JPS6313116A - 薄膜磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は、金属磁性体を用いた磁気ディスクなどの薄膜
磁気記録媒体に関する。

〔従来技術とその問題点〕

近年、磁気記録装置に用いられる磁気ディスクなどの磁
気記録媒体はますます高密度記録化が要請されてきてふ
り、それを実現するために磁性層の薄膜化、磁気特性の
改良−保磁力、残留磁束密度の向上−が図られ、従来の
非磁性基板上にγ−Ｆｅ、Ｏ，粒子をバインダ中に分散
させたものを塗布して焼成した塗布型媒体にかわって、
非磁性基板上にめっき法またはスパッタ法で金属磁性体
からなる薄膜磁性層を形成する薄膜磁気記録媒体が注目
され検討されている。

塗布型媒体では、現在０．７μｍ程度の膜厚が実用化さ
れている最も薄い膜厚であるのに対し、スパックやめっ
きでは０．０３〜０．０５μｍという塗布の場合の１７
１Ｏ以下の薄膜が容易に実現できる。また、磁気特性に
ついても、塗布型媒体においては磁性層中に非磁性成分
であるバインダが多量に混入しているのに対し、薄膜型
媒体では磁性層がすべて磁性体で形成でき、しかも、コ
バル）　（Ｃｏ）系合金。

例えばコバルト−ニッケル（Ｃｏ　−Ｎｉ）　　合金の
ような金属磁性体が用いられるので塗布型媒体より優れ
ている。

ところが、その反面、薄膜型媒体においては金属磁性体
を用いるために磁性層が腐食し易く、また、耐暦耗性が
低いという問題が生じる。このような腐食が生じると磁
気特性が劣化する。また、固定磁気ディスク装置におい
ては、高速データ処理を行うためにコンタクト・スター
ト・ストップ（Ｃ３Ｓ）　方式−装置停止時には磁気ヘ
ッドが媒体表面に接しており、装置駆動時には媒体の回
転につれて生じる空気圧により６３気ヘツドが媒体表面
よりわずかに浮上して走行する−が採られるが、この方
式では装置の起動・停止毎に磁気ヘッドが媒体表面すな
わち磁性層を摩擦することになり、耐磨耗性が低いと磁
性層が磨耗して磁気特性が乱れる。このような問題の対
応策として磁性層を被覆する保護膜を形成することが検
討され、今までに炭素（Ｃ）や二酸化シリコン（ＳｉＯ
□〉などの無機材料あるいはフロロカーボンなどの有機
材料からなる保護膜が提案されている。一般に保護膜の
膜厚を厚くすると耐腐食性の点では有利であるが、磁気
ヘッドと磁性層との間隔が膜厚分だけ広がることになる
ので磁気記録再生特性には悪影響を及ぼす。保護膜の膜
厚は０．１μｍ程度以下におさえることが必要である。

スパッタ法で形成されたアモルファス状炭素薄膜は他の
材料では得られない非常に耐磨耗性に優れた薄膜となる
ので、このような薄膜磁気記録媒体の保護膜として有望
であり、ここ数年研究開発が進められている。しかし、
このアモルファス状炭素薄膜で構成された保護膜では、
硬度が硬く、しかも摩擦係数が小さいという利点がある
反面、膜の磁性層への密着性が弱く、耐湿性および耐久
性が十分でなく、磁性層の腐食劣化を防ぐ耐腐食性能に
難点があり、その改良が望まれていた。

〔発明の目的〕

本発明は、上述の問題点を解消して、保護潤滑膜として
アモルファス状炭素薄膜を備え、良好な耐磨耗性および
耐腐食性を有し、耐久性の優れた薄膜磁気記録媒体を提
供することを目的とする。

〔発明の要点〕

本発明の目的は、金属磁性体薄膜からなる磁性層と該磁
性層を被覆するアモルファス状炭素薄膜からなる保護潤
滑膜とを備えた薄膜磁気記録媒体において、磁性層と保
護潤滑膜との間にシリコン系有機物薄膜を介在させた構
成とすることによって達成される。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例について説明する。

第１図は本発明による薄膜磁気記録媒体の一実施例の層
構成を示す模式的断面図である。非磁性基板１として、
機械加工で表面を鏡面に仕上げられたディスク状アルミ
ニウム合金基板を用い、この上にＮ１−Ｐ合金を無電解
めっきで約３０μｍの厚さに被覆し、このめっき被膜を
機械的に研磨して表面粗さが中心線平均粗さＲａで０．
０２μｍ以下、厚さ１５μｍまで鏡面仕上げを行って基
板下地処理層２を形成する。次に、ＡｒガスＩ　Ｘｌ０
−２Ｔｏｒｒの雰囲気でＣｒをスパッタして膜厚１５０
０人のＣｒの非磁性金属下地層３を形成した。下地層３
を形成した後、直ちに引き続き、ＡｒガスＩ　Ｘｌ０−
’Ｔｏｒｒの雰囲気でＮ１を３０原子％、　Ｃｒを７．
５原子％含有する［０合金からなる金属磁性層４を膜厚
５００人に形成した。次に、金属磁性層４の上に本発明
によるシリコン系有機物薄膜をプラズマ重合法で設けた
。ビニル）　ＩＪメトキシシランと酸素をモル比で（１
：４）の割合に混合したガスを、ガス圧０．１１Ｔｏｒ
ｒとしＡｒをキャリアガスとして、高周波電力３００Ｗ
を供給してグロー放電を発生させ、金属磁性層４上にシ
リコン系有機物薄膜５を膜厚３００人に形成した。続い
て、この有機物薄膜５の上に、ＡｒガスＩ　Ｘ　１０−
”Ｔｏｒｒの雰囲気で純度９９．９９９％のグラファイ
ト焼結物をターゲットとして用い、スパッタ法によりア
モルファス状炭素を膜厚３００人に形成して保護潤滑膜
６とし、薄膜磁気記録媒体の実施例試料１とする。

また、シリコン系有機物薄膜を、ビニルトリメトキシシ
ランと酸素をモル比で（１：　２）の割合で混合したガ
スを、ガス圧０．０１Ｔｏｒｒ　、高周波電力ＬＯＷで
グロー放電して形成すること以外は試料ｌと同様にして
作製した薄膜磁気記録媒体を実施例試料２とする。

さらに、シリコン系有機物薄膜の形成のみを省き、それ
以外は試料１と同様にして作製した薄膜磁気記録媒体を
比較例試料とする。

これら実施例試料１．２および比較例試料について、耐
磨耗性を調べた。磁気ヘッドとの組み合わせでＣ８Ｓ試
験を実施したところ、実施例の試料１＄よび２について
は１０万回まで異常が見られなかっだが、比較例試料に
おいては２万回で媒体表面に炭素膜の剥離現象が発生し
た。この結果より保護潤滑膜であるアモルファス状炭素
薄膜と磁性層との密着性の向上にシリコン系有機物薄膜
の介在が極めて有効であることが判る。また、温度８０
℃、相対湿度８５％の雰囲気に３迎間放冒する環境試験
を行ったところ、比較例試料についてエラーの増加（５
個／媒体面）が見られたが、実施例試料１および２につ
いてはエラーの増加は全く認められなかった。シリコン
系有機物薄膜の介在により媒体の耐腐食性が改良された
ことは明らかである。

〔発明の効果〕

本発明によれば、金属磁性体薄情からなる磁性層とアモ
ルファス状炭素薄膜からなる保護潤滑膜との間にシリコ
ン系有機物薄膜を介在させる。このような構成とするこ
とにより、磁性層と保護潤滑膜との密着性が極めて良好
となり、耐湿性が向上して金属磁性体膜の腐食を防ぐこ
とができる。

その結果アモルファス状炭素薄膜の硬くて摩擦係数の小
さいというべ中質による優れた耐廖耗性を有し、かつ、
耐腐食性の良好な、耐久性の優れた薄膜磁気記録媒体が
得られることになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の薄膜磁気記録媒体の一実施例の層構
成を示す模式的断面図である。 １　非磁性基板、２　基板下地処理層、３　非磁性金属
下地層、４　金属磁性層、５　シリコン系有機物薄膜、
６　保護潤滑膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）金属磁性体薄膜からなる磁性層と該磁性層を被覆す
   るアモルファス状炭素薄膜からなる保護潤滑膜とを備え
   た薄膜磁気記録媒体において、前記磁性層と保護潤滑膜
   との間にシリコン系有機物薄膜を介在させたことを特徴
   とする薄膜磁気記録媒体。