JPS61242323A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS61242323A JPS61242323A JP60084001A JP8400185A JPS61242323A JP S61242323 A JPS61242323 A JP S61242323A JP 60084001 A JP60084001 A JP 60084001A JP 8400185 A JP8400185 A JP 8400185A JP S61242323 A JPS61242323 A JP S61242323A
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- JP
- Japan
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- sputtering
- layer
- magnetic layer
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
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- Y10T428/24372—Particulate matter
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- Y10T428/24372—Particulate matter
- Y10T428/24413—Metal or metal compound
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- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
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- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、浮上ヘッドにより情報の書き込み。
読み出しを行うウィンチェスタ・タイプの固定ディスク
装置に用いる情報記録用磁気記録媒体に関する。
装置に用いる情報記録用磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体は、非磁性基板の上に、例えば鉄酸化物あ
るいはＣｏ合金のような磁性層がスパッタ法あるいはめ
ワき法により形成されている。固定ディスク装置の浮上
ヘッドは、記録媒体の回転開始および停止に記録媒体に
機械的に接触するため、磁性層が損傷を受けないように
磁性層表面を保護膜で覆ったり、あるいは浮上ヘッドの
良好な浮上性を実現するため、磁性層の上に潤滑層が設
けられる。すなわち、固定ディスク装置においては、ヘ
ッドは装置が止まつているときは記録媒体に接触してお
り、装置起動時には媒体の回転が０〜３６００ｒｐ−の
範囲で変化する間に接触走行から浮上走行に移る。 ３
６００ｒｐ−の定速回転時には、ヘッドはそのときの相
対速度に対応した浮上量で安定浮上する。一方、装置が
停止する場合は、３６００〜Ｑ ｒｐ−の範囲で媒体の
回転が変化する間に浮上走行から接触走行に移り、Ｏｒ
ｐｌではヘッドは媒体に接触することになる。この様な
過程は一般にＣ８５（コンタクト・スタート・ストップ
）と呼ばれ、通常耐ＣＳＳ特性としては、少なくとも１
万回以上、望ましくは２万回以上が要求されており、こ
れが磁気記録媒体、ひいては固定ディスク装置の信頼度
の重要な指標とされている。 耐Ｃ５Ｓ特性を向上させるには、ヘッドと磁気記録媒体
の間の摩擦係数を出来る限り低（抑えてヘッドあるいは
磁気記録媒体の摩耗を少なくすること、およびフェライ
ト・ヘッドを損傷させない程度の機械的特性を有する層
で磁性層を覆って、浮上ヘッド接触時の機械的ダメージ
から磁性層を保護することが必要である。さらに、磁性
層を、例えばＣｏ合金のような金属薄膜で構成した場合
には腐食性が強く、酸化が起こつた場合は非磁性の酸化
物が生ずるため、一般には耐食性能の向上を目的とした
何らかの保護膜を磁性層の上に設けるのが通例である。 このような磁気記録媒体の保護膜および潤滑層としては
、スピンコード法あるいはスパッタ法で形成した５ｉｏ
ｔ膜の上にパーフルオロポリエーテル系の液体潤滑剤を
塗布したもの、同じ＜ ５１０ｍ膜の上にパーフルオロ
ポリエーテル系の固体潤滑剤を被覆したもの、あるいは
アモルファス炭素膜をスパッタ法で形成し、これを保護
・潤滑膜としたもの等が知られている。ところが、この
様な構成の保護膜、潤滑層には、次に述べる欠点があっ
た。 ｓｔｏｗの上に液体潤滑剤を塗布したものは、良好な潤
滑性能を実現するための潤滑剤の粘度と塗布量の適正値
の関係が微妙であり、工程的に安定した塗布条件を確立
しにくいという欠点を有している。いっばんに、液体潤
滑剤の塗布量を増やすと、ヘッドと磁気記録媒体の間の
摩擦係数が増加する。 粘度が低い場合、塗布量が増加しても良好な摩擦特性を
示す様になり、従つて液体潤滑剤の場合は、この二つを
パラメータとして最適化を実現しているが、この最適条
件は、基板の表面精度や環境条件（特に湿度）に応じて
変化する。また、一般にこの種の液体潤滑剤は、スピン
コード法やディッピング法で塗布されるので、塗布ムラ
が生じ易い。 さらに、高湿度条件下で適量の潤滑剤を塗布した磁気記
録媒体上に、ヘッドを長時間コンタクト・ストップして
放置すると静摩擦力が著しく上昇する。これは、高い表
面精度を有するヘッドスライダ面と磁気記録媒体面の間
に潤滑剤が介在することにより、ブロックゲージ同志が
グリースを介在して密着する、所謂リンギングと似た現
象が発生した為と考えられている。この静摩擦力を吸着
力と呼び、吸着力が一定の値（例えば６ ｇｆ）以上に
なると、次のスタート時に、ヘッドジンバルばねに負荷
がかかり座屈したり、それに伴ってヘッドスライダ端で
磁気記録媒体表面を損傷し、これが拡大するとヘソドク
ラッシェという、ヘッド・磁気記録媒体の両者に関する
致命的な損傷につながる。このように液体潤滑剤は、塗
布条件の管理が困難であると共に品質上のバラツキが大
きく、また吸着力が上昇し易いという欠点を有している
。 ＳｔＯ，の上に固体潤滑剤をコートしたものは、５ｌｏ
ｔと固体潤滑剤との密着性が乏しく、長期にわたる信鯨
性に欠けるという欠点を有する。また、両者の良好な密
着性を実現するには、非常に複雑な工程を経なければな
らない、−例を挙げると、その工程の概略は次のとうり
である。スピンコード法でＳｔ （ＯＨ） ａを塗布後
焼成し、磁性層の表面に３１０！展を形成する。この膜
は焼成時の水分の脱離で、多孔質の膜となり、これに伴
い表面精度（粗さ）は劣化する。この多孔質Ｓｉｎｇに
関し、例えばテープポリッシェを行い表面品質を改善す
る０次に固体潤滑剤を塗布後パフ研摩を行い、孔の部分
に固体潤滑剤を固定する。これを焼成し、固体潤滑剤を
３１０．上に溶着させる０以上の工程を経て作製された
保護・潤滑膜は、優れた潤滑性能を示すものの、上述の
ように工程が複雑であり、量産性に欠けるものである。 アモルファス炭素膜をスパッタ法で形成し、これを保護
・潤滑膜とした場合は、特に磁性層として金属薄膜を用
いた場合、耐食性という観点での磁性層の保護性能に欠
けるという欠点を有している。
るいはＣｏ合金のような磁性層がスパッタ法あるいはめ
ワき法により形成されている。固定ディスク装置の浮上
ヘッドは、記録媒体の回転開始および停止に記録媒体に
機械的に接触するため、磁性層が損傷を受けないように
磁性層表面を保護膜で覆ったり、あるいは浮上ヘッドの
良好な浮上性を実現するため、磁性層の上に潤滑層が設
けられる。すなわち、固定ディスク装置においては、ヘ
ッドは装置が止まつているときは記録媒体に接触してお
り、装置起動時には媒体の回転が０〜３６００ｒｐ−の
範囲で変化する間に接触走行から浮上走行に移る。 ３
６００ｒｐ−の定速回転時には、ヘッドはそのときの相
対速度に対応した浮上量で安定浮上する。一方、装置が
停止する場合は、３６００〜Ｑ ｒｐ−の範囲で媒体の
回転が変化する間に浮上走行から接触走行に移り、Ｏｒ
ｐｌではヘッドは媒体に接触することになる。この様な
過程は一般にＣ８５（コンタクト・スタート・ストップ
）と呼ばれ、通常耐ＣＳＳ特性としては、少なくとも１
万回以上、望ましくは２万回以上が要求されており、こ
れが磁気記録媒体、ひいては固定ディスク装置の信頼度
の重要な指標とされている。 耐Ｃ５Ｓ特性を向上させるには、ヘッドと磁気記録媒体
の間の摩擦係数を出来る限り低（抑えてヘッドあるいは
磁気記録媒体の摩耗を少なくすること、およびフェライ
ト・ヘッドを損傷させない程度の機械的特性を有する層
で磁性層を覆って、浮上ヘッド接触時の機械的ダメージ
から磁性層を保護することが必要である。さらに、磁性
層を、例えばＣｏ合金のような金属薄膜で構成した場合
には腐食性が強く、酸化が起こつた場合は非磁性の酸化
物が生ずるため、一般には耐食性能の向上を目的とした
何らかの保護膜を磁性層の上に設けるのが通例である。 このような磁気記録媒体の保護膜および潤滑層としては
、スピンコード法あるいはスパッタ法で形成した５ｉｏ
ｔ膜の上にパーフルオロポリエーテル系の液体潤滑剤を
塗布したもの、同じ＜ ５１０ｍ膜の上にパーフルオロ
ポリエーテル系の固体潤滑剤を被覆したもの、あるいは
アモルファス炭素膜をスパッタ法で形成し、これを保護
・潤滑膜としたもの等が知られている。ところが、この
様な構成の保護膜、潤滑層には、次に述べる欠点があっ
た。 ｓｔｏｗの上に液体潤滑剤を塗布したものは、良好な潤
滑性能を実現するための潤滑剤の粘度と塗布量の適正値
の関係が微妙であり、工程的に安定した塗布条件を確立
しにくいという欠点を有している。いっばんに、液体潤
滑剤の塗布量を増やすと、ヘッドと磁気記録媒体の間の
摩擦係数が増加する。 粘度が低い場合、塗布量が増加しても良好な摩擦特性を
示す様になり、従つて液体潤滑剤の場合は、この二つを
パラメータとして最適化を実現しているが、この最適条
件は、基板の表面精度や環境条件（特に湿度）に応じて
変化する。また、一般にこの種の液体潤滑剤は、スピン
コード法やディッピング法で塗布されるので、塗布ムラ
が生じ易い。 さらに、高湿度条件下で適量の潤滑剤を塗布した磁気記
録媒体上に、ヘッドを長時間コンタクト・ストップして
放置すると静摩擦力が著しく上昇する。これは、高い表
面精度を有するヘッドスライダ面と磁気記録媒体面の間
に潤滑剤が介在することにより、ブロックゲージ同志が
グリースを介在して密着する、所謂リンギングと似た現
象が発生した為と考えられている。この静摩擦力を吸着
力と呼び、吸着力が一定の値（例えば６ ｇｆ）以上に
なると、次のスタート時に、ヘッドジンバルばねに負荷
がかかり座屈したり、それに伴ってヘッドスライダ端で
磁気記録媒体表面を損傷し、これが拡大するとヘソドク
ラッシェという、ヘッド・磁気記録媒体の両者に関する
致命的な損傷につながる。このように液体潤滑剤は、塗
布条件の管理が困難であると共に品質上のバラツキが大
きく、また吸着力が上昇し易いという欠点を有している
。 ＳｔＯ，の上に固体潤滑剤をコートしたものは、５ｌｏ
ｔと固体潤滑剤との密着性が乏しく、長期にわたる信鯨
性に欠けるという欠点を有する。また、両者の良好な密
着性を実現するには、非常に複雑な工程を経なければな
らない、−例を挙げると、その工程の概略は次のとうり
である。スピンコード法でＳｔ （ＯＨ） ａを塗布後
焼成し、磁性層の表面に３１０！展を形成する。この膜
は焼成時の水分の脱離で、多孔質の膜となり、これに伴
い表面精度（粗さ）は劣化する。この多孔質Ｓｉｎｇに
関し、例えばテープポリッシェを行い表面品質を改善す
る０次に固体潤滑剤を塗布後パフ研摩を行い、孔の部分
に固体潤滑剤を固定する。これを焼成し、固体潤滑剤を
３１０．上に溶着させる０以上の工程を経て作製された
保護・潤滑膜は、優れた潤滑性能を示すものの、上述の
ように工程が複雑であり、量産性に欠けるものである。 アモルファス炭素膜をスパッタ法で形成し、これを保護
・潤滑膜とした場合は、特に磁性層として金属薄膜を用
いた場合、耐食性という観点での磁性層の保護性能に欠
けるという欠点を有している。
【発明の目的】
本発明は、磁性層の上に簡単な工程で形成できる保護膜
および潤滑層を備え、良好な耐Ｃ８ｓ特性、ｇ吸着性能
ならびに耐食性を有する磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
および潤滑層を備え、良好な耐Ｃ８ｓ特性、ｇ吸着性能
ならびに耐食性を有する磁気記録媒体を提供することを
目的とする。
本発明によれば、非磁性基板上に被着された磁性層が二
酸化けい素からなる保護膜およびその上のアモルファス
炭素からなる潤滑層によって覆われていることによって
上記の目的を達成する。 Ｓｌｏｔ膜は機械的損傷に対
する保護のほかに摩擦係数の低い （μｍ ０．２５）
アモルファスＣ層および基板との良好な密着性保持のた
めに役立つ。
酸化けい素からなる保護膜およびその上のアモルファス
炭素からなる潤滑層によって覆われていることによって
上記の目的を達成する。 Ｓｌｏｔ膜は機械的損傷に対
する保護のほかに摩擦係数の低い （μｍ ０．２５）
アモルファスＣ層および基板との良好な密着性保持のた
めに役立つ。
以下二つの実施例を引用して本発明を説明する。
実施例１：
ＡＩ−Ｍ、合金ディスク基板上に無電解Ｎ１−Ｐ合金め
っきを行い、第１図＋８）に示すように基板１の上の下
地層２を形成する。この表面を研摩して表面粗さをＲａ
≦０．ＯＩＩ！ｍとする。これにＧｏ−Ｐ合金磁性層３
をめっきにより０６０８ｎの厚さに被着したものをスパ
ッタ装置内の水冷されている基板取付治具にセントする
ａ ５ Ｘｌ０−”ｔｏｒｒ迄排気を行ったあと、Ａｒ
をＩＩＳＯＣＭ流し、弁の開閉により真空度を５Ｘ１０
−’ｔｏｒｒに調整する。高周波電力１に−で５分間予
備スパッタを行った後、シャッタを開け、５ｉＯｚスパ
ツタを行った０本スパッタ時の高周波電力は５００ｉ１
゜スパッタ時間は６分であり、形成されたＳｉＪ膜４の
膜厚は２３０人であった０次に、基板をＳｔｏｗターゲ
ット上からグラファイトターゲット上に移動させる。Ｃ
の予備スパッタはＡＡｒ１５ＳＣＣ，真空度５×１０−
” ｔｏｒｒ、 ＲＰ電力１に−で５分間行い、次にシ
ャフタを開けて予備スパッタと同じ条件で本スパッタを
４分行った。この時のアモルファスＣｌｌ１５の膜厚は
２６５人であった。 上述の磁気記録媒体のＣ８Ｓ特性試験を行ったところ、
２００００回評価後７も外観上何らの損傷もなく、第２
図のｗＡ２１に示すようにまた２Ｆ再生出力あるいは分
解能等の電磁変換特性にも変化は認められなかった。第
２図における２Ｆ再生出力変化率は、２Ｆ再生出力の初
期値に対する割合で、図中に鎖線で示した９０％、１１
０％が実用に耐える目標値である。第２図の線２３は、
磁性層の上にスピンコード法でＳｉｎｇを約４００人の
厚さに塗布したのち固体潤滑剤を塗布後焼成して金属で
約８００人の厚さにした比較例のデータである。 また同一条件で作製した磁気記録媒体を２５℃に保持し
たイオン交換水中に浸漬放置したのち適宜サンプリング
を行い、振動式磁力計で飽和磁化の変化を観測したとこ
ろ、第３図のＮ３１で示すように７２０時間経過後でも
変化は認められなかった。 線３３はＡＩ基板上にＮ１−Ｐ合金めっきを行い、その
表面を研摩してＲａ≦０．０１−とした上Ｇｏ−Ｐ合金
の磁性層を形成し、さらにスパッタ法でアモルファスＣ
膜を２５０人の厚さで被覆した比較例のデータである。 第３図における飽和磁化変化率は飽和磁化Ｂ３の初期値
に対する割合である。 実施例２： Ａｌ−Ｍｇ合金基板１の上に第１図中）に示すように陽
極酸化皮膜６を形成し、これを研摩して表面粗さをＲａ
≦０．０１ｊＩｍとする。これにスパッタ法でＦｅ５Ｏ
ａ膜を０．１１ｔｎａの厚さに形成した後、３００℃３
時間大気中酸化処理を行い、γ−Ｆｅａｒｓ磁性層７を
作製する。これを充分に洗浄した後、スパッタ装置内の
水冷基板取付は治具にセットする４ ５ Ｘｌ０−’ｔ
ｏｒｒ迄排気を行ったあと、ＡｒをＩＯ５ＣＣＭ流し、
弁の開閉のコントロールにより真空度を５ Ｘ １０−
’ｔｏｒｒに調整する。高周波電力１ｋｗで５分間予備
スパッタを行った後シャッタを開け、ＲＦ電力５００−
で６．５分間ＳＩＯ！スパッタを行う、この時のＳｉｎ
ｇ膜４の膜厚は２５０人であった０次に、真空ブレーク
を行い、Ｓｔｏｗターゲットを外し、黒鉛ターゲットを
取付けた後、再度５×１０″ｋｔＯｒｒ迄排気を行った
。Ａｒを１５ＳＣＣＭ流し、真空度を５ Ｘ １０−”
ｔｏｒｒに調整した後、高周波電力１ｋｗで６分間予備
スパッタを行った。次にシャッタを開け、同じＲＦ電力
でＣスパッタを４分間行った。この時のアモルファスＣ
［５のＭｒ￥は２６０人であった。 上述の磁気記録媒体のＣＳＳ特性試験を行ったところ、
２００００回評価後７も外観上何らの損傷もなく、また
２Ｆ再生出力あるいは分解能等の！磁変換特性にも変化
は認められなかった （第２図線２２）、また飽和磁化
も第３図に線３２で示すように変化がなかった。
っきを行い、第１図＋８）に示すように基板１の上の下
地層２を形成する。この表面を研摩して表面粗さをＲａ
≦０．ＯＩＩ！ｍとする。これにＧｏ−Ｐ合金磁性層３
をめっきにより０６０８ｎの厚さに被着したものをスパ
ッタ装置内の水冷されている基板取付治具にセントする
ａ ５ Ｘｌ０−”ｔｏｒｒ迄排気を行ったあと、Ａｒ
をＩＩＳＯＣＭ流し、弁の開閉により真空度を５Ｘ１０
−’ｔｏｒｒに調整する。高周波電力１に−で５分間予
備スパッタを行った後、シャッタを開け、５ｉＯｚスパ
ツタを行った０本スパッタ時の高周波電力は５００ｉ１
゜スパッタ時間は６分であり、形成されたＳｉＪ膜４の
膜厚は２３０人であった０次に、基板をＳｔｏｗターゲ
ット上からグラファイトターゲット上に移動させる。Ｃ
の予備スパッタはＡＡｒ１５ＳＣＣ，真空度５×１０−
” ｔｏｒｒ、 ＲＰ電力１に−で５分間行い、次にシ
ャフタを開けて予備スパッタと同じ条件で本スパッタを
４分行った。この時のアモルファスＣｌｌ１５の膜厚は
２６５人であった。 上述の磁気記録媒体のＣ８Ｓ特性試験を行ったところ、
２００００回評価後７も外観上何らの損傷もなく、第２
図のｗＡ２１に示すようにまた２Ｆ再生出力あるいは分
解能等の電磁変換特性にも変化は認められなかった。第
２図における２Ｆ再生出力変化率は、２Ｆ再生出力の初
期値に対する割合で、図中に鎖線で示した９０％、１１
０％が実用に耐える目標値である。第２図の線２３は、
磁性層の上にスピンコード法でＳｉｎｇを約４００人の
厚さに塗布したのち固体潤滑剤を塗布後焼成して金属で
約８００人の厚さにした比較例のデータである。 また同一条件で作製した磁気記録媒体を２５℃に保持し
たイオン交換水中に浸漬放置したのち適宜サンプリング
を行い、振動式磁力計で飽和磁化の変化を観測したとこ
ろ、第３図のＮ３１で示すように７２０時間経過後でも
変化は認められなかった。 線３３はＡＩ基板上にＮ１−Ｐ合金めっきを行い、その
表面を研摩してＲａ≦０．０１−とした上Ｇｏ−Ｐ合金
の磁性層を形成し、さらにスパッタ法でアモルファスＣ
膜を２５０人の厚さで被覆した比較例のデータである。 第３図における飽和磁化変化率は飽和磁化Ｂ３の初期値
に対する割合である。 実施例２： Ａｌ−Ｍｇ合金基板１の上に第１図中）に示すように陽
極酸化皮膜６を形成し、これを研摩して表面粗さをＲａ
≦０．０１ｊＩｍとする。これにスパッタ法でＦｅ５Ｏ
ａ膜を０．１１ｔｎａの厚さに形成した後、３００℃３
時間大気中酸化処理を行い、γ−Ｆｅａｒｓ磁性層７を
作製する。これを充分に洗浄した後、スパッタ装置内の
水冷基板取付は治具にセットする４ ５ Ｘｌ０−’ｔ
ｏｒｒ迄排気を行ったあと、ＡｒをＩＯ５ＣＣＭ流し、
弁の開閉のコントロールにより真空度を５ Ｘ １０−
’ｔｏｒｒに調整する。高周波電力１ｋｗで５分間予備
スパッタを行った後シャッタを開け、ＲＦ電力５００−
で６．５分間ＳＩＯ！スパッタを行う、この時のＳｉｎ
ｇ膜４の膜厚は２５０人であった０次に、真空ブレーク
を行い、Ｓｔｏｗターゲットを外し、黒鉛ターゲットを
取付けた後、再度５×１０″ｋｔＯｒｒ迄排気を行った
。Ａｒを１５ＳＣＣＭ流し、真空度を５ Ｘ １０−”
ｔｏｒｒに調整した後、高周波電力１ｋｗで６分間予備
スパッタを行った。次にシャッタを開け、同じＲＦ電力
でＣスパッタを４分間行った。この時のアモルファスＣ
［５のＭｒ￥は２６０人であった。 上述の磁気記録媒体のＣＳＳ特性試験を行ったところ、
２００００回評価後７も外観上何らの損傷もなく、また
２Ｆ再生出力あるいは分解能等の！磁変換特性にも変化
は認められなかった （第２図線２２）、また飽和磁化
も第３図に線３２で示すように変化がなかった。
本発明は、基板上に形成した磁性層の上に被着される、
耐食性１機械的性能はすぐれており、非磁性金属基板と
の密着性が良好であるが表面精度が得にくくそのままで
はヘッドの浮上に支障を来たすＳｔＯ，膜表面に、μｍ
０．２５の低い摩擦係数を有していて潤滑性能にすぐれ
ており、５ｌＯｔとの密着性の良好なアモルファスＣ１
Ｉ！を形成したもので、これにより耐Ｃ８Ｓ性能、耐食
性が良好で、ヘッドとの間の摩擦特性もすぐれ、吸着力
の小さい表面を有する磁気記録媒体を得ることができる
。
耐食性１機械的性能はすぐれており、非磁性金属基板と
の密着性が良好であるが表面精度が得にくくそのままで
はヘッドの浮上に支障を来たすＳｔＯ，膜表面に、μｍ
０．２５の低い摩擦係数を有していて潤滑性能にすぐれ
ており、５ｌＯｔとの密着性の良好なアモルファスＣ１
Ｉ！を形成したもので、これにより耐Ｃ８Ｓ性能、耐食
性が良好で、ヘッドとの間の摩擦特性もすぐれ、吸着力
の小さい表面を有する磁気記録媒体を得ることができる
。
第１図は本発明の二つの実施例の構成を概念的に示す断
面図、第２図は実施例および従来例の耐Ｃ８Ｓ試験にお
ける再生出力変化線図、第３図は実施例および従来例の
飽和磁化の経時変化線図である。 】：基板、２：Ｎ１−Ｐめっき層、３：Ｃｏ−Ｐ磁性層
、４：５ｉＯｔ膜、５：アモルファスＣ膜、６：アルマ
イ ト層、７ ： ｒ −Ｆｅｔｄｓ 層ｅ（ａ） （ｂ） 第１図 ０ ０．５ １．０ １．５
２．０ＣＳＳ回数（ｘ１０４■ 第２図 第３図
面図、第２図は実施例および従来例の耐Ｃ８Ｓ試験にお
ける再生出力変化線図、第３図は実施例および従来例の
飽和磁化の経時変化線図である。 】：基板、２：Ｎ１−Ｐめっき層、３：Ｃｏ−Ｐ磁性層
、４：５ｉＯｔ膜、５：アモルファスＣ膜、６：アルマ
イ ト層、７ ： ｒ −Ｆｅｔｄｓ 層ｅ（ａ） （ｂ） 第１図 ０ ０．５ １．０ １．５
２．０ＣＳＳ回数（ｘ１０４■ 第２図 第３図
Claims (1)
- １）非磁性基板上に被着された磁性層が二酸化けい素か
らなる保護膜およびその上のアモルファス炭素からなる
潤滑層によつて覆われたことを特徴とする磁気記録媒体
。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60084001A JPS61242323A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 磁気記録媒体 |
| US06/852,151 US4713279A (en) | 1985-04-19 | 1986-04-15 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60084001A JPS61242323A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61242323A true JPS61242323A (ja) | 1986-10-28 |
Family
ID=13818299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60084001A Pending JPS61242323A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4713279A (ja) |
| JP (1) | JPS61242323A (ja) |
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| JPH03500466A (ja) * | 1988-07-05 | 1991-01-31 | トムソン‐セーエスエフ | 耐疲労層を有する磁気材料製装置及び記録読取ヘッド及び記録ディスクへの応用 |
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-
1985
- 1985-04-19 JP JP60084001A patent/JPS61242323A/ja active Pending
-
1986
- 1986-04-15 US US06/852,151 patent/US4713279A/en not_active Expired - Fee Related
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| US5235486A (en) * | 1990-04-04 | 1993-08-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Tape cassette for adsorbing and trapping corrosive gases |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4713279A (en) | 1987-12-15 |
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