからなる表面保護層14を形成し
て、磁気記録媒体とする。
表面保護層14は、高周波グロー放電によるプラズマ重合
（以下Ｐ−CVDと略す）法を用いて、次の条件でまずａ
−Ｃ（Ｈ）膜14aを厚さ400Å成膜する。
（以下Ｐ−CVDと略す）法を用いて、次の条件でまずａ
−Ｃ（Ｈ）膜14aを厚さ400Å成膜する。
原料ガス:C3H8（100％） 流量10cc/分 ガス圧 0.05Torr 高周波電力 400W 成膜時間 ２分 続いて原料ガスを切り換え、次の条件でａ−Ｃ（Ｆ）膜
14bを厚さ50Å成膜する。
14bを厚さ50Å成膜する。
原料ガス:C2F6（100％） 流量10cc/分 ガス圧 0.05Torr 高周波電力 400W 成膜時間 0.5分 14aと14bで表面保護層14を形成し磁気記録媒体となるａ
−Ｃ（Ｈ）膜14aとａ−Ｃ（Ｆ）膜14bとはＰ−CVD法に
より原料ガスを切り換えることにより連続して成膜され
る。従って両者の間には明瞭な界面は存在せず複合膜と
なっており、その密着性は極めて高い。
−Ｃ（Ｈ）膜14aとａ−Ｃ（Ｆ）膜14bとはＰ−CVD法に
より原料ガスを切り換えることにより連続して成膜され
る。従って両者の間には明瞭な界面は存在せず複合膜と
なっており、その密着性は極めて高い。
ａ−Ｃ（Ｈ）膜14aの成膜の原料ガスとしては、必ずし
もC3H8を用いる必要はなく、各種の炭化水素、例えばCH
4,C2H6,C4H10,C2H4,C2H2,C6H6などのガスおよびこれら
のガスと水素や酸素との混合ガスの使用が可能である。
もC3H8を用いる必要はなく、各種の炭化水素、例えばCH
4,C2H6,C4H10,C2H4,C2H2,C6H6などのガスおよびこれら
のガスと水素や酸素との混合ガスの使用が可能である。
ａ−Ｃ（Ｆ）膜14bの原料ガスについても同様であり、C
HF3,C3F8などのふっ化炭素系のガスが使用可能である。
HF3,C3F8などのふっ化炭素系のガスが使用可能である。
実施例２ 第２図は、本発明の磁気記録媒体の他の実施例を示す模
式的断面図である。11,1,13はそれぞれ実施例１と同様
の基板,Ni−Ｐ層，磁性層である。
式的断面図である。11,1,13はそれぞれ実施例１と同様
の基板,Ni−Ｐ層，磁性層である。
表面保護層14は磁性層13の表面に、実施例１と同様にＰ
−CVD法を用いて形成する。この際、原料ガスとして、C
3H8とC2F6の混合ガスを用い、その組成比を成膜中に第
３図のように連続的に変化させる。他の成膜条件を次に
示す。
−CVD法を用いて形成する。この際、原料ガスとして、C
3H8とC2F6の混合ガスを用い、その組成比を成膜中に第
３図のように連続的に変化させる。他の成膜条件を次に
示す。
原料ガスC3H8/C2F6混合ガス 流量20cc/分 ガス圧 0.05Torr 高周波電力 400W 第３図のように原料ガスの組成比を制御することによっ
て、ａ−Ｃ（Ｈ）膜14aを厚さ350Å,a−Ｃ（Ｈ）とａ−
Ｃ（Ｆ）の混合膜14cを厚さ100Å成膜する。14aと14cで
表面保護層14を形成し磁気記録媒体とする。
て、ａ−Ｃ（Ｈ）膜14aを厚さ350Å,a−Ｃ（Ｈ）とａ−
Ｃ（Ｆ）の混合膜14cを厚さ100Å成膜する。14aと14cで
表面保護層14を形成し磁気記録媒体とする。
混合膜14cは原料となる混合ガスの組成比を時間的に制
御することによって、混合膜中のａ−Ｃ（Ｆ）の膜厚方
向の組成のプロファイルを制御することができる。第３
図に示した場合の混合膜表面から深さ方向への組成プロ
ファイルをＸ線光電子分光法によって分析した例を第４
図に示す。このように、成膜中に原料ガスの混合の組成
比を時間的に制御することによって表面保護層14中のａ
−Ｃ（Ｈ）とａ−Ｃ（Ｆ）の組成に所定のプロファイル
をもたせることができる。
御することによって、混合膜中のａ−Ｃ（Ｆ）の膜厚方
向の組成のプロファイルを制御することができる。第３
図に示した場合の混合膜表面から深さ方向への組成プロ
ファイルをＸ線光電子分光法によって分析した例を第４
図に示す。このように、成膜中に原料ガスの混合の組成
比を時間的に制御することによって表面保護層14中のａ
−Ｃ（Ｈ）とａ−Ｃ（Ｆ）の組成に所定のプロファイル
をもたせることができる。
比較例 実施例１に準じて磁性層まで形成し、その表面にグラフ
ァイト状炭素ターゲットを用いてスパッタリングを行
い、膜厚350Åのａ−Ｃ膜を被着させ、さらに、このａ
−Ｃ膜の表面にスピンコート法によりフルオロカーボン
ポリマー系の液体潤滑剤，例えばフオンブリンＺ（商品
名：モンテジソン社製）を膜厚50Å塗布して表面保護層
を形成し、磁気記録媒体を作製した。
ァイト状炭素ターゲットを用いてスパッタリングを行
い、膜厚350Åのａ−Ｃ膜を被着させ、さらに、このａ
−Ｃ膜の表面にスピンコート法によりフルオロカーボン
ポリマー系の液体潤滑剤，例えばフオンブリンＺ（商品
名：モンテジソン社製）を膜厚50Å塗布して表面保護層
を形成し、磁気記録媒体を作製した。
以上に述べた実施例1,2および比較例の磁気記録媒体に
ついて、磁気ヘッドとの摩耗試験および環境試験を行っ
た。
ついて、磁気ヘッドとの摩耗試験および環境試験を行っ
た。
磁気ヘッドとの摩耗試験は、固定磁気ディスク装置にお
いて一般的に行われている磁気ヘッドの浮上・接触を繰
り返すいわゆるCSS（コンタクト・スタート・ストッ
プ）試験を行い、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの摩擦係
数の変化を測定した。その結果を第１表に示す。なお使
用したヘッドの材料は、Mn−Znフェライトである。
いて一般的に行われている磁気ヘッドの浮上・接触を繰
り返すいわゆるCSS（コンタクト・スタート・ストッ
プ）試験を行い、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの摩擦係
数の変化を測定した。その結果を第１表に示す。なお使
用したヘッドの材料は、Mn−Znフェライトである。
第１表にみられるとおり、実施例1,2において、CSS1000
回で摩擦係数に僅かな増加はあるものの、その後の変化
は少なく、２万回まで安定している。一方、比較例にお
いては、CSS1000回までは実施例1,2と同様であるが、20
00回,1万回とCSS回数が増すにつれて摩擦係数が大幅に
増加してくる。つまり本実施例による表面保護層によっ
て潤滑性が改善され、耐摩耗性の向上に極めて有効であ
ることが明らかである。
回で摩擦係数に僅かな増加はあるものの、その後の変化
は少なく、２万回まで安定している。一方、比較例にお
いては、CSS1000回までは実施例1,2と同様であるが、20
00回,1万回とCSS回数が増すにつれて摩擦係数が大幅に
増加してくる。つまり本実施例による表面保護層によっ
て潤滑性が改善され、耐摩耗性の向上に極めて有効であ
ることが明らかである。
また、温度80℃，相対湿度80％の雰囲気中に20日間放置
する環境試験を行ったところ比較例においては、信号欠
陥が２個／面増加したが、実施例1,2においては信号欠
陥の増加は認められず耐食性も向上していることが確認
された。
する環境試験を行ったところ比較例においては、信号欠
陥が２個／面増加したが、実施例1,2においては信号欠
陥の増加は認められず耐食性も向上していることが確認
された。
以上、本発明の実施例について、固定磁気ディスク装置
に関して述べたが、他の磁気記録媒体、例えば磁気テー
プ，フロッピーディスクなどの磁気記録媒体の表面保護
層としても勿論適用可能である。
に関して述べたが、他の磁気記録媒体、例えば磁気テー
プ，フロッピーディスクなどの磁気記録媒体の表面保護
層としても勿論適用可能である。
本発明によれば、機械的強度，硬さの大きいａ−Ｃ
（Ｈ）と、潤滑性，耐食性の優れたａ−Ｃ（Ｆ）それぞ
れの性能が相まって、耐摩耗性，耐食性に優れ、かつ、
均一で適切な膜厚の薄膜表面保護層を有し、特性変動が
少なく信頼性の高い磁気記録媒体が得られることにな
る。
（Ｈ）と、潤滑性，耐食性の優れたａ−Ｃ（Ｆ）それぞ
れの性能が相まって、耐摩耗性，耐食性に優れ、かつ、
均一で適切な膜厚の薄膜表面保護層を有し、特性変動が
少なく信頼性の高い磁気記録媒体が得られることにな
る。
第１図は本発明による磁気記録媒体の一実施例の層構
成、第２図は他の実施例の層構成を示す模式的断面図で
ある。第３図は、表面保護層成膜の際、原料混合ガスの
組成比と成膜時間との関係を示す線図、第４図は表面保
護層の表面から深さ方向への組成を分析したプロファイ
ルを示す線図である。 11……基板、12……磁性層、14a……ａ−Ｃ（Ｈ）膜、1
4b……ａ−Ｃ（Ｆ）膜、14c……混合膜、14……表面保
護層。
成、第２図は他の実施例の層構成を示す模式的断面図で
ある。第３図は、表面保護層成膜の際、原料混合ガスの
組成比と成膜時間との関係を示す線図、第４図は表面保
護層の表面から深さ方向への組成を分析したプロファイ
ルを示す線図である。 11……基板、12……磁性層、14a……ａ−Ｃ（Ｈ）膜、1
4b……ａ−Ｃ（Ｆ）膜、14c……混合膜、14……表面保
護層。
Claims (2)
- 【請求項１】非磁性基板上に形成された磁性層と、該磁
性層上に形成された表面保護層とを備えた磁気記録媒体
において、前記表面保護層が、磁性層側の水素化アモル
ファス状炭素膜と、表面側のアモルファス状ふっ化炭素
膜とからなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】非磁性基板上に形成された磁性層と、該磁
性層上に形成された表面保護層とを備えた磁気記録媒体
において、前記表面保護層が、磁性層側の水素化アモル
ファス状炭素膜と、アモルファス状ふっ化炭素の量が表
面に向かって多くなるように水素化アモルファス状炭素
とアモルファス状ふっ化炭素とが混合された表面側の混
合膜とからなることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62207633A JPH0770050B2 (ja) | 1987-08-21 | 1987-08-21 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62207633A JPH0770050B2 (ja) | 1987-08-21 | 1987-08-21 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6450235A JPS6450235A (en) | 1989-02-27 |
| JPH0770050B2 true JPH0770050B2 (ja) | 1995-07-31 |
Family
ID=16543025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62207633A Expired - Fee Related JPH0770050B2 (ja) | 1987-08-21 | 1987-08-21 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0770050B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07243064A (ja) * | 1994-01-03 | 1995-09-19 | Xerox Corp | 基板清掃方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6116028A (ja) * | 1984-06-30 | 1986-01-24 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPS62172521A (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-29 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-08-21 JP JP62207633A patent/JPH0770050B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6450235A (en) | 1989-02-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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