JPS63268127A - 磁気記憶体およびその製造方法 - Google Patents

磁気記憶体およびその製造方法

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JPS63268127A JP62099899A JP9989987A JPS63268127A JP S63268127 A JPS63268127 A JP S63268127A JP 62099899 A JP62099899 A JP 62099899A JP 9989987 A JP9989987 A JP 9989987A JP S63268127 A JPS63268127 A JP S63268127A
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graphite fluoride
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    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
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    • G11B5/722Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は磁気記録装置に用いられている磁気ディスク、
磁気ドラム、磁気テープ等の磁気記憶体およびその製造
方法に関する。
[従来の技術] 近年、高密度磁気記憶体の記録媒体として磁性金属薄膜
を使用したハードディスク、フロッピーディスクが急速
に普及し、それに伴って磁気記録装置に対する高記録密
度化の要求は年々増大してきている。高記録密度を達成
する手段の一つに磁気ヘッドと磁性媒体間の分離長の低
減があり、磁気ヘッドの低浮上伍化や保護膜の薄膜化が
実用化に向けての重要な課題となっている。
磁性媒体上に設けられる保護膜には主に次のような性能
が求められている。一つは、記録装置の起動、停止時に
生じる磁気ヘッドとの摩擦接触に耐えるための耐摩耗性
であり、他の一つは磁性薄膜を腐食から守るための防食
性を有することである。このような特性を有する保護膜
として従来は5i02等の酸化膜(特公昭58−185
029号公報)やカーボン等の固体潤滑膜(特公昭60
−23406号公報)が実用化されている。
[発明が解決しようとする問題点] 近年の高記録密度磁気記憶体に対する社会的要請は前述
したように保護膜の著しい薄膜化を要求しており、50
KBPI以上の記録密度を得るためには保護膜の膜厚を
少くとも50nm以下にする必要があるとされている。
そ、のような低膜厚の保護膜によって機械的耐久性や耐
候性を保証することは技術的にみて著しい困難を伴うも
のであり、特に耐食性に問題のある金属薄膜を磁性媒体
に使用した磁気記憶体においては腐食に起因するビット
エラーの発生を完全に抑えることは現在の保護膜材料で
は至難の技ともいえる。
本発明は以上述べたような従来の問題点を解決するため
になされたもので、磁性媒体の防食性に優れ、かつ機械
的耐久性にも優れた保護膜を有する磁気記憶体およびそ
の製造方法を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] 本発明において上記の問題点を解決するための手段は、
下地体上に形成された磁性媒体上に、少なくとも1種の
非金属硬質化合物と弗化黒鉛との混合物よりなる層が形
成されてなることを特徴とする磁気記憶体であり、その
製造方、法は下地体上に形成された磁性媒体上に、少な
くとも1種の非金属硬質化合物と弗化黒鉛との混合物よ
りなる層を共スパッタ法により形成したことを特徴とす
る。
また、本発明において上記の問題点を解決するためのも
う一つの手段は、下地体上に形成された磁性媒体上に、
少なくとも1種の非金属硬質化合物よりなる層と弗化黒
鉛よりなる層とが順次形成されてなることを特徴とする
磁気記憶体でおり、その!I!造方法は、下地体上に形
成された磁性媒体上に、少なくとも1種の非金属硬質化
合物よりなる層を形成し、次いで弗化黒鉛よりなる層を
スパッタ法により形成したことを特徴とする。
本発明は作用の項に後述するような極めて安定した化学
的性質と良好な層間性を有する弗化黒鉛を保護膜材料の
主成分とすることにより磁気記憶体に優れた耐候性と摩
擦特性を付与することを特徴とするものである。
また、弗化黒鉛が層間材料であるがゆえに必然的に比較
的低い機械的強度と耐摩耗性を示すことを考慮して、非
金属硬質化合物、たとえば無機酸化物、無機窒化物もし
くは無機炭化物を混合し、あるいは弗化黒鉛の下地層と
して設けることにより、優れた機械的耐久性をも有する
磁気記憶体を提供することを意図している。
本発明の磁気記憶体を製造するに必たっては、弗化黒鉛
を含む、あるいは弗化黒鉛からなる層の形成を弗素ガス
を含有する雰囲気中で行うのが望ましい。
[作用] 弗化黒鉛、すなわち弗化炭素高分子体の主な性質を列挙
すると、(1)現在製造可能なあらゆる物質の中で最も
低い表面エネルギーを有すること、および(2)耐酸性
、耐アルカリ性等の面でポリテトラフロロエチレン(P
TFE、商品名テフロン)に匹敵する化学的安定性を有
すると同時に、PTFEを凌ぐ撥水性を有し、高湿度条
件下での磁性媒体 ゛の腐食を防止する保護作用が極め
て高いことが予想される。
弗化黒鉛にはこのような優れた効果が期待できる反面、
層間材料でおり、C軸方向の結合力がファンデルワール
ス的であるために、高い機械的強度が得がたく、その結
果耐摩耗性、耐ヘッドクラツシユ性などの機械的耐久性
に問題がある。そこで、弗化黒鉛中に硬質化合物を分散
させることによって、あるいは、弗化黒鉛の下地に硬質
化合物層を設けることにより保護膜全体の機械的強度の
向上を達成し、それによって磁気ディスクの機械的耐久
性を向上せしめるものである。
「実施例」 次に本発明を実施例によって説明する。
第1図は本発明の一実施例でおる磁気ディスクの部分断
面図で必る。図中、1は下地体、2は磁性媒体層、3は
非金属硬質化合物と弗化黒鉛との混合物からなる混合物
層である。第2図は本発明のもう一つの実施例である磁
気ディスクの部分断面図であり、1は下地体、2は磁性
媒体層、4は硬質物層、5は弗化黒鉛層である。
下地体1はディスク状のアルミニウム合金基板上に旧−
P非磁性合金を無電解めっき法により厚さ801JIn
被覆し、このN1−P膜に研磨とポリシング加工を施す
ことにより表面粗さを約20nmとしたものである。そ
の上に磁性媒体層2として無電解C0−N r −Pめ
つぎ合金を厚さ60nm被覆した。以後に示す実施例で
は、すべてこの磁性媒体層2および下地体1としてのア
ルミニウム合金基板を使用した。
実施例1〜6 上記した基体上に、弗化黒鉛とS!02のそれぞれ2枚
のターゲットを用いた共スパッタ法により弗化黒鉛と5
i02の混合物層を厚さ40nm被覆した。
スパッタガスはアルゴン、メタンおよび弗素の混合気体
とした。同様にして表−1に示す弗化黒鉛と硬質物、お
よび膜厚の混合物層を形成し、実施例2〜6の磁気ディ
スクを製造した。硬質物との体積混合比はおおよそ1:
3で硬質物を多くした。
実施例7〜12 下地体および磁性媒体層として上記と同様のものを用い
、保護膜構造を表−2に示す硬質物よりなる硬質物層お
よび弗化黒鉛層の二層構造とした磁気ディスクを製造し
た。その製造方法は、それぞれ表−2に示す硬質物層を
RFマグネトロンスパッタ法により20nm被覆した後
に、弗化熱88層をやはりRFマグネトロンスパッタ法
により20n111被覆した。実施例7〜12では、硬
質物層および弗化黒鉛層の膜厚は常に20nmとした。
表−2 さらに、5i02をスパッタ法(比較試料1)とスピン
コード法(比較試′)f42 >により前述した下地体
上に膜厚50nmで成膜した磁気ディスクを作製し、比
較試料とした。また、比較試料3として磁性媒体上に弗
化黒鉛をスパッタ法により厚さ50nm被覆した磁気デ
ィスクを作製した。
前記磁気ディスクを温度80’C1相対湿度85%の環
境試験器内に250時間放置し、耐食性試験前接のビッ
トエラー数を測定することにより本発明による弗化黒鉛
系の保護膜の防食性を調べた。表−3に一括してその結
果を示す。
(以下余白) 表−3 次に、各磁気ディスクについてC8S (コンタクト・
スタート・ストップ)試験を行い、保護膜の機械的耐久
性を比較した。C3S試験は、アルミナとチタンカーバ
イトの硬質セラミック製スライダーからなる磁気ヘッド
を使用し、磁気ヘッドの押付は荷3189、ヘッド浮上
ff1O,121IIrtの条件下で行もだ。比較試料
1および2は5千回のC3S試験で摩耗粉の発生が認め
られ、比較試料3は2千回で弗化黒鉛層の保護膜に著し
い損傷が認められた。
一方、本発明に基づいた磁気ディスクは潤滑剤を塗布す
ることなく、すべて3万回以上のC3S試験に耐えるこ
とから、弗化黒鉛と硬質物の混合やその下地層に硬質膜
を設けることが耐久性の向上に極めて有効であることが
分かった。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明は従来の磁気ディスクの保
護膜に比較して磁性媒体の防食性が高く、しかも弗化黒
鉛の固体潤滑性と硬質成分の耐摩耗効果によりその機械
的耐久性も著しく向上している。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図はそれぞれ本発明の一実施例を示す
磁気ディスクの模式的部分断面図である。 1・・・下地体      2・・・磁性媒体層3・・
・混合物層     4・・・硬質物層5・・・弗化黒
鉛層

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下地体上に形成された磁性媒体上に、少なくとも
    1種の非金属硬質化合物と弗化黒鉛との混合物よりなる
    層が形成されてなることを特徴とする磁気記憶体。
  2. (2)下地体上に形成された磁性媒体上に、少なくとも
    1種の非金属硬質化合物と弗化黒鉛との混合物よりなる
    層を共スパッタ法により形成したことを特徴とする磁気
    記憶体の製造方法。
  3. (3)下地体上に形成された磁性媒体上に、少なくとも
    1種の非金属硬質化合物よりなる層と弗化黒鉛よりなる
    層とが順次形成されてなることを特徴とする磁気記憶体
  4. (4)下地体上に形成された磁性媒体上に、少なくとも
    1種の非金属硬質化合物よりなる層を形成し、次いで弗
    化黒鉛よりなる層をスパッタ法により形成したことを特
    徴とする磁気記憶体の製造方法。
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