JPH0223522A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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JPH0223522A
JPH0223522A JP17329288A JP17329288A JPH0223522A JP H0223522 A JPH0223522 A JP H0223522A JP 17329288 A JP17329288 A JP 17329288A JP 17329288 A JP17329288 A JP 17329288A JP H0223522 A JPH0223522 A JP H0223522A
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JP
Japan
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film
magnetic
carbon
carbonaceous
diamond
Prior art date
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Application number
JP17329288A
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English (en)
Inventor
Toshiaki Morichika
森近 俊明
Hiroshi Seki
関 博司
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Kubota Corp
Original Assignee
Kubota Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、強磁性金属からなる磁性膜(以下、「金属系
磁性膜」)の表面に、その保護潤滑膜としてダイヤモン
ド状炭素を含む硬質炭素膜を形成した耐摩耗性・潤滑性
にすぐれた磁気記録媒体の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
非磁性基体に金属系磁性膜を設けた金属薄膜型磁気記録
媒体の機能および耐用寿命を安定化するには、磁性膜面
とこれに近接対向する記録・再生用磁気ヘッドとの接触
を滑らかにし、磁気ヘッドと磁性膜の摩耗・損傷を防止
することが必要であり、近時、その磁性膜面の保護潤滑
膜として、炭素質膜を、真空蒸発法やスパッタリング法
等により形成した磁気記録媒体が実用されている。なか
でも、1−C(ア′イカ−ボン)と称されている非晶質
構造を有するダイヤモンド状炭素膜は、硬さや比抵抗値
などダイヤモンドに近い物性を示し、磁性膜の保護潤滑
膜として望まれる卓抜した耐摩耗性と良好な潤滑特性と
を兼ね備えている。そのダイヤモンド状炭素膜の成膜法
として、Arにメタン(C)(4)を15容量%以上添
加した混合ガス雰囲気下、黒鉛をターゲットとしてスパ
ッタ蒸発させる方法が知られている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかるに、スパッタ雰囲気をArとメタンの混合雰囲気
として黒鉛ターゲットをスパッタさせる上記方法により
成膜されるダイヤモンド状炭素膜は、表面凹凸が著しく
、かつ緻密性に乏しいため、記録再生操作時の磁気ヘッ
ドの接触による剥離・損傷を生じ易く、また欠損した炭
素微粒子が磁気ヘッドに付着して再生出力の著しい低下
の原因となる等、保護潤滑膜としての機能や耐久性等に
問題がある。
なお、上記成膜法により形成されるダイヤモンド状炭素
膜が緻密性に乏しく、凹凸粗面となるのは、そのスパッ
タ成膜過程で、スパッタ室内に炭素フレークが生成し、
その炭素フレークが磁性膜面上に落下付着するためであ
る。そのスパッタ雰囲気をメタンを含まないAr単味の
雰囲気とすれば、炭素フレークの生成を回避することは
可能であるが、Ar単味の雰囲気でスパッタ成膜を行う
と、炭素膜はアモルファスとなり、硬質のダイヤモンド
状炭素膜を形成することができなくなる。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、磁性膜面が
、非晶質構造のダイヤモンド状炭素を含む緻密で平滑な
表面を有する硬質炭素質膜で被覆された磁気記録媒体の
製造方法を提供しようとするものである。
[課題を解決するための手段および作用]本発明の磁気
記録媒体の製造方法は、 ダイヤモンド状炭素(以下、「アイカーボン」)を含む
炭素質ターゲットを、Arガス雰囲気、またはArガス
と10容量%以下の水素もしくは炭化水素ガスとの混合
ガス雰囲気下にスパッタ蒸発させることにより、磁性膜
の膜面にダイヤモンド状炭素を含む硬質炭素質膜を形成
することを特徴としている。
本発明における磁性膜の保護潤滑膜である炭素質膜の成
膜に使用される炭素質ターゲラI・は、例えば化学的反
応により生成させたアイカーボンからなるブロックを所
要のターゲラI・形状に機械加工したもの、あるI、s
はアイカーボン粉末を所・要形状に圧粉成形したもの等
であってよい。また、その炭素質ターゲットは、必ずし
もその全体がアイカーボンである必要はなく、例えばグ
ラファイト、アモルファス等の炭素分を含有するもので
あってさしつかえない。従って、例えばアイカーボン粉
末を圧粉成形してターゲットを製作する場合は、アイカ
ーボン粉末に、黒鉛粉末などの他の炭素粉末等を混合し
たものであってよい。いずれの場合にも、成膜される炭
素質膜にダイヤモンド状炭素特有の高硬度・高耐摩耗性
を十分発揮させるために、そのターゲットにおけるアイ
カーボンの占める割合は約30重量%以上であることが
好ましい。
本発明における炭素質膜のスパッタリング成膜は、直流
スパッタ、高周波スパッタ、マグネトロンスパッタ、イ
オンビームスパッタ等の公知のスパッタリング法により
常法に従って行うことができる。なかでも、マグネトロ
ン直流スパッタリング法は、上記アイカーボン含有ター
ゲットを使用する本発明におけるダイヤモンド状炭素含
有硬質炭素質膜の効果的な成膜法として橿めて好適であ
る。
また、そのスパッタリングは、前記従来の成膜法と異な
って、Ar単一の雰囲気下に達成することがで5きる。
もっとも、そのスパッタ雰囲気に他のガス成分を混在さ
せてはならないという意味ではなく、所望により、ダイ
ヤモンド状炭素膜のより安定な成膜の促進を目的として
少量の水素ガスまたは炭化水素ガス(メタン、アセチレ
ン等)を添加した混合雰囲気を使用することができる。
その場合の混合ガス成分は約30重量%以上、例えば、
数%(約4〜7容量%程度)で十分である。このように
、本発明におけるダイヤモンド状炭素含有硬質炭素質膜
を成膜するための、スパッタ雰囲気は、Ar単一の雰囲
気であってよく、またこれに他のガス成分を混合した雰
囲気を用いる場合にも、その混合割合は従来法における
それと異なって、掻く少量であるから、スパッタリング
過程においては従来法のような炭素フレークの生成はな
(、従ってそのスパッタリングにより磁性膜面に形成さ
れる炭素質膜は緻密・均一性と平滑な膜面を有している
。また、そのスパッタリング成膜では、基板を加熱保持
する必要がなく、常温で行うことができるので磁性膜の
磁気特性の熱的劣化を生じることもない。なお、その炭
素質膜の必要な膜厚は、対象とする磁気記録媒体の種類
や、記録再生操作の形式等により異なるが、あまり薄い
膜厚では均質性に欠けるので、約100Å以上とするの
がよい。また、その膜厚は約500人程度までで十分で
ある。
本発明の対象とする金属薄膜型磁気記録媒体は、磁気デ
ィスクをはじめ、各種磁気ドラム、磁気テープ、磁気シ
ート等が包含される。これらは、いずれもその磁性膜面
上に上記炭素質膜のスパッタ成膜が行われる点を除いて
、公知の一般的な工程および条件に従って製作される。
−例として、面内記録用磁気ディスクについて述べれば
、アルミニウム合金板等の基体表面に硬質のN1−P無
電解めっき膜(膜厚:例えば15〜25μm)を設け、
ポリッシュおよびテキスチャ処理を施したうえ、磁性膜
に面内異方性を与えるための下地層としてCr膜(膜厚
:例えば500〜3000人)を形成し、その膜面上に
磁性膜(Co、CoNi系、CoCr系、CoNiCr
系等)を所定の膜厚(例えば500〜2000人)に形
成する。ついでその膜面に前述のスパッタリング成膜を
行って所定の炭素質膜を形成することにより、多層積層
構造を有する面内記録用磁気ディスクを得る。その積層
構造は上記の例に限定されず、例えば、耐候性をより高
める目的で、磁性膜に、約100〜500人の膜厚のC
r膜を形成したうえ、炭素質膜を成膜した構造とし、あ
るいは炭素膜面の表面に更に潤滑剤(例えば、モンテジ
ソン社製rAM200b等)の薄膜(例えば10−10
0人)を塗設して磁気ヘッドとの摩擦に対する潤滑特性
をより高めた積層構造とすることもできる。
〔実施例〕
(I)供試磁気ディスクの製作 アルミニウム合金基板の表面に、N1−P無電解めっき
膜(膜厚20μm)を形成し、表面をポリッシュした後
、テキスチャ処理し、ついで直流マグネトロンスパッタ
リング法(雰囲気: 0.7 Xl0−”TorrA 
r )により、Cr膜(膜厚: 2500人)およびC
oNiCr系磁性膜(膜厚:800人)をこの順に形成
した。ついでそのスパッタ室内において、次の条件で炭
素質膜を形成して供試磁気ディスク(130mm型)を
得た。これを磁気ディスクAとする。
(i)ターゲット アイカーボン:35重量%、残部黒鉛 (ii)雰囲気: I XIO””  TorrA r
投入型カニ3〜5KW 他方、比較例として、炭素膜のスパッタリング成膜にお
けるターゲットに黒鉛を使用した点を除いて上記と同一
の条件により供試磁気ディスクを得た。この供試磁気デ
ィスクをBとする。
(n)炭素質膜の構造 供試磁気ディスクAおよびBの各炭素質膜のレーザラマ
ンスペクトルを、それぞれ第1図および第2図に示す。
発明例の磁気ディスクAの炭素質膜は、第1図のように
波長1550cm−’近傍に幅広いラマン分光特性を有
しており、ダイヤモンド状炭素質膜であることがわかる
。他方、磁気ディスクBは、第2図のように波長136
0cm−’と1580C1m−’近傍にピークがあり、
このことは、その炭素質膜が、磁気ディスクAのそれと
異なって、アモルファス炭素に近い構造の膜体であるこ
とを示している。
(III) C3S試験 供試磁気ディスクAおよびBについて、その炭素質膜面
に対する磁気ヘッド(コンポジットタイプ)を反復接触
させるC S S (Contact S tarta
ndS top)テストを行い、炭素質膜面に疵等の目
視変化が生じるまでの反復回数(CSS回数)を求めた
供試磁気ディスク     CSS回数A(発明例> 
       so、 oo。
B(比較例)        30.000上記のよう
に、発明例の磁気ディスクの磁性膜を被覆する炭素質膜
は、磁気ヘッドの衝突・摺接が繰り返される使用条件に
おいても長期に亘って安定した保護潤滑膜機能を維持す
ることがわかる。
〔発明の効果〕
本発明方法による磁気記録媒体は、磁性膜面が耐久性に
すぐれた耐摩耗性潤滑膜で被覆保護されているので、磁
気ヘッドの接触を伴う記録再生の繰返し使用条件下にも
、磁性膜の損傷・劣化が効果的に防止され、長期に亘っ
て磁気メディアとしての機能が保持され、従来のもので
は得られないすぐれた耐用寿命が保証される。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は磁性膜面上に形成された炭素質膜のレ
ーザラマンスペクトルを示す図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ダイヤモンド状炭素を含む炭素質ターゲットを、A
    rガス雰囲気、またはArガスと10容量%以下の水素
    もしくは炭化水素ガスとの混合ガス雰囲気下にスパッタ
    させることにより、非磁性基板上の強磁性金属からなる
    磁性膜の膜面に硬質炭素質膜を形成することを特徴とす
    る磁気記録媒体の製造方法。 2、炭素質ターゲットのダイヤモンド状炭素量が30重
    量%以上であることを特徴とする請求項1に記載の磁気
    記録媒体の製造方法。
JP17329288A 1988-07-11 1988-07-11 磁気記録媒体の製造方法 Pending JPH0223522A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100777645B1 (ko) * 2005-10-17 2007-11-19 성균관대학교산학협력단 다이아몬드상 카본 코팅 장치 및 그 제조방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100777645B1 (ko) * 2005-10-17 2007-11-19 성균관대학교산학협력단 다이아몬드상 카본 코팅 장치 및 그 제조방법

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